KR102027954B1 - 보호막 조성물의 제조방법 및 시인성이 개선된 투명 전극의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 보호막 조성물의 제조방법 및 시인성이 개선된 투명 전극의 제조방법에 관한 것이고, 본 발명의 실시 예를 따르는 보호막 조성물의 제조방법은 용매를 준비하는 단계; 상기 용매에 티타늄 화합물을 첨가하는 단계; 및 상기 티타늄 화합물을 상기 용매에 분산하는 단계를 포함한다.
Description
본 발명은 보호막 조성물의 제조방법 및 시인성이 개선된 투명 전극의 제조방법에 관한 것이다.
각종 제품, 전자기기, 전자부품 또는 그 밖의 다양한 산업에서 쓰이는 형태를 갖는 거의 모든 물질은 잦은 긁힘 환경, 물 또는 열 등과 같은 요소에 노출되어 있어, 스크래치 등으로 인한 마모, 충격 및 오염과 부식 등으로 인한 화학적 변화로 인하여 막대한 경제적 손실이 발생하는 문제가 있다. 따라서 내마모성, 내충격성, 내화학성, 내습성, 내염성, 내식성 및 내후성 등의 기능성을 갖는 도료 조성물을 보호하고자 하는 표면에 도포 또는 처리하여 상기의 문제를 최소화하는 방법들에 대한 연구는 상당한 수준에 이르고 있다.
하지만 이러한 방법들 중 대부분은 고열의 공정 또는 장시간의 공정이 요구되는데, 특히 각종 저분자 및 고분자 물질을 포함하는 열에 취약한 수지 등을 포함하는 형태를 갖는 물질은 상기 고열의 공정 또는 장시간의 공정에 의하여 물성이 변성될 우려가 있다. 때문에 보다 낮은 온도에서 단시간에 종결할 수 있는 공정인 자외선 경화를 이용한 도포 방법이 최근에 많이 연구되고 있고, 따라서 점차 실용화 되고 있다.
현재 디스플레이 산업의 터치패널 시장에서 투명 전극에 사용되는 투명 전도성 필름은 일반적으로 인듐 주석 산화물(indium tin oxide, ITO)을 사용한다. 그러나 ITO는 상대적으로 고가의 장비를 이용하여 합성되며 무기물 특유의 취성 특성을 가지고 있어 플라스틱 기판 위에 사용하는 것은 한계가 있다. 은 (Ag)은 현존하는 금속 중에서 전기전도도가 가장 높은 물질로써 은의 나노입자표면은 여러 개의 결정면으로 이루어져 있으며 이들의 반응성 차이를 이용하여 이등방성 성장을 유도하여 나노와이어 형태를 만들 수 있다. 이러한 은 나노와이어는 제조 단가가 저렴하고, 우수한 유연성을 지니며 ITO와 비슷한 전기적, 물리적 특성을 나타냄으로써 디스플레이, 태양전지 등의 다양한 전자소자에서 ITO를 대체할 투명전극으로 각광받고 있는 소재이다. 그러나 현재 개발된 은 나노와이어의 경우, 열에 매우 취약하여 전자소자의 고온 공정 및 다양한 후처리 공정에 적용할 수 없으며, 내열성 및 내구성 등의 향상을 위해 첨가제를 사용할 경우 소재의 전기적, 광학적 특성이 현저히 저하되는 한계가 있다.
본 발명은 티타늄 화합물을 포함하는 보호막 조성물의 제조방법 및 상기 보호막 조성물을 투명기판 상에 도포하여 시인성이 개선된 투명전극의 제조방법을 제공함을 목적으로 한다.
본 발명의 실시 예를 따르는 보호막 조성물의 제조방법은 용매를 준비하는 단계; 상기 용매에 티타늄 화합물을 첨가하는 단계; 및 상기 티타늄 화합물을 상기 용매에 분산하는 단계를 포함한다.
또한, 상기 티타늄 화합물은 티타늄 2-에틸헥실옥사이드, 티타늄 부톡사이 및 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
또한, 상기 용매는 알콜 계열 용매일 수 있다.
또한, 상기 용매는 2-부탄올, 이소프로필알콜 및 에탄올 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
또한, 상기 용매에 첨가되는 티타늄 화합물의 함량은 상기 보호막 조성물 전체 질량에 대하여 12 내지 18 중량%일 수 있다.
본 발명의 실시 예를 따르는 시인성이 개선된 투명전극의 제조방법은 투명 기판을 준비하는 단계; 상기 투명 기판 상에 보호막을 도포하는 단계; 및 상기 도포된 보호막을 건조하는 단계;를 포함하고, 상기 보호막은 용매를 준비하는 단계, 상기 용매에 티타늄 화합물을 첨가하는 단계, 및 상기 티타늄 화합물을 상기 용매에 분산하는 단계를 포함한다.
또한, 상기 건조하는 단계의 온도는 80 내지 120℃일 수 있다.
또한, 상기 건조하는 단계의 건조 시간은 1 내지 5분일 수 있다.
또한, 상기 보호막의 두께는 50 내지 100nm일 수 있다.
본 발명의 실시 예를 따르는 보호막 조성물의 제조방법 및 시인성이 개선된 투명전극의 제조방법은 보호막 조성물 및 시인성이 개선된 투명전극을 제조할 수 있고, 투명전극의 투과도, 헤이즈(haze, 혼탁도) 및 b* 특성을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.
