KR20020086692A - 블랙 트리스아조 금속 착물 염료 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 하기 화학식 4의 트리스 아조 염료의 금속 착물에 관한 것이다.
화학식 4
상기 식에서,
R1은 OH, O(C1-C6)-알킬, O(C1-C6)-알킬-COOM, O(C1-C6)-알킬-SO3M, O(하이드록시(C1-C6)-알킬, (C1-C6)-알킬, COOM, SO3M, SO2NH, SO2N(하이드록시(C1-C6)-알킬)2, SO2NH(C1-C6)-알킬, SO2N(C1-C6)-알킬)2, NH2, NH(C1-C6)-알킬, NH아실, NH아릴, N(하이드록시(C1-C6)-알킬)2, N(C1-C6)-알킬)2, 및/또는 할로겐으로 단일- 또는 다중, 예를 들어 2-, 3-, 4- 또는 5-중 치환된 아릴 라디칼이고;
R2는 OH, O(C1-C6)-알킬, COON 또는 SO3M이고;
R3, R4및 R5는 수소 또는 치환기이고;
R6은 치환되지 않거나 단일- 또는 다중-치환된, 단핵 또는 이핵 카보사이클릭 또는헤테로사이클릭 방향족, 동일하게 치환된 피라졸 라디칼 또는 동일하게 치환된 피리돈 라디칼이다.
상기 염료는 천연 및 합성 섬유 물질의 염색 및 날인, 특히 잉크젯 방법에 따른 액체의 기록, 종이 펄프를 착색하기 위한 액체 조정에 사용될 수 있으며, 본 발명의 염료를 함유하는 전자사진 토너, 분말 락커 및 색 필터의 착색제로서 사용될 수 있다.
Description
본 발명은 본원의 우선권 기초출원인 2000년 3월 25일자 특허 출원 제 100 15 004.7 호에 기초하여 기술되어 있으며, 상기 특허출원은 본원에서 참고 문헌으로 인용된다.
잉크젯 공정은 무접촉 인쇄 공정으로서, 일반적으로 2가지 형태가 있다: 열전사(drop-on-demand) 및 연속식 스트림이 그것이다. 상기 열전사의 원리에서는 노즐로부터의 소적 형태의 잉크가 적시 적소에 놓여지는 반면, 연속식 스트림에서는 잉크가 연속적으로 유출된 다음, 수용 매체(예를 들어, 종이)와 충돌하거나 수거 용기 속으로 편향된다. 고 선명도 및 고 해상도를 수득하기 위해서는, 상기 기록 유체 및 이들 내부에 존재하는 염료가 매우 엄격한 요건, 특히 광견뢰도(lightfastness), 수견뢰도(waterfastness), 순도, 입자로부터의 유리성, 용해도, 저장 안정도, 점도, 표면 장력, 전도성, 색상 강도, 색조(hue) 및 광택과 관련된 요건을 만족시켜야 한다(유럽 특허원 제 0 825 233 호 및 미국 특허원 제 5 188 664 호).
이중에서 가장 중요한 부분은 잉크에 사용되는 염료이다. 수많은 염료가 개발되어 왔지만, 현재의 잉크젯 인쇄 공정의 요건을 만족시키는 염료는 극히 적은 실정이다.
초기에는, 식품, 직물 및 종이 분야의 전통적인 염료를 잉크젯 용도를 위한 특정한 개질 이후 사용하였다. 이는 잉크 내의 블랙 염료로서 사용되는 씨아이 푸드 블랙(C.I. Food Black) 2(1) 및 구조적으로 유사한 화합물로서 설명될 수 있다.
그러나, 상기 화합물을 사용한 인쇄는 선명하지 않은 남색의 블랙을 나타내었다. 만족스러운 광견뢰도 또한 수득되지 않는다. 이러한 단점을 최소화하기 위해, 씨아이 푸드 블랙(C.I. Food Black) 2의 치환기들을 변화시킴으로써 보다 중성의 블랙(neutral black)을 제공하고 개선된 수견뢰도를 갖는 하기 화학식 2의 블랙 염료를 수득하였다(미국 특허원 제 5053495 호).
실제로, 카복실기의 도입은 개선된 수견뢰도를 제공하지만, 동시에 염료의 분자가 수용 매체 속으로 매우 극소량만을 침투시키거나 전혀 침투시키지 않는 괴성물을 형성하기 때문에 크락 견뢰도에 불리한 영향을 끼친다.
하기 화학식 3의 씨아이 디렉트 블랙(C.I. Direct Black) 62와 같은 디스아조 및 테트라아조 염료의 금속 착물을 사용함으로써 개선된 광견뢰도가 수득되었다(독일 특허원 제 19831095 호).
상기 염료(3)는 개선된 내성 특성을 제공하지만, 상기 모든 요건을 만족시키는 것은 아니다. 예를 들어, 상기 염료는 낮은 저장 안정성을 나타낼 뿐만 아니라 적용 매질에 비효율적으로 용해된다.
따라서, 특히 잉크의 광견뢰도, 수견뢰도, 용해도 및 저장 안정성 측면에서 종래 기술의 블랙보다 우수하면서도, 잉크젯 분야에서 필요한 기타 특성을 갖는 염료가 요구된다.
놀랍게도, 하기에 정의된 수용성 염료에 의해 전술한 요건이 모두 만족됨을 발견하였다.
발명의 요약
따라서, 본 발명은 하기 화학식 4의 트리스아조 염료의 금속 착물을 제공한다.
