KR101881012B1 - 염소 화합물의 열분해 장치 및 이를 포함하는 장치를 이용한 니켈 광석의 습식 제련 방법 - Google Patents
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Abstract
염화마그네슘의 열분해 시 생성되는 염산 가스를 회수 없이 직접 니켈 원광석과 반응시키는, 염소 화합물의 열분해 장치 및 이를 포함하는 장치를 이용한 니켈 광석의 습식 제련 방법이 개시된다. 상기 니켈 광석의 습식 제련 방법은, a) 분쇄된 니켈 광석 분말에 염산 및 겔 해소제를 공급하여 니켈 용액과 고상의 이산화규소로 분리하는 산-침출 단계; b) 상기 분리된 니켈 용액에 잔류하는 철 성분을 제거하는 제1 정제 단계; 및 c) 상기 철 성분이 제거된 니켈 용액으로부터 고상의 니켈을 추출한 후 건조시켜 농축된 니켈을 생성하고, 잔여 염화마그네슘 용액은 분리하는 제2 정제 단계;를 포함하며, 상기 분리된 염화마그네슘 용액을 열분해 장치에 공급하여 산화마그네슘 분말로 열분해시키는 동시에, 상기 열분해 시 생성되는 염산 가스를 상기 a) 단계에 회수 없이 공급하고, 상기 전환된 산화마그네슘 분말 중 조분은 침강되어 상기 가열로의 하부를 통해 배출되고, 미분은 상부 방향으로 확산되어 상기 가열로 내부에 구비된 세라믹 필터에 포집되는 것을 특징으로 한다.
Description
본 발명은 염소 화합물의 열분해 장치 및 이를 포함하는 장치에 의한 니켈 광석의 습식 제련 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 염화마그네슘의 열분해 시 생성되는 염산 가스를 회수 없이 직접 니켈 원광석과 반응시키는, 염소 화합물의 열분해 장치 및 이를 포함하는 장치를 이용한 니켈 광석의 습식 제련 방법에 관한 것이다.
역사적으로, 니켈 생산은 제련 공정을 사용하는 니켈 황화물(약 30 %) 및 고급 사프로라이트(부식 암석) 라테라이트(약 70 %)를 기반으로 하였으나, 향후에는 비용 등을 고려하여 저급의 라테라이트가 사용될 가능성이 매우 높아지고 있다. 따라서, 기존의 제련 공정은 경제적이지 못하며, 이와 같은 이유, 그리고 2차 전지의 수요 상승에 의해 니켈의 가격은 점차 높아질 것으로 예상된다.
이에 대한 대안으로서 산 침출(Acid Leaching)을 이용한 습식 제련 방식이 제안되어 왔다. 이와 같은 산 침출 방식은 크게 황산을 이용한 고압 산 침출(High Pressure Acid Leaching (HPAL) 또는 Pressure Acid Leaching (PAL))과 염산(HCl)을 이용한 대기압 하에서의 산 침출(Atmospheric Acid Leaching (AL))로 분류될 수 있다.
고압 산 침출의 경우 이미 상업화는 되었으나, 높은 설비 투자비로 인해 경제적이지 못할 뿐만 아니라, 운영상의 어려움, 그리고 염산을 이용한 대기압 하에서의 산 침출 대비 산(acid) 소비량이 많다는 문제점을 가지고 있다. 반면, 염산을 이용하는 산 침출의 경우에는 열분해 및 염산의 회수에 어려움이 있어 아직까지 상업화되지 못하고 있는 실정이다.
한편, 상기 염산을 이용하는 산 침출 방식에 있어서, 산 침출이 수행되면 염화마그네슘이 생성되게 되고, 염산의 제거 또는 재활용을 위하여 상기 생성된 염화마그네슘을 산화마그네슘으로 전환하는 공정이 부가될 수 있다. 통상 염화마그네슘을 산화마그네슘으로 전환하는 방법은, 가성소다 또는 암모니아를 이용하는 습식 방식과 열분해 방식으로 분류할 수 있다. 도 1은 염화마그네슘을 산화마그네슘으로 전환하는 통상의 습식 공정(a)과 열분해 공정(b)의 모식도로서, 도 1의 a에 도시된 바와 같은 습식 방식은 다량의 폐수가 발생하고, 반응기 및 소성장치 등의 설비가 필요하다는 문제점이 있고, 도 1의 b에 도시된 바와 같은 열분해 방식은 폐기물이 발생하지 않고, 분리된 염산의 재활용이 가능하다는 장점이 있다.
상기 열분해 방식으로는, 아만 프로세스(Aman Process)로 알려져 있는 스프레이 로스터(Spray Roaster) 타입의 열분해 방식을 예로 들 수 있다. 도 2는 통상적인 스프레이 로스터 열분해 공정의 공정 순차도로서(주요 공정을 원형 표시), 스프레이 로스터 방식은 하기 반응식 1과 같은 600 내지 700 ℃ 하에서의 반응을 통해 염화마그네슘을 산화마그네슘으로 전환시킬 수 있다.
