KR101275890B1 - 가스분배 공급장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 각종 공정 챔버에 가스를 분배하여 공급하는 가스분배 공급장치에 관한 것으로서, 본 발명의 목적은 각 공정 챔버에 가스를 공급하기 위한 메인공급라인과는 별도로 각 공정 챔버에 가스를 공급할 수 있는 백업(Back-up)공급라인을 구비함으로써, 상기 메인공급라인의 문제발생에 대비할 수 있는 가스분배 공급장치를 제공하는 것이다. 이를 위해 본 발명에 따른 가스분배 공급장치는, 메인 유입 밸브에 의해 가스봄베로부터 유출되는 공정가스를 공급 또는 차단하기 위한 가스 공급부와; 상기 가스 공급부로부터 공급되는 공정가스를 서로 다른 경로로 전환하여 공급하기 위한 전환 밸브부와; 상기 전환 밸브부에서 공급되는 공정가스를 각 공정 챔버에 분산 공급하기 위한 메인공급부와; 상기 메인공급부의 이상 발생 시 공정가스를 각각의 공정 챔버로 우회하여 분산 공급하기 위하여 상기 전환 밸브부로부터 분기되어 상기 공정 챔버와 연결되는 백업공급부를 포함한다.
Description
도 1은 일반적인 가스 공급 시스템의 일실시예 구성도.
도 2는 종래의 가스분배 공급장치의 일실시예 구성도.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 가스분배 공급장치의 일실시예 구성도.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 가스분배 공급장치의 일실시예 구성도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
110 : 메인공급부 111 : 메인공급라인
112 : 메인분산공급라인 120 : 백업공급부
121 : 백업공급라인 122 : 백업분산공급라인
130 : 전환밸브부 131 : 제1전환밸브
132 : 제2전환밸브 40, 140 : 퍼지가스공급라인
본 발명은 각종 챔버에 가스를 공급하는 장치에 관한 것으로서, 특히 각종 공정 챔버에 가스를 분배하여 공급하는 가스분배 공급장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자 또는 액정표시장치(LCD)의 액정패널 등의 전자소재를 제조하기 위한 공정챔버(process chamber)는 공정가스(process gas)의 공급을 필요로 한다.
즉, 반도체 소자 또는 액정패널 등은 웨이퍼 또는 기판 상에 다양한 종류의 박막(예를 들면, 산화막, 질화막, 절연막, 금속막 등)들이 차례로 적층 및 패터닝되는 여러 가지 공정들을 통해 제조되는데, 이를 위해서는 웨이퍼 또는 기판 상에 임의의 박막을 형성하거나 형성된 박막을 패터닝하기 위한 공정 장비, 예를 들면 증착 장비, 식각 장비 등과 같은 공정 챔버가 필수적으로 요구된다.
한편, 상기와 같은 공정 챔버들은 박막의 형성, 패터닝 등을 수행할 때 다양한 종류의 공정 가스를 필요로 하는데, 이때 사용되는 공정 가스들은 통상 제조공장의 내부에 준비된 가스분배 공급장치로부터 분배되며, 상기 가스분배 공급장치는 일반적으로 캐비넷 형태로 구성되어 제조공장 내부에 설치된다.
도 1은 일반적인 가스 공급 시스템의 일실시예 구성도이다.
즉, 도 1은 가스분배 공급장치가 배치되어 있는 캐비넷(70)을 통해 제조공장 내부의 공정 챔버(50)들에 가스를 공급하는 가스 공급 시스템을 나타낸 것이다. 이때, 상기 캐비넷(70) 내부에 설치되는 가스분배 공급장치에는 압축한 고압 가스나 액화 가스 따위를 넣는 원통형 용기인 가스봄베가 설치되어 있으며, 제조공장 외부에는 가스공급관(80)이 설치되어 있어서 가스탱크 차량 등으로부터 상기 가스공급 관(80)을 통해 주입된 가스는 상기 가스봄베에 저장된 상태에서 상기 가스분배 공급장치에 의해 각 공정 챔버들로 공급된다. 이를 위해 상기 가스분배 공급장치에는 공정 챔버의 수에 따라 다수의 공급라인들이 각각 분기되어 연결된다.