또한, 본 발명의 실시 예를 따르는 보호막 조성물의 제조방법 및 시인성이 개선된 투명전극의 제조방법은 제조방법이 간단하고, 다양한 분야에 적용 가능하여 디스플레이 분야의 생산성 및 성능을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.
도 1은 본 발명의 실시 예를 따르는 보호막 조성물의 제조방법의 순서도이다.
도 2는 본 발명의 실시 예를 따르는 시인성이 개선된 투명전극의 제조방법의 순서도이다.
도 3은 투명기판 및 b*가 높은 투명기판을 촬영한 사진이다.
도 4는 투명기판 및 실시 예 4에 의해 준비된 투명전극의 투과도 및 반사도 그래프이다.
도 2는 본 발명의 실시 예를 따르는 시인성이 개선된 투명전극의 제조방법의 순서도이다.
도 3은 투명기판 및 b*가 높은 투명기판을 촬영한 사진이다.
도 4는 투명기판 및 실시 예 4에 의해 준비된 투명전극의 투과도 및 반사도 그래프이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 형태들을 다음과 같이 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시 형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시 형태는 당해 기술분야에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있으며, 도면 상의 동일한 부호로 표시되는 요소는 동일한 요소이다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다. 덧붙여, 명세서 전체에서 어떤 구성요소를 "포함"한다는 것은 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.
보호막 조성물의 제조방법
도 1은 본 발명의 실시 예를 따르는 보호막 조성물의 제조방법의 순서도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시 예를 따르는 보호막 조성물의 제조방법은 용매를 준비하는 단계; 상기 용매에 티타늄 화합물을 첨가하는 단계; 및 상기 티타늄 화합물을 상기 용매에 분산하는 단계를 포함한다.
용매를 준비하는 단계를 설명한다.
상기 용매는 알콜 계열 용매일 수 있다.
또한, 상기 용매는 2-부탄올, 이소프로필알콜 및 에탄올 중 적어도 하나일 수 있고, 바람직하게 2-부탄올일 수 있다.
상기 용매에 첨가되는 티타늄 화합물의 함량은 상기 보호막 조성물 전체 질량에 대하여 12 내지 18중량%일 수 있다.
상기 용매에 첨가되는 티타늄 화합물의 함량이 12중량% 미만일 경우 b*값의 개선이 크지 않을 수 있고, 상기 용매에 첨가되는 티타늄 화합물의 함량이 18중량% 초과할 경우 보호막 조성물의 두께 제어가 어려울 수 있고, b*값이 증가하여 시인성이 감소할 수 있다.
상기 b*의 수치는 CIE 좌표계는 국제 조명 기구(CIE)에서 규정한 색상 수치로서, CIE 표색계 또는 CIE 색 공간으로도 호칭된다. 상기 좌표계는 균일한 색 공간 좌표로서, 눈과 매우 근소한 차이를 보여주기 때문에 현재 세계적으로 표준화되어 있는 좌표계이다. CIE 좌표계는 명도를 표시하는 L*, 색도를 표시하는 a* 및 b*로 규정되며, a* 및 b*는 색의 방향을 나타낸다. 구체적으로 a* 수치가 양수일 경우 적(red), 음수일 경우 녹(green)을 의미하고, b* 수치가 양수일 경우, 황(yellow), 음수일 경우 청(blue)의 방향을 표시한다. 상기 배리어 필름의 b* 수치는 공지의 방식으로 측정할 수 있다.
다음으로, 상기 용매에 티타늄 화합물을 첨가하는 단계를 설명한다.
상기 티타늄 화합물은 티타늄 2-에틸헥실옥사이드, 티타늄 부톡사이드 및 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 티타늄 2-에틸헥실옥사이드는 타이저 TOT(Tyzor TOT)일 수 있고, 상기 티타늄 부톡사이드는 타이저 TBT(Tyzor TBT)일 수 있고, 상기 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드는 타이저 TE(Tyzor TE)일 수 있다.
또한, 더욱 바람직하게 상기 티타늄 화합물은 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 및 티타늄 부톡사이드의 혼합물일 수 있고, 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 대 티타늄 부톡사이드의 혼합 비율은 1.1:1 내지 1.4:1일 수 있다. 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 대 티타늄 부톡사이드의 혼합 비율이 1.1:1 미만으로 떨어지면 헤이즈의 증가로 광학적 특성이 저하될 수 있고, 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 대 티타늄 부톡사이드의 혼합 비율이 1.4:1 초과로 증가하면 b*값의 감소가 낮아 시인성의 문제가 있을 수 있다.
다음으로, 상기 티타늄 화합물을 상기 용매에 분산하는 단계를 설명한다.
상기 용매에 티타늄 화합물의 고른 분산을 위해 교반기를 이용하여 분산될 수 있고, 교반의 활성화를 위해 적절한 온도를 인가할 수 있다.
시인성이 개선된 투명 전극의 제조방법
도 2는 본 발명의 실시 예를 따르는 시인성이 개선된 투명전극의 제조방법의 순서도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 실시 예를 따르는 시인성이 개선된 투명전극의 제조방법은 투명 기판을 준비하는 단계; 상기 투명 기판 상에 보호막을 도포하는 단계; 및 상기 도포된 보호막을 건조하는 단계;를 포함하고, 상기 보호막은 용매를 준비하는 단계, 상기 용매에 티타늄 화합물을 첨가하는 단계, 및 상기 티타늄 화합물을 상기 용매에 분산하는 단계를 포함한다.
