KR100536172B1 - Wet station - Google Patents
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Abstract
본 발명은 습식 세정 장치에 관한 것으로, 약액이 저장된 약액 공급원; 상기 약액 공급원으로부터 약액을 공급받는 처리조; 상기 약액 공급원으로부터 상기 처리조로 약액을 공급하는 약액 공급관; 및 상기 처리조에 채워진 약액 부족시 상기 약액 공급원으로부터 상기 처리조로 약액을 보충하는 약액 보충관을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 기존의 측량 탱크를 설비할 필요가 없으므로 점유 면적이 줄어들어 공간 활용성이 향상된다. 또한, 약액의 교환주기를 고려하여 약액을 공급하는 각 구성요소를 간략히함으로써 최적의 조합으로 동일한 성능을 구현하면서 설비의 원가를 낮추는 효과가 있다.The present invention relates to a wet cleaning apparatus, comprising: a chemical liquid source in which a chemical liquid is stored; A treatment tank receiving the chemical liquid from the chemical liquid source; A chemical liquid supply pipe for supplying a chemical liquid from the chemical liquid supply source to the treatment tank; And a chemical liquid replenishment tube for replenishing the chemical liquid from the chemical liquid supply source to the treatment tank when the chemical liquid is insufficiently filled in the treatment tank. According to the present invention, it is not necessary to equip the existing survey tank, the occupied area is reduced and the space utilization is improved. In addition, by simplifying each component supplying the chemical solution in consideration of the exchange period of the chemical solution has the effect of lowering the cost of the facility while implementing the same performance in the optimum combination.
Description
본 발명은 습식 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 구성이 간략화되고 약액 공급 방식이 개선된 습식 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a wet cleaning device, and more particularly, to a wet cleaning device with a simplified configuration and improved chemical liquid supply.
반도체 제조시 실리콘 웨이퍼와 같은 기판 표면으로의 감광막 도포와 식각 공정 등을 수회 진행하는 것이 일반적이다. 이경우, 이물질로 인해 기판 표면은 오염될 수 있다. 따라서, 오염원인 이물질을 제거하기 위해 기판에 대해 세정 공정을 진행하는 것은 필수적이라 할 수 있다. 이러한 세정 공정은 약액이 담겨진 세정조(bath)에 기판을 넣어 이물질을 제거하는 방식이 널리 쓰이고 있다. 이러한 세정 공정은 주지된 바와 같이 세정유닛을 포함하는 일련의 처리를 위한 복수의 처리유닛을 구비한 습식 세정 장치에 의해 행하여지고 있다.In semiconductor manufacturing, it is common to proceed several times with the photosensitive film application | coating to the surface of a board | substrate like a silicon wafer, an etching process, etc. In this case, foreign matter may contaminate the substrate surface. Therefore, it may be necessary to proceed with the cleaning process for the substrate to remove the foreign matter that is a contamination. In this cleaning process, a method of removing foreign substances by putting a substrate in a cleaning bath containing a chemical liquid is widely used. This washing process is performed by the wet washing apparatus provided with the some process unit for a series of processes containing a washing unit as well known.
습식 세정 장치에 있어서 약액중앙공급장치에서 처리조까지의 종래의 약액공급은 별도의 측량 탱크(Measuring Tank)를 통해 약액을 공급받고 2차적으로 처리조로 공급하는 방식을 사용하여 왔다. 과수(H2O2)와 황산(H2SO4)을 약액으로 사용하는 카로(CARO) 방식의 습식 세정 장치, 특히 2개의 처리조를 병행하는 사용하는 예를 도 1을 참조하여 설명하면 다음과 같다.In the wet cleaning apparatus, the conventional chemical liquid supply from the chemical liquid central supply apparatus to the treatment tank has been used in a manner in which the chemical liquid is supplied through a separate measuring tank and secondly supplied to the treatment tank. Referring to FIG. 1, an example of using a CARO wet scrubber using fruit water (H 2 O 2 ) and sulfuric acid (H 2 SO 4 ) as a chemical solution, in particular, using two treatment tanks in parallel is as follows. Same as
도 1을 참조하면, 과수(H2O2)는 먼저 공급원(10)에서부터 투입관(12,12a)을 통해 공급되어 측량 탱크(30,30a)에 저장된 다음, 공급관(14,14a)을 통해 처리조(50,50a)로 공급된다. 그리고, 과수는 별도의 보충관(16,16a)을 통해 처리조(50,50a)로 보충된다. 황산(H2SO4)의 경우도 마찬가지로 공급원(20)으로부터 투입관(22,22a)을 통해 측량 탱크(40,40a)에 일단 저장된 다음, 공급관(24,24a)을 통해 처리조(50,50a)로 공급되어 과수와 혼합된다. 또한, 별도의 보충관(26,26a)를 통해 처리조(50,50a)로 보충된다. 여기서, 측량 탱크는 약액 공급의 적절한 시기와 적절한 양을 위해 마련된 것으로, 버퍼 탱크의 역할을 하는 것이다.Referring to FIG. 1, the fruit tree H 2 O 2 is first supplied from the supply source 10 through the input pipes 12 and 12a and stored in the measurement tanks 30 and 30a, and then through the supply pipes 14 and 14a. It is supplied to the processing tanks 50 and 50a. The fruit tree is replenished with treatment tanks 50 and 50a through separate replenishment tubes 16 and 16a. Sulfuric acid (H 2 SO 4 ) is similarly stored once in the measurement tanks 40 and 40a from the supply source 20 through the input pipes 22 and 22a, and then through the supply pipes 24 and 24a. 50a) and mixed with fruit trees. In addition, it is replenished to the treatment tank (50, 50a) through separate supplement pipes (26, 26a). Here, the measurement tank is provided for the appropriate timing and the appropriate amount of the chemical liquid supply, and serves as a buffer tank.