상기 식에서,
R1은 OH, O(C1-C6)-알킬, O(C1-C6)-알킬-COOM, O(C1-C6)-알킬-SO3M, O(하이드록시(C1-C6)-알킬), (C1-C6)-알킬, COOM, SO3M, SO2NH2, SO2N(하이드록시(C1-C6)-알킬)2,SO2NH((C1-C6)-알킬), SO2N((C1-C6)-알킬)2, NH2, NH(C1-C6)-알킬, NH아실, NH아릴, N(하이드록시(C1-C6)-알킬)2, N((C1-C6)-알킬)2및 할로겐으로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상, 예를 들어 2 내지 5개의 치환기로 치환된 아릴이고;
R2는 OH, O(C1-C6)알킬, COOM 또는 SO3M이고;
R3, R4및 R5는 동일하거나 상이하며, 각각 H, OH, O(C1-C6)-알킬, O(C1-C6)-알킬-COOM, O(C1-C6)-알킬-SO3M, O(하이드록시(C1-C6)-알킬), (C1-C6)-알킬, COOM, SO3M, SO2NH2, SO2N(하이드록시(C1-C6)-알킬)2, SO2NH(C1-C6)-알킬, SO2N((C1-C6)-알킬)2, NH2, NH(C1-C6)-알킬, NH아실, NH아릴, N(하이드록시(C1-C6)-알킬)2, N((C1-C6)-알킬)2및 할로겐으로 구성된 그룹으로부터 선택되고,
R6은 OH, O(C1-C6)-알킬, O(C1-C6)-알킬-COOM, O(C1-C6)-알킬-SO3M, O(하이드록시(C1-C6)-알킬), (C1-C6)-알킬, COOM, SO3M, SO2NH2, CONH-페닐, SO2NH-페닐, SO2N(하이드록시(C1-C6)-알킬)2, SO2NH(C1-C6)-알킬), SO2((C1-C6)-알킬)2, NH2, NH(C1-C6)-알킬, NH아실, NH아릴, N(하이드록시(C1-C6)-알킬)2, N(C1-C6)-알킬)2, 할로겐 및 페닐설포로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상, 예를 들어 2 내지 5개의 치환기로 치환되거나 치환되지 않은 단일- 또는 이중고리 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 방향족이거나, 유사하게 치환된 피라졸 또는 피리돈 라디칼이고;
M은 수소, 일가 금속 양이온, 다가 금속 양이온 1 당량, 또는 치환되지 않거나 알킬-, 알콕시알킬- 또는 하이드록시알킬-치환된 암모늄 이온이다.
이 중에서, 본 발명의 목적을 위해서는 착화된 금속 원자가 알루미늄, 크로뮴, 철, 코발트, 니켈 또는 구리인 상기 화학식 4의 염료가 바람직하다.
상기 정의에서, 아릴은 바람직하게는 페닐 또는 나프틸이고, 아실은 바람직하게는 포밀, 아세틸 또는 프로피오닐이다.
본 발명의 트리스아조 금속 착물 염료에서는, 금속 원자가 하기 화학식 4a에서 도시된 바와 같이 결합되는 것이 바람직하다.
M1은 바람직하게는 Al, Cr, Fe, Co, Ni 또는 Cu, 특히 Cu이고,
R20은 C1-C6-알킬이고,
n은 0 또는 1이고,
X는 화학 결합, -CO- 또는 -SO2-이다.
바람직하게는, R1이 OH, O(C1-C6)-알킬, COOM, SO3M 및 NH2로 구성된 그룹으로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 치환기로 치환된 페닐 또는 나프탈렌 라디칼이다.
바람직하게는, R2는 OH 또는 COOM이다.
바람직하게는, R3는 H, 메틸 또는 O(C1-C6)-알킬이다.
바람직하게는, R4및 R5가 각각 H, COOM 또는 SO3M이다.
바람직하게는, R6가 OH, O(C1-C6)-알킬, COOM, SO3M, NH2, NH아릴, NH아실 및 페닐설포로 구성된 그룹으로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 치환기로 치환된 페닐, 나프틸, 피리딜 또는 피라졸 라디칼이다.
바람직하게는, M은 H, Na, K, Li, Ca/2 또는 암모늄이다.
이중에서, 전술한 바와 동일한 R1내지 R6및 M을 갖는 화학식 4의 염료의 구리 착물이 특히 바람직하다.
특히 바람직한 염료는 하기 화학식 5 내지 13의 구조를 나타낸다:
또한, 본 발명은 상기 화학식 4의 트리스아조 염료의 금속 착물을 제조하는 방법을 제공하며, 상기 제조방법은 하기 화학식 14의 나프톨아민을 디아조화시키는 단계, 생성된 디아조늄 염과 하기 화학식 15의 화합물을 결합시키는 단계, 생성된 하기 화학식 16의 화합물을 하기 화학식 17의 디아조늄 염과 결합시키는 단계 및 금속 염 용액으로 착화시키는 단계를 포함한다
상기 식에서,
X-는 음이온, 특히 클로라이드 또는 설페이트이다.
본 발명은 블랙 트리스아조 착물 염료, 이들의 제조방법, 및 기록 유체(recording fluid)에서의 이들의 용도에 관한 것으로서, 특히 잉크젯 인쇄 공정을 위한 이들의 용도 및 전자사진 토너, 분말 코팅 및 색 필터의 착색제로서의 이들의 용도에 관한 것이다.
또한, 먼저 상기 화학식 14의 화합물을 디아조늄 염(화학식 17)과 결합시킨 다음, 디아조화시키고 화합식 15의 화합물과 결합시킬 수도 있다.
또한, 동일한 조건하에서, 상기 디아조늄 염(화학식 17)을 구축 조각(14) 위에 결합시킨 다음, 또다른 디아조화 및 화합물(화학식 15)과의 결합을 수행할 수도있다. 최종 단계는 상기와 동일한 방법 또는 실시예 10에서 교시된 방법에 따른 금속 염 용액과의 금속화이다.
전술한 디아조화 및 결합 단계는 통상적인 방법에 따라 수행될 수 있다.
상기 디아조화는 0 내지 10℃의 온도 및 1 내지 3의 pH의, 수용액 또는 나트륨 니트라이트와의 현탁액에서 수행되는 것이 바람직하다.
상기 아조 결합은 0 내지 20℃의 온도 및 3 내지 9의 pH의, 수용액 또는 현탁액에서 수행되는 것이 바람직하다.
특정한 디아조늄 염과 특정한 결합 성분 사이의 몰비는 1:(0.8 내지 2)가 바람직하다.
상기 화학식 4의 트리스아조 화합물에 금속 염 수용액, 예를 들어 금속 설페이트, 클로라이드, 브로마이드, 수소 설페이트, 비카보네이트 또는 카보네이트의 첨가는 금속 M1과의 착화에 유리하게 작용한다. 초대기압하에서 상기 착화를 수행해야 하는 경우, pH를 2 내지 6으로 조정하고 온도를 60 내지 130℃로 조정하는 것이 유리하다.
또한, 반응 용기내에서 보충적인 반응상의 존재 또는 부재하에 혼합 노즐 및 연속 유동 반응기에서 산성 또는 알칼리성 수용액 형태의 출발물질들을 당량에 따라 연속적으로 혼합시킴으로써 본 발명의 염료를 제조할 수도 있다.
또한, 막 여과를 이용한 사전의 부분적 또는 완전한 탈염을 수행하거나 수행하지 않고, 전술한 바와 같이 수득된, 바람직하게는 수성인 반응 혼합물로부터 염석, 여과 또는 분무 건조를 수행함으로써 본 발명의 염료를 분리할 수 있다. 그러나, 분리 단계 또한 생략할 수 있으며, 유기 및/또는 무기 염기 및/또는 습윤제를 첨가함으로써, 본 발명의 염료를 함유하는 상기 반응 혼합물을 농축된 염색 용액으로 직접적으로 전환시킨다. 다르게는, 상기 착물 염료를 프레스 케이크(press cake)(경우에 따라, 수세 공정을 포함함) 또는 분말로서 상기 착물 염료를 사용할 수도 있다.