[반응식 1]
MgCl2 + H2O → MgO + 2HCl
스프레이 로스터 열분해 공정은 1950년대에 상업화되었고, 이스라엘의 ICL 사에서 고순도의 산화마그네슘 제조에 사용하고 있으며, 국내에서는 EG포텍이 염화철(FeCl2)을 이용한 산화철(Fe2O3)의 제조에 적용 중이다. 하지만, 스프레이 로스터 열분해 공정은, 낮은 전환율로 인해 스프레이 로스터 공정 이후에 연속식 후처리 공정(로타리 킬른(Rotary Kiln), 2차 소성 공정)과 분쇄 공정 등의 후속 공정이 필요하다는 번거로움이 있다. 즉, 스프레이 로스터는 버너가 하단에 위치하고 측면을 향하고 있어 유체의 회전을 유발하고, 액체 원료를 상부에서 하부 방향으로 분무하면 상부 방향으로 향하는 연소가스와 아래로 향하는 분무액이 교차 전환되며, 분말 형태의 제품은 중력과 회전력을 이용한 사이클론 방식에 의해 로스터 하부에 집진 된다. 하지만, 집진되는 제품에 불완전 전환된 제품이 혼입될 가능성이 크기 때문에, 제품의 전환율 증가를 위해서는, 전술한 바와 같은 2차 소성 공정 및 분쇄 공정이 수반되어야만 하는 것이다.
보다 구체적으로, 스프레이 로스터는 사이클론 방식의 집진을 위하여 회전력 발생을 위한 적정 유속을 지속적으로 유지할 필요가 있기 때문에, 생산량에 관계없이 고정된 연료가 소모되어 에너지 효율이 낮아질 수 밖에 없고, 미립분의 효율적인 포집을 위하여 지름 및 높이가 커지며, 이에 따라 부피가 증가하므로 열 손실 표면적이 커진다(버너 출력 불균형 시에도 집진 효율이 저하된다). 뿐만 아니라, 사이클론을 작동시키기 위한 적정량의 유량에 의한 유속을 필요로 하기 때문에 에너지 효율이 낮아질 수밖에 없다. 또한, 스프레이 노즐의 이상 현상 등으로 큰 액적이 발생할 경우, 부족한 반응 시간에 기인하여 전환이 충분히 이루어지지 않기 때문에(완전한 전환이 불가하여, 큰 액적이 하부 집진 및 제품에 혼입된다), 불완전 제품을 재소성 하기 위한 추가 열량이 공급되어야 하며, 이를 위해서는 후단에 2차 소성장치가 설치되어야만 한다. 그밖에, 액적의 이동 경로에 따라 노출온도가 불균일하여(고온 중 체류시간 3초 이하), 전환율 또한 불규칙해질 수 있다. 또한, 상부로 배출되는 가스에 포함된 제품은 사이클론 방식으로 포집되지만, 사이클론 방식으로 포집되지 않는 미분리된 초미립분은 액체 원료에 섞여서 재투입되어야 하므로 추가 연료가 필요하다. 또한, 현 생산량(액상원료 시간당 처리량: 10 톤(ton))에 해당하는 설비의 높이가 약 30 m이나, 상부 노즐의 정비, 교체에 필요한 추가 공간과 호이스트(hoist, 기중기의 일종) 등의 설비가 필요하고, 기술의 희소함으로 인하여 대형화 한계 및 생산량 조절 불가(생산량에 무관하게 연료 소모량 고정) 등 설계, 건설(시공), 유지(운전) 및 관리(유지 및 보수) 등에 어려움이 있다.
무엇보다, 스프레이 로스터 열분해 공정은, 상기 반응식 1과 같이 염화마그네슘 열분해 시 산화마그네슘과 염산이 발생하게 되는데, 온도 강하 시에는 염산이 응축되어 역반응을 유발하기 때문에 고온집진이 반드시 수반되어야 한다. 기존 집진장치의 경우 백 필터(bag filter) 방식이 일반적이지만, 백(bag)의 재질이 고분자이기 때문에 고온으로의 적용이 불가능하다. 이와 같은 고온집진장치의 부재로 인하여, 스프레이 로스터는 사이클론 원리를 응용하게 된 것이다. 따라서, 폐기물이 발생하지 않고, 분리된 염산의 재활용이 가능한 열분해 방식은 유지하되, 이상에서 살펴 본 스프레이 로스터 열분해 방식의 단점은 보완할 수 있는, 신규한 (염화마그네슘을 산화마그네슘으로 전환할 수 있는) 열분해 장치, 그리고, 이를 포함하고 염산 이용한 산 침출 방식에 의해 니켈 광석을 습식 제련시킬 수 있는 방안이 모색되어야 한다.
따라서, 본 발명의 목적은, 염화마그네슘 용액을 산화마그네슘 분말로 전환할 시 제품의 고온집진이 가능하고, 전환율 및 제품 회수율이 우수한, 염소 화합물의 열분해 장치를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 다른 목적은, 염화마그네슘의 열분해 시 생성되는 염산 가스를 회수 없이 직접 니켈 원광석과 반응시키는, 니켈 광석의 습식 제련 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 액상 소각 원리를 적용하여 염화마그네슘 용액을 산화마그네슘 분말로 전환하기 위한 열분해 장치로서, 염화마그네슘 용액을 공급하기 위한 원료 주입구(10)가 측면에 형성되어 있고, 그 주변부의 어느 일단에 가열부(20)가 설치되어 있으며, 상기 원료 주입구(10)보다 높은 위치에 열/가스 배출구(30)가 형성된 가열로(100); 및 가열에 의해 발생되어 상부 방향으로 확산되는 산화마그네슘 분말을 포집하며, 상기 가열로(100) 내에 상기 원료 주입구(10) 대비 높고 상기 열/가스 배출구(30) 대비 동등 이하의 위치로 구비된 하나 이상의 세라믹 필터(200);를 포함하는 염소 화합물의 열분해 장치를 제공한다.