도 2는 종래의 가스분배 공급장치의 일실시예 구성도로서, 도면에 도시된 바와 같이 종래의 가스분배 공급장치는, 공급 라인상에 설치되어 가스 봄베(61)로부터 공급되는 공정가스를 단속하는 자동밸브(air valve)(71)와 각 공정 챔버로 공급되는 공정가스를 단속하는 메인공정밸브(13)와 공정가스의 압력을 조절하는 레귤레이터(regulator)(15) 및 각 공정 챔버(50)로 공급되는 공정가스의 가스압을 측정하는 압력계(manometer)(72, 14) 등을 포함하여 구성된다.
이때, 상기 가스분배 공급장치는 상기한 바와 같이 케비넷(70) 형태의 시설 내부에 설치되어 관리된다.
그러나, 상기와 같은 구성을 갖는 종래의 가스공급장치는 상기 자동밸브(71), 메인공정밸브(13), 레귤레이터(15), 압력계(72, 14) 중 어느 하나의 구성부품에라도 문제가 발생되면 전체 가스공급이 중단되어야 하므로 전자소재 제조공정에 차질을 발생시켜 막대한 시간적 경제적 손실을 야기한다는 문제점이 있다.
따라서, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 각 공정 챔버에 가스를 공급하기 위한 메인공급라인과는 별도로 각 공정 챔버에 가스를 공급할 수 있는 백업(Back-up)공급라인을 구비함으로써, 상기 메인공급라인의 문제발생 에 대비할 수 있는 가스분배 공급장치를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 가스분배 공급장치는, 메인 유입 밸브에 의해 가스봄베로부터 유출되는 공정가스를 공급 또는 차단하기 위한 가스 공급부와; 상기 가스 공급부로부터 공급되는 공정가스를 서로 다른 경로로 전환하여 공급하기 위한 전환 밸브부와; 상기 전환 밸브부에서 공급되는 공정가스를 각 공정 챔버에 분산 공급하기 위한 메인공급부와; 상기 메인공급부의 이상 발생 시 공정가스를 각각의 공정 챔버로 우회하여 분산 공급하기 위하여 상기 전환 밸브부로부터 분기되어 상기 공정 챔버와 연결되는 백업공급부를 포함한다.
또한, 상기 백업공급부는, 상기 전환 밸브부로부터 분기되어, 상기 공정챔버와 상기 메인공급부 사이에 연결되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 메인공급부는, 상기 전환밸브부와 연결되어 있는 메인공급라인과; 상기 메인공급라인으로부터 분기되어 각 공정챔버와 연결되어 있는 메인분산공급라인들을 포함하며, 상기 메인분산공급라인들 각각은, 상기 메인분산공급라인으로의 공정가스 유입을 단속하기 위한 메인공정밸브(MV2)와; 상기 메인공정밸브를 통해 공급되는 공정가스의 압력을 조절하기 위한 레귤레이터(REG); 및 상기 레귤레이터에 의해 조절된 공정가스의 압력을 측정하기 위한 제2 압력계(M2)를 포함한다.
또한, 상기 백업공급부는, 상기 전환 밸브부로부터 분기되어, 상기 메인공정밸브와 레귤레이터 사이의 상기 메인분산공급라인에 연결되는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 일실시예가 상세히 설명된다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 가스분배 공급장치의 일실시예 구성도로서, 백업(Back-up)공급라인을 포함한 가스분배 공급장치를 나타낸 것이다.
즉, 본 발명의 제1 실시예에 따른 가스분배 공급장치는, 메인 유입 밸브(162)에 의해 가스봄베(161)로부터 유출되는 공정가스를 공급 또는 차단하기 위한 가스 공급부(160)와, 상기 가스 공급부로부터 공급되는 공정가스를 서로 다른 경로로 전환하여 공급하기 위한 전환 밸브부(130)와, 상기 전환 밸브부에서 공급되는 공정가스를 각 공정 챔버에 분산 공급하기 위한 메인공급부(110)와, 상기 메인공급부의 이상 시 공정가스를 각각의 공정 챔버(50)로 우회하여 분산 공급하기 위하여 상기 전환 밸브부로부터 분기되어 상기 공정 챔버와 연결되는 백업공급부(120)를 포함하여 구성된다. 이때, 상기 전환 밸브부(130)로부터 메인공급부(110)에 걸쳐 연결되어 있는 메인공급라인(111)에는 상기 전환 밸브부를 통해 공급되는 공정가스를 단속하기 위한 자동밸브(air valve)(171)와 상기 메인공급부(110)로 공급되는 공정가스의 가스압을 측정하기 위한 제1 압력계(manometer)(172)가 구비될 수 있다. 한편, 상기 가스공급부(160), 전환 밸브부(130), 메인공급부(110) 및 백업공급부(120)를 포함하는 상기 가스분배 공급장치는 캐비넷(cabinet)과 같은 시설물 내에 설치되며, 상기 캐비넷 내에는 가스 누출 등의 문제발생 등을 감지하는 디텍터(detector)(미도시)가 설치될 수 있다.