그런데, 종래 카로(CARO) 방식의 습식 세정 장치와 같이 약액의 수가 2개이라면 측량 탱크는 적어도 2개가 필요하다. 그리고, 약액의 측량 탱크로의 투입관도 2개 필요하며, 약액이 처리조로 공급되기 위한 공급관도 2개가 필요하다. 따라서, 상술한 바와 같이 처리조가 2개인 구조인 경우 2개의 측량 탱크와 2개의 투입관 및 2개의 공급관이 필요하다. 과수(H2O2)와 수산화암모늄(NH4OH)과 순수(DIW)를 약액으로 사용하는 SC-1 방식의 습식 세정 장치의 경우에는 처리조에 순수(DIW)를 공급하는 공급관이 더 필요하다.However, if the number of chemical liquids is two, as in the conventional CARO wet cleaning apparatus, at least two measurement tanks are required. In addition, two input pipes to the measurement tank of the chemical liquid are also required, and two supply tubes for supplying the chemical liquid to the treatment tank are also required. Therefore, in the case of the structure having two treatment tanks as described above, two measurement tanks, two input pipes, and two supply pipes are required. In the case of the SC-1 type wet scrubber using the fruit water (H 2 O 2 ), ammonium hydroxide (NH 4 OH) and pure water (DIW) as the chemical solution, a supply pipe for supplying pure water (DIW) to the treatment tank is required. .
이와 같이, 종래의 습식 세정 장치에 있어서는 측량 탱크가 필요하고 측량 탱크로의 약액 투입관도 필요하였다. 특히, 기판을 처리하는 처리조가 복수개 병행 설치하는 경우에 각각의 약액 수량 만큼이나 측량 탱크와 투입관이 추가로 설치하여야 했다. 이에 따라, 설비의 복잡화 및 설비 원가가 높다는 문제점이 있었다.Thus, in the conventional wet washing | cleaning apparatus, a measurement tank was needed and the chemical liquid input pipe to the measurement tank was also needed. In particular, in the case where a plurality of treatment tanks for processing a substrate are installed in parallel, a measurement tank and an input pipe had to be additionally provided as much as the amount of each chemical liquid. Accordingly, there is a problem that the complexity of the facility and the cost of the facility is high.
이에 본 발명의 상기한 종래 기술상의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 구조가 간략화되고 약액 공급 방식이 개선된 습식 세정 장치를 제공함에 있다.In order to solve the above-mentioned problems of the prior art of the present invention, an object of the present invention is to provide a wet cleaning device with a simplified structure and improved chemical supply method.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 습식 세정 장치는 측량 탱크와 약액 투입 및 공급수단을 병행한 최적의 조합으로 동일한 성능을 실현하는 것을 특징으로 한다.The wet cleaning device according to the present invention for achieving the above object is characterized in that the same performance is realized by an optimal combination of the measurement tank and the chemical liquid input and supply means.
상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명에 따른 습식 세정 장치는, 약액이 저장된 약액 공급원; 상기 약액 공급원으로부터 약액을 공급받는 처리조; 상기 약액 공급원으로부터 상기 처리조로 약액을 공급하는 약액 공급관; 및 상기 처리조에 채워진 약액 부족시 상기 약액 공급원으로부터 상기 처리조로 약액을 보충하는 약액 보충관을 포함하는 것을 특징으로 한다.Wet cleaning apparatus according to the present invention that can implement the above features, the chemical solution source is stored chemical solution; A treatment tank receiving the chemical liquid from the chemical liquid source; A chemical liquid supply pipe for supplying a chemical liquid from the chemical liquid supply source to the treatment tank; And a chemical liquid replenishment tube for replenishing the chemical liquid from the chemical liquid supply source to the treatment tank when the chemical liquid is insufficiently filled in the treatment tank.
이 실시예에 있어서, 상기 약액 공급관은 적어도 두 개의 가지로 분기되어 적어도 두 개의 처리조로 동일한 약액을 공급하고, 상기 적어도 두 개의 가지로 분기된 약액 공급관은 하나의 유동 제어기에 의해 약액의 유동이 제어된다. 상기 약액 보충관은 적어도 두 개의 가지로 분기되어 적어도 두 개의 처리조로 동일한 약액을 보충하고, 상기 적어도 두 개의 가지로 분기된 약액 보충관은 하나의 유동 제어기에 의해 약액의 유동이 제어된다.In this embodiment, the chemical liquid supply pipe is branched into at least two branches to supply the same chemical liquid to at least two processing tanks, and the chemical liquid supply pipe branched into the at least two branches is controlled by one flow controller. do. The chemical liquid supplement tube is branched into at least two branches to supplement the same chemical liquid with at least two treatment tanks, and the chemical liquid supplement tube branched into the at least two branches is controlled by one flow controller.