또한, 본 발명은, a) 분쇄된 니켈 광석 분말에 염산 및 겔 해소제를 공급하여 니켈 용액과 고상의 이산화규소로 분리하는 산-침출 단계; b) 상기 분리된 니켈 용액에 잔류하는 철 성분을 제거하는 제1 정제 단계; 및 c) 상기 철 성분이 제거된 니켈 용액으로부터 고상의 니켈을 추출한 후 건조시켜 농축된 니켈을 생성하고, 잔여 염화마그네슘 용액은 분리하는 제2 정제 단계;를 포함하며, 상기 분리된 염화마그네슘 용액을 상기 열분해 장치에 공급하여 산화마그네슘 분말로 열분해시키는 동시에, 상기 열분해 시 생성되는 염산 가스를 상기 a) 단계에 회수 없이 공급하고, 상기 전환된 산화마그네슘 분말 중 조분은 침강되어 상기 가열로의 하부를 통해 배출되고, 미분은 상부 방향으로 확산되어 상기 가열로 내부에 구비된 세라믹 필터에 포집되는 것을 특징으로 하는, 니켈 광석의 습식 제련 방법을 제공한다.
본 발명에 따른 염소 화합물의 열분해 장치 및 이를 포함하는 장치를 이용한 니켈 광석의 습식 제련 방법은, 600 ℃ 이상의 고온에서 염화마그네슘 용액을 산화마그네슘 분말로 전환할 시 제품의 고온집진이 가능하고, 전환율 및 제품 회수율이 우수할 뿐만 아니라, 염화마그네슘의 열분해 시 생성되는 염산 가스를 회수 없이 직접 니켈 원광석과 반응시켜 공정 효율성을 향상시킬 수 있는 장점을 가지고 있다. 또한, 염산이 공정 내에서 발생과 동시에 소모되어, 염산의 공정 외부로의 유출이 없어 친환경적이고 안전하다.
도 1은 염화마그네슘을 산화마그네슘 또는 수산화마그네슘으로 전환하는 통상의 습식 공정(a)과 열분해 공정(b)의 모식도이다.
도 2는 통상적인 스프레이 로스터 열분해 공정의 공정 순차도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 염화마그네슘의 열분해 장치 모식도이다.
도 4는 본 발명에 따른 액상 소각로 원리를 적용한 열분해 장치(a, b, c) 및 이에 의해 포집된 산화마그네슘 분말(d, e)을 보여주는 이미지이다.
도 5는 통상적인 스프레이 로스터 열분해 장치의 모식도(a) 및 액상 소각로 원리를 적용한 본 발명의 열분해 장치 모식도(b)이다.
도 6은 분말 적체 현상의 발생과정 및 해소방안을 설명하기 위하여, 통상의 스프레이 로스터 열분해 장치(a) 및 본 발명에 따른 열분해 장치(b)를 보여주는 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 니켈 광석의 습식 제련 공정을 도식화 한 이미지이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 니켈 광석 습식 제련의 주요 공정을 나타낸 다이어그램이다.
도 9는 본 발명에 따른 니켈 광석의 습식 제련 방법에 의해 추출 회수되는 니켈 고농축물을 2차 전지의 음극으로 적용하기 위한 과정을 보여주는 순차도이다.
도 2는 통상적인 스프레이 로스터 열분해 공정의 공정 순차도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 염화마그네슘의 열분해 장치 모식도이다.
도 4는 본 발명에 따른 액상 소각로 원리를 적용한 열분해 장치(a, b, c) 및 이에 의해 포집된 산화마그네슘 분말(d, e)을 보여주는 이미지이다.
도 5는 통상적인 스프레이 로스터 열분해 장치의 모식도(a) 및 액상 소각로 원리를 적용한 본 발명의 열분해 장치 모식도(b)이다.
도 6은 분말 적체 현상의 발생과정 및 해소방안을 설명하기 위하여, 통상의 스프레이 로스터 열분해 장치(a) 및 본 발명에 따른 열분해 장치(b)를 보여주는 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 니켈 광석의 습식 제련 공정을 도식화 한 이미지이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 니켈 광석 습식 제련의 주요 공정을 나타낸 다이어그램이다.
도 9는 본 발명에 따른 니켈 광석의 습식 제련 방법에 의해 추출 회수되는 니켈 고농축물을 2차 전지의 음극으로 적용하기 위한 과정을 보여주는 순차도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명을 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 염화마그네슘의 열분해 장치 모식도이다. 도 3을 참조하여 본 발명에 따른 염소 화합물의 열분해 장치에 대하여 설명하면, 본 발명에 따른 염소 화합물의 열분해 장치는, 액상 소각 원리를 적용하여 염화마그네슘 용액을 산화마그네슘 분말로 전환하기 위한 열분해 장치로서, 염화마그네슘 용액을 공급하기 위한 원료 주입구(10)가 측면에 형성되어 있고, 그 주변부의 어느 일단에 가열부(20)가 설치되어 있으며, 상기 원료 주입구(10)보다 높은 위치에 열/가스 배출구(30)가 형성된 가열로(furnace, 100) 및 가열에 의해 발생되어 상부 방향으로 확산되는 산화마그네슘 분말을 포집하며, 상기 가열로(100) 내에 상기 원료 주입구(10) 대비 높고 상기 열/가스 배출구(30) 대비 동등 이하의 위치로 구비된 하나 이상의 세라믹 필터(200)를 포함한다.
