KR101797966B1 - wavelength measurement system using flat surface object and method thereof - Google Patents

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KR101797966B1
KR101797966B1 KR1020160135947A KR20160135947A KR101797966B1 KR 101797966 B1 KR101797966 B1 KR 101797966B1 KR 1020160135947 A KR1020160135947 A KR 1020160135947A KR 20160135947 A KR20160135947 A KR 20160135947A KR 101797966 B1 KR101797966 B1 KR 101797966B1
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이호재
이상선
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한국생산기술연구원
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Abstract

The present invention relates to a system and method to measure a light source wavelength by using a slope plane. The present invention includes: a beam splitter dividing incident light, coming through a main optical axis, into first and second routes; a reference mirror reflecting light, going through the first route, to the beam splitter; a standard specimen installed in the second route and having a slope plane; a spectrometer dividing interference light going through a slit after being reflected from the reference mirror and standard specimen; an image sensor detecting the light, divided through the spectrometer, through a set detection area; and a measuring part performing Fourier transformation to horizontal data matched with a longitudinal direction of the slit from interference fringe data detected from the image sensor through the standard specimen, and then, calculating a wavelength from the Fourier transformed data, pixel gap information of the image sensor, and a slope value of the standard specimen to emit light to the main optical axis when a wavelength measurement mode is set. As such, the present invention is capable of widening the application of a system with an interferometer.

Description

경사평면을 이용한 광원파장 측정 시스템 및 측정 방법{wavelength measurement system using flat surface object and method thereof}BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention [0001] The present invention relates to a wavelength measurement system and a measurement method using a tilted plane,

본 발명은 경사평면을 이용한 광원파장 측정 시스템 및 측정 방법에 관한 것으로서, 형상을 측정할 수 있는 간섭계를 이용하여 광원의 파장을 측정하는 경사평면을 이용한 광원파장 측정 시스템 및 측정 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light source wavelength measurement system and a measurement method using an inclined plane, and more particularly, to a light source wavelength measurement system and a measurement method using an inclined plane for measuring a wavelength of a light source using an interferometer capable of measuring a shape.

일반적으로 광 파장을 측정하기 위한 장치로는 회절 격자를 이용한 스펙트로미터, 간섭계형 측정 장치, 퓨리어 변환 스펙트로미터 등이 있고, 국내 등록특허 제10-0334748호 등 다양하게 알려져 있다.Generally, as a device for measuring a light wavelength, there are a spectrometer using a diffraction grating, an interferometer type measuring device, a Fourier transform spectrometer, and the like, and it is known in various ways as disclosed in Korean Patent No. 10-0334748.

