KR20170015326A - 스팀 구속 수단을 구비한 스팀 헤어스타일링 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 모발 타래가 사이에 클램핑될 수 있도록 서로 대향 배치된 2개의 표면(5, 6)을 구비한 클램프를 형성하도록 구성된 2개의 아암(3, 4)을 가진 휴대형 처리 유닛(2)을 포함하는 헤어스타일링 장치(1)에 관한 것이다. 휴대형 처리 유닛은 2개의 표면들 중 제1 표면(5)으로부터 2개의 표면들 중 제2 표면(6)을 향해 스팀을 확산시키도록 구성된 스팀 확산 수단(7)을 포함한다. 장치는 서로에 대향 배치된 2개의 표면(5, 6)들 사이에 확산된 스팀을 구속하는 수단(9, 10)을 포함한다. 본 발명의 목적들 중 하나는 스팀 유량이 높은 헤어스타일링 장치의 성능에 필적하는 성능을 가지면서도, 스팀 유량이 낮은 헤어스타일링 장치를 사용하는 것이다.
Description
본 발명은 헤어스타일링을 위해 스팀으로 모발을 처리하기 위한 휴대형 스팀 처리 유닛을 포함하는 스팀을 이용한 헤어스타일링 장치에 관한 것이다. 이 헤어스타일링 장치의 휴대형 처리 유닛은 일반적으로, 모발에 대한 스팀 처리(steaming) 이외에, 헤어스타일링을 위해 모발을 가열하도록 구성된다. 예컨대, 이러한 헤어스타일링 장치는, 그 구성에 따라, 모발을 곧게 펴거나(straighten), 컬링(curl) 하거나, 크림핑(crimp)하기 위해 사용될 수 있다.
모발을 곧게 펴거나, 컬링하거나, 크림핑하기 위해, 모발을 처리하는데 사용될 수 있는 다양한 헤어스타일링 장치가 공지되어 있다. 이러한 헤어스타일링 장치는 평면 또는 곡면일 수 있는 표면을 각각 가진 2개의 아암(arm) 또는 죠(jaw)로 주로 구성된 휴대형 처리 유닛을 포함한다. 2개의 아암은 그들 사이에 조인트를 가짐으로써, 2개의 아암이 하나로 합쳐졌을 때, 서로 마주하는 2개의 표면들 사이에 모발을 파지(grip)하도록 구성된 클램프(clamp)를 형성한다. 이 2개의 아암은 스타일링 중에 클램프를 개폐하고 조작하기 위해 파지 압력(gripping pressure)이 인가되는 영역도 포함한다. 이 2개의 표면들 중 적어도 하나는, 모발이 파지된 상태에서 가열될 수 있도록, 가열 장치를 갖는다. 2개의 표면들 사이에 모발 타래를 클램핑한 다음, 폐쇄된 클램프를 모발 타래를 따라 뿌리에서 끝쪽으로 이동시킴으로써, 모발 타래가 곧게 펴진다. 2개의 표면들 사이에 모발 타래를 클램핑한 다음, 모발을 적어도 부분적으로 표면들 주위에 감고 열로 모발 타래의 컬을 유지함으로써, 모발 타래가 곱슬곱슬해진다.
헤어스타일링을 개선하기 위해, 열처리 이외에, 모발로 투사되거나 확산되는 스팀을 이용한 스팀 처리의 사용이 공지되어 있다. 이러한 헤어스타일링 장치의 실시예의 여러 가지 예가 문헌 JP2000157322A, EP1396207A1, EP1515628B1, EP1515629B1, EP1516554B1, FR2967017A1에 기재되어 있다. 이러한 다양한 실시예에 따르면, 헤어스타일링 장치의 공지된 특징 및 전술한 특징에 추가하여, 휴대형 처리 유닛은 2개의 표면들 중 제1 표면으로부터 2개의 표면들 중 제2 표면으로 스팀을 투사하도록 구성된 스팀 투사 수단을 포함한다. 문헌 EP1396207A1 및 EP1516554B1에서, 휴대형 처리 유닛은 제1 표면으로부터 투사되어 모발 타래를 통과한 스팀을 배출하기 위해 상기 제2 표면 상에 배치된 스팀 흡입 수단을 포함한다. 문헌 EP1515628B1 및 EP1515629B1에서, 하나의 가능한 실시예에서는, 스팀 투사 수단이 클램핑 중에 서로 마주하는 2개의 표면으로부터 스팀을 투사하도록 구성된다. 본 출원인에 의해 출원된 특허 출원인 문헌 FR2967017A1에서, 스팀 발생 수단의 최적화된 설계는 2g/min 미만의 스팀 유량을 제공하는 다른 헤어스타일링 장치의 설계보다 높은 약 3 내지 4g/min의 스팀 유량을 허용하여, 스팀 처리 중에 클램핑된 모발 타래의 전체 길이에 스팀을 균일하게 공급할 수 있도록 하며, 휴대형 처리 유닛이 모발 타래를 따라 이동할 때 모발 타래가 신속하게 스팀 처리될 수 있도록 한다.