상기 공정챔버(50)는 웨이퍼 또는 기판 등에 대한 공정을 수행하기 위한 장 비로서, 상기와 같은 구성을 갖는 가스분배 공급장치의 메인공급부(110)에는 상기 공정챔버(50)의 수 많큼 상기 메인공급라인(111)으로부터 분기되어 있는 메인분산공급라인(112)이 구비되어 있다. 또한, 상기 백업공급부(120)에는 백업공급라인(121)으로부터 상기 메인분산공급라인(112)들 각각으로 분기되어 연결되어 있는 백업분산공급라인(122)이 구비되어 있다. 이때, 상기 백업분산공급라인(122)은 상기 메인공급부(110)와 공정챔버(50) 사이의 메인분산공급라인(112)에 연결되어 있다.
상기 가스공급부(160)에는 가스봄베(161)가 구비되어 있으며, 상기 전환밸브부(130)로 유입되는 공정가스를 공급하거나 차단하기 위한 메인유입밸브(MV1)(162)가 설치되어 있다.
상기 전환밸브부(130)는 상기 메인공급부(110)의 메인공급라인(111) 또는 백업공급부(120)의 백업공급라인(121) 측으로 가스공급을 전환하는 기능을 수행하기 위한 것으로서, 상기 전환밸브부(130)는 메인공급라인(111)으로의 공정가스 유입을 단속하는 제1 전환밸브(131)와, 백업공급라인(121)으로의 공정가스 유입을 단속하는 제2 전환밸브(132)를 포함하여 구성된다. 즉, 정상적인 상태에서는 가스공급부(160)에서 공정가스를 공급받아 상기 공정가스를 메인공급라인(111)을 통해 메인공급부(110)로 공급하기 위하여, 제1 전환밸브(131)는 개방되어 있고 제2 전환밸브(132)는 차단되어 있으며, 상기 메인공급부(110)에 이상이 발생되면 가스공급부(160)에서 공정가스를 공급받아 상기 공정가스를 백업공급라인(121)을 통해 백업공급부(120)로 공급하기 위하여, 제1 전환밸브(131)는 차단되어 있고 제2 전환밸 브(132)는 개방되어 있다.
상기 메인공급부(110)는 전환밸브부(130)로부터 자동밸브(AV)(171)를 통해 공급되는 공정가스를 각 공정챔버(50)에 분산공급하기 위한 것으로서, 상기 전환밸브부(130) 및 자동밸브(AV)(171)와 연결되어 있는 메인공급라인(111)과 상기 메인공급라인(111)으로부터 분기되어 각 공정챔버(50)와 연결되어 있는 메인분산공급라인(112)을 포함하여 구성되어 있다. 이때, 상기 메인분산공급라인(112) 각각에는 각 공정챔버로 공급되는 공정가스를 선택적으로 단속하기 위한 메인공정밸브(MV2)(113)가 구비될 수 있다. 또한, 상기 메인분산공급라인(112)에는 메인분산공급라인(112)으로 공급되는 공정가스의 압력을 측정할 수 있는 제2 압력계(M2)(114)가 구비될 수 있으며, 상기 제2 압력계(M2)(114)와 공정챔버(50) 사이에는 상기 백업분산공급라인(122)이 연결된다.
상기 백업공급부(120)는 메인공급부(110) 상에 문제발생시 메인공급부(110)를 우회하여 각 공정챔버(50)로 공정가스를 분산공급하기 위한 것으로서, 상기한 바와 같이 백업공급라인(121)과 그로부터 분기된 백업분산공급라인(122)을 포함하여 구성되어 있으며, 상기 백업분산공급라인(122)은 상기 메인공급부(110)와 공정챔버(50) 사이의 메인분산공급라인(112)에 연결되어 있다. 이때, 상기 백업분산공급라인(122)에는 백업공정밸브(MV3)(123)가 설치되어 공정가스의 유입을 선택적으로 단속할 수 있다.