한편, 물체의 형상을 간섭계를 이용하여 측정하는 방식은 국내 등록특허 제10-14367호 등 다양하게 알려져 있다. 이러한 간섭계를 이용한 형상측정장치는 물체의 형상을 측정하는 용도로만 이용되고 있어 그 활용용도가 제한되는 단점이 있다.On the other hand, a method of measuring the shape of an object by using an interferometer is variously known from Korean Patent No. 10-14367. The shape measuring apparatus using such an interferometer is used only for measuring the shape of an object, and has a disadvantage that its application is limited.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 개선하기 위하여 창안된 것으로서, 간섭계를 활용하여 광원의 파장을 측정할 수 있는 경사평면을 이용한 광원파장 측정 시스템 및 측정 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a system and method for measuring a light source wavelength using an inclined plane capable of measuring a wavelength of a light source using an interferometer.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 경사평면을 이용한 광원파장 측정 시스템은 메인 광축을 통해 입사되는 입사광을 제1경로와 제2경로로 분할하는 빔스플리터와, 상기 제1경로로 진행되는 광을 상기 빔스플릿터로 반사시키는 기준미러와; 상기 제2경로에 설치되며 경사진 평면을 갖는 표준시편과; 상기 기준미러와 상기 표준시편으로부터 반사되어 슬릿을 통과한 간섭광을 분광하는 분광계와; 상기 분광계에 의해 분광된 광을 설정된 검출 면적을 통해 검출하는 이미지센서와; 광원의 파장을 측정하는 파장측정모드로 설정되면 상기 메인 광축으로 광을 출사하도록 설치된 검사광원으로부터 출사된 광에 대해 상기 표준시편을 통해 상기 이미지 센서로부터 검출된 간섭무늬의 데이터로부터 상기 슬릿 방향에 대응한 수평방향 데이터에 대해 퓨리어 변환하고, 퓨리어 변환된 데이터와 알고 있는 상기 표준시편의 기울기값 및 상기 이미지센서의 화소간격정보로부터 파장을 산출하는 측정부;를 구비한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a system for measuring a light source using an inclined plane, comprising: a beam splitter for dividing incident light incident through a main optical axis into a first path and a second path; To the beam splitter; A standard specimen installed in the second path and having an inclined plane; A spectroscope for measuring interference light reflected from the reference mirror and the standard specimen and passing through the slit; An image sensor for detecting light that has been spectroscopically measured by the spectrometer through a predetermined detection area; When the wavelength measurement mode for measuring the wavelength of the light source is set, the light emitted from the inspection light source arranged to emit light to the main optical axis corresponds to the slit direction from the interference fringe data detected from the image sensor through the standard specimen And a measuring unit for performing Fourier transform on one horizontal direction data and calculating a wavelength from the Fourier transformed data and the known slope value of the standard specimen and the pixel interval information of the image sensor.

또한, 상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 경사평면을 이용한 광원파장 측정 방법은 메인 광축을 통해 입사되는 입사광을 제1경로와 제2경로로 분할하는 빔스플리터와, 상기 제1경로로 진행되는 광을 상기 빔스플릿터로 반사시키는 기준미러와, 상기 빔스플릿터로부터 슬릿을 통과한 간섭광을 분광하는 분광계와, 상기 분광계에 의해 분광된 광을 설정된 검출 면적을 통해 검출하는 이미지센서와, 상기 이미지센서에서 출력되는 신호를 처리하는 측정부를 구비하는 간섭계를 이용하여 상기 메인 광축을 통해 광을 출사하는 검사광원의 파장을 측정하는 방법에 있어서, 가. 경사진 평면을 갖는 표준시편을 상기 제2경로에 설치하는 단계와; 나. 상기 메인 광축으로 광을 출사하도록 설치된 상기 검사광원에서 출사된 광에 대해 상기 표준시편을 통해 상기 이미지 센서로부터 검출된 간섭무늬의 데이터로부터 상기 슬릿의 방향에 대응한 수평방향 데이터에 대해 퓨리어 변환하고, 퓨리어 변환된 데이터와 알고 있는 상기 표준시편의 기울기값 및 상기 이미지센서의 화소간격정보로부터 파장을 산출하는 단계;를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method for measuring a light source wavelength using an inclined plane, the method comprising: a beam splitter for dividing incident light incident through a main optical axis into a first path and a second path; An image sensor for detecting light that has been spectroscopically measured by the spectrometer through a predetermined detection area; and an image sensor for detecting light having passed through the slit from the beam splitter, And measuring a wavelength of an inspection light source that emits light through the main optical axis using an interferometer having a measurement unit for processing a signal output from the image sensor, the method comprising: Installing a standard specimen having an inclined plane on the second path; I. Transforming the horizontal direction data corresponding to the direction of the slit from the data of the interference fringes detected from the image sensor through the standard specimen with respect to the light emitted from the inspection light source provided for emitting light to the main optical axis And calculating a wavelength from the Fourier transformed data, the known slope value of the standard specimen, and the pixel interval information of the image sensor.

본 발명에 따른 경사평면을 이용한 광원파장 측정 시스템 및 측정 방법에 의하면, 간섭계를 적용한 시스템의 활용용도를 확장할 수 있는 장점을 제공한다. The system and method for measuring a light source wavelength using an inclined plane according to the present invention provide an advantage of expanding the utilization of a system to which an interferometer is applied.