도 3은 투명기판 및 b*가 높은 투명기판을 촬영한 사진이다.
도 3을 참조하면, b*가 높아진 투명기판은 시인성의 문제가 발생할 수 있고, 이로 인해 투명기판 및 투명전극으로 사용되는데 문제가 있을 수 있다. 따라서, 투명전극의 노란색 지표인 b*가 낮은 투명전극이 사용되는 것이 바람직하다.
투명 기판을 준비하는 단계를 설명한다.
본 발명에서 사용되는 투명 기판은 특별한 제한없이 사용될 수 있으나, 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에틸렌(PE), 폴리에테르설폰(PES), 폴리카보네이트(PC), 폴리아릴레이트(PAR) 및 폴리이미드(PI)로 이루어진 군으로부터 선택된 고분자이거나, 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)일 수 있다. 상기 투명 기판은 보호막의 도포에 앞서 초음파 세척 장치 등을 이용하여 표면의 불순물을 세척할 수 있다.
상기 투명 기판 상에 보호막을 도포하는 단계를 설명한다.
상기 보호막은 용매를 준비하는 단계, 상기 용매에 티타늄 화합물을 첨가하는 단계, 및 상기 티타늄 화합물을 상기 용매에 분산하는 단계를 통해 준비될 수 있다.
상기 도포하는 방법은 티타늄 화합물을 포함하는 보호막 조성물을 소정의 막 두께가 되도록 회전 도포, 캐스팅 도포, 롤 도포 등의 도포 방법에 의해 도포해 막을 형성할 수 있다.
상기 도포된 보호막을 건조하는 단계를 설명한다.
상기 건조하는 단계의 온도는 80 내지 120℃일 수 있다. 상기 건조하는 단계의 온도가 80℃ 미만인 경우에는 충분하지 않은 건조로 보호막이 상기 투명 기판으로부터 분리되는 현상이 발생할 수 있고, b*값이 증가하여 시인성이 저하될 수 있다. 또한, 상기 건조하는 단계의 온도가 120℃를 초과하는 경우에는 b* 값이 증가하여 시인성 개선이 충분하지 않을 수 있다.
상기 건조하는 단계의 건조 시간은 1 내지 5분일 수 있다. 상기 건조하는 단계의 건조 시간이 1분 미만인 경우에는 충분하지 않은 건조로 보호막이 상기 투명 기판으로부터 분리되는 현상이 발생할 수 있고, 상기 건조하는 단계의 시간이 5분을 초과하는 경우에는 b* 값이 오히려 증가하여 시인성 개선이 충분하지 않을 수 있다.
상기 보호막의 b* 수치는 -3.0 내지 -0.1 범위 내에 있을 수 있다.
상기 보호막의 b* 수치의 하한은 특별히 한정되는 것은 아니지만 -3.0 이하의 수치를 얻기 위해서는 투과도, 헤이즈 등 다른 특성이 포기될 수 있기 때문에, -3.0인 것이 바람직하다. 상기 보호막의 b*의 수치가 -0.5을 초과하는 경우 시인성이 저하될 수 있다.
상기 보호막의 두께는 50nm 내지 100nm일 수 있다.
상기 보호막의 두께가 50nm 이하인 경우 b*값이 증가하여 시인성이 감소할 수 있고, 상기 보호막의 두께가 100nm를 초과하는 경우에는 b*값이 증가하여 시인성이 감소할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 의해 제조된 시인성이 개선된 투명전극은 터치스크린, 디스플레이 및 태양전지 등의 전자 제품 등의 보호막을 형성하는데 바람직하게 사용될 수 있다.
실시 예
실시 예 1
보호막 조성물의 제조
티타늄 화합물로 티타늄 2-에틸헥실옥사이드(Tyzor TOT)를 15g 준비하고, 용매로 2-부탄올(2-Butanol)을 85.0g 준비하였다.
상기 2-부탄올 용매에 티타늄 2-에틸헥실옥사이드(Tyzor TOT)를 투입하고, 바(bar) 교반기를 이용하여 상온에서 약 30분 교반하여, 티타늄 2-에틸헥실옥사이드 함유 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
투명 기판으로 PES 기판을 준비하고, 상기 PES 기판의 일면 상에 앞서 준비한 티타늄 2-에틸헥실옥사이드(Tyzor TOT) 함유 보호막 조성물을 스핀 코팅 장치를 이용하여 1500rpm에서 1분간 코팅하여 도포한 후, 80℃의 온도에서 1분간 열처리를 수행하여, 보호막이 도포된 투명 전극을 제조하였다.
실시 예 2
보호막 조성물의 제조
상기 실시 예 1에서 티타늄 화합물로 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시 예 1과 동일한 과정을 수행하여 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
상기 실시 예 1에서 티타늄 화합물로 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 포함하는 보호막 조성물을 도포한 것을 제외하고는 상기 실시 예 1과 동일한 과정을 수행하여 투명 전극을 제조하였다.