농축된 염료 용액에서의 무기 염기로서 유용한 것은 리튬 하이드록사이드, 리튬 카보네이트, 나트륨 하이드록사이드, 나트륨 비카보네이트, 칼륨 하이드록사이드, 칼륨 카보네이트 및 암모니아를 포함한다. 유용한 유기 염기는 예를 들어, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 2-아미노프로판올, 3-아미노프로판올, 디프로판올아민, 트리프로판올아민, N-메틸아미노에탄올, N,N'-디메틸아미노에탄올, N-페닐아미노프로판올, 에틸렌디아민, 테트라메틸에틸렌디아민, 테트라메틸프로필렌디아민, 테트라메틸헥실렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라아민, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민 및 폴리에틸렌이민을 포함한다.
농축된 염료 용액에서의 습윤제로서 유용한 것은 예를 들어, 포름아미드, 우레아, 테트라메틸우레아, ε-카프로락탐, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 부틸글리콜, 메틸셀로솔브, 글리세롤, N-메틸피롤리돈, 1,3-디에틸-2-이미다졸리디논, 나트륨 크실렌설포네이트, 나트륨 쿠멘설포네이트 및 나트륨 부틸모노글리콜 설페이트를 포함한다.
또한, 본 발명은 천연 섬유 또는 합성 섬유 물질(예를 들어, 폴리에스테르,견, 모, 합성 직물류)의 염색 및 날염, 특히 다양한 기록 매체 상의 스크립트 및 이미지의 기록, 및 종이 또는 셀룰로오스의 펄프 착색에서의 본 발명의 트리스아조 금속 착물 염료의 용도를 제공한다.
본 발명의 트리스아조 금속 착물 염료는, 예를 들어 전자사진 토너 및 현상액, 예를 들어 일종 성분 및 이종 성분의 분말 토너, 자성 토너, 액상 토너, 중합 토너 및 기타 전문 토너의 착색제로서 유용하다.
전형적인 토너 결합제는 개별적이거나 조합된 스티렌, 스티렌-아크릴레이트, 스티렌-부타디엔, 아크릴레이트, 폴리에스테르, 페놀계 및 에폭시 수지, 폴리설폰, 폴리우레탄, 및 폴리에틸렌, 폴리프로필렌과 같은 부가 중합, 중부가 및 중축합 수지이며, 각각 추가의 구성요소(예를 들어, 전하 제어제, 왁스 또는 유동제)를 포함하거나 상기 첨가제로 후속적으로 개질된다.
또한, 본 발명의 트리스아조 금속 착물 염료는 분말 및 분말 코팅에서의 착색제로서 유용하며, 예를 들어 금속, 모, 플라스틱, 유리, 세라믹, 콘크리트, 직물, 종이 또는 고무로 구성된 물질의 표면을 코팅하는데 사용되는 마찰전기적 또는 정전기적으로 분무되는 분말 코팅의 착색제로서 특히 유용하다. 전형적으로, 분말 코팅 수지로는 통상적인 경화제와 함께 에폭시 수지, 카복시- 및 하이드록시-함유 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 및 아크릴 수지가 사용된다. 수지의 조합물 또한 사용된다. 예를 들어, 에폭시 수지는 종종 카복실- 및 하이드록실-함유 폴리에스테르 수지와 조합되어 사용된다.
또한, 본 발명의 착물 염료는 색 필터, 가색 발생, 및 감색 발생의 착색제로서 유용하다(피. 그레고리(P. Gregory)의 문헌["Topics in Applied Chemistry: High Technology Application of Organic Colorants" Plenum Press, New York 1991, pages 15-25]).
전술한 용도에서, 본 발명의 착물 염료는 각각 또는 서로 다르게 또는 기타 염료 및/또는 안료와 함께 염료 혼합물로서 사용될 수 있다. 또한, 본 발명의 염료는 황색, 자홍색 및 청록색 색조와 함께 잉크 세트로서 사용될 수 있다. 상기 황색, 자홍색 및 청록색 색조는 예를 들어, 씨아이. 애시드 옐로우(C.I. Acid Yellow) 17, 씨아이 애시드 옐로우(C.I Acid Yellow) 23, 씨아이 디렉트 옐로우(C.I. Direct Yellow) 86, 씨아이 디렉트 옐로우(C.I. Direct Yellow) 98, 씨아이 디렉트 옐로우(C.I. Direct Yellow) 132, 씨아이 리액티브 옐로우(C.I. Reactive Yellow) 37, 씨아이 애시드 레드(C.I. Acid Red) 52, 씨아이 애시드 레드(C.I. Acid Red) 289, 씨아이 리액티브 레드(C.I. Reactive Red) 23, 씨아이 리액티브 레드(C.I. Reactive Red) 180, 씨아이 애시드 블루(C.I. Acid Blue) 9, 씨아이 디렉트 블루(C.I. Direct Blue) 199와 같은 염료, 및 예를 들어 씨아이 피크먼트 옐로우(C.I. Pigment Yellow) 17, 씨아이 피그먼트 옐로우(C.I. Pigment Yellow) 74, 씨아이 피크먼트 옐로우(C.I. Pigment Yellow) 83, 씨아이 피크먼트 옐로우(C.I. Pigment Yellow) 97, 씨아이 피크먼트 옐로우(C.I. Pigment Yellow) 120, 씨아이 피크먼트 옐로우(C.I. Pigment Yellow) 139, 씨아이 피크먼트 옐로우(C.I. Pigment Yellow) 151, 씨아이 피크먼트 옐로우(C.I. Pigment Yellow) 155, 씨아이 피크먼트 옐로우(C.I. Pigment Yellow) 180, 씨아이 피크먼트레드(C.I. Pigment Red) 57:1, 씨아이 피크먼트 레드(C.I. Pigment Red) 122, 씨아이 피크먼트 레드(C.I. Pigment Red) 146, 씨아이 피크먼트 레드(C.I. Pigment Red) 176, 씨아이 피그먼트 레드(C.I. Pigment Red) 184, 씨아이 피그먼트 레드(C.I. Pigment Red) 185, 씨아이 피그먼트 레드(C.I. Pigment Red) 269, 씨아이 피그먼트 바이올렛(C.I. Pigment Viloet) 19, 씨아이 피그먼트 블루(C.I. Pigment Blue) 15, 씨아이 피그먼트 블루(C.I. Pigment Bleu) 15:3, 씨아이 피그먼트 블루(C.I. Pigment Blue) 15:4와 같은 안료를 포함한다.