본 발명의 구체적인 실시예에 있어서, 상기 약액 공급원은, 황산을 공급하는 황산 공급원과, 과수를 공급하는 과수 공급원을; 상기 처리조는, 상기 황산 공급원과 상기 과수 공급원으로부터 각각 황산과 과수를 공급받는 제1처리조와, 상기 황산 공급원과 상기 과수 공급원으로부터 각각 황산과 과수를 공급받는 제2처리조를; 상기 약액 공급관은, 상기 황산 공급원과 상기 과수 공급원으로부터 상기 제1처리조로 황산과 과수를 각각 공급하는 제1 황산 공급관과 제1 과수 공급관을, 상기 황산 공급원과 상기 과수 공급원으로부터 상기 제2처리조로 황산과 과수를 각각 공급하는 제2 황산 공급관과 제2 과수 공급관을; 상기 약액 보충관은, 상기 황산 공급원과 상기 과수 공급원으로부터 상기 제1처리조로 황산과 과수를 각각 보충하는 제1 황산 보충관과 제1 과수 보충관을, 상기 황산 공급원과 상기 과수 공급원으로부터 상기 제2처리조로 황산과 과수를 각각 보충하는 제2 황산 보충관과 제2 과수 보충관을 포함하는 것을 특징으로 한다.In a specific embodiment of the present invention, the chemical liquid supply source, a sulfuric acid source for supplying sulfuric acid, and a fruit tree supply source for supplying fruit water; The treatment tank includes a first treatment tank for receiving sulfuric acid and fruit water from the sulfuric acid source and the fruit water source, and a second treatment tank for receiving sulfuric acid and fruit water from the sulfuric acid source and the fruit water source, respectively; The chemical liquid supply pipe includes a first sulfuric acid supply pipe and a first fruit water supply pipe for supplying sulfuric acid and fruit water to the first treatment tank from the sulfuric acid source and the fruit tree source, respectively, and the sulfuric acid from the sulfuric acid source and the fruit tree to the second treatment tank. A second sulfuric acid supply pipe and a second fruit water supply pipe for supplying fruit and fruit; The chemical liquid replenishment tube includes a first sulfuric acid replenishment tube and a first fruit orchard reinforcement tube respectively replenishing sulfuric acid and fruit water from the sulfuric acid source and the fruit tree source to the first treatment tank. It characterized in that it comprises a second sulfuric acid supplement tube and a second fruit orchard supplement tube to respectively supplement the sulfuric acid and fruit water to the treatment tank.
여기서, 상기 제1 및 제2 황산 공급관, 상기 제1 및 제2 황산 보충관, 상기 제1 및 제2 과수 공급관, 그리고 상기 제1 및 제2 과수 보충관은 각각 하나의 유동 제어기에 의해 약액의 유동이 제어된다. 상기 황산 공급원과, 상기 제1 및 제2처리조 사이에 하나의 황산 버퍼 탱크를 더 포함하고, 상기 황산 공급원과 상기 황산 버퍼 탱크 사이에 황산을 투입하는 하나의 황산 투입관을 더 포함한다.The first and second sulfuric acid supply pipes, the first and second sulfuric acid supplement pipes, the first and second fruit water supply pipes, and the first and second fruit water supply pipes may each be separated by one flow controller. The flow is controlled. A sulfuric acid buffer tank is further included between the sulfuric acid source and the first and second treatment tanks, and the sulfuric acid source tube and the sulfuric acid buffer tank further include one sulfuric acid inlet tube.
본 발명의 다른 구체적인 실시예는, 상기 약액 공급원은, 수산화암모늄을 공급하는 수산화암모늄 공급원과, 과수를 공급하는 과수 공급원과, 탈이온수를 공급하는 탈이온수 공급원을; 상기 처리조는, 상기 수산화암모늄 공급원과 상기 과수 공급원과 상기 탈이온수 공급원으로부터 각각 수산화암모늄과 과수와 탈이온수를 공급받는 제1처리조와, 상기 수산화암모늄 공급원과 상기 과수 공급원과 상기 탈이온수 공급원으로부터 각각 수산화암모늄과 과수와 탈이온수를 공급받는 제2처리조를; 상기 약액 공급관은, 상기 수산화암모늄 공급원과 상기 과수 공급원과 상기 탈이온수 공급원으로부터 상기 제1처리조로 수산화암모늄과 과수와 탈이온수를 각각 공급하는 제1 수산화암모늄 공급관과 제1 과수 공급관과 제1 탈이온수 공급관을, 상기 수산화암모늄 공급원과 상기 과수 공급원과 상기 탈이온수 공급원으로부터 상기 제2처리조로 수산화암모늄과 과수와 탈이온수를 각각 공급하는 제2 수산화암모늄 공급관과 제2 과수 공급관과 제2 탈이온수 공급관을; 상기 약액 보충관은, 상기 수산화암모늄 공급원과 상기 과수 공급원으로부터 상기 제1처리조로 수산화암모늄과 과수를 각각 보충하는 제1 수산화암모늄 보충관과 제1 과수 보충관을, 상기 수산화암모늄 공급원과 상기 과수 공급원으로부터 상기 제2처리조로 수산화암모늄과 과수를 각각 보충하는 제2 수산화암모늄 보충관과 제2 과수 보충관을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another specific embodiment of the present invention, the chemical liquid source may include an ammonium hydroxide source for supplying ammonium hydroxide, a fruit water source for supplying fruit water, and a deionized water source for supplying deionized water; The treatment tank includes a first treatment tank which receives ammonium hydroxide, fruit water and deionized water from the ammonium hydroxide source, the fruit water source and the deionized water source, and the hydroxide from the ammonium hydroxide source, the permeate source and the deionized water source, respectively. A second treatment tank supplied with ammonium, fruit water and deionized water; The chemical liquid supply pipe includes a first ammonium hydroxide supply pipe, a first permeate supply pipe, and a first deionized water for supplying ammonium hydroxide, permeate, and deionized water from the ammonium hydroxide source, the permeate source, and the deionized water source to the first treatment tank, respectively. A second ammonium hydroxide supply pipe, a second permeate supply pipe and a second deionized water supply pipe which supply ammonium hydroxide, permeate and deionized water, respectively, from the ammonium hydroxide source, the permeate source and the deionized water source to the second treatment tank; ; The chemical liquid replenishment tube includes a first ammonium hydroxide replenishment tube and a first fruit orchard replenishment tube each supplementing ammonium hydroxide and fruit water from the ammonium hydroxide source and the fruit tree source to the first treatment tank. The ammonium hydroxide source and the fruit tree source It characterized in that it comprises a second ammonium hydroxide supplemental tube and a second fruit tree supplemental tube for replenishing ammonium hydroxide and fruit water from the second treatment tank.