실시 예 3
보호막 조성물의 제조
상기 실시 예 1에서 티타늄 화합물로 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE)를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시 예 1과 동일한 과정을 수행하여 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
상기 실시 예 1에서 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE)를 포함하는 보호막 조성물을 도포한 것을 제외하고는 상기 실시 예 1과 동일한 과정을 수행하여 투명 전극을 제조하였다.
실시 예 4
보호막 조성물의 제조
티타늄 화합물로 8.5g의 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 6.5g의 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 준비하고, 용매로 2-부탄올(2-Butanol)을 85.0g 준비하였다.
상기 2-부탄올 용매에 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)을 투입하고, 바(bar) 교반기를 이용하여 상온에서 약 30분 교반하여, 티타늄 화합물 함유 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
투명 기판으로 PES 기판을 준비하고, 상기 PES 기판의 일면 상에 앞서 준비한 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)을 포함하는 보호막 조성물을 스핀 코팅 장치를 이용하여 1500rpm에서 1분간 코팅하여 도포한 후, 80℃의 온도에서 1분간 열처리를 수행하여, 보호막이 도포된 투명 전극을 제조하였다.
실시 예 5
보호막 조성물의 제조
상기 실시 예 4에서 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE)를 대신하여 티타늄 2-에틸헥실옥사이드(Tyzor TOT)를 사용하여 티타늄 2-에틸헥실옥사이드(Tyzor TOT) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT) 혼합 티타늄 화합물을 사용한 것을 제외하고는 제외하고는 실시 예 4와 동일한 과정을 수행하여 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
상기 실시 예 4에서 티타늄 2-에틸헥실옥사이드 및 티타늄 부톡사이드 혼합 티타늄 화합물을 포함하는 보호막 조성물을 도포한 것을 제외하고는 상기 실시 예 4와 동일한 과정을 수행하여 투명 전극을 제조하였다.
실시 예 6
보호막 조성물의 제조
티타늄 화합물로 10.0g의 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 5.0g의 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 준비하고, 용매로 2-부탄올(2-Butanol)을 85.0g 준비하였다.
상기 2-부탄올 용매에 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 투입하고, 바(bar) 교반기를 이용하여 상온에서 약 30분 교반하여, 티타늄 화합물 함유 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
투명 기판으로 PES 기판을 준비하고, 상기 PES 기판의 일면 상에 앞서 준비한 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 포함하는 보호막 조성물을 스핀 코팅 장치를 이용하여 1500rpm에서 1분간 코팅하여 도포한 후, 80℃의 온도에서 1분간 열처리를 수행하여, 보호막이 도포된 투명 전극을 제조하였다.
실시 예 7
보호막 조성물의 제조
티타늄 화합물로 9.0g의 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 6.0g의 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 준비하고, 용매로 2-부탄올(2-Butanol)을 85.0g 준비하였다.
상기 2-부탄올 용매에 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 투입하고, 바(bar) 교반기를 이용하여 상온에서 약 30분 교반하여, 티타늄 화합물 함유 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
투명 기판으로 PES 기판을 준비하고, 상기 PES 기판의 일면 상에 앞서 준비한 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 포함하는 보호막 조성물을 스핀 코팅 장치를 이용하여 1500rpm에서 1분간 코팅하여 도포한 후, 80℃의 온도에서 1분간 열처리를 수행하여, 보호막이 도포된 투명 전극을 제조하였다.
실시 예 8
보호막 조성물의 제조
티타늄 화합물로 7.5g의 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 7.5g의 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 준비하고, 용매로 2-부탄올(2-Butanol)을 85.0g 준비하였다.
상기 2-부탄올 용매에 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 투입하고, 바(bar) 교반기를 이용하여 상온에서 약 30분 교반하여, 티타늄 화합물 함유 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
투명 기판으로 PES 기판을 준비하고, 상기 PES 기판의 일면 상에 앞서 준비한 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 포함하는 보호막 조성물을 스핀 코팅 장치를 이용하여 1500rpm에서 1분간 코팅하여 도포한 후, 80℃의 온도에서 1분간 열처리를 수행하여, 보호막이 도포된 투명 전극을 제조하였다.
실시 예 9
보호막 조성물의 제조
상기 실시 예 4에서 용매로 이소프로필알콜(IPA)이 사용된 것을 제외하고는 상기 실시 예 4과 동일한 과정을 수행하여 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
상기 실시 예 4에서 용매로 이소프로필알콜이 사용된 보호막 조성물을 도포한 것을 제외하고는 상기 실시 예 4과 동일한 과정을 수행하여 투명 전극을 제조하였다.
실시 예 10
보호막 조성물의 제조
상기 실시 예 4에서 용매로 에탄올(EtOH)이 사용된 것을 제외하고는 상기 실시 예 4과 동일한 과정을 수행하여 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
상기 실시 예 4에서 용매로 에탄올이 사용된 보호막 조성물을 도포한 것을 제외하고는 상기 실시 예 4과 동일한 과정을 수행하여 투명 전극을 제조하였다.
실시 예 11
보호막 조성물의 제조
티타늄 화합물로 8.5g의 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 6.5g의 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 준비하고, 이를 고르게 혼합하였다.