발명의 배경이 되는 기술에서 설명한 바와 같이, 기존의 열분해 방식은 스프레이 로스터(Spray Roaster) 방식이며, 스프레이 로스터 방식의 다양한 문제점을 보완하기 위하여 제안된 기술이 바로 액상 소각로 원리를 적용한 열분해 방식이다. 도 4는 본 발명에 따른 액상 소각로 원리를 적용한 열분해 장치(a, b, c) 및 이에 의해 포집된 산화마그네슘 분말(d, e)을 보여주는 이미지로서, 도 4의 a는 열분해 장치의 외형 실물도이고, 도 4의 b 및 c는 열분해 장치에 사용된 세라믹 필터의 입구 및 출구의 모습이며, 도 4의 d 및 e는 세라믹 필터를 통해 포집된 산화마그네슘 분말 및 이를 전자 현미경으로 관찰한 모습이다. 또한, 도 5는 통상적인 스프레이 로스터 열분해 장치의 모식도(a) 및 액상 소각로 원리를 적용한 본 발명의 열분해 장치 모식도(b)이다.
도 4 및 5를 참조하여, 스프레이 로스터 열분해 방식과 본 발명의 열분해 방식을 대비해 보면, 본 발명의 열분해 방식은 가열로(또는 '노', furnace) 외부에 세라믹 필터(ceramic filter)를 적용함으로써 고온집진이 우수할 뿐만 아니라, 집진 효율이 원료의 유속 및 유량 변화 등 주변 환경의 변화에 영향을 받지 않고 집진기 내부에서 충분한 반응 시간의 부여가 가능하여, 수 내지 수십 나노미터 크기의 초미립분까지 완벽한 포집이 가능하고, 초미립분에 있어서도 입자 크기별로 분리가 가능하다(단, 일체형의 경우 입도 분리가 용이하지 않음). 또한, 염화마그네슘의 전환에 필요한 열량 이외에 시스템 작동에 필요한 열량이 추가로 요구되는 스프레이 로스터 방식과 달리, 염화마그네슘의 전환에 필요한 열량만이 요구되므로(즉, 사이클론의 발생에 요구되는 기계적 최소 요구량의 바람이 필요 없다), 스프레이 로스터 방식 대비 가열로의 부피는 줄어들고 에너지의 효율은 높다. 또한, 본 발명의 열분해 방식은, 원료의 가열부(고온부, 고온 버너) 직분사 방식을 적용함으로써 모든 액적이 고온에 노출될 수 있고, 이로 인해, 99.5 % 이상의 우수한 전환율을 나타낼 수 있으며, 노즐의 이상 현상 시 발생하는 불완전 전환물은 별도 설비 없이 장시간 고온에 노출됨으로써 전환율 증가가 가능하다. 또한, 특화된 기술을 요하지 않는 일반적인 기술이어서, 스프레이 로스터 방식과 달리, 운전 관리항목이 적은 점 등 운전 난이도가 낮고(온도 및 기계 작동 등 단순 관리에 불과하다), 생산량 조절 및 대형화가 용이하며, 인력 수급 등의 운영과 유지 및 보수가 용이하다는 장점도 가지고 있다.
도 6은 분말 적체 현상의 발생과정 및 해소방안을 설명하기 위하여, 통상의 스프레이 로스터 열분해 장치(a) 및 본 발명에 따른 열분해 장치(b)를 보여주는 도면이다. 한편, 분말 적체 현상과 관련하여, 도 6의 a에 도시된 스프레이 로스터 방식은, 사이클론 원리에 의해 로스터의 하부로 갈수록 유속이 저하되며, 이에 따라, 분말이 하부에 집중되어 적체되는 현상이 발생할 수 있다. 상기 스프레이 로스터 방식은, 상기와 같은 분말 적체 시 유체의 흐름에 영향을 미치지 않고는 해소가 용이하지 않을 뿐더러, 어느 정도 해소가 된다 하더라도 이에 따른 영향의 예측이 어렵다. 또한, 측면으로 방사되는 버너의 설치 구조상 버너 연소로가 막힐 가능성도 크다. 반면, 도 6의 b에 도시된 본 발명 열분해 방식의 경우, 도 6의 b에 도시된 바와 같은 구조를 가지기 때문에 내부에 분말이 적체될 가능성이 매우 적으며, 간혹 분말 적체 현상이 발생하더라도 기계적 적체 분말 강제 해소 장치에 의해 어렵지 않게 해소가 가능하다.
본 발명은, 이상과 같은 장점을 가지는 액상 소각로 원리를 적용한 열분해 방식에 착안한 것으로서, 기존의 액상 소각로 방식과 달리 세라믹 필터를 가열로의 내부에 위치시켜(즉, 세라믹 필터가 가열로의 외부에 위치하는 기존의 방식과 달리, 세라믹 필터를 가열로와 일체화 하여), 기존 액상 소각로 방식의 열분해 설비가 가지는 장점은 모두 승계한 채, 열 회수량은 상승시키고, 연료 소모량 조절이 가능하여 동일 생산량 기준 운전 비용은 감소되고, 온도 조절 및 필터 차압 이외에는 관리사항이 없으며, 건설 비용 및 소요 면적 등이 줄어드는 장점을 가진다.