반응성 염료의 경우, 친핵체와 반응한 염료 또한 잉크 세트 내에서 사용될 수 있다.
본 발명의 염료는 기록 유체, 특히 잉크젯 인쇄 공정용 수성 및 비수성 잉크, 및 잉크젯 인쇄 공정 및 고온 용융 공정 작업용, 및 기타 인쇄, 복사, 표시, 기록, 그림, 도장 또는 기입(registering) 공정에서의 미세 에멀젼을 기본으로 하는 기록 유체를 제조하는데 특히 유용하다.
또한, 본 발명의 착물 염료는 유기 및 무기 물질의 착색에 유용하다.
또한, 본 발명은 명암을 위한 기타 수용성 염료의 존재 또는 부재하에, 본 발명에 따른 염료를 하나 이상 포함하는 기록 유체를 제공한다. 상기 기록 유체의 정확한 조성은 의도하는 용도에 따라 조정되어야 한다.
일반적으로, 생산된 기록 유체는 하나 이상, 예를 들어 2 내지 4개의 트리스아조 금속 착물 염료를 총 0.1 내지 50 중량%, 물을 0 내지 99 중량% 및 유기 용매 및/또는 습윤제를 0.5 내지 99.5 중량%의 양으로 포함한다. 바람직한 실시양태에서, 기록 유체는 염료 0.5 내지 15 중량%, 물 35 내지 75 중량% 및 유기 용매 및/또는 습윤제 70 내지 99.5 중량%를 함유한다. 상기 생산된 기록 유체는 후술되는 추가의 첨가제를 포함할 수 있다.
기록 유체를 제조하는데 사용되는 물은 바람직하게는 증류수 또는 탈염수의 형태이다. 상기 기록 유체에 포함되는 용매 및/또는 습윤제는 유기 용매 또는 상기 용매의 혼합물이 될 수 있으며, 이러한 경우, 수혼화성 용매가 바람직하다. 유용한 용매는, 예를 들어 일가- 또는 다가 알콜, 이들의 에테르 및 에스테르(예를 들어, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 부탄올 및 이소부탄올); 특히 탄소수 2 내지 6의 이가- 또는 삼가 알콜(예를 들어, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,2,6-헥산트리올, 글리세롤, 디에틸렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 트리프로필렌 글리콜 및 폴리프로필렌 글리콜); 다가 알콜의 저급 알킬 에테르(예를 들어, 에틸렌 글리콜 모노메틸, 모노에틸 또는 모토부틸 에테르, 트리에틸렌 글리콜 모노메틸 또는 모노에틸 에테르); 케톤 및 케톤 알콜(예를 들어, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 디에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 메틸 펜틸 케톤, 사이클로펜타논, 사이클로헥사논 및 디아세톤 알콜); 아미드(예를 들어, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 및 N-메틸피롤리돈); 및 우레아, 테트라메틸우레아, 티오디글리콜 및 ε-카프로락탐을 포함한다.
본 발명의 기록 유체는 통상적인 첨가제, 예를 들어 방부제, 양이온성, 음이온성 또는 비이온성 표면활성 물질(계면 활성제 및 습윤제), 및 막 형성제로서의점도 조절제(예를 들어 폴리비닐 알콜, 셀룰로오즈 유도체 또는 수용성 천연 수지 또는 합성 수지) 또는 접착 강도 및 내마모성의 향상을 위한 결합제를 추가로 포함할 수 있다.
아민, 예를 들어 에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, N,N-디메틸에탄올아민 및 디이소프로필아민은 주로 기록 유체의 pH를 상승시키는데 사용된다. 이들은 보통 기록 유체 내에서 0 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 5 중량%의 양으로 존재한다.
잉크젯 인쇄 공정을 위한 기록 유체는 본 인쇄 공정의 실시양태에 따라, 예를 들어 연속성 제트, 간헐성 제트, 충동성 제트 또는 화합물 제트 공정인지에 따라, 예를 들어 pH를 완충시키고, 전기 전도성, 특정한 열용량, 열팽창 계수 및 전도성을 조정하기 위해 추가의 첨가제를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른, 저장된 기록 유체는 윤곽의 불량한 인쇄 또는 노즐 막힘을 유발하는 침전물을 형성시키지 않는다.
본 발명의 기록 유체는 점도 및 표면 장력의 측면에서 잉크젯 공정에 적합하다. 이들은 고 광학 밀도 및 우수한 광견뢰도, 수견뢰도, 내마모성 및 해상도의 인쇄된 이미지를 제공한다.
실시예 1:
1-하이드록시-7-아미노-3-나프톨산(14) 0.05mol을 염산(10N) 18㎖에 넣고 상기 혼합물을 18시간 동안 실온에서 교반한다. 이어서, 얼음 약 15g을 반응 용기에 넣고 나트륨 니트라이트(무염수 10㎖에 용해되어 있음) 3.6g을 1 내지 2시간에 걸쳐 적가한 다음, 상기 혼합물을 4시간 동안 5 내지 8℃에서 교반한다. 과량의 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이어서, 디아조화된 나프톨산을, 나트륨 하이드록사이드 수용액으로 4 내지 6의 pH로 고정된 3-카복시-5-하이드록시-1-(4-설포페닐)-4-피라졸(19)의 용액(탈염수 60㎖중 0.05mol)에 10분에 걸쳐 첨가하고 얼음 25g으로 냉각시킨다. 나트륨 아세테이트 5g을 첨가하고 나트륨 비카보네이트 10g으로 pH를 3 내지 5로 조정한 다음, 상기 혼합물을 6시간 동안 15 내지 20℃에서 교반하여 화학식 20의 화합물을 형성한다.
분리된 용기에서, 2-[(4-아미노-3-메톡시페닐)아조]-나프탈렌-6,8-디설폰산(21) 0.05mol을 염산(10N) 10㎖과 혼합하고, 상기 용액에 나트륨 니트라이트(물 10㎖중) 3.4g을 45분에 걸쳐 적가한다. 과량의 나트륨 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이로써 수득된 현탁액을 화학식 20의 화합물에 적가하고 나트륨 카보네이트로 상기 혼합물의 pH를 5 내지 6으로 조정한다. 마지막으로, 화학식 22의 구리 트리스아조 화합물을 위해, pH를 3 내지 5로 조정하고 구리 설페이트 7.8g 및 나트륨 아세테이트 5.7g을 반응 혼합물에 첨가한다. 상기 배치를오토클레이브로 옮기고 12 내지 20시간 동안 100 내지 120℃ 및 3bar에서 교반한다. 반응이 종결된 후, 티오설페이트 6g을 첨가하고 상기 배치를 80 내지 100℃에서 4 내지 6시간 동안 교반한다. 이어서, 상기 염료 용액을 막 여과로 탈염시키고 건조시킨다.