상기 혼합된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT) 혼합물 1g을 2-부탄올 용매 99g에 투입하고, 바(bar) 교반기를 이용하여 상온에서 약 30분 교반하여, 티타늄 화합물 함유 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
투명 기판으로 PES 기판을 준비하고, 상기 PES 기판의 일면 상에 앞서 준비한 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT) 을 포함하는 보호막 조성물을 스핀 코팅 장치를 이용하여 1500rpm에서 1분간 코팅하여 도포한 후, 80℃의 온도에서 1분간 열처리를 수행하여, 보호막이 도포된 투명 전극을 제조하였다.
실시 예 12
보호막 조성물의 제조
티타늄 화합물로 8.5g의 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 6.5g의 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 준비하고, 이를 고르게 혼합하였다.
상기 혼합된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT) 혼합물 5g을 2-부탄올 용매 95g에 투입하고, 바(bar) 교반기를 이용하여 상온에서 약 30분 교반하여, 티타늄 화합물 함유 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
투명 기판으로 PES 기판을 준비하고, 상기 PES 기판의 일면 상에 앞서 준비한 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 포함하는 보호막 조성물을 스핀 코팅 장치를 이용하여 1500rpm에서 1분간 코팅하여 도포한 후, 80℃의 온도에서 1분간 열처리를 수행하여, 보호막이 도포된 투명 전극을 제조하였다.
실시 예 13
보호막 조성물의 제조
티타늄 화합물로 8.5g의 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 6.5g의 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 준비하고, 이를 고르게 혼합하였다.
상기 혼합된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT) 혼합물 10g을 2-부탄올 용매 90g에 투입하고, 바(bar) 교반기를 이용하여 상온에서 약 30분 교반하여, 티타늄 화합물 함유 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
투명 기판으로 PES 기판을 준비하고, 상기 PES 기판의 일면 상에 앞서 준비한 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 포함하는 보호막 조성물을 스핀 코팅 장치를 이용하여 1500rpm에서 1분간 코팅하여 도포한 후, 80℃의 온도에서 1분간 열처리를 수행하여, 보호막이 도포된 투명 전극을 제조하였다.
실시 예 14
보호막 조성물의 제조
티타늄 화합물로 8.5g의 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 6.5g의 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 준비하고, 이를 고르게 혼합하였다.
상기 혼합된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT) 혼합물 10g을 2-부탄올 용매 40g에 투입하고, 바(bar) 교반기를 이용하여 상온에서 약 30분 교반하여, 티타늄 화합물 함유 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
투명 기판으로 PES 기판을 준비하고, 상기 PES 기판의 일면 상에 앞서 준비한 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드 티타늄 화합물을 포함하는 보호막 조성물을 스핀 코팅 장치를 이용하여 1500rpm에서 1분간 코팅하여 도포한 후, 80℃의 온도에서 1분간 열처리를 수행하여, 보호막이 도포된 투명 전극을 제조하였다.
실시 예 15
보호막 조성물의 제조
티타늄 화합물로 8.5g의 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 6.5g의 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 준비하고, 이를 고르게 혼합하였다.
상기 혼합된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT) 혼합물 15g을 2-부탄올 용매 35g에 투입하고, 바(bar) 교반기를 이용하여 상온에서 약 30분 교반하여, 티타늄 화합물 함유 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
투명 기판으로 PES 기판을 준비하고, 상기 PES 기판의 일면 상에 앞서 준비한 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 및 티타늄 부톡사이드 티타늄 화합물을 포함하는 보호막 조성물을 스핀 코팅 장치를 이용하여 1500rpm에서 1분간 코팅하여 도포한 후, 80℃의 온도에서 1분간 열처리를 수행하여, 보호막이 도포된 투명 전극을 제조하였다.
비교 예 1
보호막 조성물의 제조
상기 실시 예 1에서 티타늄 화합물로 티타늄 다이이소프로폭사이드 비스아세틸아세토네이트(Tyzor AA)를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시 예 1과 동일한 과정을 수행하여 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
상기 실시 예 1에서 티타늄 화합물로 티타늄 다이이소프로폭사이드 비스아세틸아세토네이트(Tyzor AA)를 포함하는 보호막 조성물을 도포한 것을 제외하고는 상기 실시 예 1과 동일한 과정을 수행하여 투명 전극을 제조하였다.
비교 예 2
보호막 조성물의 제조
상기 실시 예 1에서 티타늄 화합물로 티타늄 킬레이트(Tyzor 131)를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시 예 1과 동일한 과정을 수행하여 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
상기 실시 예 1에서 티타늄 화합물로 티타늄 킬레이트(Tyzor 131)를 포함하는 보호막 조성물을 도포한 것을 제외하고는 상기 실시 예 1과 동일한 과정을 수행하여 투명 전극을 제조하였다.
비교 예 3
보호막 조성물의 제조
상기 실시 예 1에서 티타늄 화합물로 지르코늄 비스(디에틸 시트라토) 디프로폭사이드(Tyzor ZEC)를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시 예 1과 동일한 과정을 수행하여 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
상기 실시 예 1에서 티타늄 화합물로 지르코늄 비스(디에틸 시트라토) 디프로폭사이드(Tyzor ZEC)를 포함하는 보호막 조성물을 도포한 것을 제외하고는 상기 실시 예 1과 동일한 과정을 수행하여 투명 전극을 제조하였다.