한편, 상기한 바와 같이 메인공급라인(111) 중 상기 자동밸브(AV)(171)와 메인분산공급라인(112) 사이에는 제1 압력계(M1)(172)가 구비될 수 있으며, 이러한 제1 압력계(M1)(172)는 메인공급라인(111) 상에서 공정가스의 가스압을 측정하는 기능을 수행한다. 일례로, 작업자는 자동밸브(AV)(171)에 고장이 발생될 경우 메인공급라인(111)에 정상적인 공정가스 공급이 이루어지지 않으므로 제1 압력계(M1)(172)를 확인하여 가스압 이상 여부를 점검할 수 있다.
또한, 상기 메인분산공급라인(112)에는 상기 메인공정밸브(MV2)(113)와 각 공정챔버(50) 사이에 순차적으로 설치되는 레귤레이터(REG)(115)와 상기 제2 압력계(M2)(114)가 구비될 수 있다. 따라서, 각 메인분산공급라인(112)을 통과하는 공정가스는 각 레귤레이터(REG)(115)에 의해 압력조절되어 각 공정챔버(50)로 공급되고, 제2 압력계(M2)(114)에 의해 공정가스의 가스압이 측정된 후 각 공정챔버(50)로 공급된다.
즉, 각 제2 압력계(M2)(114)는 각 메인분산공급라인(112)상에서 공정 가스의 가스압을 측정하는 기능을 수행한다. 일례로, 작업자는 각 메인공정밸브(MV2)(113) 또는 레귤레이터(REG)(115)에 고장이 발생될 경우 각 메인분산공급라인(112)에 정상적인 공정가스 공급이 이루어지지 않으므로 제2 압력계(M2)(114)를 확인하여 가스압 이상여부를 점검할 수 있다.
따라서, 작업자는 상기 디텍터(미도시) 또는 제1압력계(M1)(172) 또는 제2 압력계(M2)(114)에서 이상이 감지될 경우 각 메인분산공급라인(112)으로 공급되는 공정가스를 차단하고, 백업공급부(120)를 통해 공정가스를 전환공급할 수 있다.
한편, 각 메인분산공급라인(112)에는 메인공정밸브(MV2)(113)와 레귤레이터(REG)(115) 사이에 퍼지가스공급라인(140)이 연결되어 있어서, 공정가스의 공급 이 차단된 후 퍼지가스공급라인(140)을 따라 퍼지가스가 공급된다. 여기서, 퍼지란 설비, 용기 또는 배관 내부의 함유물을 화학적 또는 물리적 반응을 일으키지 않는 기체로 중화처리하는 것을 말하는 것으로서 불활성화라고도 하며, 이때 사용되는 가스를 퍼지가스(Purge Gas)라 한다. 퍼지용 가스로는 보통의 경우에는 불활성이며 화학적으로도 안정된 질소를 사용한다. 즉, 상기 퍼지가스공급라인(140)은 상기 메인공급부(110)의 보수 등으로 인하여 상기 메인분산공급라인(112)의 운전이 정지된 경우에, 그 내부에 함유되어 있는 가연성 또는 독성가스가 안정된 기체로 중화처리될 수 있도록 퍼지가스를 공급하기 위한 기능을 수행한다. 한편, 각 메인분산공급라인(112)과 연결되는 각각의 퍼지가스공급라인(140) 상의 퍼지공정밸브(MV4)(141)의 입력측에는 체크밸브(CV)(142)가 구비될 수 있다.
이하에서는 상기한 바와 같은 구성을 포함하는 본 발명에 따른 가스분배 공급장치의 동작방법이 설명된다.
즉, 본 발명은 메인공급부(110)에 설치되는 구성부품들에 문제가 발생된 경우, 메인공급라인(111)을 우회하여 각 공정챔버(50)로 공정가스를 공급하기 위한 것으로서, 예를 들어, 메인공급부(110)를 통하여 공정가스의 공급이 진행되는 도중에 상기 디텍터(미도시), 제1 압력계(M1)(172), 제2 압력계(M2)(114) 또는 자동밸브(AV)(171) 중 어느 하나에서 이상이 감지되는 경우에, 개방되어 있던 제1 전환밸브(131)를 차단하고 차단되어 있던 제2 전환밸브(132)를 개방하여 가스공급부(160)로부터 유입되는 공정가스를 백업공급부(120)로 전환하여 챔버로 공급한다.