본 발명은 헤어스타일링 장치의 크기를 감소시키면서도, 예컨대, 헤어스타일링 장치의 길이 및/또는 높이 등을 감소시키면서도, 문헌 FR2967017A1에 기술된 헤어스타일링 장치의 성능에 필적하는 성능을 가진 헤어스타일링 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명은 문헌 FR2967017A1에 기술된 헤어스타일링 장치의 성능에 필적하는 성능을 가지면서도, 낮은 스팀 유량을 사용하는 헤어스타일링 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명은 헤어스타일링 장치의 설계를 간소화하면서도, 문헌 FR2967017A1에 기술된 헤어스타일링 장치의 성능에 필적하는 성능을 가진 헤어스타일링 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명은 헤어스타일링 장치의 제조 비용을 감소시키면서도, 문헌 FR2967017A1에 기술된 헤어스타일링 장치의 성능에 필적하는 성능을 가진 헤어스타일링 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명은 스팀 발생을 위해 사용되는 액체의 부피를 감소시키면서도, 문헌 FR2967017A1에 기술된 헤어스타일링 장치의 성능에 필적하는 성능을 가진 헤어스타일링 장치를 제공하기 위한 것이다.
따라서, 본 발명은 모발 타래가 클램핑될 수 있도록 함께 서로 마주하는 2개의 표면을 구비한 클램프를 형성하도록 구성된 2개의 아암을 가진 휴대형 처리 유닛을 포함하는 헤어스타일링 장치에 관한 것이다. 휴대형 처리 유닛은 2개의 표면들 중 제1 표면으로부터 2개의 표면들 중 제2 표면을 향해 스팀을 확산시키도록 구성된 스팀 확산 수단을 포함한다. 헤어스타일링 장치가 서로에 대해 클램핑된 2개의 표면들 사이에 확산된 스팀을 구속하는 수단을 포함한다는 것은 주목할 만하다. 이 구속 수단은 최적의 스팀 처리를 제공하기 위해 모발 타래를 클램핑하고 있는 2개의 표면들 사이에 위치된 구속 공간 내에 균일한 분포로 일정량의 스팀을 모발 타래와 접촉한 상태로 유지하는 것을 가능하게 한다. 이 스팀은 스팀 흐름의 작용으로 유출되기 전에 일정 시간 동안 구속 공간 내에 잔류하게 된다. 이러한 스팀 구속은 휴대형 처리 유닛 내의 스팀 발생 수단으로부터의 스팀 흐름을 감소시키는 이점을 허용한다. 스팀은 확산 또는 투사 수단에 의해 제공되어 순환하며, 초과 압력에 의해 또는 초과 압력 없이 순환한다.
본 발명의 헤어스타일링 장치에 따르면, 스팀 구속 수단은 확산 수단을 마주하며 2개의 표면들 중 제2 표면에 위치된 그루브를 포함한다. 스팀은 모발 타래를 통과한 다음, 그 그루브 내에 구속되어 잔류한다.
본 발명의 헤어스타일링 장치의 이 실시예에 따르면, 그루브는 제2 표면의 2개의 길이 방향 에지들 중 적어도 하나로 통함으로써, 상기 그루브 내에 이 스팀을 구속된 상태로 유지한 후, 확산 수단을 빠져나가는 스팀 흐름의 작용으로 그 스팀이 유출될 수 있도록 한다. 이로 인해, 구속 공간 내의 스팀이 재생된다. 이는 본질적으로 일정할 수 있는 구속 공간 내의 스팀 압력의 수준을 유지할 수 있도록 한다.
본 발명의 헤어스타일링 장치의 이 실시예에 따르면, 그루브는 폭이 2 내지 6㎜, 바람직하게는 2.5㎜이고, 깊이가 0.5 내지 2㎜, 바람직하게는 1㎜이다. 이러한 치수는 구속 공간이 최적화될 수 있도록 함으로써, 헤어스타일링을 위해 모발 타래의 폭을 가로질러 충분한 양의 재생된 스팀을 접촉 상태로 유지한다. 또한, 그루브는 0.5 내지 2g/min, 바람직하게는 0.9 내지 1.2g/min인 낮은 스팀 유량에 적합하게 구속 공간의 부피를 최적화하도록, 길이가 20 내지 220㎜, 바람직하게는 90㎜이다.
본 발명의 헤어스타일링 장치에 따르면, 제1 표면은 바닥면을 구비한 고랑을 포함하고, 스팀 확산 수단은 그 바닥면으로부터 스팀을 확산시키도록 배치되며, 스팀 구속 수단은, 2개의 표면들 중 제2 표면에 위치된 상기 그루브에 추가하여 또는 이를 대체하여, 고랑을 포함한다.
본 발명의 헤어스타일링 장치가 전술한 바와 같은 그루브와 고랑을 모두 포함하는 경우, 그루브는 고랑을 마주하여 위치된다. 또한, 그루브와 고랑은 본질적으로 동일한 부피를 갖는 것이 바람직하다.
전술한 바와 같은 그루브를 가진 본 발명의 헤어스타일링 장치의 일 변형예에서, 제1 표면은 바닥면을 각각 구비한 2개의 인접한 고랑을 가지며, 확산 수단은 이 2개의 바닥면들 중 적어도 하나로부터의 스팀을 확산시키도록 배치된다. 또한, 그루브는 2개의 고랑을 마주하도록 배치된다.
본 발명의 헤어스타일링 장치에 따르면, 적어도 하나의 고랑은 제1 표면의 2개의 길이 방향 에지들 중 적어도 하나로 통함으로써, 구속 공간 내에서 스팀이 확산되어 유지된 후 유출될 수 있도록 한다.