여기서, 상기 제1 및 제2 수산화암모늄 공급관, 상기 제1 및 제2 수산화암모늄 보충관, 상기 제1 및 제2 과수 공급관, 상기 제1 및 제2 과수 보충관, 그리고 상기 제1 및 제2 탈이온수 공급관은 각각 하나의 유동 제어기에 의해 약액 유동의 제어된다.Here, the first and second ammonium hydroxide supply pipe, the first and second ammonium hydroxide supplement pipe, the first and second fruit water supply pipe, the first and second fruit water supply pipe, and the first and second deaeration The ionized water supply pipes are each controlled for chemical liquid flow by one flow controller.
본 발명에 따른 습식 세정 장치에 의하면, 기존의 측량 탱크를 설비할 필요가 없으므로 점유 면적이 줄어들어 공간 활용성이 향상된다. 또한, 약액의 교환주기를 고려하여 약액을 공급하는 각 구성요소를 간략히함으로써 최적의 조합으로 동일한 성능을 구현하면서 설비의 원가를 낮추는 효과가 있다.According to the wet cleaning device according to the present invention, since the existing survey tank does not need to be installed, the occupied area is reduced and space utilization is improved. In addition, by simplifying each component supplying the chemical solution in consideration of the exchange period of the chemical solution has the effect of lowering the cost of the facility while implementing the same performance in the optimum combination.
이하, 본 발명에 따른 습식 세정 장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a wet cleaning apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명과 종래 기술과 비교한 이점은 첨부된 도면을 참조한 상세한 설명과 특허청구범위를 통하여 명백하게 될 것이다. 특히, 본 발명에 따른 반도체 소자의 제조 장치는 특허청구범위에서 잘 지적되고 명백하게 청구된다. 그러나, 본 발명에 따른 반도체 소자의 제조 장치는 첨부된 도면과 관련해서 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다. 도면에 있어서 동일한 참조부호는 다양한 도면을 통해서 동일한 구성요소를 나타낸다.Advantages over the present invention and prior art will become apparent through the description and claims with reference to the accompanying drawings. In particular, a device for manufacturing a semiconductor device according to the present invention is well pointed out and claimed in the claims. However, the apparatus for manufacturing a semiconductor device according to the present invention can be best understood by referring to the following detailed description with reference to the accompanying drawings. Like reference numerals in the drawings denote like elements throughout the various drawings.
(제1실시예)(First embodiment)
도 2를 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 습식 세정 장치는 약액 공급원(100,200)과 처리조(500,500a)을 포함한다. 여기서, 이들 공급원(100,200) 중에서 어느 하나의 공급원(100)은 약액으로서 황산(H2SO4)을 공급하고, 다른 하나의 공급원(200)은 약액으로서 과수(H2O2)를 공급하여 기판에 묻어있는 유기물이나 감광막을 제거하는 카로(CARO) 방식의 습식 세정 장치(WET STATION)를 본 발명의 실시예로서 설명한다. 그리고, 동일한 약액으로 기판을 처리하는 2개의 처리조(500,500a)가 병행 구성되고, 외조(510,510a)가 구비된 예를 설명한다.2, the wet cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention includes a chemical solution source (100,200) and the treatment tank (500,500a). Here, any one of these sources 100 and 200 may supply sulfuric acid (H 2 SO 4 ) as a chemical liquid, and the other source 200 may supply fruit water (H 2 O 2 ) as a chemical liquid to the substrate. The wet cleaning apparatus (CARO) type wet cleaning apparatus (WET STATION) which removes the organic substance and the photosensitive film which adhere | attaches on is demonstrated as an Example of this invention. Next, an example in which two processing tanks 500 and 500a for processing a substrate with the same chemical liquid are configured in parallel, and outer tanks 510 and 510a are provided will be described.
황산 공급원(100)은 각 처리조(500,500a)로 황산을 공급하는데, 황산 공급원(100)과 처리조(500,500a) 사이에는 각 처리조(500,500a)별로 따로이 황산을 공급하는 공급관(140,140a)이 마련된다. 따라서, 공급관(140,140a) 중에서 좌측의 공급관(140;제1황산공급관)은 좌측의 처리조(500;제1처리조)로, 우측의 공급관(140a;제2황산공급관)은 우측의 처리조(500a;제2처리조)로 황산을 공급한다. 그리고, 각 공급관(140,140a)에는 밸브(142,142a)가 각각 설치되어 있어 황산 공급 여부와 공급량을 조절할 수 있다.The sulfuric acid source 100 supplies sulfuric acid to each treatment tank 500 and 500a, and the supply pipe 140 and 140a supplies sulfuric acid separately for each treatment tank 500 and 500a between the sulfuric acid source 100 and the treatment tank 500 and 500a. ) Is provided. Accordingly, the supply pipe 140 (the first sulfuric acid supply pipe) on the left side of the supply pipes 140 and 140a is the treatment tank 500 (the first treatment tank) on the left side, and the supply pipe 140a (the second sulfuric acid supply pipe) on the right side is the right treatment tank. Sulfuric acid is supplied to (500a; second treatment tank). In addition, valves 142 and 142a are installed in the supply pipes 140 and 140a, respectively, to control the supply and supply of sulfuric acid.