이때, 상기 가스공급부(160)로부터 유입된 공정가스는 메인공급부(110)의 각 메인분산공급라인(112)을 일부 통과하지만 메인공급부(110)상에 설치되는 구성부품들을 우회하여 각 공정챔버(50)에 분산공급되므로써, 메인공급부(110)의 이상 발생시에도 공정가스를 각 공정챔버(50)로 안전하게 공급할 수 있다. 그리고, 상기한 바와 같이 상기 메인분산공급라인(112)에는 퍼지가스공급라인(140)을 통해 퍼지가스가 공급되므로, 이상이 발생된 것으로 판단되는 구성부품을 교체하기 전 퍼지작업이 먼저 수행되므로써, 메인분산공급라인(112) 상에 잔류되어 있는 가스로인한 사고를 방지할 수 있다.
일례로서, 각 메인공정밸브(MV2)(113) 중 어느 하나에 고장이 발생된 것으로 판단될 경우, 해당 메인공정밸브(MV2)(113)는 교체되어야 하는바, 상기와 같은 문제가 발생된 경우 상기 제1 전환밸브(131)가 차단되고 제2 전환밸브(132)는 개방되므로써, 백업공급부(120)를 통해 각 공정챔버(50)로 공정가스가 공급될 수 있다.
이때, 고장이 발생된 것으로 판단되는 메인공정밸브(113)와 연결되어 있는 공정챔버(50) 역시 상기 백업공급부(120)를 통해 공정가스를 공급받음으로써 그 공정이 중지될 필요는 없으나, 보다 안정된 가스공급을 위한 아래와 같은 동작수행을 위해 잠시 그 공정진행이 중지될 수도 있다.
즉, 문제가 발생된 메인분산공급라인(112)과 연결된 공정챔버(50)에서 공정의 진행이 잠시 중단되는 시기에 상기 문제가 발생된 메인분산공급라인(112)과 연결된 백업분산공급라인(122) 상의 백업공정밸브(MV3)(123)는 차단되고 퍼지공정밸브(MV4)(141)는 개방되며, 이때 메인분산공급라인(112)과 메인공급라인(111)으로 퍼지가스가 주입되어 잔류하는 공정가스를 중화시키게 된다. 또한, 상기 동작과 동 시에 공정챔버(50)를 진공상태로 감압하여 라인내부의 가스를 모두 배기하여 퍼지 작업을 완료한 다음, 문제가 발생된 밸브를 교체할 수 있다. 한편, 이와 같이 교체작업이 진행되는 동안에도 해당 공정챔버(50)를 제외한 각 공정챔버(50)에는 백업공급부(120)를 통해 지속적으로 공정가스가 공급될 수 있다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 가스분배 공급장치의 일실시예 구성도로서, 백업(Back-up)공급라인을 포함한 가스분배 공급장치의 또 다른 일예를 나타낸 것이다. 여기서, 도 3에 도시된 도면에서와 동일한 도면부호는 동일한 기능을 하는 부재를 가리키는 것으로서 그에 대한 상세한 설명은 생략된다.
본 발명의 제2 실시예에 따른 가스분배 공급장치는 도 4에 도시된 바와 같이, 도 3에 도시된 본 발명의 제1 실시예에 따른 가스분배 공급장치와 그 기본 구성은 동일하며, 다만, 백업분산공급라인(122)이 메인분산공급라인(112) 상의 메인공정밸브(MV2)(113)와 레귤레이터(REG)(115) 사이에 연결된다는 차이점이 있다.
즉, 본 발명의 제2 실시예에 따른 가스분배 공급장치에는 메인공급라인(111)으로부터 분기되어 공정챔버(50)와 연결되어 있는 메인분산공급라인(112)이 구비되어 있으며, 상기 메인분산공급라인(112)에는 상기 메인공급라인(111)과의 분기지점부터 순차적으로 메인공정밸브(MV2)(113), 레귤레이터(115) 및 제2 압력계(114)가 구비되어 있으며, 상기 백업분산공급라인(122)이 상기 메인공정밸브(113)와 레귤레이터(115) 사이에 연결되어 있다.