도 1은 본 발명에 따른 경사평면을 이용한 광원파장 측정 시스템을 나타내 보인 도면이고,
도 2는 도 1의 이미지센서에서 생성되는 정보를 설명하기 위한 도면이고,
도 3은 도 1의 시스템에서 파장을 측정하는 과정을 나타내 보인 흐름도이다.FIG. 1 is a view illustrating a light source wavelength measurement system using an inclined plane according to the present invention,
FIG. 2 is a view for explaining information generated in the image sensor of FIG. 1,
3 is a flowchart showing a process of measuring a wavelength in the system of FIG.

이하, 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 경사평면을 이용한 광원파장 측정 시스템 및 측정 방법을 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, a light source wavelength measurement system and a measurement method using a tilted plane according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 경사평면을 이용한 광원파장 측정 시스템을 나타내 보인 도면이다.1 is a view illustrating a light source wavelength measurement system using a tilted plane according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 광원파장 측정 시스템(100)은 빔스플리터(110), 기준미러(120), 표준시편(130), 슬릿(150), 회절격자(160), 이미지 센서(170), 입력부(181), 스캐닝구동부(183), 표시부(185) 및 측정부(187)를 구비한다.1, a light source wavelength measuring system 100 according to the present invention includes a beam splitter 110, a reference mirror 120, a standard specimen 130, a slit 150, a diffraction grating 160, an image sensor An input unit 181, a scanning drive unit 183, a display unit 185, and a measurement unit 187. [0031]

빔스플릿터(110)는 메인 광축(101)을 통해 입사되는 입사광을 제1경로(102)와 제2경로(103)로 분할하여 출사하고, 제1 및 제2경로(102)(103)로부터 역으로 입사되어 합파되는 광 즉, 간섭광을 제2경로(103) 반대편인 제3경로(104)로 출력한다.The beam splitter 110 divides the incident light incident through the main optical axis 101 into a first path 102 and a second path 103 and outputs the divided light from the first and second paths 102 and 103 And outputs the multiplexed light, that is, the interference light, to the third path 104 opposite to the second path 103.

기준미러(120)는 제1경로(102)로 진행되는 광을 빔스플릿터(110)로 반사시킨다.The reference mirror 120 reflects the light traveling to the first path 102 to the beam splitter 110.

형상측정 스테이지(133)는 제2경로(103)의 연장방향에 설치되어 형상을 측정하기 위한 물체를 로딩할 수 있도록 되어 있고 표면은 평평하게 형성되어 있다.The shape measuring stage 133 is installed in the direction of extension of the second path 103 and is capable of loading an object for measuring the shape and the surface is formed flat.

형상측정 스테이지(133)는 스캐닝구동부(183)에 의해 제1경로(102) 방향을 따라 이동시킬 수 있도록 되어 있다.The shape measuring stage 133 can be moved along the direction of the first path 102 by the scanning driving unit 183.

표준시편(130)은 파장측정시 제2경로(103)상에 설치되어 이용된다.The standard specimen 130 is installed and used on the second path 103 in the wavelength measurement.

즉, 표준시편(130)은 파장측정시 형상측정 스테이지(133)에 안착되게 설치된다.That is, the standard specimen 130 is installed so as to be seated on the shape measuring stage 133 during the wavelength measurement.

표준시편(130)은 경사진 평면을 갖는 구조로 되어 있다.The standard specimen 130 has a structure having an inclined plane.

표준시편(130)은 형상측정 스테이지(133)에 안착되는 바닥면이 평평하고, 제2경로(103)에 대향되는 면이 제1경로(101)의 연장방향과 나란한 방향을 따라 경사진 평면으로 된 경사면(130a)을 갖는 삼각형 구조로 되어 있다.The standard specimen 130 has a bottom surface that is seated in the shape measurement stage 133 and is flat and a surface opposed to the second path 103 is a plane inclined in a direction parallel to the extending direction of the first path 101 And has a triangular structure having an inclined surface 130a.