본 발명의 헤어스타일링 장치의 일 실시예에서, 스팀 확산 수단은 적어도 하나의 고랑의 바닥면을 따라 위치된 다수의 확산 오리피스를 포함한다. 일 변형에서, 이 스팀 확산 수단은 적어도 하나의 고랑의 바닥면 상에 위치된 확산 슬롯을 포함한다.
본 발명의 헤어스타일링 장치의 일 실시예에 따르면, 제1 표면 상의 적어도 하나의 고랑 위에 그리드가 존재한다. 이는 모발 타래로 스팀을 잘 분산시키는데 기여한다.
본 발명의 헤어스타일링 장치의 다른 실시예에 따르면, 이는 곡선형의 단일 고랑을 갖는다. 또한, 그루브는 상기 곡선형 고랑과 형태가 일치하는 둥근 그리드를 갖는다. 이는 모발 타래를 파지하고 있는 휴대형 처리 유닛이 이동할 때 모발 타래를 인장 상태로 유지하면서 모발 타래로 스팀을 잘 분산시키는데 기여한다.
본 발명의 헤어스타일링 장치의 다른 실시예에 따르면, 이는 클램프가 폐쇄 위치에 있을 때 원통을 형성하도록 형상이 원형인 고랑과 그루브를 갖는다. 또한, 헤어스타일링 장치는 그 원통의 내부에서 회전하도록 장착된 천공 롤러를 포함한다. 이는 상기 원통에 의해 형성된 구속 공간으로 스팀이 분산될 수 있도록 하며, 롤러의 회전은 휴대형 처리 유닛이 모발 타래를 따라 이동할 때 모발 타래가 당겨지는 것을 방지한다.
본 발명의 헤어스타일링 장치에 따르면, 스팀 구속 수단은 표면 상에서 편심되어 있다. 구속 수단이 표면의 중간이 아니라 표면 상에서 상류 또는 하류에 있다는 것을 이해하여야 한다. 보다 정확하게, 구속 수단은 처리 표면 상에서 편심된 구속 시스템의 형태일 수 있으며, 예컨대, 처리 표면 또는 스트레이트닝 플레이트(straightening plate) 상에서 그 정중면에 대해 편심되어 정중면과 직각으로 교차하는 그루브에 의해 적어도 형성된 단일 조립체일 수 있다.
본 발명의 헤어스타일링 장치에 따르면, 2개의 표면들은 각각 가열판을 가지며, 이 가열판들은 서로 마주하여 위치되며, 함께 모발 타래를 클램핑할 수 있다. 이는 스팀 처리와 동시에 모발 타래의 열처리를 허용한다.
바람직하게, 2개의 가열판을 구비한 헤어스타일링 장치의 이 실시예에 따르면, 스팀 구속 수단은 2개의 가열판 사이에 위치된다. 이는 구속 공간 내에 존재하는 스팀을 가열하는 이점을 제공한다.
본 발명의 헤어스타일링 장치의 이 바람직한 실시예에 따르면, 스팀 구속 수단은 가열판의 하류 부분 상에서 편심되며, 이는 휴대형 처리 유닛이 모발 타래를 따라 이동할 때 모발 타래가 열처리되기 전에 스팀 처리될 수 있도록 허용한다. 바람직하게, 구속 수단의 정중선은 가열판의 하류 에지로부터 일정 거리(d1)에 위치되며, 가열판의 폭(l1)에 대한 거리(d1)의 비율은 0.1 내지 0.4이다.
본 발명의 헤어스타일링 장치에 따르면, 표면들 중 하나의 하류에 빗이 위치된다. 이는 모발 타래가 스팀 처리되기 전에 엉킨 모발 타래를 풀고 통기시킬 수 있도록 함으로써, 모발을 통한 스팀의 통행을 촉진한다.
본 발명의 헤어스타일링 장치에 따르면, 이는 클램프의 근위부의 방향으로 구속 수단으로부터 유출되는 스팀을 차단하도록 구성된 스팀 차단부를 포함하며, 상기 근위부는 휴대형 처리 유닛을 조작하도록 구성된다. 이는 휴대형 처리 유닛을 조작하고 있는 손을 스팀 화상으로부터 보호한다.
본 발명의 헤어스타일링 장치에 따르면, 스팀 확산 수단은 0.5g/min 내지 2g/min, 바람직하게는 0.9g/min 내지 1.2g/min의 스팀 유량을 전달하도록 구성된다. 이는 문헌 FR2967017A1에 기재된 것과 비교하여 제한된 크기와 간소화된 설계로, 휴대형 처리 유닛에서 기존의 스팀 발생 수단 또는 혁신적인 스팀 발생 수단의 사용을 허용한다.
다양한 실시예에 대한 이하의 설명은 본 발명의 헤어스타일링 장치의 특징과 이점을 나타낸다. 이 설명은 도면에 기초한다.
도 1은 스팀 스트레이트너 타입의 본 발명의 헤어스타일링 장치를 도시하고 있고;
도 2 및 도 3은 각각 클램프의 클램프 위치 및 개방 위치에 있는, 휴대형 처리 유닛의 2개의 아암 상에 위치된 2개의 가열판을 도시하고 있으며;
도 4는 스팀 차단부의 존재를 나타낸 본 발명의 헤어스타일링 장치를 도시하고 있고;
도 5는 스팀 확산 수단을 가진 2개의 인접한 고랑을 구비한 가열판을 도시하고 있으며;
도 6은 천공 그리드를 가진 고랑을 구비한 가열판을 도시하고 있고;
도 7은 클램프 위치에 있는 2개의 가열판을 도시하고 있으며, 고랑의 곡선 형상과 그루브를 덮고 있는 둥근 천공 그리드를 나타내고 있고;
도 8은 클램프 위치에 있는 2개의 가열판을 도시하고 있으며, 고랑과 그루브에 의해 형성된 원통 형상과 아울러 원통 내의 천공 롤러를 나타내고 있고;
도 9, 도 10, 도 11 및 도 12는 구속 수단을 실행하기 위한 다른 대안예를 도시하고 있다.