본 발명에 적용되는 세라믹 필터(200)는, 가열에 의해 발생되어 상부 방향으로 확산되는 산화마그네슘 분말(또는, 미립분)을 포집하기 위한 것으로서, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 원료 주입구(10)보다 높은 위치로 설치되어야 하며, 상기 세라믹 필터(200)가 상기 원료 주입구(10)와 유사한 높이로 설치되거나 상기 원료 주입구(10)보다 낮은 높이로 설치될 경우에는, 중력에 의해 하부로 이동하는 입자까지 필터에 부착되어 필터의 재생주기가 단축될 수 있다.
상기 세라믹 필터(200)는, 상기 세라믹 필터(200) 자체를 가열로(100)에 부착 또는 체결시킴으로써 고정될 수도 있고, 별도의 지지 부재(도시되지 않음)에 의해 고정될 수도 있으나, 포집된 미립분의 용이한 탈거를 위하여 세라믹 필터 수용부(도시되지 않음)로부터 탈부착 되는 것이 바람직하다. 이 때, 상기 세라믹 필터 수용부의 재질은, 상기 가열부(20)의 가열 온도에 변형 및 변성되지 않는 소재라면 제한 없이 적용될 수 있다. 다만, 이는 몇 가지 예시에 불과하며, 상기 세라믹 필터(200)를 가열로(100) 내 특정 위치에 고정(탈착)시킬 수만 있다면 그 설치 방법에는 특별한 제한이 없다.
한편, 상기 세라믹 필터(200)에 산화마그네슘 분말이 포집되는 동시에, 원료를 가열할 시 생성되는 가스(이하, '배가스'라고도 함) 또한 상기 세라믹 필터(200)를 통과하게 되며, 이 때, 배가스는 세라믹 필터(200)를 통과함으로써 고온 유지되기 때문에, 기존의 스토커 열분해 방식 대비 열 회수량이 현저히 높아진다. 따라서, 상기 배가스가 배출되는 열/가스 배출구(30)는, 상기 세라믹 필터(200)의 상부 또는 측면 상부에 위치하는 것이 좋고, 미립분(분말)의 방향성 및 필터로의 미립분 포집을 고려하여, 예를 들어 도 3에 도시된 바와 같이, 원료 주입구(10)와 가장 먼 거리 상부에 위치하도록 하는 것이 바람직하다. 즉, 다시 말해, 상기 열/가스 배출구(30)는 상기 원료 주입구(10)로부터 최 원거리에 위치한 가열로(100)의 상부면 또는 측면 상부에 형성될 수 있다.
상기 세라믹 필터(200)의 개수는, 목적으로 하는 산화마그네슘 분말의 생산량, 기체량 및 열 회수량 등에 따라 다양하게 가변될 수 있으며, 하나 이상이면 사용에 따른 효과가 나타나나, 넓게는 3 내지 20 개, 바람직하게는 안정적인 미립분의 포집을 위하여 5 내지 20 개, 더욱 바람직하게는 10 내지 20 개일 수 있다. 상기 세라믹 필터의 개수가 부족할 경우, 필터 재생주기가 단축되어 재생 과정을 빈번화 할 우려가 있고, 상기 세라믹 필터의 개수가 과도할 경우에는, 추가적인 장점이 없을 수 있다. 다만, 이는 어디까지나 일 예시에 불과한 것으로서, 상기 세라믹 필터(200)의 개수는 전술한 바와 같이 산화마그네슘 분말의 생산량, 기체량 및 열 회수량 등에 따라 다양하게 가변될 수 있으므로 상기 범위에 제한되지 않음을 밝힌다.
상기 세라믹 필터(200)는 800 ℃ 이상의 고온에서 사용할 수 있고, 산화마그네슘 분말을 포집할 수 있도록 기공의 크기가 조절되어 있다면 그 재질에는 특별한 제한이 없다. 세라믹 필터의 재질로는 실리콘 카바이드(SiC), 실리카(SiO2), 알루미나(Al2O3) 등을 예시할 수 있고, 기공의 크기는 0.5 내지 1 ㎛로 조절되어 분말을 포집할 수 있는 구조를 갖춘 것이 적합하나 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에 따른 염소 화합물의 열분해 장치에 있어서, 상기 세라믹 필터(200)는 가열로(100)의 원료 주입구(10) 기준 대각 상부 방향에 위치하는 것이 바람직하므로, 상기 가열로(100)를 원료 주입구(10) 및 가열부(20)를 포함하는 하부와, 세라믹 필터(200)가 설치되는 상부로 분류할 경우, 상기 가열로(100)는 예를 들어, 상부가 하부 대비 어느 한 방향으로 치우친(돌출된) 형태가 될 수 있다(도 3에 있어서는, 가열로의 상부가 하부 대비 오른쪽으로 치우친 형태).