과수 공급원(200)은 각 처리조(500,500a)로 과수를 공급한다. 과수 공급원(200)과 각 처리조(500,500a) 사이에는 과수를 공급하는 공급관(240,240a)이 처리조(500,500a)별로 따로 마련된다. 이에 따라, 공급관(240,240a) 중에서 좌측의 공급관(240;제1과수공급관)은 좌측의 제1처리조(500)로, 우측의 공급관(240a;제2과수공급관)은 우측의 제2처리조(500a)로 과수를 공급한다. 그리고, 각 공급관(240,240a)에는 밸브(242,242a)가 각각 설치되어 있어 과수 공급 여부와 공급량을 조절할 수 있다.The fruit tree supply source 200 supplies the fruit tree to each treatment tank 500 and 500a. Between the fruit feed source 200 and each treatment tank 500, 500a, supply pipes 240 and 240a for supplying fruit water are separately provided for each treatment tank 500 and 500a. Accordingly, the supply pipe 240 on the left side of the supply pipes 240 and 240a is the first treatment tank 500 on the left side, and the supply pipe 240a on the right side is the second treatment tank on the right side. Feed the fruit tree at 500a. In addition, valves 242 and 242a are installed in the supply pipes 240 and 240a, respectively, to control whether or not the fruit water is supplied.
한편, 기판에 대한 세정 처리가 진행되는 경우 황산과 과수의 소모에 의해 처리조(500,500a) 내에 채워진 황산과 과수는 그 양이 부족하게 될 수 있다. 그러므로, 부족해진 약액의 보충을 위하여 황산은 제1황산보충관(160)과 제2황산보충관(160a)에 의해 제1외조(510)와 제2외조(510a)로 각각 보충된다. 각 황산보충관(160,160a)에는 각각 밸브(162,162a)가 마련되어 있어서 황산의 보충여부와 보충량이 조절된다. 과수의 경우도 황산의 경우와 마찬가지로 제1과수보충관(260)과 제2과수보충관(260a)에 의해 제1외조(510)와 제2외조(510a)로 각각 보충된다. 각 과수보충관(260,260a)에는 각각 밸브(262,262a)가 마련되어 있어서 과수의 보충여부와 보충량이 조절된다.On the other hand, when the cleaning process for the substrate is in progress, sulfuric acid and fruit trees filled in the treatment tank (500, 500a) by the consumption of sulfuric acid and fruit water may be insufficient. Therefore, sulfuric acid is replenished into the first outer tank 510 and the second outer tank 510a by the first sulfuric acid supplement pipe 160 and the second sulfuric acid supplement pipe 160a to supplement the insufficient chemical solution. Valves 162 and 162a are provided in the sulfuric acid supplement pipes 160 and 160a, respectively, to control whether or not sulfuric acid is replenished. In the case of fruit trees, the first fruit tank 260 and the second fruit tank 260a are supplemented with the first tank 510 and the second tank 510a as in the case of sulfuric acid, respectively. Valves 262 and 262a are provided in the fruit filling pipes 260 and 260a, respectively, to control whether the fruit is replenished and the amount of replenishment.
습식 세정 장치에는 약액의 유동량을 확인하고 적절하게 제어할 수 있는 질량 유동 제어기(MFC)가 더 포함되어 구성될 수 있다. 따라서, 황산이 공급되고 보충되는 경우 그 유동량을 각각 제어하는 질량 유동 제어기(104,106)가 마련될 수 있다. 구체적으로, 제1 황산 공급관(140)과 제2 황산 공급관(140a) 모두는 하나의 질량 유동 제어기(104)에 의해 황산 유동량이 제어되고, 제1 황산 보충관(160)과 제2 황산 보충관(160a) 모두는 하나의 질량 유동 제어기(106)에 의해 황산 유동량이 제어된다. 과수의 경우도 마찬가지로 질량 유동 제어기(204,206)가 마련될 수 있다. 구체적으로, 제1 과수 공급관(240)과 제2 과수 공급관(240a) 모두는 하나의 질량 유동 제어기(204)에 의해 과수 유동량이 제어되고, 제1 과수 보충관(260)과 제2 과수 보충관(260a) 모두는 하나의 질량 유동 제어기(206)에 의해 과수 유동량이 제어된다.The wet cleaning apparatus may further include a mass flow controller (MFC) capable of checking and appropriately controlling the flow rate of the chemical liquid. Thus, mass flow controllers 104 and 106 may be provided that control the flow amount, respectively, when sulfuric acid is supplied and replenished. Specifically, both the first sulfuric acid supply pipe 140 and the second sulfuric acid supply pipe 140a are controlled by the mass flow controller 104 to control the amount of sulfuric acid flow, and the first sulfuric acid supplement pipe 160 and the second sulfuric acid supplement pipe 140 are respectively. All of 160a are sulfuric acid flow controlled by one mass flow controller 106. In the case of fruit trees, mass flow controllers 204 and 206 may likewise be provided. Specifically, both the first fruit feed pipe 240 and the second fruit feed pipe 240a are controlled by the mass flow controller 204, and the amount of fruit flow is controlled by the first fruit feed pipe 260 and the second fruit feed pipe. All of the 260a are controlled by the mass flow controller 206 to control the amount of excess flow.
상술한 바와 같이, 종래와 달리 약액의 측량 탱크와 약액 투입관 없이 구성된 본 발명에 따른 습식 세정 장치는 다음과 같이 동작한다.As described above, unlike the conventional method, the wet cleaning apparatus according to the present invention configured without the measurement tank and the chemical injection tube of the chemical liquid operates as follows.