도 1은 스팀 스트레이트너 타입의 본 발명의 헤어스타일링 장치를 도시하고 있고;
도 2 및 도 3은 각각 클램프의 클램프 위치 및 개방 위치에 있는, 휴대형 처리 유닛의 2개의 아암 상에 위치된 2개의 가열판을 도시하고 있으며;
도 4는 스팀 차단부의 존재를 나타낸 본 발명의 헤어스타일링 장치를 도시하고 있고;
도 5는 스팀 확산 수단을 가진 2개의 인접한 고랑을 구비한 가열판을 도시하고 있으며;
도 6은 천공 그리드를 가진 고랑을 구비한 가열판을 도시하고 있고;
도 7은 클램프 위치에 있는 2개의 가열판을 도시하고 있으며, 고랑의 곡선 형상과 그루브를 덮고 있는 둥근 천공 그리드를 나타내고 있고;
도 8은 클램프 위치에 있는 2개의 가열판을 도시하고 있으며, 고랑과 그루브에 의해 형성된 원통 형상과 아울러 원통 내의 천공 롤러를 나타내고 있고;
도 9, 도 10, 도 11 및 도 12는 구속 수단을 실행하기 위한 다른 대안예를 도시하고 있다.
이하의 설명에서는, 도 1 내지 도 12를 참조하여 설명하는 본 발명의 헤어스타일링 장치의 다양한 실시예에 따른 동일하거나 유사한 특징을 나타내기 위해 동일한 참조 부호를 사용한다.
도 1에서, 본 발명의 헤어스타일링 장치(1)는 모발 스트레이트너이다. 이는 휴대형 처리 유닛(2)을 포함한다. 이 휴대형 처리 유닛(2)은 전기 코드(8)에 의해 전기적으로 구동된다. 휴대형 처리 유닛(2)은 "죠"라고도 지칭되는 2개의 아암(3, 4)을 포함하며, 이 아암들은 당해 아암들이 클램핑될 수 있도록 하는 피봇 연결부(21)에 의해 서로 결합된다.
2개의 아암(3, 4)들은 각각 근위부(3a, 4a)를 갖는다. 이 2개의 근위부(3a, 4a)들은 한 손으로 동시에 파지될 수 있으며, 2개의 근위부(3a, 4a)들이 함께 압착될 때, 휴대형 처리 유닛(2)의 조작과 클램프의 폐쇄를 허용한다.
2개의 아암(3, 4)들은 함께 모발 타래가 클램핑될 수 있도록 하는 표면(5, 6)을 그 원위부(3b, 4b)의 내면 상에 각각 갖는다. 도 1의 실시예에 따르면, 표면(5, 6)들은 평평하며, 2개의 가열판(17, 18)을 형성한다. 클램프가 폐쇄되면, 서로 마주한 가열판(17, 18)들이 서로 접촉하여, 클램핑 작용을 유발한다.
일 실시예에서, 본 발명에 따른 헤어스타일링 장치(1)의 휴대형 처리 유닛(2)은 가열판(17, 18)의 가열 수단(미도시)의 구현과 관련하여 본 출원인에 의해 출원된 특허 출원 FR2967017A1에 기재된 것과 유사한 기술적 특징을 복제할 수 있을 것이다. 이와 관련하여, 가열판(17, 18)의 가열 수단들은 양의 온도 계수 또는 PTC를 가진 열 저항기로 구성된 가열 장치(미도시)와, 음의 온도 계수 또는 NTC를 가진 열 저항기로 구성된 가열 장치의 온도를 측정하기 위한 장치(미도시)를 각각 갖는다. 이러한 가열 및 측정 장치들은 각각의 가열판(17, 18)을 위해 각각의 아암(3, 4) 상의 하우징 구역(22, 23) 내에 위치될 것이다. 가열판(17, 18)을 가열하는 이러한 가열 수단의 특징은 이 분야의 기술자들에게 공지되어 있으므로, 더 이상 설명하지 않는다. 이 분야의 기술자들에게 공지되었거나 혁신적인 변형예들은 본 발명의 범위를 벗어나지 않고 가열판(17, 18)을 가열하는 이 가열 수단들에 대해서도 동등하게 가능하다. 또한, 표면(5, 6)들에 대한 형상의 변형도 가능하다. 특히, 모발을 컬링하기 위해 사용되는 헤어스타일링 장치에서 발견되는 것과 같은 곡면이 구현될 수 있거나, 심지어, 모발을 크림핑하기 위해 사용되는 헤어스타일링 장치에서 발견되는 것과 같은 파형면(wavy surface)이 구현될 수 있다. 또한, 휴대형 처리 유닛(2)의 실시예는 2개의 표면(5 또는 6)들 중 하나만 열을 방출하고 다른 표면은 단순히 헤어스타일링을 위해 모발 타래를 클램핑하는데 기여하는 것도 가능하다.