비교 예 4
보호막 조성물의 제조
상기 실시 예 4에서 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 대신 티타늄 다이이소프로폭사이드 비스아세틸아세토네이트(Tyzor AA)를 사용하여 티타늄 다이이소프로폭사이드 비스아세틸아세토네이트(Tyzor AA) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT) 혼합물을 사용한 것을 제외하고는 제외하고는 실시 예 4와 동일한 과정을 수행하여 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
상기 실시 예 4에서 티타늄 다이이소프로폭사이드 비스아세틸아세토네이트(Tyzor AA) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 포함하는 보호막 조성물을 도포한 것을 제외하고는 상기 실시 예 4와 동일한 과정을 수행하여 투명 전극을 제조하였다.
비교 예 5
보호막 조성물의 제조
상기 실시 예 4에서 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 대신 티타늄 킬레이트(Tyzor 131)를 사용하여 티타늄 킬레이트(Tyzor 131) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT) 혼합물을 사용한 것을 제외하고는 제외하고는 실시 예 4와 동일한 과정을 수행하여 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
상기 실시 예 4에서 티타늄 화합물로 티타늄 킬레이트(Tyzor 131) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 포함하는 보호막 조성물을 도포한 것을 제외하고는 상기 실시 예 4와 동일한 과정을 수행하여 투명 전극을 제조하였다.
비교 예 5
보호막 조성물의 제조
상기 실시 예 4에서 용매로 톨루엔이 사용된 것을 제외하고는 상기 실시 예 4과 동일한 과정을 수행하여 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
상기 실시 예 4에서 용매로 톨루엔이 사용된 보호막 조성물을 도포한 것을 제외하고는 상기 실시 예 4과 동일한 과정을 수행하여 투명 전극을 제조하였다.
비교 예 6
보호막 조성물의 제조
상기 실시 예 4에서 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드(Tyzor TE) 대신 지르코늄 비스(디에틸 시트라토) 디프로폭사이드(Tyzor ZEC)를 사용하여 지르코늄 비스(디에틸 시트라토) 디프로폭사이드(Tyzor ZEC) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT) 혼합물을 사용한 것을 제외하고는 제외하고는 실시 예 4와 동일한 과정을 수행하여 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
상기 실시 예 4에서 티타늄 화합물로 지르코늄 비스(디에틸 시트라토) 디프로폭사이드(Tyzor ZEC) 및 티타늄 부톡사이드(Tyzor TBT)를 포함하는 보호막 조성물을 도포한 것을 제외하고는 상기 실시 예 4와 동일한 과정을 수행하여 투명 전극을 제조하였다.
비교 예 7
보호막 조성물의 제조
상기 실시 예 4에서 용매로 헥산이 사용된 것을 제외하고는 상기 실시 예 4과 동일한 과정을 수행하여 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
상기 실시 예 4에서 용매로 헥산이 사용된 보호막 조성물을 도포한 것을 제외하고는 상기 실시 예 4과 동일한 과정을 수행하여 투명 전극을 제조하였다.
비교 예 8
보호막 조성물의 제조
상기 실시 예 4에서 용매로 아세톤이 사용된 것을 제외하고는 상기 실시 예 4과 동일한 과정을 수행하여 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
상기 실시 예 4에서 용매로 아세톤이 사용된 보호막 조성물을 도포한 것을 제외하고는 상기 실시 예 4과 동일한 과정을 수행하여 투명 전극을 제조하였다.
비교 예 9
보호막 조성물의 제조
상기 실시 예 4에서 용매로 에틸렌 글리콜이 사용된 것을 제외하고는 상기 실시 예 4과 동일한 과정을 수행하여 보호막 조성물을 제조하였다.
투명 전극 제조
상기 실시 예 4에서 용매로 에틸렌 글리콜이 사용된 보호막 조성물을 도포한 것을 제외하고는 상기 실시 예 4과 동일한 과정을 수행하여 투명 전극을 제조하였다.
실험 예
실험 예 1
투과도,
헤이즈
, b* 측정
헤이즈미터를 사용하여 실시 예 1 내지 실시 예 3, 비교 예 1 내지 비교 예 3 및 보호막 조성물이 도포되지 않은 PET 기판 2개의 샘플에 대해 각각 2회 투과도, 헤이즈 및 b*값을 측정하였고 이를 표 1에 나타내었다.
표 1을 참조하면, 실시 예 1 및 실시 예 2에 의해 준비된 보호막 조성물은 PET 기판의 측정값과 비교하여 음의 b*값으로 반전되는 것을 알 수 있고, 실시 예 1에 의해 준비된 티타늄 2-에틸헥실옥사이드를 포함하는 보호막 조성물을 도포한 투명전극이 가장 낮은 b*값을 보이는 것을 알 수 있다.
헤이즈미터를 사용하여 실시 예 4, 실시 예 5, 비교 예 4 내지 비교 예 6 및 보호막 조성물이 도포되지 않은 PET 기판 2개의 샘플에 대해 각각 2회 투과도, 헤이즈 및 b*값을 측정하였고 이를 표 2에 나타내었다.