우선 메인 밸브(102)의 개방으로써 황산은 황산공급원(100)으로부터 처리조(500,500a)로 공급되어진다. 특히, 황산은 2개로 분기되고 밸브(142,142a)가 개방된 제1황산공급관(140)과 제2황산공급관(140a)을 지나친 다음 제1처리조(500)와 제2처리조(500a)로 각각 공급된다. 이와 병행하여, 메인 밸브(202)의 개방으로써 과수는 과수공급원(200)으로부터 처리조(500,500a)로 공급되어진다. 황산의 경우와 마찬가지로, 2개로 분기되고 밸브(242,242a)가 개방된 제1과수공급관(240)과 제2과수공급관(240a)을 통해 제1처리조(500)와 제2처리조(500a)로 각각 공급되어 황산과 혼합된다. 황산과 과수가 혼합된 처리조(500,500a) 내에선 기판에 대한 세정 처리가 행해진다.First, sulfuric acid is supplied from the sulfuric acid supply source 100 to the treatment tanks 500 and 500a by opening the main valve 102. Particularly, sulfuric acid passes through the first sulfuric acid supply pipe 140 and the second sulfuric acid supply pipe 140a, which are branched into two and the valves 142 and 142a are opened, and then, into the first treatment tank 500 and the second treatment tank 500a. Each is supplied. In parallel with this, the fruit water is supplied from the fruit water supply source 200 to the treatment tanks 500 and 500a by opening the main valve 202. As in the case of sulfuric acid, the first treatment tank 500 and the second treatment tank 500a through the first fruit water supply pipe 240 and the second fruit water supply pipe 240a branched into two and the valves 242 and 242a are opened. Each is fed with sulfuric acid. In the treatment tank 500, 500a in which sulfuric acid and fruit water are mixed, the substrate is cleaned.
기판에 대한 세정 처리시 약액은 처리조(500,500a)를 넘어서 외조(510,510a)로 흘러넘치게 된다. 흘러넘친 약액은, 도면에는 도시하지 않았지만, 필터와 펌프와 히터 등으로 이루어진 순환 시스템에 의해 다시 처리조(500,500a)로 되돌아와 채워진다. 이때, 외조(510,510a)에는 일종의 센서로써 약액의 부족 여부를 감지할 수 있다. 황산의 부족은 제1 및 제2황산보충관(160,160a)에 의해, 과수의 부족은 제1 및 제2과수보충관(260,260a)에 의해 제1 및 제2외조(510,510a)로 각각 보충된다.In the cleaning process for the substrate, the chemical liquid overflows the treatment tanks 500 and 500a into the outer tanks 510 and 510a. Although not shown in the figure, the overflowed chemical liquid is returned to the treatment tank 500, 500a and filled again by a circulation system composed of a filter, a pump, a heater, and the like. At this time, the outer tank (510, 510a) as a kind of sensor can detect whether the lack of chemical. The shortage of sulfuric acid is supplemented by the first and second sulfuric acid supplement pipes 160 and 160a, and the shortage of fruit trees by the first and second fruit supplementary tubes 260 and 260a to the first and second outer tanks 510 and 510a, respectively. do.
카로 방식의 습식 세정 장치를 어느 한 건물내에 배치하는 경우 강산성의 황산이 저장된 황산 공급원은 건물 지하에 놓이는 것이 안전상 바람직하다. 따라서, 황산을 처리조에 공급하는 경우 고압의 질소 가스를 이용하여 황산을 지하에서부터 위층으로 끌어올리면서 처리조로 공급한다. 그런데, 황산은 여타의 약액에 비해 비중과 점성이 상대적으로 매우 크므로 시기 적절한 황산의 공급이 방해받을 수 있는 여지가 매우 크다.When a caro wet type cleaning device is placed in a building, it is desirable for safety reasons that the sulfuric acid source containing strong acidic sulfuric acid is placed underground. Therefore, when sulfuric acid is supplied to the treatment tank, the sulfuric acid is supplied to the treatment tank while raising sulfuric acid from the basement to the upper layer using nitrogen gas under high pressure. However, sulfuric acid has a relatively large specific gravity and viscosity compared to other chemicals, so the timely supply of sulfuric acid can be hindered.
그러므로, 도 3에 도시된 바와 같이, 황산 공급원(100)과 처리조(500,500a) 사이에 황산 버퍼 탱크 역할을 하는 측량 탱크(400)를 더 구성할 수 있다. 측량 탱크(400)가 더 마련되어 있으므로 황산 공급원(100)으부터 측량 탱크(400)로 황산을 투입시킬 수 있는 황산 투입관(120)이 더 마련된다. 그리고, 황산 투입관(120)에는 황산의 투입여부와 투입량을 조절할 수 있는 밸브(122)가 배치된다. 이러한 예는 인산(H3PO4), 기타 비중이나 점성이 상대적으로 큰 약품을 약액으로 쓰는 예에서도 마찬가지이다. 측량 탱크(400)가 더 마련된다 하더라도 종래와 다르게 단 하나의 측량 탱크(400)만을 설비하여 2개의 처리조(500,500a)에 황산을 공급할 수 있다. 그 이외에는 도 2에 도시된 구성과 동일하므로 이에 대한 자세한 설명은 생략하기로 한다.Therefore, as shown in FIG. 3, a measurement tank 400 may be further configured to serve as a sulfuric acid buffer tank between the sulfuric acid source 100 and the treatment tanks 500 and 500a. Since the measurement tank 400 is further provided, a sulfuric acid inlet pipe 120 may be further provided to inject sulfuric acid from the sulfuric acid source 100 into the measurement tank 400. In addition, the sulfuric acid inlet tube 120 is disposed with a valve 122 that can adjust the input and the amount of sulfuric acid. The same is true of the case of using phosphoric acid (H 3 PO 4 ) and other relatively high specific gravity or viscous drugs as chemicals. Even though the measurement tank 400 is further provided, sulfuric acid may be supplied to the two treatment tanks 500 and 500a by installing only one measurement tank 400 unlike the conventional method. Other than that is the same as the configuration shown in Figure 2 so a detailed description thereof will be omitted.