또한, 헤어스타일링 장치(1)의 휴대형 처리 유닛(2)은 제1 표면(5)으로부터 제2 표면(6)을 향해 스팀을 투사 또는 확산시키는 수단(7)을 포함한다. 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 제1 아암(3)은 클램프가 폐쇄되었을 때 제2 아암(4)을 향한 스팀의 투사 또는 확산을 허용하는 오리피스(12)가 위치된 바닥면(11)을 구비한 고랑(10)을 갖는다. 또한, 제1 아암(3)은 스팀이 발생되어 오리피스(12)를 통해 투사 또는 확산될 수 있도록 하는 스팀 발생 챔버(미도시)를 그 원위부(3b)에 갖는다. 일 실시예에서, 본 발명에 따른 헤어스타일링 장치(1)의 휴대형 처리 유닛(2)은 스팀 발생 챔버의 구현과 관련하여 본 출원인에 의해 출원된 특허 출원 FR2967017A1에 기재된 것과 유사한 기술적 특징을 복제할 수 있을 것이다. 따라서, 이 스팀 발생 챔버는 특히 양의 온도 계수 또는 PTC를 가진 열 저항기로 구성된 가열 장치(미도시)와, 음의 온도 계수 또는 NTC를 가진 열 저항기로 구성된 가열 장치의 온도를 측정하기 위한 장치(미도시)를 포함한다. 이러한 가열 및 측정 장치들은 제1 하우징 구역(22) 아래에 있는 도 2에 도시된 제2 하우징 구역(24) 내에 위치된다. 이 분야의 기술자들에게 공지되었거나 혁신적인 변형예들은 본 발명의 범위를 벗어나지 않고 이 스팀 발생 챔버에 대해서도 동등하게 가능하다. 바람직하게, 직경이 1.2㎜인 8개의 오리피스(12)가 고랑(10)의 바닥면(11)에 위치된다. 또한, 스팀 투사 또는 확산 수단은 0.5g/min 내지 2g/min, 바람직하게는 0.9g/min 내지 1.2g/min의 유량으로 스팀을 투사 또는 확산시키도록 구성된다. 이 분야의 기술자들은 이러한 유량을 얻도록 이러한 스팀 투사 또는 확산 수단을 구성할 수 있다. 그러나, 문헌 FR2967017A1에 기재된 것보다 작고 동일한 유량을 생성할 수 있는 헤어스타일링 장치의 경우, 예컨대, 0.5g/min 내지 5g/min, 본질적으로는 4g/min과 동일한 유량이 가능하다.
이 분야의 기술자들에게 역시 공지되어 있는 다른 특징들도 본 발명에 따른 헤어스타일링 장치(1)에서 구현된다. 휴대형 처리 유닛(2)은 특히 2개의 가열판(17, 18)과 스팀 발생 챔버의 활성화를 관리하도록 구성된 회로 기판(미도시)을 포함한다. 이 회로 기판은, 예컨대, 제1 아암(3)의 근위부(3a)에서 2개의 아암(3, 4)들 중 하나의 내부에 위치된다. 휴대형 처리 유닛(2)은 리드 스위치(RS) 타입의 도 1에 도시된 자기 센서(25)를 포함하며, 이 자기 센서는 2개의 표면(5, 6)들이 서로에 대해 폐쇄되어 모발을 클램핑할 때 클램프의 폐쇄 위치를 검출할 수 있다. 일 변형예에서, 리드 스위치는 자석 저항 센서 또는 MRS로 대체될 수 있다.
도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 고랑(10)은 도 2에 화살표(26)로 표시된 바와 같은 모발의 뿌리에서 끝까지 휴대형 처리 유닛(2)의 이동 방향에 대해 제1 가열판(17)(또는, 반드시 가열면일 필요는 없는 제1 표면(5))의 하류 부분(17a)에 위치된다. 이는 모발 타래가 열처리되기 전에 모발 타래를 스팀 처리할 수 있도록 한다(열처리와 스팀 처리가 각각 이루어지거나, 모발이 클램핑되었을 때 반드시 가열될 필요는 없다). 고랑(10)의 양 단부는 제1 표면(5)의 길이 방향 에지(5a, 5b)로 개방되는 것이 바람직하다. 그러나, 고랑(10)이 길이 방향 에지(5a, 5b)들 중 하나로만 개방되는 변형예도 가능하다. 도 2에 도시된 바와 같이, 고랑(10)의 정중선(27)은 제1 가열판의 하류 가로 방향 에지(29)로부터 일정 거리(d1)에 위치된다. 이 가열판(17)의 폭(l1)에 대한 이 거리(d1)의 비율은 0.1 내지 0.4인 것이 바람직하다. 예컨대, 판의 폭은 28.9㎜이고, 거리(d1)는 6.25㎜이며, 0.22의 비율에 해당한다.