표 2를 참조하면, 실시 예 4 및 실시 예 5에 의해 준비된 보호막 조성물 및 이를 도포한 투명전극의 b*가 음수 값을 나타내는 것을 알 수 있고, 실시 예 5에 의해 준비된 티타늄 2-에틸헥실옥사이드 및 티타늄 부톡사이드 이종의 티타늄 화합물을 포함하는 보호막 조성물이 도포된 투명 전극의 b*값이 가장 낮은 값을 보이는 것을 알 수 있다. 다만, 실시 예 5에 의해 준비된 티타늄 2-에틸헥실옥사이드 및 티타늄 부톡사이드를 포함하는 보호막 조성물이 도포된 투명 전극은 PET 기판의 측정값과 비교하여 헤이즈 값이 증가하고, 투과도가 소폭 감소하는 것을 알 수 있다. 또한, 비교 예 4 내지 6에 의해 준비된 보호막 조성물이 도포된 투명 전극은 투과도 및 b*의 특성이 우수하지 못한 것을 알 수 있다.
실시 예 4에 의해 준비된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 및 티타늄 부톡사이드 이종의 티타늄 화합물을 포함하는 보호막 조성물이 도포된 투명 전극은 높은 투과도와 낮은 b*가 조화된 우수한 특성을 보이는 최적 조건을 나타내는 것을 알 수 있다.
실시 예 4, 실시 예 5 내지 7에 의해 준비된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 및 티타늄 부톡사이드 이종의 티타늄 화합물을 포함하는 보호막 조성물이 도포된 투명전극의 투과도, 헤이즈 및 b*값의 변화를 관찰하였고, 이를 표 3에 나타내었다.
표 3을 참조하면, 실시 예 4, 실시 예 5 내지 7에 의해 준비된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 및 티타늄 부톡사이드 이종의 티타늄 화합물을 포함하는 보호막 조성물이 도포된 투명전극에서, 보호막 조성물에서 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드의 혼합 비율이 증가할수록 투과도가 감소하고 헤이즈가 증가하는 경향을 보이고, b* 값이 감소하는 것을 알 수 있다. 이와는 반대로, 보호막 조성물에서 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드의 혼합 비율이 감소할수록 투과도는 증가하고, 헤이즈가 감소하는 경향을 보이고, b*값이 증가하는 것을 알 수 있다. 헤이즈 및 b*값이 낮고, 동시에 투과도가 높은 실시 예 4에 의해 준비된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 및 티타늄 부톡사이드 이종의 티타늄 화합물을 포함하는 보호막 조성물이 도포된 투명전극이 가장 우수한 시인성 및 투과도 조합을 나타내는 것을 알 수 있다.
실시 예 4, 실시 예 9, 실시 예 10, 비교 예 7 내지 10에 의해 준비된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 및 티타늄 부톡사이드를 포함하는 보호막 조성물이 도포된 투명전극의 투과도, 헤이즈 및 b*값의 변화를 관찰하였고, 이를 표 4에 나타내었다.
표 4를 참조하면, 보호막 조성물의 용매로 2-부탄올, 이소프로필알콜 및 에탄올을 사용하였을 경우, 이를 도포한 투명전극의 b*값이 음의 값을 나타내는 것을 알 수 있고, 보호막 조성물의 용매로 2-멜캅토에틸아민, 헥산 아세톤 및 에틸렌 글리콜을 사용한 경우 이를 도포한 투명전극의 b*값이 양의 값을 나타내는 것을 알 수 있다. 또한, 톨루엔을 보호막 조성물의 용매(비교 예 7)로 사용하고, 이를 도포한 투명전극은 b*가 음의 값을 나타내었지만 막질이 불균일하여 헤이즈값이 크게 증가한 것을 알 수 있다. 실시 예 4에 의해 준비된 2-부탄올을 보호막 조성물의 용매로 사용하였을 때 균일한 보호막의 막질 및 낮은 b*값을 갖는 투명전극을 얻을 수 있었다.
실시 예 4, 실시 예 11 내지 15에 의해 준비된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 및 티타늄 부톡사이드를 포함하는 보호막 조성물이 도포된 투명전극의 투과도, 헤이즈 및 b*값의 변화를 관찰하였고, 이를 표 5에 나타내었다.
표 5를 참조하면, 실시 예 4, 실시 예 11 내지 15에 의해 준비된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 및 티타늄 부톡사이드를 포함하는 보호막 조성물이 도포된 투명전극은 보호막 조성물에 대한 티타늄 화합물의 함량에 따라 두께가 변화하고, 이에 따라 투과도, 헤이즈 값이 변화하고 특히 b*값의 변화가 있는 것을 알 수 있다. 이 때, 상기 보호막의 두께는 리플렉토미터인 알파스텝으로 측정하였다.
실시 예 4를 제외한 실시 예 11 내지 15에 의해 준비된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 및 티타늄 부톡사이드를 포함하는 보호막 조성물이 도포된 투명전극은 b*값이 양의 값을 나타내어 시인성의 문제가 발생할 수 있다.
실시 예 2에 의해 준비된 티타늄 부톡사이드 티타늄 화합물을 포함하는 보호막 조성물이 도포된 투명전극 및 실시 예 4에 의해 준비된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 및 티타늄 부톡사이드 이종의 티타늄 화합물을 포함하는 보호막 조성물이 도포된 투명전극을 30일 동안 대기중에 방치하며 투과도, 헤이즈 및 b*값의 변화를 관찰하였고, 이를 표 6 및 표 7에 나타내었다.