한편, 상기 원료 주입구(10)를 통하여 공급되는 원료는 염화마그네슘 용액 이외에 무기물을 함유한 무기 액상 화합물일 수도 있다. 여기서, 상기 무기 액상 화합물은 염화무기금속 및 세라믹 중 1종 이상인 무기물 등을 포함한다. 상기 염화무기금속으로는 염화마그네슘, 염화구리, 염화아연 및 염화철 등 통상의 염화 처리된 무기금속을 예시할 수 있다. 따라서, 상기 무기 산화물은 산화마그네슘, 산화구리, 산화아연 및 산화철 등일 수 있다.
한편, 상기 가열부(20)는 상기 원료 주입구(10) 주변부의 어느 일단에 구비되는 것으로서, 다수의 스프레이 노즐(또는, 원료 주입 노즐)이 가열로(100)에 구비될 경우, 액적의 결합 방지를 위하여 스프레이 노즐 간에는 적정거리 이격이 필요하기 때문에, 상기 가열부(20)의 위치는 적절히 가변될 수 있다. 즉, 다시 말해, 상기 가열부(20)는 스프레이 노즐에서 생성되는 액적이 고열에 최대한 노출될 수 있도록, 스프레이 노즐의 인근 어느 일단에 구비되어야 하는 것이다.
계속해서, 도 7 및 8을 참조하여 본 발명에 따른 염소 화합물의 열분해 장치를 포함하는 장치를 이용한 니켈 광석의 습식 제련 방법에 대하여 설명한다. 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 니켈 광석의 습식 제련 공정을 도식화 한 이미지이고, 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 니켈 광석 습식 제련의 주요 공정을 나타낸 다이어그램(diagram)이다.
상기 니켈 광석의 습식 제련 방법은, a) 분쇄된 니켈 광석에 염산 및 겔 해소제를 공급하여 니켈 용액과 고상의 이산화규소로 분리하는 산-침출 단계, b) 상기 분리된 니켈 용액에 잔류하는 철 성분을 제거하는 제1 정제 단계 및 c) 상기 철 성분이 제거된 니켈 용액으로부터 고상의 니켈을 추출한 후 건조시켜 농축된 니켈을 생성하고, 잔여 염화마그네슘 용액은 분리하는 제2 정제 단계를 포함하며, 상기 분리된 염화마그네슘 용액을 전술한 열분해 장치에 공급하여 산화마그네슘 분말로 열분해시키는 동시에, 상기 열분해 시 생성되는 염산 가스를 상기 a) 단계에 회수 없이 공급하고, 상기 전환된 산화마그네슘 분말 중 조분은 침강되어 상기 가열로의 하부를 통해 배출되고, 미분은 상부 방향으로 확산되어 상기 가열로 내부에 구비된 세라믹 필터에 포집되는 것을 특징으로 한다.
본 출원인은, 본 명세서 서두에 언급한 바와 같은, 기존의 니켈 광석 제련 방식, 그 중에서도 염산을 이용한 산 침출 제련 방식의 문제점에 대하여 고찰을 거듭한 끝에, 상기와 같이 겔 해소제(또는, 겔 브레이커), 세라믹 필터가 구비된 자체 열분해 시스템 및 염산 가스에 의한 직접 침출 시스템을 동시에 사용하며, 철-니켈 슬래그 처리 공정을 기반으로 하는 니켈 광석의 습식 제련 공정/방법을 발명하였다. 특히, 본 발명에 따른 니켈 광석의 습식 제련 방법은, 전술한 세라믹 필터가 구비된 염화마그네슘의 열분해 장치를 이용함으로써 염산 가스에 의한 직접 침출(즉, 염산 가스의 회수와 산 침출의 결합)이 가능하다. 따라서, 본 발명은 별도의 염산 액체 회수 탱크나 탱크로 염산을 이송시키기 위한 이송 라인이 불필요하며, 이를 통해, 제련 공정 내 염산 농도에 대한 우려를 불식시킬 수 있다.
먼저, 상기 산-침출 단계는 니켈 광석에 함유된 이산화규소를 분리하기 위한 공정으로서, 고상의 이산화규소는 산(acid)과 반응 시 겔(gel)을 형성하기 때문에, 이산화규소와 니켈 용액의 고액 분리가 용이하지 않다. 따라서, 이와 같은 겔을 해소하기 위하여 미량의 겔 해소제(Gel Breaker)를 사용할 수 있다. 이와 같은 겔 해소제로는 규불산(H2SiF6), 불화암모늄(NH4F) 및 불화나트륨(NaF) 등의 불소계 화합물을 예시할 수 있고, 그 사용 함량은 상기 니켈 광석 분말 100 중량부에 대하여 0.1 내지 10 중량부, 바람직하게는 1 내지 3 중량부이다. 이때, 상기 겔 해소제의 함량이 상기 니켈 광석 분말 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 미만이면, 겔 해소능이 미흡하여 이산화규소와 니켈 용액의 고액 분리가 어려울 수 있고, 10 중량부를 초과할 경우에는 불소 성분이 최종 제품에 잔존하여 최종제품의 품질에 영향을 미칠 우려가 있다.