표준시편(130)의 경사면(130a)의 바닥면에 대한 기울기 각도는 1 내지 10도에서 적절하게 적용하는 것이 바람직하다.The inclination angle of the standard specimen 130 with respect to the bottom surface of the inclined surface 130a is preferably 1 to 10 degrees.

슬릿(150)은 제3경로(104) 상에 설치되어 있고, 빔스플릿터(110)로부터 진행되는 간섭광을 광을 투과시키는 투과홀(151)이 형성되어 있다.The slit 150 is provided on the third path 104 and has a transmission hole 151 through which the interference light proceeding from the beam splitter 110 is transmitted.

슬릿(150)의 투과홀(151)은 라인형태로 길게 연장되게 형성되어 있다.The transmission hole 151 of the slit 150 is formed to extend in a line shape.

따라서, 슬릿(150) 방향은 투과홀(151)의 연장방향이 된다.Therefore, the direction of the slit 150 is the extending direction of the transmission hole 151.

분광계로 적용된 회절격자(160)는 제3경로(104)의 연장방향에 대해 경사지게 배치되어 기준미러(120)와 표준시편(130)으로부터 반사되어 슬릿(150)을 통과한 간섭광을 회절에 의해 분광시킨다.The diffraction grating 160 applied to the spectrometer is disposed obliquely with respect to the extending direction of the third path 104 to diffract the interference light passing through the slit 150 from the reference mirror 120 and the standard sample 130 by diffraction Spectroscopy.

이미지센서(170)는 회절격자(160)에 의해 분광된 광을 설정된 검출 면적을 통해 검출한다. The image sensor 170 detects the light, which is diffracted by the diffraction grating 160, through the set detection area.

이미지센서(170)는 도 2에 도시된 바와 같이 다수개의 화소(171)가 가로 및 세로방향을 따라 이격되게 어레이되어 있고, 세로방향인 H방향이 분광계에 의해 파장별로 분리된 광을 수광하고, 가로방향인 Z방향은 슬릿(150)의 길이방향에 대응되게 광을 수광하도록 배치되어 있다.As shown in FIG. 2, the image sensor 170 is arrayed such that a plurality of pixels 171 are spaced apart from each other along the horizontal and vertical directions. The image sensor 170 receives light separated by wavelengths by the spectrometer in the longitudinal direction H, The Z direction, which is the horizontal direction, is arranged to receive light corresponding to the longitudinal direction of the slit 150.

입력부(181)는 형상측정모드와 파장측정모드를 선택할 수 있도록 되어 있다.The input unit 181 can select the shape measurement mode and the wavelength measurement mode.

표시부(185)는 측정부(187)에 제어되어 표시정보를 표시한다.The display unit 185 is controlled by the measuring unit 187 to display the display information.

여기서, 형상측정모드는 알고 있는 파장의 광원을 메인 광축을 통해 광이 출사되게 배치한 상태에서 형상측정 스테이지(133)에 장착된 물체의 형상을 측정하는 모드이며 형상측정방식은 알려져 있어 상세한 설명은 생략한다.Here, the shape measurement mode is a mode for measuring the shape of an object mounted on the shape measurement stage 133 in a state in which a light source of a known wavelength is arranged to emit light through a main optical axis, and a shape measurement method is known. It is omitted.

또한, 파장측정모드는 파장을 알고자 하는 검사광원(10)을 메인 광축(101)을 통해 광이 출사되게 배치한 상태에서 형상측정 스테이지(133)에 앞서 설명된 표준시편(130)을 안착시킨 후 이미지센서(170)의 출력정보를 이용하여 파장을 측정하는 모드이며 상세한 설명은 후술한다.In the wavelength measurement mode, the test specimen 130 described above is placed on the shape measuring stage 133 in a state where the inspection light source 10 to know the wavelength is arranged to emit light through the main optical axis 101 The mode of measuring the wavelength using the output information of the rear image sensor 170 will be described in detail later.