표 6 및 표 7을 참조하면, 실시 예 5에 의해 준비된 투명전극은 30일간 시간의 경과에 따른 보호막의 열화가 없어 투과도, 헤이즈 및 b*의 초기 측정값 대비 최종 측정값의 변화율은 각각 0.2%, 0% 및 -0.08%였다. 내구성 실험 결과 투과도 및 헤이즈의 변화는 없었고, b*값은 소폭 증가(음의 방향에서 양의 방향으로)하는 경향을 보였다. 반면, 실시 예 2에 의해 준비된 투명전극은 30일간 시간의 경과에 따른 투과도가 감소하는 경향을 보였다. 이를 통해, 티타늄 부톡사이드 일 종의 티타늄 화합물을 포함하는 보호막 조성물로 형성된 보호막을 포함하는 투명전극은 시간이 지남에 따라 보호막의 내구성이 열화된다는 것을 알 수 있다.
실시 예 4에 의해 준비된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 및 티타늄 부톡사이드 이종의 티타늄 화합물을 포함하는 보호막 조성물을 이용하여, PET 기판 상에 1500rpm 조건으로 1분간 스핀코팅을 하고, 하기의 표 8에 나타낸 바와 같이 베이크 시간 및 온도를 변경하여 보호막을 포함하는 투명전극을 제조하였고, 이때의 투과도, 헤이즈 및 b*값을 측정하였고 이를 표 8에 나타내었다.
표 8을 참조하면, 베이크 온도가 상승할수록, 베이크 시간이 증가함에 따른 투명 전극의 투과도, 헤이즈 및 b*값의 변화는 크지 않으나, 상기 실험 조건 중에서 베이크 온도가 낮을수록, 베이크 시간이 감소함에 따라 가장 우수한 b*값을 나타내었다.
실시 예 4에 의해 준비된 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 및 티타늄 부톡사이드 이종의 티타늄 화합물을 포함하는 보호막 조성물을 이용하여, PET, PES, PI, GLASS, PC 및 PMMA를 기판으로 사용하고, 상기 기판 상에 1500rpm 조건으로 1분간 스핀코팅을 하고, 80℃의 온도에서 1분간 열처리를 수행하여, 보호막이 도포된 투명 전극을 제조하였다. 보호막 조성물이 도포되지 않은 기판 및 상기 보호막 조성물이 도포된 투명전극의 투과도, 헤이즈 및 b*값의 결과를 표 9에 나타내었다.
표 9를 참조하면, 보호막 조성물이 도포되지 않은 모든 기판은 양의 b*값을 나타내고, 본 발명의 실시 예를 따르는 보호막 조성물을 도포하여 보호막을 형성함으로써 b*값이 크게 개선되는 것을 알 수 있다. 이를 통해, 본 발명의 실시 예를 따르는 보호막 조성물은 대부분의 투명기판에 적용되어 b*값을 개선할 수 있음을 알 수 있다.
실험 예 2
투과도 및 반사도 측정
PET 기판 및 실시 예 4에 의해 준비된 시인성이 개선된 투명전극에 대해 투과도 및 반사도를 측정하였고, 이를 도 4에 나타내었다.
도 4를 참조하면, PET 기판과 비교하여 실시 예 5에 의해 준비된 시인성이 개선된 투명전극은 노랑(yellow) 내지 빨강(red) 파장의 반사도가 증가하고, 이에 의해 노란 빛을 띄는 빛의 반사도가 증가하면서 투명기판을 통해 투과되는 빛이 줄어들어 b*가 개선되는 것을 알 수 있다.
본 발명은 상술한 실시 형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 한다. 따라서, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.
Claims (10)
- 용매를 준비하는 단계;
상기 용매에 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 및 티타늄 부톡사이드의 혼합물이되, 상기 혼합 비율은 1.1:1 내지 1.4:1인 티타늄 화합물을 보호막 조성물 전체 질량에 대하여 12 내지 18 중량%로 첨가하는 단계; 및
상기 티타늄 화합물을 상기 용매에 분산하는 단계;로 이루어진 보호막 조성물의 제조방법.
- 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 용매는 알콜 계열 용매인 것을 특징으로 하는 보호막 조성물의 제조방법.
- 제4항에 있어서,
상기 알콜 계열 용매는 2-부탄올, 이소프로필알콜 및 에탄올 중 적어도 하나인 보호막 조성물의 제조방법.
- 삭제
- 투명 기판을 준비하는 단계;
상기 투명 기판 상에 보호막을 도포하는 단계; 및
상기 도포된 보호막을 건조하는 단계;로 이루어지고,
상기 보호막은 용매를 준비하는 단계, 상기 용매에 티타늄 트리에탄올아민네이토 이소프로폭사이드 및 티타늄 부톡사이드의 혼합물이되, 상기 혼합 비율은 1.1:1 내지 1.4:1인 티타늄 화합물을 보호막 조성물 전체 질량에 대하여 12 내지 18 중량%로 첨가하는 단계, 및 상기 티타늄 화합물을 상기 용매에 분산하는 단계로 이루어진 제조방법으로 제조된 것을 특징으로 하고, 상기 보호막의 두께는 50 내지 100nm인 시인성이 개선된 투명전극의 제조방법.
- 삭제
- 제7항에 있어서,
상기 건조하는 단계의 온도는 80 내지 120℃인 시인성이 개선된 투명전극의 제조방법.
- 제7항에 있어서,
상기 건조하는 단계의 건조 시간은 1 내지 5분인 시인성이 개선된 투명전극의 제조방법.
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