수율: 흑색 분말 52g
실시예 2:
실시예 1에 따라 제조된 염료(9)를 염화 단계 후, 방부제, 예를 들어 메르갈(Mergal) K 10N 0.2 중량%와 혼합시켜 잉크젯 공정을 위한 기록 유체를 제조하는데 매우 유용한 안정한 염료 용액(10 중량%)를 수득한다.
실시예 3: 4 중량%의 순수 염료 함량을 갖는 기록 유체의 제조 실시예:
실시예 1에 따른 탈염 순수 염료 4g을 디에틸렌 글리콜 20.0g, N-메틸피롤리돈 2.5g, 트리에탄올아민 1.0g 및 탈염수 76.5g의 혼합물에 교반시키며 첨가하고 이들을 용해시킨다.
이로써 제조된 잉크는 매우 양호한 광견뢰도 및 수견뢰도를 나타내는 제트 블랙 인쇄를 제공한다.
실시예 4:
2-[(4-아미노-3-메톡시페닐)아조]-나프탈렌-6,8-디설폰산(21) 0.05mol을 염산(10N) 10㎖와 혼합하고 얼음으로 0 내지 5℃까지 냉각시킨다. 나트륨 니트라이트(물 10㎖중) 3.4g을 상기 용액에 45분에 걸쳐 적가한다. 과량의 나트륨 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이로써 수득된 상기 현탁액을, 8.5 내지 9.0의 pH로 조정된 1-하이드록시-7-아미노-3-나프톨산(18) 0.05mol의 용액에 0 내지 5℃에서 적가한다. 결합 도중, 나트륨 카보네이트로 pH를 8.5 내지 9.0으로 유지시킨다. 이어서, 염산으로 pH를 1 미만으로 조정하고, 얼음 15g을 반응 용기에 첨가하고 나트륨 니트라이트(무염수 10㎖에 용해되어 있음) 3.8g을 1 내지 2시간에 걸쳐 첨가한 다음, 상기 배치를 5 내지 10℃에서 4시간 동안 교반한다. 과량의 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이어서, 디아조화 구축 조각을, 나트륨 하이드록사이드 수용액으로 4 내지 6의 pH로 조정된 3-카복시-5-하이드록시-1-(4-설포페닐)-4-피라졸(19) 용액(탈염수 60㎖중 0.05mol)에 10분에 걸쳐 첨가하고 얼음 25g으로 냉각시킨다. 나트륨 아세테이트 5g을 첨가하고 나트륨 비카보네이트 10g으로 pH를 3 내지 5로 조정한 다음, 상기 배치를 15 내지 20℃에서 6시간 동안 교반하여 화학식 22의 화합물을 형성한다. 이어서, 상기 염료 용액을 디에탄올아민 12g과 합한다. 상기 용액을, 60℃로 가열되고 구리 설페이트(물 50㎖에 용해되어 있음) 13g 및 암모니아(25%) 21㎖로 구성된 용액과 혼합한다. 배치를 88 내지 90℃로 가열한 후, 상기 온도를 4시간 동안 유지한 다음, 마지막으로 실시예 1과 유사하게 티오설페이트의 첨가 및 막 여과를 수행한다 .
수율: 흑색 분말 53g
실시예 5:
1-[(4-아미노-3-메톡시페닐)아조]-페닐-4-설폰산 0.05mol을 염산(10N) 10㎖과 혼합하고 얼음으로 0 내지 5℃까지 시킨다. 나트륨 니트라이트(물 10㎖중) 3.4g을 상기 용액에 45분에 걸쳐 적가한다. 과량의 나트륨 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이로써 수득된 현탁액을, 8.5 내지 9.0의 pH로 조정된 1-하이드록시-7-아미노-3-나프톨산 0.05mol의 용액에 0 내지 5℃에서 적가한다. 결합 도중, 나트륨 카보네이트로 pH를 8.5 내지 9.0으로 조정한다 이어서, 염산으로 상기 pH를 1미만으로 조정하고, 상기 반응 용기에 얼음 15g을 첨가하고 나트륨 니트라이트(무염수 10㎖에 용해되어 있음) 3.8g을 1 내지 2시간에 걸쳐 적가한 다음, 상기 배치를 5 내지 10℃에서 4시간 동안 교반한다. 과량의 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이어서, 디아조화 구축 조각을, 나트륨 하이드록사이드 수용액으로 8 내지 9의 pH로 조정된 2-하이드록시나프탈렌-3,6-디카복실산 용액(탈염수 60㎖중 0.05mol)에 10분에 걸쳐 첨가하고 얼음 25g으로 냉각시킨다. 나트륨 카보네이트 5g을 첨가한 다음, 상기 배치를 15 내지 20℃에서 6시간 동안 교반한다. 이어서, 상기 염료 용액을 디에탄올아민 12g과 혼합한다. 상기 용액을, 60℃로 가열되고 구리 설페이트(물 50㎖에 용해되어 있음) 13g 및 암모니아(25%) 21㎖로 구성된 용액과 혼합시킨다. 배치를 88 내지 90℃로 가열한 후, 상기 온도를 4시간 동안 유지시킨 다음, 마지막으로 실시예 1과 유사하게 티오설페이트의 첨가 및 막 여과를 수행한다.
건조를 통해 흑색 분말의 염료(5)를 51g의 수율로 수득한다.
실시예 6:
1-[(4-아미노-3-메톡시페닐)아조]-페닐-3.5-디카복실산 0.05mol을 염산(10N) 10㎖과 혼합하고 얼음으로 0 내지 5℃까지 냉각시킨다. 나트륨 니트라이트(물 10㎖중) 3.4g을 상기 용액에 45분에 걸쳐 적가한다. 과량의 나트륨 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이로써 수득된 현탁액을, 8.5 내지 9.0의 pH로 조정된 1-하이드록시-7-아미노-3-나프톨산 0.05mol의 용액에 0 내지 5℃에서 적가한다. 결합 도중, 나트륨 카보네이트로 pH를 8.5 내지 9.0으로 유지시킨다. 이어서, 염산으로 상기 pH를 1 미만으로 조정하고 얼음 15g을 반응 용기에 첨가하고 나트륨 니트라이트(무염수 10㎖에 용해되어 있음) 3.8g을 1 내지 2시간에 걸쳐 적가한 다음, 상기 배치를 5 내지 10℃에서 4시간 동안 교반한다. 과량의 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이어서, 디아조화 구축 조각을, 나트륨 하이드록사이드 수용액으로 8 내지 9의 pH로 조정된 2-하이드록시나프탈렌-3-카복실산 용액(탈염수 60㎖중 0.05mol)에 10분에 걸쳐 첨가하고 얼음 25g으로 냉각시킨다. 나트륨 카보네이트 5g을 첨가한 다음, 상기 배치를 15 내지 20℃에서 6시간 동안 교반한다. 이어서, 상기 염료 용액을 디에탄올아민 12g과 혼합한다. 상기 용액을, 60℃로 가열되고 구리 설페이트(물 50㎖에 용해되어 있음) 13g 및 암모니아(25%) 21㎖로 구성된 용액과 혼합시킨다. 배치를 88 내지 90℃로 가열한 후, 상기 온도를 4시간 동안 유지시킨 다음, 마지막으로 실시예 1과 유사하게 티오설페이의 첨가 및 막 투과를 수행한다.