참조부호 141 내지 143, 145, 147은 광경로 상에 설치되어 입사광을 평형광으로 변환하거나 집속하는 렌즈이다.Reference numerals 141 to 143, 145, and 147 denote lenses that are provided on the optical path to convert and concentrate incident light into balanced light.

측정부(187)는 입력부(181)에 의해 설정된 모드에 대응되는 처리를 수행한다.The measurement unit 187 performs processing corresponding to the mode set by the input unit 181. [

측정부(187)는 파장측정모드로 설정되면 메인 광축(101)으로 광을 출사하도록 설치된 검사광원(10)으로부터 출사된 광에 대해 표준시편(130)을 통해 이미지 센서(170)로부터 검출된 간섭무늬의 데이터로부터 슬릿(150)의 길이방향에 대응한 이미지센서(170)의 Z축 방향의 수평방향 데이터에 대해 퓨리어 변환하고, 퓨리어 변환된 데이터와 간섭계의 수직방향 분해능 및 이미지센서(170)의 화소간격(C)정보로부터 파장을 산출한다.The measurement unit 187 is configured to measure the interference that is detected from the image sensor 170 through the standard specimen 130 with respect to the light emitted from the inspection light source 10 installed to emit light to the main optical axis 101, Axis direction of the image sensor 170 corresponding to the longitudinal direction of the slit 150 from the data of the fringe-transformed data, the vertical resolution of the interferometer, and the image sensor 170 (C) information of the pixel interval (C).

여기서, 간섭계의 수직방향 분해능(Δh)은 아래의 수학식 1에 의해 산출되어 미리 측정부(187)에 기록되어 있다.Here, the vertical resolution? H of the interferometer is calculated by the following equation (1) and recorded in the measurement unit 187 in advance.

Figure 112016101562219-pat00001
Figure 112016101562219-pat00001

여기서, b/a는 표준시편(130)의 기울기이고, c는 이미지센서(170)의 화소(171) 간격이다.Where b / a is the slope of the standard specimen 130, and c is the spacing of the pixels 171 of the image sensor 170.

측정부(187)는 알고 있는 수직방향 분해능 정보와 아래의 수학식2를 이용하여 검사대상 광원(10)의 파장을 산출한다. The measuring unit 187 calculates the wavelength of the light source 10 to be inspected by using the known vertical resolution information and Equation (2) below.

Figure 112016101562219-pat00002
Figure 112016101562219-pat00002

여기서, λj는 이미지센서(170)의 수평방향 j열 데이터들로부터 산출된 파장이며, N은 퓨리어 변환된 데이터의 개수이며, qj는 j열의 퓨리어 변환된 데이터 중 최대값에 해당하는 인덱스(index) 값이다.Here,? J is the wavelength calculated from the j-column data in the horizontal direction of the image sensor 170, N is the number of Fourier transformed data, qj is an index corresponding to the maximum value among the Fourier transformed data of the jth column (index) value.

또한, 첨자j는 수평방향 데이터 열에 대해 도 2의 분산방향인 수직방향에 대해 부여한 것이다. 따라서, j는 도 2에서 H방향을 따라 배열된 화소(171)의 개수에 대응되게 순차적으로 적용하면 된다.The subscript j is given to the vertical direction which is the dispersion direction of FIG. 2 for the horizontal direction data stream. Accordingly, j may be sequentially applied corresponding to the number of pixels 171 arranged along the H direction in FIG.

따라서, 수학식 2를 이용하여 수평열 단위로 파장을 산출하고, 이를 수직방향을 따라 반복하면 검사광원(10)의 파장값을 산출할 수 있다.Therefore, the wavelength of the inspection light source 10 can be calculated by calculating the wavelength in the unit of the horizontal column using the equation (2) and repeating it along the vertical direction.