도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 그루브(9)는 고랑(10)을 마주하며 제2 가열판(18)의 하류 부분(18a)에 위치된다. 이 실시예에 따르면, 그루브(9)와 고랑(10)은 본질적으로 동일한 형상 및 부피를 갖는다. 그루브, 또는 그루브와 고랑의 조립체는 확산된 스팀을 구속하는 수단을 형성한다. 고랑(10)에서와 같이, 그루브(9)의 양 단부는 제2 표면(6)의 길이 방향 에지(6a, 6b)로 통한다. 그루브(9)와 고랑(10)은 오리피스(12)로부터 유출되는 스팀을 위한 구속 공간(28)을 부수적으로 구성하도록 치수화된다. 이 구속 공간(28)은 오리피스(12)로부터 유입되는 보충 스팀으로 인해 그루브(9)와 고랑(10)의 단부들을 통해 스팀이 유출될 수 있도록 하기 전에, 2개의 표면(5, 6)들 사이에 클램핑된 모발 타래 주위에 스팀을 수용할 수 있도록 한다. 스팀을 구속하면, 바람직하게는 0.9g/min 내지 1.2g/min인 낮은 스팀 유량을 사용하면서도 모발의 스팀 처리를 강화할 수 있고, 모발을 따라 휴대형 처리 유닛(2)의 상당히 신속한 이동을 보장한다. 또한, 2개의 가열판(17, 18)들 사이에 구속 공간(28)을 가지면, 그 공간 내에 구속된 스팀의 유리한 재가열을 허용한다. 이 구속 공간(28)을 갖기 위해, 고랑(10)은 바람직하게 폭이 2㎜ 내지 6㎜, 바람직하게는 2.5㎜이어야 하고, 고랑(10)은 깊이가 0.5㎜ 내지 2㎜, 바람직하게는 1㎜이어야 한다. 또한, 고랑(10)의 부피는 바람직하게 200㎣ 내지 275㎣, 바람직하게는 225㎣이어야 한다. 고랑(10)은 길이가 바람직하게 20㎜ 내지 220㎜, 바람직하게는 90㎜이어야 한다. 그루브(9)의 치수와 부피는 바람직하게, 구속 공간(28)이 400㎣ 내지 550㎣, 바람직하게는 450㎣의 부피를 가질 수 있도록, 고랑과 유사하여야 한다.
도 4에 도시된 바와 같이, 휴대형 처리 유닛(2)은 제1 표면(5)의 근위 길이 방향 에지(5a)에 있는 제1 아암(3) 상에 위치된 스팀 차단부(20)를 포함한다. 이 스팀 차단부(20)는 2개의 아암(3, 4)의 근위부(3a, 4a)로 구성되는 휴대형 처리 유닛(2)이 파지되는 영역으로 구속 공간(28)으로부터 유출되는 스팀이 유입되는 것을 방지한다.
도 5는 제1 표면(5) 상으로 스팀을 투사 또는 확산시키기 위한 수단(7)의 일 변형예를 도시하고 있다. 이 스팀 투사 또는 확산 수단(7)은 제1 가열판(17)의 하류 부분(17a)에 위치되며 도 1 내지 도 3에 도시된 것과 유사한 디자인을 가진 2개의 인접한 고랑(10, 10')을 포함한다. 각각의 고랑(10, 10')은 상기 고랑(10, 10')의 바닥면(11, 11') 상에 위치된 오리피스(12, 12')를 포함하며, 이 오리피스를 통해 스팀이 투사되고, 확산되며, 운반된다. 이 구현예에 따르면, 제2 가열판(18) 상에 위치된 그루브(9)는 2개의 고랑(10, 10')의 전체 폭과 일치하는 폭을 갖는다. 또한, 스팀 유량은 0.5g/min 내지 2g/min, 바람직하게는 0.9g/min 내지 1.2g/min이다. 이 경우에서 구속 공간의 부피는 그루브(9)와 고랑(10, 10')의 부피들로 구성된다. 이 부피는 도 1 내지 도 3에 도시된 실시예에서의 구속 공간(28)의 부피의 2배인 값들의 범위 내에 있다. 그 결과, 스팀 채널 또는 그루브가 선행 실시예에 비해 2배가 됨으로써, 스팀이 이중 채널을 따르게 되고, 모발 타래가 2배로 스팀 처리된다. 채널은 표면(들)의 일 단부까지 유체를 순환시키고 있을 수 있다. 이러한 구성에서, 스팀이 평행한 채널들로부터 하나의 채널을 통해 U자 형상을 형성하도록 순환되는 경우, 하나의 대안예는 스팀 출구 오리피스가 채널(미도시)들 중 하나에만 존재하는 것이다.
도 6에서, 스팀 투사 또는 확산 수단(7)은 도 1 내지 도 3의 것들과 유사하다. 또한, 도 1 내지 도 3에 도시된 것과 유사한 구속 공간(28) 내에서 생성되고 이동되는 스팀의 균일한 분포를 촉진하는 그리드(13)가 고랑(10) 위에 배치된다. 이러한 그리드(13)는 도 5에 도시된 실시예에서 각각의 고랑(10, 10') 상에 배치될 수 있다.
도 7의 실시예에서, 고랑(10)은 곡선형이다. 그루브(9)는 상기 곡선형 고랑(10)의 형태에 부합하는 둥근 그리드(14)를 포함한다. 이 둥근 그리드는 스팀이 구속 공간(28) 내로 고르게 분산될 수 있도록 하며, 휴대형 처리 유닛(2)이 이동할 때 모발 타래가 당겨질 수 있도록 한다. 구속 공간(28)의 부피는 도 1 내지 도 3에 도시된 실시예와 유사한 값들의 범위 내에 있다.
도 8에서, 고랑(10)과 그루브(9)는 원 형상이며, 클램프가 폐쇄되었을 때 원통(15)을 형성하고, 상기 원통(15)은 구속 공간(28)을 형성한다. 또한, 원통(15)의 내부에 천공 롤러(16)가 배치되어 축(X)을 중심으로 회전한다. 이 천공 롤러(16)는 동력을 공급받을 수 있다. 원통(15)의 부피는 도 1 내지 도 3에 도시된 실시예에서의 구속 공간(28)의 부피와 유사한 값들의 범위 내에 있다.