상기와 같은 구성에 의하여, 본 발명의 제2 실시예에 따른 가스분배 공급장치에서는, 백업공급부(120)를 통해 각 메인분산공급라인(112)으로 유입되는 공정가 스가 각 레귤레이터(REG)(115)를 통과하게 되므로, 압력조절되어 각 공정챔버(50)에 공급될 수 있으며, 제2 압력계(114)를 통과하게 되므로 사용자가 상기 백업공급부(120)를 통해 공정챔버(50)로 공급되는 공정가스의 압력을 확인할 수 있게 된다.
한편, 상기 밸브들(171, 123, 113, 141, 132, 131)에는 미도시된 가스누출 감지센서가 부착될 수 있으며, 상기 가스누출 감지센서로부터 감지된 신호는 미도시된 모니터링 장치로 전송되어 사용자에 의해 감지될 수 있다. 또한, 상기 밸브들(171, 123, 113, 141, 132, 131)은 상기 모니터링 장치에 의해 구동되도록 구성될 수도 있으며, 따라서, 상기 가스누출 감지센서로부터 가스누출 신호가 감지된 경우, 상기 밸브들은 상기 모니터링 장치에 의하여 원격 또는 자동으로 개폐될 수 있다.
또한, 상기 레귤레이터(115) 및 압력계(114, 172) 역시 상기 모니터링 장치에 연결되어 있어서, 상기 모니터링 장치를 통해 해당 정보가 검출될 수 있다. 또한, 상기 레귤레이터(115), 압력계(114, 172) 및 이상 정보가 감지될 수 있는 장소에는 가스누출 감지센서 또는 이상작동 여부 감지센서 등이 구비될 수 있고, 상기 감지센서들로부터 감지된 정보들은 상기 모니터링 장치에 의해 모니터링 될 수 있으며, 상기 정보들에 의해 이상 징후가 발생된 경우에는, 상기 모니터링 장치에 의해 상기 밸브들(171, 123, 113, 141, 132, 131)이 개폐되므로써, 백업공급부(120)가 구동될 수 있다.
상술된 바와 같은 본 발명에 따른 가스분배 공급장치는, 가스를 주로 공급하는 메인공급부 상의 일부 구성부품에 문제가 발생하여도 메인공급부의 메인공급라인을 우회하여 각 공정 챔버에 원활하게 공정가스를 공급할 수 있으므로, 전자소재 제조공정을 지속적으로 유지시켜 생산성을 향상시킬 수 있다는 우수한 효과가 있다.
즉, 본 발명은 가스분배 공급장치 중 어느 하나의 부품에 문제가 발생된 경우라도 가스를 지속적으로 공급할 수 있다는 우수한 효과가 있다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.
Claims (11)
- 메인 유입 밸브에 의해 가스봄베로부터 유출되는 공정가스를 공급 또는 차단하기 위한 가스 공급부와;상기 가스 공급부로부터 공급되는 공정가스를 서로 다른 경로로 전환하여 공급하기 위한 전환 밸브부와;상기 전환 밸브부에서 공급되는 공정가스를 각 공정 챔버에 분산 공급하기 위한 메인공급부와;상기 메인공급부의 이상 발생 시 공정가스를 각각의 공정 챔버로 우회하여 분산 공급하기 위하여 상기 전환 밸브부로부터 분기되어 상기 공정 챔버와 연결되는 백업공급부와;상기 전환 밸브부, 메인공급부, 백업공급부에 포함된 밸브들 중 적어도 어느 하나의 개폐 동작을 제어하기 위한 모니터링 장치를 포함하는 가스분배 공급장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 백업공급부는,상기 전환 밸브부로부터 분기되어, 상기 공정챔버와 상기 메인공급부 사이에 연결되는 것을 특징으로 하는 가스분배 공급장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 메인공급부는,상기 전환밸브부와 연결되어 있는 메인공급라인과;상기 메인공급라인으로부터 분기되어 각 공정챔버와 연결되어 있는 메인분산공급라인들을 포함하며,상기 메인분산공급라인들 각각은,상기 메인분산공급라인으로의 공정가스 유입을 단속하기 위한 메인공정밸브(MV2)와;상기 메인공정밸브를 통해 공급되는 공정가스의 압력을 조절하기 위한 레귤레이터(REG); 및상기 레귤레이터에 의해 조절된 공정가스의 압력을 측정하기 위한 제2 압력계(M2)를 포함하는 가스분배 공급장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 백업공급부는,상기 전환 밸브부로부터 분기되어, 상기 메인공정밸브와 레귤레이터 사이의 상기 메인분산공급라인에 연결되는 것을 특징으로 하는 가스분배 공급장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 전환밸브부는,상기 메인공급부로의 공정가스 유입을 단속하는 제1 전환밸브; 및상기 백업공급부로의 공정가스 유입을 단속하는 제2 전환밸브를 포함하는 가스분배 공급장치.