건조를 통해 흑색 분말의 염료(6)를 54g의 수율로서 수득한다.
실시예 7:
2-[(4-아미노-3-메톡시페닐)아조]-나프탈렌-4,8-디설폰산 0.05mol을 염산(10N) 10㎖과 혼합하고 얼음으로 0 내지 5℃까지 냉각시킨다. 나트륨 니트라이트(물 10㎖중) 3.4g을 상기 용액에 45분에 걸쳐 적가한다. 과량의 나트륨 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이로써 수득된 현탁액을, 8.5 내지 9.0의 pH로 조정된 1-하이드록시-7-아미노-3-나프톨산 0.05mol의 용액에 0 내지 5℃에서 적가한다. 결합 도중, 나트륨 비카보네이트로 상기 pH를 8.5 내지 9.0으로 유지시킨다. 이어서 염산으로 상기 pH를 1 미만으로 조정하고, 얼음 15g을 상기 반응 용기에 첨가하고 나트륨 니트라이트(무염수 10㎖에 용해되어 있음) 3.8g을 1 내지 2시간에 걸쳐 적가한 다음, 상기 배치를 4시간 동안 5 내지 10℃에서 교반한다. 과량의 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이어서, 상기 디아조화 구축 조각을, 나트륨 하이드록사이드 수용액으로 8 내지 9의 pH로 조정된 2-하이드록시나프탈렌-3,6-디카복실산 용액(탈염수 60㎖중 0.05mol)에 10분에 걸쳐 첨가하고, 얼음 25g으로 냉각시킨다. 나트륨 카보네이트 5g을 첨가한 다음, 상기 배치를 15 내지 20℃에서 6시간 동안 교반한다. 이어서, 상기 염료 용액을 디에탄올아민 12g과 혼합한다. 상기 용액을, 60℃로 가열되고 구리 설페이트(물 50㎖에 용해되어 있음) 13g 및 암모니아(25%) 21㎖로 구성된 용액과 혼합한다. 배치를 88 내지 90℃로 가열한 후, 상기 온도를 4시간 동안 유지시킨 다음, 마지막으로 실시예 1과 유사하게 티오설페이트의 첨가 및 막 여과를 수행한다.
건조를 통해 흑색 분말의 염료(7)를 52g의 수율로 수득한다.
실시예 8:
1-[(4-아미노-3-메톡시페닐)아조]-페닐-3-설폰산 0.05mol을 염산(10N) 10㎖와 혼합하고 얼음으로 0 내지 5℃까지 냉각시킨다. 나트륨 니트라이트(물 10㎖중) 3.4g을 상기 용액에 45분에 걸쳐 적가한다. 과량의 나트륨 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이로써 수득된 현탁액을, 8.5 내지 9.0의 pH로 조정된 1-하이드록시-7-아미노-3-나프톨산 0.05mol의 용액에 0 내지 5℃에서 적가한다. 결합 도중, 나트륨 카보네이트로 pH를 8.5 내지 9.0으로 유지시킨다. 이어서, 염산으로 상기 pH를 1 미만으로 조정하고 얼음 15g을 반응 용기에 첨가하고 나트륨 니트라이트(무염수 10㎖에 용해되어 있음) 3.8g을 1 내지 2시간에 걸쳐 적가한 다음, 상기 배치를 4시간 동안 5 내지 10℃에서 교반한다. 과량의 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이어서, 디아조화 구축 조각을, 나트륨 하이드록사이드 수용액으로 pH를 8 내지 9로 조정하고 얼음 25g으로 냉각시킨 3-카복시-5-하이드록시-1-(4-설포페닐)-4-피라졸 용액(탈염수 60㎖중 0.05mol)에 10분에 걸쳐 첨가한다. 나트륨 아세테이트 5g을 첨가하고 나트륨 비카보네이트 10g으로 pH를 3 내지 3으로 조정한 다음, 상기 배치를 15 내지 20℃에서 6시간 동안 교반한다. 이어서, 상기 염료 용액을 디에탄올아민 12g과 혼합한다. 상기 용액을, 60℃로 가열되고 구리 설페이트(물 50㎖에 용해되어 있음) 13g 및 암모니아(25%) 21㎖로 구성된 용액과 혼합시킨다. 상기 배치를 88 내지 90℃로 가열한 후, 상기 온도를 4시간 동안 유지시킨 다음, 마지막으로 실시예 1과 유사하게 티오설페이의 첨가 및 막 여과를 수행한다.
건조를 통해 흑색 분말의 염료(8)를 50g의 수율로서 수득한다.
실시예 9:
2-하이드록시-1-[(4-아미노-3-메톡시페닐)아조]-나프탈렌-4-설폰산 0.05mol을 염산(10N) 10㎖와 혼합하고 얼음으로 0 내지 5℃까지 냉각시킨다. 나트륨 니트라이트(물 10㎖중) 3.4g을 상기 용액에 45분에 걸쳐 적가한다. 과량의 나트륨 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이로써 수득된 상기 현탁액을, 8.5 내지 9.0의 pH로 조정된 1-하이드록시-7-아미노-3-나프톨산 0.05mol의 용액에 0 내지 5℃에서 적가한다. 결합 도중, 나트륨 카보네이트로 pH를 8.5 내지 9.0으로 유지시킨다. 이어서 염산으로 pH를 1 미만으로 조정하고, 얼음 15g을 반응 용기에 첨가하고 나트륨 니트라이트(무염수 10㎖에 용해되어 있음) 3.8g을 1 내지 2시간에 걸쳐 첨가한 다음, 상기 배치를 5 내지 10℃에서 4시간 동안 교반한다. 과량의 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이어서, 디아조화 구축 조각을 나트륨 하이드록사이드 수용액을, 4 내지 6의 pH로 조정된 3-카복시-5-하이드록시-1-(4-설포페닐)-4-피라졸(19) 용액에 10분에 걸쳐 첨가하고 얼음 25g으로 냉각시킨다. 나트륨 아세테이트 5g을 첨가하고 나트륨 비카보네이트 10g으로 pH를 3 내지 5로 조정한 다음, 상기 배치를 15 내지 20℃에서 6시간 동안 교반한다. 이어서, 상기 염료 용액을 디에탄올아민 12g과 혼합한다. 상기 용액을, 60℃로 가열되고 구리 설페이트(물 50㎖에 용해되어 있음) 13g 및 암모니아(25%) 21㎖로 구성된 용액과 혼합한다. 배치를 88 내지 90℃로 가열한 후, 상기 온도를 4시간 동안 유지한 다음, 마지막으로 실시예 1과 유사하게 티오설페이트 첨가 및 막 여과를 수행한다.