도 9, 도 10, 도 11 및 도 12는 각각 도 2로부터의 구속 수단을 실행하기 위한 다른 대안예를 도시하고 있지만, 이들은 설명된 방식들 중 임의의 방식으로, 단독으로 또는 조합하여 구현될 수 있다. 이 대안예들의 공통점은 30 또는 30a로 표시된 1개 또는 2개의 특수한 조각(들)이며, 그 중 1개 또는 2개 모두가 가열판들 중 하나 또는 양측 모두에 제공된 1개 또는 2개의 공간(이하, 거터(gutter)라 지칭함) 내에 삽입된다. 가열판 내에 삽입된 이러한 조각은 구속 수단의 윤곽을 적어도 부분적으로 형성한다. 이 조각 또는 조각들은 구속된 스팀을 이용한 처리에 대해 추가적인 기능을 도입할 수 있도록 한다.
따라서, 도 9는 가열판의 단부에 있는 그루브 내의 공간보다 크게 제공된 공간 내에 각각 삽입된 1개 또는 2개의 유리 조각을 가진 하나의 공간 구성을 도시하고 있다. 하나 이상의 그루브(들)가 1개 또는 2개의 유리 조각에 형성된다. 유리 조각(들)은 하나 이상의 발광 다이오드(LED)에 의해 조명되어 구속 그루브의 각 측면에 조명 막대를 형성할 수 있다.
도 10은 스팀 발생 챔버로부터 나오는 스팀을 운반하는 2개의 채널(31, 31a)에 의해 스팀이 운반되는 대안예를 도시하고 있다. 이를 위해, 가열판의 처리 표면 상에 제공된 큰 공간 내로 특수한 조각이 삽입된다. 이 조각은 스팀 발생 챔버로부터 채널을 통해 나오는 스팀의 방향을 전환할 수 있다.
도 11은 특수한 조각(들)이, 예컨대, 알루미늄으로 제조되고, 도색되며, 예컨대, 제공된 공간 내로 미끄러지는 대안예를 도시하고 있다. 이 조각들은 주먹장(dovetailing)으로 고정될 수 있다. 특수한 조각들 중 1개 또는 2개 모두를 교체함으로써 그루브(들)의 크기를 변경할 수 있다.
마지막으로, 도 12는 특수한 조각(30, 30a)들이 실리콘으로 제조되는 대안예를 도시하고 있다. 유리하게 및 도시된 바와 같이, 실리콘 조각(30, 30a)은, 제자리에 있을 때, 가열판(17)의 표면으로부터 돌출할 수 있으며, 이에 따라, 그루브 옆에 모발 인장 구역(32) 또는 견인 구역(32)을 생성하여, 모발 타래에 대해 보다 부드러운 우수한 스트레이트닝을 가능하게 한다.
도 1에서, 제1 아암(3) 상의 제1 표면(5)의 하류에 빗(19)이 위치된다. 이 빗(19)은 모발 타래가 2개의 표면(5, 6)들 사이를 통과하기 전에 엉킨 모발 타래를 풀고 통기시킬 수 있도록 한다.
본 발명의 범위 내에서 다른 구현 변형예도 가능하다. 특히, 제2 표면(6)에 있는 그루브(9)의 부피로만, 또는 제1 표면(5)에 있는 스팀 확산 또는 투사용 오리피스(12)를 포함하는 고랑(10)의 부피로만 구성되는 구속 공간이 제공될 수 있다. 이 경우, 그루브(9) 또는 고랑(10)의 상기 부피는 상기 스팀 구속부를 구성하도록 치수가 정해져야 한다.
구속 수단과 스팀 확산 또는 투사 수단(7)은 가열판(17, 18)과 별개로 표면(5, 6) 상에 배치될 수도 있으며, 상기 구속 수단과 스팀 확산 또는 투사 수단(7)은 상기 가열판(17, 18)의 하류에 배치된다.
다양한 전술한 실시예들에 따르면, 고랑(10, 10')의 바닥면(11, 11')에 위치되어 스팀 유량을 0.5g/min 내지 2g/min, 바람직하게는 0.9g/min 내지 1.2g/min로 유지하는 스팀 확산 또는 투사 슬롯을 통해 스팀 확산 또는 투사용 오리피스(12)를 대체할 수도 있다.
다양한 전술한 실시예에 따르면, 정전기를 제거하기 위해 스팀 구속 수단 내로 이온을 전달하기 위해 사용되는 온보드 이온화기를 추가할 수 있다.