한편, 상기 산-침출 단계에서는 상기 열분해 장치에서 발생하는 염산 가스가 직접 투입되며, 따라서 추가 액상 염산의 사용 없이, 상기 발생하는 염산 가스만으로 산-침출 단계가 수행될 수 있다. 상기 산-침출 단계에서 사용되는 산-침출 반응기의 형태는, 상기 산-침출 단계에서 염산 가스와 니켈 원광석의 접촉을 원활하게 하는 형태라면 특별한 제한은 없으며, 통상적인 기체 분산장비를 하부에 장착한 연속 교반 반응기(CSTR with sparger) 및 슬러리 분사 노즐을 장착한 습식 스크러버(wet scrubber) 등을 예시할 수 있다. 그밖에, 상기 산-침출 시의 용액 pH는 4 이하로 조절하는 것이 바람직하며, 이와 같은 pH의 조절은 니켈 원광석의 양에 의해 수행될 수 있다.
다음으로, 상기 제1 및 제2 정제는, 니켈 용액 내 존재하는 철 성분과 염화마그네슘 용액 등을 분리하여 고상의 니켈을 고농도로 추출하는 공정으로서, 당업계에 알려진 통상의 정제 장치 및 조건에 의할 수 있다. 정제 시 사용되는 정제 장치는 추출 용액과 pH 조절을 위해 투입되는 조절제의 혼합을 원활하게 할 수 있는 형태라면 특별한 제한이 없으며, 통상적인 교반기를 포함한 원통형 반응기이면 적합하다. pH 조절제로는 pH를 상승시키기 위한 염기성 화합물을 사용할 수 있으며, 최종 제품과 동일한 마그네슘 화합물인 산화마그네슘(MgO), 수산화마그네슘(Mg(OH)2) 니켈 원광석 등도 사용 가능하다. 다만, 상기 산-침출 시의 pH 조절에 의해서도 철 불순물의 제거가 가능하므로, 필요에 따라, 상기 제1 정제 단계는 배제될 수 있다. 그밖에, 상기 정제 시의 용액 pH는 5 내지 6으로 조절하는 것이 바람직하다.
한편, 상기 정제 과정을 통해 분리된 염화마그네슘 용액은 전술한 염화마그네슘의 열분해 장치(즉, 세라믹 필터가 구비된 액상 소각로 방식의 가열로)에 공급된 후, 하기 반응식 1과 같은 600 내지 700 ℃ 하에서의 열분해 반응을 통해 산화마그네슘 분말로 전환되며, 이 과정에서 생성되는 염산 가스는, 별도 염산 용액으로의 회수 없이 곧바로 상기 산-침출 단계, 구체적으로는, 니켈 광석 분말을 포함하는 슬러리에 공급된다(도 7 및 8 참조).
[반응식 1]
MgCl2 + H2O → MgO + 2HCl
이와 같이, 염산 가스에 의한 직접 침출이 이루어지면, 별도의 염산 액체 회수 탱크나 탱크로 염산을 이송시키기 위한 이송 라인이 불필요하기 때문에, 제련 공정 내 염산 농도를 일정하게 유지시킬 수 있다. 그밖에, 상기 염화마그네슘의 열분해 장치에 관한 설명은 전술한 바를 준용한다. 한편, 상기 c) 단계에서 생성되는 농축물 내 니켈의 농축도는 사용자의 요구에 따라 조절 가능하며, 최대 90 %까지 농축할 수 있다.
상기 염화마그네슘 용액의 산화마그네슘 분말로의 전환율은 99.5 % 이상, 바람직하게는 99.9 % 이상으로서, 불완전 전환물 또한 간단한 세척 과정을 통해 미반응 염화마그네슘을 수세함으로써 간단하게 완전 전환물로의 전환이 가능하다. 또한, 상기 산화마그네슘 분말 중 미분이 세라믹 필터에 포집되는 집진율은 99.8 내지 100 %, 바람직하게는 99.9 내지 100 %이다. 그밖에, 상기 '조분'이란 10 ㎛ 이상의 크기를 가지는 산화마그네슘 분말을 의미하며, 상기 '미분'이란 2 ㎛ 미만의 크기를 가지는 산화마그네슘 분말을 의미한다.
한편, 니켈은 자동차 및 모바일 기기 등에 적용되는 2차 전지의 음극으로 많이 사용되는 금속 중 하나로서, 에너지 밀도는 높이고 원료비는 감소시키는 추세에 맞추어, 향후(약 2,020 년)에는 NCM 및 NCA 음극 질량의 약 80 %를 차지할 것으로 예상된다. 따라서, 본 발명에 따른 니켈 광석의 습식 제련 방법에 의해 추출 회수되는 니켈 고농축물(산화니켈, 수산화니켈)은 해당 업계에 커다란 영향을 미칠 것으로 예상된다.
도 9는 본 발명에 따른 니켈 광석의 습식 제련 방법에 의해 추출 회수되는 니켈 고농축물을 2차 전지의 음극으로 적용하기 위한 과정을 보여주는 순차도로서, 상기 추출 회수되는 니켈 고농축물을 전지에 적용시키기 위해서는, 도 9에 도시된 바와 같이, 산화니켈 또는 수산화니켈과 황산 용액을 혼합하여 황산 니켈 수용액을 제조하고 이를 정제함과 동시에, 상기 니켈 광석의 습식 제련 방법에 의해 부수적으로 추출 회수 가능한 산화망간과 황산 용액을 혼합하여 황산 망간 수용액을 제조하고 이를 정제한 후, 황산 코발트 또는 황산 알루미늄을 이용하여 공동 침전(Co-precipitation)시키는 과정이 수행될 수 있다.