건조를 통해 흑색 분말의 염료(10)를 53g의 수율로 수득한다.
실시예 10:
2-[(4-아미노-3-메톡시-6-메틸페닐)아조]-나프탈렌-4,8-디설폰산 0.05mol을 염산(10N) 10㎖와 혼합하고 얼음으로 0 내지 5℃까지 냉각시킨다. 나트륨 니트라이트(물 10㎖중) 3.4g을 상기 용액에 45분에 걸쳐 적가한다. 과량의 나트륨 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이로써 수득된 상기 현탁액을, 8.5 내지 9.0의 pH로 조정된 1-하이드록시-7-아미노-3-나프톨산 0.05mol의 용액에 0 내지 5℃에서 적가한다. 결합 도중, 나트륨 카보네이트로 pH를 8.5 내지 9.0으로 유지시킨다. 이어서 염산으로 pH를 1 미만으로 조정하고, 얼음 15g을 반응 용기에 첨가하고 나트륨 니트라이트(무염수 10㎖에 용해되어 있음) 3.8g을 1 내지 2시간에 걸쳐 적가한 다음, 상기 배치를 5 내지 10℃에서 4시간 동안 교반한다. 과량의 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이어서, 디아조화 구축 조각을, 나트륨 하이드록사이드 수용액으로 4 내지 6의 pH로 조정된 1-하이드록시-7-아미노-3-나프톨산 용액(탈염수 60㎖중의 0.05mol)에 10분에 걸쳐 첨가하고 얼음 25g으로 냉각시킨다. 나트륨 아세테이트 5g을 첨가하고 나트륨 비카보네이트 10g으로 pH를 3 내지 4로 조정한 다음, 상기 배치를 15 내지 20℃에서 6시간 동안 교반한다. 이어서, 상기 염료 용액을 디에탄올아민 12g과 혼합한다. 상기 용액을, 60℃까지 가열되고 구리 설페이트(물 50㎖중에 용해되어 있음) 13g 및 암모니아(25%) 21㎖로 구성된 용액과 혼합한다. 상기 배치를 88 내지 90℃로 가열한 후, 상기 온도를 4시간 동안 유지시킨 다음, 마지막으로 실시예 1과 유사하게 티오설페이트의 첨가 및 막 여과를 수행한다.
건조를 통해 흑색 분말의 염료(11)를 52g의 수율로 수득한다.
실시예 11:
1-[(4-아미노-3-카복시페닐)아조]-페닐-3-설폰산 0.05mol을 염산(10N) 10㎖와 혼합하고 얼음으로 0 내지 5℃까지 냉각시킨다. 나트륨 니트라이트(물 10㎖중) 3.4g을 상기 용액에 45분에 걸쳐 적가한다. 과량의 나트륨 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이로써 수득된 상기 현탁액을, 8.5 내지 9.0의 pH로 조정된 1-하이드록시-7-아미노-3-나프톨산 0.05mol의 용액에 0 내지 5℃에서 적가한다. 결합 도중, 나트륨 카보네이트로 pH를 8.5 내지 9.0으로 유지시킨다. 이어서, 염산으로 pH를 1 미만으로 조정하고, 얼음 15g을 반응 용기에 첨가하고 나트륨 니트라이트(무염수 10㎖에 용해되어 있음) 3.8g을 1 내지 2시간에 걸쳐 적가한 다음, 상기 배치를 5 내지 10℃에서 4시간 동안 교반한다. 과량의 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이어서, 디아조화 구축 조각을, 나트륨 하이드록사이드 수용액으로 4 내지 6의 pH로 조정된 3-카복시-5-하이드록시-1-(4-설포페닐)-4-피라졸 용액(탈염수 60㎖중의 0.05mol)에 10분에 걸쳐 첨가하고 얼음 25g으로 냉각시킨다. 나트륨 아세테이트 5g을 첨가하고 나트륨 비카보네이트 10g으로 pH를 3 내지 5로 조정한 다음, 상기 배치를 15 내지 20℃에서 6시간 동안 교반한다. 이어서, 상기 염료 용액을 디에탄올아민 12g과 혼합한다. 상기 용액을, 60℃까지 가열되고 구리 설페이트(물 50㎖중에 용해되어 있음) 13g 및 암모니아(25%) 21㎖로 구성된 용액과 혼합한다. 상기 배치를 88 내지 90℃로 가열한 후, 상기 온도를 4시간 동안 유지시킨 다음, 마지막으로 실시예 1과 유사하게 티오설페이트의 첨가 및 막 여과를 수행한다.
건조를 통해 흑색 분말의 염료(12)를 51g의 수율로 수득한다.
실시예 12:
1-[(4-아미노-3-카복시페닐)아조]-페닐-3-설폰산 0.05mol을 염산(10N) 10㎖와 혼합하고 얼음으로 0 내지 5℃까지 냉각시킨다. 나트륨 니트라이트(물 10㎖중) 3.4g을 상기 용액에 45분에 걸쳐 적가한다. 과량의 나트륨 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이로써 수득된 상기 현탁액을, 8.5 내지 9.0의 pH로 조정된 1-하이드록시-7-아미노-3-나프톨산 0.05mol의 용액에 0 내지 5℃에서 적가한다. 결합 도중, 나트륨 카보네이트로 pH를 8.5 내지 9.0으로 유지시킨다. 이어서, 염산으로 pH를 1 미만으로 조정하고, 얼음 15g을 반응 용기에 첨가하고 나트륨 니트라이트(무염수 10㎖에 용해되어 있음) 3.8g을 1 내지 2시간에 걸쳐 적가한 다음, 상기 배치를 5 내지 10℃에서 4시간 동안 교반한다. 과량의 니트라이트를 설팜산으로 제거한다. 이어서, 디아조화 구축 조각을, 나트륨 하이드록사이드 수용액으로 8 내지 9의 pH로 조정된 2-하이드록시나프탈렌-3-N-페닐카복스아미드 용액(탈염수 60㎖중의 0.05mol)에 10분에 걸쳐 첨가하고 얼음 25g으로 냉각시킨다. 나트륨 카보네이트 5g을 첨가하고 상기 배치를 15 내지 20℃에서 6시간 동안 교반한다. 이어서, 상기 염료 용액을 디에탄올아민 12g과 혼합한다. 상기 용액을, 60℃까지 가열되고 구리 설페이트(물 50㎖중에 용해되어 있음) 13g 및 암모니아(25%) 21㎖로 구성된 용액과 혼합한다. 상기 배치를 88 내지 90℃로 가열한 후, 상기 온도를 4시간 동안 유지시킨 다음, 마지막으로 실시예 1과 유사하게 티오설페이트의 첨가 및 막 여과를 수행한다.