(제2실시예)Second Embodiment
도 4를 참조하면, 본 발명의 제2실시예에 따른 습식 세정 장치는 약액 공급원(1000,2000,3000)과 처리조(5000,5000a)를 포함한다. 여기서, 이들 공급원(1000,2000,3000) 중에서 어느 하나의 공급원(1000)은 약액으로서 수산화암모늄(NH4OH)을 공급하고, 다른 하나의 공급원(2000)은 약액으로서 과수(H2O2 )를 공급하며, 나머지 다른 하나의 공급원(3000)은 탈이온수(DIW)를 공급하여 기판에 묻어있는 파티클을 제거하는 표준세정 1(Standard Cleaning 1) 방식의 습식 세정 장치(WET STATION)를 본 발명의 실시예로서 설명한다. 그리고, 동일한 약액으로 기판을 처리하는 2개의 처리조(5000,5000a)가 병행 구성되고, 외조(5100,5100a)가 구비된 예를 설명한다.Referring to FIG. 4, the wet cleaning apparatus according to the second embodiment of the present invention includes a chemical solution source 1000, 2000, 3000, and a treatment tank 5000, 5000a. Here, any one of these sources (1000, 2000, 3000), the source 1000 supplies ammonium hydroxide (NH 4 OH) as a chemical liquid, and the other source (2000) is a fruit liquid (H 2 O 2 ) The other source 3000 supplies a deionized water (DIW) to remove the particles on the substrate to the standard cleaning 1 (WET STATION) method of the present invention (WET STATION) of the present invention It demonstrates as an Example. Next, an example in which two processing tanks 5000 and 5000a for processing a substrate with the same chemical liquid are configured in parallel and the outer tanks 5100 and 5100a are provided will be described.
수산화암모늄 공급원(1000)은 각 처리조(5000,5000a)로 수산화암모늄을 공급한다. 수산화암모늄의 공급은 제1수산화암모늄공급관(1400)과 제2수산화암모늄공급관(1400a)에 의한다. 그리고, 각 공급관(1400,1400a)에는 밸브(1420,1420a)가 각각 설치되어 있어 황산 공급 여부와 공급량을 조절할 수 있다. 과수 공급원(2000)의 경우도 마찬가자리로 제1과수공급관(2400)과 제2과수공급관(2400a)에 의해 각 처리조(5000,5000a)로 과수를 공급한다. 과수의 공급은 한다. 또한, 각 공급관(2400,2400a)에는 밸브(2420,2420a)가 각각 설치되어 있어 과수 공급 여부와 공급량을 조절할 수 있다. 이와 마찬가지로, 탈이온수 공급원(3000)도 밸브(3420,3420a)가 각각 달린 제1탈이온수공급관(3400)과 제2탈이온수공급관(3400a)에 의해 각 처리조(5000,5000a)로 탈이온수를 공급한다. Ammonium hydroxide source 1000 supplies ammonium hydroxide to each treatment tank 5000,5000a. The supply of ammonium hydroxide is by the first ammonium hydroxide supply pipe 1400 and the second ammonium hydroxide supply pipe 1400a. In addition, valves 1420 and 1420a are installed in the supply pipes 1400 and 1400a, respectively, to control the supply and supply of sulfuric acid. In the case of the fruit supply source 2000, the fruit trees are supplied to the respective treatment tanks 5000 and 5000a by the first fruit supply pipe 2400 and the second fruit supply pipe 2400a. Feed the fruit. In addition, valves 2420 and 2420a are installed in the supply pipes 2400 and 2400a, respectively, to control whether or not the fruit water is supplied and the amount of supply. Similarly, the deionized water supply source 3000 also supplies deionized water to each treatment tank 5000, 5000a by the first deionized water supply pipe 3400 and the second deionized water supply pipe 3400a having the valves 3420 and 3420a, respectively. Supply.
한편, 기판에 대한 세정 처리가 진행되는 경우 약액의 소모에 의해 처리조(5000,5000a) 내에 채워진 약액은 그 양이 부족하게 될 수 있다. 그러므로, 부족해진 약액의 보충을 위하여 수산화암모늄은 제1수산화암모늄보충관(1600)과 제2수산화암모늄보충관(1600a)에 의해 각 외조(5100,5100a)로 보충된다. 각 수산화암모늄보충관(1600,1600a)에는 각각 밸브(1620,1620a)가 마련되어 있어서 수산화암모늄의 보충여부와 보충량이 조절된다. 과수의 경우도 마찬가지로 밸브(2620,2620a)가 각각 달린 제1과수보충관(2600)과 제2과수보충관(2600a)에 의해 각 외조(5100,5100a)로 보충된다. 그러나, 탈이온수의 경우는 다른 약액에 비해 그 혼합비율이 상대적으로 크므로 탈이온수 보충은 그리 필요하지 않다.Meanwhile, when the cleaning process is performed on the substrate, the amount of the chemical liquid filled in the treatment tank 5000, 5000a by the consumption of the chemical liquid may be insufficient. Therefore, ammonium hydroxide is replenished into the respective tanks 5100 and 5100a by the first ammonium hydroxide supplement tube 1600 and the second ammonium hydroxide supplement tube 1600a for replenishing the insufficient chemical solution. Each of the ammonium hydroxide supplement pipes 1600 and 1600a is provided with valves 1620 and 1620a, respectively, so that ammonium hydroxide replenishment and replenishment amount are adjusted. Similarly, in the case of fruit trees, each of the outer tanks 5100 and 5100a is replenished by the first fruit filling tube 2600 and the second fruit filling tube 2600a each having the valves 2620 and 2620a. However, in the case of deionized water, the mixing ratio is relatively large compared to other chemicals, so deionized water supplementation is not necessary.