Claims (25)
- 모발 타래가 클램핑될 수 있도록 함께 서로 마주하는 2개의 표면(5, 6)을 구비한 클램프를 형성하도록 구성된 2개의 아암(3, 4)을 가진 휴대형 처리 유닛(2)을 포함하며, 휴대형 처리 유닛은 2개의 표면들 중 제1 표면(5)으로부터 2개의 표면들 중 제2 표면(6)을 향해 스팀을 확산시키도록 구성된 스팀 확산 수단(7)을 포함하는, 헤어스타일링 장치(1)에 있어서,
서로에 대해 가압되는 2개의 표면(5, 6)들 사이에 확산된 스팀을 구속하는 수단(9, 10, 10')을 포함하는 것을 특징으로 하는,
헤어스타일링 장치(1). - 제1항에 있어서,
표면(5, 6)들 중 하나의 하류에 빗(19)이 위치되는,
헤어스타일링 장치(1). - 제1항 또는 제2항에 있어서,
2개의 표면(5, 6)들은 각각 가열판(17, 18)을 가지며, 이 가열판들은 서로 마주하여 위치되며, 함께 모발 타래를 클램핑할 수 있는,
헤어스타일링 장치(1). - 제3항에 있어서,
스팀 구속 수단(9, 10, 10')은 2개의 가열판(17, 18) 사이에 위치되는,
헤어스타일링 장치(1). - 제1항에 있어서,
스팀 구속 수단은 확산 수단(7)을 마주하며 2개의 표면들 중 제2 표면(6)에 위치된 그루브(9)를 포함하는,
헤어스타일링 장치(1). - 제5항에 있어서,
그루브(9)는 제2 표면(6)의 2개의 길이 방향 에지(6a, 6b)들 중 적어도 하나로 개방되는,
헤어스타일링 장치(1). - 제5항 또는 제6항에 있어서,
그루브는 폭이 2 내지 6㎜, 바람직하게는 2.5㎜이고, 깊이가 0.5 내지 2㎜, 바람직하게는 1㎜인,
헤어스타일링 장치(1). - 제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
그루브는 길이가 20 내지 220㎜, 바람직하게는 90㎜인,
헤어스타일링 장치(1). - 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
제1 표면(5)은 바닥면(11)을 구비한 고랑(10)을 포함하고, 스팀 확산 수단(7)은 그 바닥면으로부터 스팀을 확산시키도록 배치되며, 스팀 구속 수단은 고랑을 포함하는,
헤어스타일링 장치(1). - 제5항과 관련된 제9항에 있어서,
그루브(9)는 고랑(10)을 마주하여 위치되는,
헤어스타일링 장치(1). - 제10항에 있어서,
그루브(9)와 고랑(10)은 본질적으로 동일한 부피를 갖는,
헤어스타일링 장치(1). - 제5항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
제1 표면(5)은 바닥면(11, 11')을 각각 구비한 2개의 인접한 고랑(10, 10')을 가지며, 스팀 확산 수단(7)은 이 2개의 바닥면들 중 적어도 하나로부터의 스팀을 확산시키도록 배치되고, 그루브(9)는 2개의 고랑을 마주하여 위치되는,
헤어스타일링 장치(1). - 제9항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
적어도 하나의 고랑(10, 10')은 제1 표면(5)의 2개의 길이 방향 에지(5a, 5b)들 중 적어도 하나로 개방되는,
헤어스타일링 장치(1). - 제9항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
스팀 확산 수단(7)은 적어도 하나의 고랑(10, 10')의 바닥면을 따라 위치된 다수의 확산 오리피스(12, 12')를 포함하는,
헤어스타일링 장치(1). - 제9항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
스팀 확산 수단(7)은 적어도 하나의 고랑(10, 10')의 바닥면을 따라 길이 방향으로 연장하는 확산 슬롯을 포함하는,
헤어스타일링 장치(1). - 제9항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
제1 표면(5)의 적어도 하나의 고랑(10, 10') 위에 그리드(13)가 위치되는,
헤어스타일링 장치(1). - 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
고랑(10)은 곡선형이며, 그루브(9)는 상기 곡선형 고랑의 형태에 부합하는 융기된 그리드(14)를 포함하는,
헤어스타일링 장치(1). - 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
고랑(10)과 그루브(9)는 클램프의 폐쇄 위치에서 원통(15)을 형성하도록 형상이 원형이며, 상기 장치는 상기 원통의 내부에서 회전하도록 장착된 천공 롤러(16)를 포함하는,
헤어스타일링 장치(1). - 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,
스팀 구속 수단(9, 10, 10')은 표면(5, 6) 상에서 편심되어 위치되는,
헤어스타일링 장치(1). - 제4항에 있어서,
스팀 구속 수단(9, 10, 10')은 가열판(17, 18)의 하류에 위치된 부분(17a, 18a) 상에서 편심되어 배치되는,
헤어스타일링 장치(1). - 제20항에 있어서,
구속 수단(9, 10, 10')의 정중선은 가열판의 하류 에지로부터 일정 거리(d1)에 위치되며, 가열판의 폭(l1)에 대한 거리(d1)의 비율은 0.1 내지 0.4인,
헤어스타일링 장치(1). - 제1항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,
클램프의 근위부(3a, 4a)의 방향으로 구속 수단(9, 10, 10')으로부터 유출되는 스팀을 차단하도록 구성된 스팀 차단부(20)를 포함하며, 상기 근위부는 휴대형 처리 유닛(2)을 조작하도록 구성되는,
헤어스타일링 장치(1). - 제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,
스팀 확산 수단(7)은 0.5g/min 내지 2g/min, 바람직하게는 0.9g/min 내지 1.2g/min의 스팀 유량을 전달하도록 구성되는,
헤어스타일링 장치(1). - 제5항에 있어서,
스팀 확산 수단(7)은 제2 표면(6)에 있는 그루브(9)의 부피로만 구성되는 구속 공간을 형성하는,
헤어스타일링 장치(1). - 제9항 및 제14항에 있어서,
스팀 확산 수단(7)은 제1 표면(5)에 있는 스팀 확산 오리피스를 포함하는 고랑(10)의 부피로만 구성되는 구속 공간을 형성하는,
헤어스타일링 장치(1).
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