이하, 구체적인 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로서, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1] 세라믹 필터가 내부에 구비된 가열로를 이용한 니켈 광석의 습식 제련
먼저, 니켈 광석을 그라인딩시켜 100 ㎛ 이하의 크기로 분말화 한 후, 이를 MgCl2 용액에 분산시켜 슬러리 상태로 만들었다. 이어서, 슬러리 분사노즐을 장착한 스크러버 타입의 반응기에 상기 제조된 슬러리를 순환 분사하는 동시에, 여기에 염산 가스와 규불산(겔 해소제)을 공급하여, pH 4에서 산-침출 단계를 진행하였다. 침출 공정이 완료된 이후에는, 고액 분리기(필터 프레스)를 이용하여 니켈 용액과 고상의 이산화규소, 그리고 철 성분을 분리하였다. 이어서, 정제를 통하여 분리된 니켈 용액에 pH 조절제로서 수산화마그네슘을 투입하여 pH를 5~6까지 상승시켜 고상의 니켈을 추출하였으며, 다시 한 번 고액 분리기(필터 프레스)를 이용하여 고상의 농축된 니켈 화합물(Ni(OH)2)를 생성하였다.
잔여 염화마그네슘 용액은 분리하여 열분해 방식의 가열로 내부에 10 kg/hr의 유량으로 이류체 노즐을 이용하여 공급하였다. 가열로에 공급된 염화마그네슘 용액은 600 ℃의 온도 하에서 열분해 되어 산화마그네슘 분말로 전환되었으며, 이 과정에서 생성된 염산 가스는 후속 산-침출 공정에 직접 공급되어 또 다른 니켈 광석의 제련에 사용되도록 하였다. 상기 전환된 산화마그네슘 분말 중 10 um 이상의 크기를 가지는 조분은 발생하지 않았으며, 2 um 미만의 크기를 가지는 미분은 상부 방향으로 확산되어 가열로 내부에 구비된 세라믹 필터에 100 % 포집되었다.
[시험예 1] 니켈 농축물의 XRF 측정
상기 실시예 1에서 추출된 니켈 농축물을 X선 형광분석법(XRF)을 통하여 농축도를 평가한 결과, 하기 표 1과 같이 84 %를 상회하는 함량을 나타내었다.
성분 | NiO | MgO | MnO | Co3O4 | ZnO | Fe2O3 | CuO | CaO |
함량 | 84.18 | 10.91 | 2.80 | 1.59 | 0.24 | 0.16 | 0.10 | 0.01 |
10: 원료 주입구
20: 가열부
30: 열/가스 배출구
100: 가열로
200: 세라믹 필터
20: 가열부
30: 열/가스 배출구
100: 가열로
200: 세라믹 필터
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- a) 분쇄된 니켈 광석 분말에 염산 및 겔 해소제를 공급하여 니켈 용액과 고상의 이산화규소로 분리하는 산-침출 단계;
b) 상기 분리된 니켈 용액에 잔류하는 철 성분을 제거하는 제1 정제 단계; 및
c) 상기 철 성분이 제거된 니켈 용액으로부터 고상의 니켈을 추출한 후 건조시켜 농축된 니켈을 생성하고, 잔여 염화마그네슘 용액은 분리하는 제2 정제 단계;를 포함하며,
상기 분리된 염화마그네슘 용액을 열분해 장치에 공급하여 산화마그네슘 분말로 열분해시키는 동시에, 상기 열분해 시 생성되는 염산 가스를 상기 a) 단계에 회수 없이 공급하고, 상기 산화마그네슘 분말 중 조분은 침강되어 하기 가열로의 하부를 통해 배출되고, 미분은 상부 방향으로 확산되어 하기 가열로 내부에 구비된 세라믹 필터에 포집되며,
상기 열분해 장치는 염화마그네슘 용액을 공급하기 위한 원료 주입구(10)가 측면에 형성되어 있고, 그 주변부의 어느 일단에 가열부(20)가 설치되어 있으며, 상기 원료 주입구(10)보다 높은 위치에 열/가스 배출구(30)가 형성된 가열로(100); 및 가열에 의해 발생되어 상부 방향으로 확산되는 산화마그네슘 분말을 포집하며, 상기 가열로(100) 내에 상기 원료 주입구(10) 대비 높고 상기 열/가스 배출구(30) 대비 동등 이하의 위치로 구비된 하나 이상의 세라믹 필터(200);를 포함하는 것을 특징으로 하는, 니켈 광석의 습식 제련 방법. - 청구항 7에 있어서, 상기 겔 해소제는 규불산(H2SiF6), 불화암모늄(NH4F) 및 불화나트륨(NaF)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 니켈 광석의 습식 제련 방법.
- 청구항 7에 있어서, 상기 c) 단계에서 생성되는 니켈의 농축도는 최대 90 %인 것을 특징으로 하는, 니켈 광석의 습식 제련 방법.
- 청구항 7에 있어서, 상기 산-침출 단계에서의 니켈 용액 pH는 4 이하이고, 상기 제1 정제 단계의 분리된 니켈 용액과 제2 정제 단계의 잔여 염화마그네슘 용액의 pH는 5 내지 6인 것을 특징으로 하는, 니켈 광석의 습식 제련 방법.
- 청구항 7에 있어서, 상기 염화마그네슘 용액의 산화마그네슘 분말로의 전환율은 99.5 % 이상인 것을 특징으로 하는, 니켈 광석의 습식 제련 방법.
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