- 제 1 항에 있어서,백업공급부는,상기 전환밸브부와 연결되어 있는 백업공급라인과;상기 백업공급라인으로부터 분기되어 각 공정챔버와 연결되어 있는 백업분산공급라인; 및상기 백업분산공급라인에 형성되어 공급가스의 유입을 선택적으로 단속하기 위한 백업공정밸브를 포함하는 가스분배 공급장치.
- 제 6 항에 있어서,상기 메인공급부는, 상기 전환밸브부와 연결되어 있는 메인공급라인과 상기 메인공급라인으로부터 분기되어 각 공정챔버와 연결되어 있는 메인분산공급라인들을 포함하고,상기 메인분산공급라인들 각각은, 상기 메인분산공급라인으로의 공정가스 유입을 단속하기 위한 메인공정밸브(MV2)와; 상기 메인공정밸브를 통해 공급되는 공정가스의 압력을 조절하기 위한 레귤레이터(REG)와 상기 레귤레이터에 의해 조절된 공정가스의 압력을 측정하기 위한 제2 압력계(M2)를 포함하는 가스분배 공급장치.
- 제 7 항에 있어서,상기 백업분산공급라인은,상기 백업공급라인으로부터 분기되어, 상기 공정챔버와 상기 메인공급부 사이의 상기 메인분산공급라인에 연결되는 것을 특징으로 하는 가스분배 공급장치.
- 제 7 항에 있어서,상기 백업분산공급라인은,상기 백업공급라인으로부터 분기되어, 상기 메인공정밸브와 레귤레이터 사이의 상기 메인분산공급라인에 연결되는 것을 특징으로 하는 가스분배 공급장치.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,상기 전환 밸브부, 메인공급부, 백업공급부 중 적어도 어느 하나에는 가스 누출을 감지하기 위한 가스누출 감지센서가 부착되어 있으며, 상기 가스누출 감지센서에 의해 감지된 정보는 상기 모니터링 장치에 의해 모니터링 되는 것을 특징으로 하는 가스분배 공급장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060090234A KR101275890B1 (ko) | 2006-09-18 | 2006-09-18 | 가스분배 공급장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060090234A KR101275890B1 (ko) | 2006-09-18 | 2006-09-18 | 가스분배 공급장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080025575A KR20080025575A (ko) | 2008-03-21 |
KR101275890B1 true KR101275890B1 (ko) | 2013-06-14 |
Family
ID=39413358
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060090234A KR101275890B1 (ko) | 2006-09-18 | 2006-09-18 | 가스분배 공급장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101275890B1 (ko) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6370630B2 (ja) * | 2014-07-31 | 2018-08-08 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 気相成長装置および気相成長方法 |
JP6370198B2 (ja) * | 2014-11-07 | 2018-08-08 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 気相成長装置および気相成長方法 |
US20230274915A1 (en) * | 2020-08-21 | 2023-08-31 | Lam Research Corporation | Solenoid bank with standby solenoid valves for controlling pneumatic valves of a substrate processing system |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010073407A (ko) * | 2000-01-14 | 2001-08-01 | 김재욱 | 반도체 제조용 가스 공급라인 |
JP2003286574A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-10 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置および基板処理方法 |
-
2006
- 2006-09-18 KR KR1020060090234A patent/KR101275890B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010073407A (ko) * | 2000-01-14 | 2001-08-01 | 김재욱 | 반도체 제조용 가스 공급라인 |
JP2003286574A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-10 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置および基板処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080025575A (ko) | 2008-03-21 |
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