이하에서는 이러한 시스템을 이용하여 검사광원의 파장을 측정하는 과정을 도 3을 참조하여 설명한다.Hereinafter, a process of measuring the wavelength of the inspection light source using such a system will be described with reference to FIG.

먼저, 광원의 파장을 측정하는 모드로 설정되었는지를 판단한다(단계 210).First, it is determined whether the mode is set to measure the wavelength of the light source (step 210).

단계 210에서 파장측정모드로 설정되었다고 판단되면 경사진 평면을 갖는 표준시편을 제2경로에 대향되게 설치하고, 검사광원(10)을 메인 광축(101)을 통해 광을 출사하도록 설치하도록 지시하는 안내정보를 표시부(185)에 표시하고, 설치가 완료됐으면 설치완료에 해당하는 확정키(미도시)를 조작하도록 안내한다(단계 220).If it is determined in step 210 that the wavelength measurement mode has been set, the standard specimen having the inclined plane is installed so as to face the second path, and the guide for instructing to install the inspection light source 10 to emit light through the main optical axis 101 Information is displayed on the display unit 185. When the installation is completed, the user is guided to operate a determination key (not shown) corresponding to the completion of the installation (step 220).

물론 형상측정용으로 이전에 설치된 광원을 검사광원(10)으로 하는 경우에는 표준시편(130)만 설치하고 진행하면 된다. Of course, in the case of using the light source previously provided for shape measurement as the inspection light source 10, only the standard specimen 130 may be installed.

이후, 확정키 신호가 수시되면, 앞서 설명된 바와 같이 검사광원(10)에서 출사된 광에 대해 표준시편(130)을 통해 이미지 센서(170)로부터 검출된 간섭무늬의 데이터로부터 분산방향과 직교하는 방향인 슬릿(150)의 길이방향에 대응한 수평방향 데이터에 대해 퓨리어 변환하고(단계 230), 퓨리어 변환된 데이터와 알고 있는 표준시편(130)의 기울기값 및 이미지센서(170)의 화소(171) 간격정보로부터 파장을 산출한다(단계 240).Thereafter, when the determined key signal is received, data of the interference fringes detected from the image sensor 170 through the standard specimen 130 with respect to the light emitted from the inspection light source 10, as described above, (Step 230) with respect to the horizontal direction data corresponding to the longitudinal direction of the slit 150, which is the direction of the slit 150, and outputs the slope value of the known standard specimen 130, which is the Fourier transformed data, The wavelength is calculated from the (171) interval information (step 240).

이러한 경사평면을 이용한 광원파장 측정 시스템(100) 및 측정 방법에 의하면, 형상측정을 위해 적용된 간섭계를 그대로 활용하면서도 파장을 모르는 미지의 광원 또는 사용경과에 따른 광원의 파장 변화여부를 용이하게 검사할 수 있는 장점을 제공한다.  According to the light source wavelength measurement system 100 and the measurement method using the inclined planes, it is possible to easily check whether an unknown light source whose wavelength is unknown or a change in wavelength of the light source due to the use of the interferometer is used as it is, Provides the advantages of.

110: 빔스플리터 120: 기준미러
130: 표준시편 150: 슬릿
160: 회절격자 170: 이미지 센서
181: 입력부 183: 스캐닝구동부
185: 표시부 187: 측정부110: beam splitter 120: reference mirror
130: Standard Specimen 150: Slit
160: diffraction grating 170: image sensor
181: input unit 183:
185: Display section 187:

Claims (2)