건조를 통해 흑색 분말의 염료(13)를 54g의 수율로 수득한다.
Claims (14)
- 하기 화학식 4의 트리스아조 염료의 금속 착물.화학식 4상기 식에서,R1은 OH, O(C1-C6)-알킬, O(C1-C6)-알킬-COOM, O(C1-C6)-알킬-SO3M, O(하이드록시(C1-C6)-알킬), (C1-C6)-알킬, COOM, SO3M, SO2NH2, SO2N(하이드록시(C1-C6)-알킬)2, SO2NH(C1-C6)-알킬, SO2N((C1-C6)-알킬)2, NH2, NH(C1-C6)-알킬, NH아실, NH아릴, N(하이드록시(C1-C6)-알킬)2, N((C1-C6)-알킬)2및 할로겐으로 구성된 그룹으로부터 선택된 치환기 하나 이상으로 치환된 아릴이고;R2는 OH, O(C1-C6)-알킬, COOM 또는 SO3M이고;R3, R4및 R5는 동일하거나 상이하며, 각각 H, OH, O(C1-C6)-알킬, O(C1-C6)-알킬-COOM, O(C1-C6)-알킬-SO2M, O(하이드록시(C1-C6)-알킬), (C1-C6)-알킬, COOM, SO3M,SO2NH2, SO2N(하이드록시(C1-C6)-알킬)2, SO2NH(C1-C6)-알킬, SO2N((C1-C6)-알킬)2, NH2, NH(C1-C6)-알킬, NH아실, NH아릴, N(하이드록시(C1-C6)-알킬)2, N((C1-C6)-알킬)2및 할로겐으로 구성된 그룹으로부터 선택되고;R6은 OH, O(C1-C6)-알킬, O(C1-C6)-알킬-COOM, O(C1-C6)-알킬-SO3M, O(하이드록시(C1-C6)-알킬), (C1-C6)-알킬, COOM, SO3M, SO2NH, CONH-페닐, SO2NH-페닐, SO2N(하이드록시(C1-C6)-알킬)2, SO2NH(C1-C6)-알킬, SO2N((C1-C6)-알킬)2, NH2, NH(C1-C6)-알킬, NH아실, NH아릴, N(하이드록시(C1-C6)-알킬)2, N(C1-C6)-알킬)2, 할로겐 및 페닐설포로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환되거나 치환되지 않은 단일- 또는 이중고리 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 방향족이거나, 유사하게 치환된 피라졸 또는 피리돈 라디칼이고;M은 수소, 일가 금속 양이온, 다가 금속 양이온 1 당량, 또는 치환되지 않거나 알킬-, 알콕시알킬- 또는 하이드록시알킬-치환된 암모늄 이온이다.
- 제 1 항에 있어서,R1이 OH, O(C1-C6)-알킬, COOM, SO3M 및 NH2로 구성된 그룹으로부터 선택된 치환기 1, 2 또는 3개로 치환된 페닐 또는 나프탈렌 라디칼인 금속 착물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,R2가 OH 또는 COOM인 금속 착물.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,R3이 H, 메틸 또는 O(C1-C6)-알킬인 금속 착물.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,R4가 H, COOM 또는 SO3M인 금속 착물.
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,R5가 H, COOM 또는 SO3M인 금속 착물.
- 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,R6이 OH, O(C1-C6)-알킬, COOM, SO3M, NH2, NH아릴, NH아실 및 페닐설포로 구성된 그룹으로부터 선택된 치환기 1, 2 또는 3개로 치환된 페닐, 나프틸, 피리딜 또는 피라졸 라디칼인 금속 착물.
- 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,하기 화학식 4a의 화합물인 금속 착물.화학식 4a상기 식에서,M1이 Al, Cr, Fe, Co, Ni 또는 Cu, 특히 Cu이고,R20이 C1-C6-알킬이고,n이 0 또는 1이고,X는 화학 결합, -CO- 또는 -SO2-이다.
- 하기 화학식 14의 나프톨아민의 디아조화시키는 단계,생성된 디아조늄 염을 하기 화학식 15의 화합물과 결합시키는 단계,생성된 하기 화학식 16의 화합물을 하기 화학식 17의 디아조늄 염과 결합시키는 단계, 및금속 염 용액으로 착화시키는 단계을 포함하는,제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따른 트리스아조 염료의 금속 착물의 제조방법.화학식 14화학식 15H-R6화학식 16화학식 17상기 식에서,X-는 음이온이다.
- 천연 섬유 또는 합성 섬유 물질의 염색 및 날염, 기록 매체 상의 스크립트 및 이미지의 기록, 종이 또는 셀룰로오스의 펄프 착색, 및 전자 사진 토너 및 분말 코팅의 착색제로서의 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따른 트리스아조 염료의 금속 착물을 사용하는 방법.
- 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따른 금속 착물 염료를 하나 이상 포함하는 기록 유체(recording fluid).
- 제 11 항에 있어서,하나 이상의 금속 착물 염료 0.1 내지 50 중량%, 물 0 내지 99 중량%, 및 유기 용매, 습윤제 또는 이들의 조합물 0.5 내지 99.5 중량%를 포함하는 기록 유체.
- 제 11 항에 있어서,하나 이상의 금속 착물 염료 0.5 내지 15 중량%, 물 35 내지 75 중량%, 및 유기 용매, 습윤제 또는 이들의 조합물 10 내지 50 중량%를 포함하는 기록 유체.
- 제 11 항에 있어서,하나 이상의 금속 착물 염료 0.5 내지 15 중량%, 물 0 내지 20 중량%, 및 유기 용매, 습윤제 또는 이들의 조합물 70 내지 99.5 중량%를 포함하는 기록 유체.
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