메인 광축을 통해 입사되는 입사광을 제1경로와 제2경로로 분할하는 빔스플리터와,
상기 제1경로로 진행되는 광을 상기 빔스플리터로 반사시키는 기준미러와;
상기 제2경로에 설치되며 경사진 평면을 갖는 표준시편과;
상기 기준미러와 상기 표준시편으로부터 반사되어 슬릿을 통과한 간섭광을 분광하는 분광계와;
상기 분광계에 의해 분광된 광을 설정된 검출 면적을 통해 검출하는 이미지센서와;
광원의 파장을 측정하는 파장측정모드로 설정되면 상기 메인 광축으로 광을 출사하도록 설치된 검사광원으로부터 출사된 광에 대해 상기 표준시편을 통해 상기 이미지 센서로부터 검출된 간섭무늬의 데이터로부터 상기 슬릿의 길이방향에 대응한 수평방향 데이터에 대해 퓨리어 변환하고, 퓨리어 변환된 데이터와 알고 있는 상기 표준시편의 기울기값 및 상기 이미지센서의 화소간격정보로부터 파장을 산출하는 측정부;를 구비하는 것을 특징으로 하는 경사평면을 이용한 광원파장 측정 시스템.A beam splitter for splitting the incident light incident through the main optical axis into a first path and a second path,
A reference mirror for reflecting the light traveling to the first path to the beam splitter;
A standard specimen installed in the second path and having an inclined plane;
A spectroscope for measuring interference light reflected from the reference mirror and the standard specimen and passing through the slit;
An image sensor for detecting light that has been spectroscopically measured by the spectrometer through a predetermined detection area;
And a light source for outputting light to the main optical axis when the wavelength measuring mode for measuring the wavelength of the light source is set to the direction of the slit from the data of the interference fringes detected from the image sensor through the standard specimen And a measuring unit for Fourier-transforming the horizontal direction data corresponding to the reference data and calculating a wavelength from the gradient data of the standard sample and the pixel interval information of the image sensor, which are known to be Fourier transformed data. Light Source Wavelength Measurement System Using Slope Plane. 메인 광축을 통해 입사되는 입사광을 제1경로와 제2경로로 분할하는 빔스플리터와, 상기 제1경로로 진행되는 광을 상기 빔스플리터로 반사시키는 기준미러와, 상기 빔스플리터로부터 슬릿을 통과한 간섭광을 분광하는 분광계와, 상기 분광계에 의해 분광된 광을 설정된 검출 면적을 통해 검출하는 이미지센서와, 상기 이미지센서에서 출력되는 신호를 처리하는 측정부를 구비하는 간섭계를 이용하여 상기 메인 광축을 통해 광을 출사하는 검사광원의 파장을 측정하는 방법에 있어서,
가. 경사진 평면을 갖는 표준시편을 상기 제2경로에 설치하는 단계와;
나. 상기 메인 광축으로 광을 출사하도록 설치된 상기 검사광원에서 출사된 광에 대해 상기 표준시편을 통해 상기 이미지 센서로부터 검출된 간섭무늬의 데이터로부터 상기 슬릿의 길이방향에 대응한 수평방향 데이터에 대해 퓨리어 변환하고, 퓨리어 변환된 데이터와 알고 있는 상기 표준시편의 기울기값 및 상기 이미지센서의 화소간격정보로부터 파장을 산출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 경사평면을 이용한 광원파장 측정 방법.
A beam splitter that splits the incident light incident through the main optical axis into a first path and a second path; a reference mirror that reflects the light traveling to the first path to the beam splitter; A light source for generating a light beam through the main optical axis by using an interferometer including a spectrometer for spectroscopically analyzing the light, an image sensor for detecting the light spectroscopically measured by the spectrometer through a predetermined detection area, and a measurement unit for processing a signal output from the image sensor, A method for measuring a wavelength of an inspection light source for emitting an inspection light,
end. Installing a standard specimen having an inclined plane on the second path;
I. And a controller for controlling the Fourier transform on the horizontal direction data corresponding to the longitudinal direction of the slit from the interference fringe data detected from the image sensor through the standard specimen with respect to the light emitted from the inspection light source provided for emitting light to the main optical axis, And calculating wavelengths from the Fourier transformed data, the known slope values of the standard specimen, and the pixel interval information of the image sensor.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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