습식 세정 장치에는 약액의 유동량을 확인하고 적절하게 제어할 수 있는 질량 유동 제어기(1040,1060,2040,2060,3040)가 더 포함되어 구성될 수 있다. 구체적으로, 2개의 수산화암모늄 공급관(1400,1400a)은 하나의 질량 유동 제어기(1040)에 의해, 2개의 수산화암모늄 보충관(1600,1600a)은 하나의 질량 유동 제어기(1060)에 의해 수산화암모늄 유동량이 제어된다. 과수의 경우도 마찬가지로, 2개의 과수 공급관(2400,2400a)은 하나의 질량 유동 제어기(2040)에 의해, 2개의 과수 보충관(2600,2600a)은 하나의 질량 유동 제어기(2060)에 의해 과수 유동량이 제어된다. 탈이온수의 경우도 마찬가지로, 2개의 탈이온수 공급관(3400,3400a)은 하나의 질량 유동 제어기(3040)에 의해 탈이온수 유동량이 제어된다.The wet cleaning apparatus may further include a mass flow controller 1040, 1060, 2040, 2060, and 3040 that may check and appropriately control the flow rate of the chemical liquid. Specifically, the two ammonium hydroxide supply pipes 1400 and 1400a are connected by one mass flow controller 1040, and the two ammonium hydroxide supply pipes 1600 and 1600a are connected by one mass flow controller 1060. This is controlled. Similarly, in the case of fruit water, the two fruit water supply pipes 2400 and 2400a are driven by one mass flow controller 2040, and the two fruit water supply pipes 2600 and 2600a are driven by one mass flow controller 2060. This is controlled. In the case of deionized water, the two deionized water supply pipes 3400 and 3400a control the flow of deionized water by one mass flow controller 3040.
상술한 바와 같이, 종래와 달리 약액의 측량 탱크와 약액 투입관 없이 구성된 본 발명에 따른 습식 세정 장치는 다음과 같이 동작한다.As described above, unlike the conventional method, the wet cleaning apparatus according to the present invention configured without the measurement tank and the chemical injection tube of the chemical liquid operates as follows.
우선 메인 밸브(1020)의 개방으로써 수산화암모늄은 수산화암모늄 공급원(1000)으로부터 2개로 분기되고 밸브(1420,1420a)가 개방된 제1수산화암모늄공급관(1400)과 제2수산화암모늄공급관(1400a)을 지나친 다음 제1처리조(5000)와 제2처리조(5000a)로 각각 공급된다. 이와 병행하여, 메인 밸브(2020)의 개방으로써 과수는 과수공급원(2000)으로부터 처리조(5000,5000a)로 공급되어진다. 수산화암모늄의 경우와 마찬가지로, 2개로 분기되고 밸브(2420,2420a)가 개방된 제1과수공급관(2400)과 제2과수공급관(2400a)을 통해 제1처리조(5000)와 제2처리조(5000a)로 각각 공급된다. 탈이온수도 마찬가지로 메인 밸브(3020)의 개방으로써 탈이온수 공급원(3000)으로부터 2개로 분기되고 밸브(3420,3420a)가 개방된 제1 및 제2 탈이온수공급관(3400,3400a)을 통해 제1처리조(5000)와 제2처리조(5000a)로 각각 공급되어 수산화암모늄과 과수와 혼합된다. 수산화암모늄과 과수 및 탈이온수가 혼합된 처리조(5000,5000a) 내에선 기판에 대한 세정 처리가 행해진다.First, by opening the main valve 1020, ammonium hydroxide is branched into two from the ammonium hydroxide source 1000 and the first ammonium hydroxide supply pipe 1400 and the second ammonium hydroxide supply pipe 1400a having the valves 1420 and 1420a open. Then, the excess is supplied to the first treatment tank 5000 and the second treatment tank 5000a, respectively. In parallel with this, the fruit water is supplied from the fruit water supply source 2000 to the treatment tanks 5000 and 5000a by opening the main valve 2020. As in the case of ammonium hydroxide, the first treatment tank 5000 and the second treatment tank through the first fruit water supply pipe 2400 and the second fruit water supply pipe 2400a branched into two and the valves 2420 and 2420a are opened. 5000a) respectively. Similarly, deionized water is first processed through the first and second deionized water supply pipes 3400 and 3400a branched into two from the deionized water source 3000 by opening the main valve 3020 and the valves 3420 and 3420a open. It is supplied to the tank 5000 and the second treatment tank 5000a, respectively, and mixed with ammonium hydroxide and fruit water. The substrate is cleaned in a treatment tank 5000, 5000a in which ammonium hydroxide, fruit water and deionized water are mixed.
기판에 대한 세정 처리시 수산화암모늄의 부족은 제1 및 제2 수산화암모늄보충관(1600,1600a)에 의해, 과수의 부족은 제1 및 제2 과수보충관(2600,2600a)에 의해 제1 및 제2 외조(5100,5100a)로 각각 보충된다.The deficiency of ammonium hydroxide in the cleaning process on the substrate is caused by the first and second ammonium hydroxide supplement tubes 1600, 1600a, and the lack of fruit tree by the first and second fruit filler tubes 2600, 2600a. It is supplemented with the 2nd outer tank 5100 and 5100a, respectively.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 그리고, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The foregoing detailed description illustrates the present invention. In addition, the foregoing description merely shows and describes preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. And, it is possible to change or modify within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, the scope equivalent to the written description, and / or the skill or knowledge in the art. The above-described embodiments are for explaining the best state in carrying out the present invention, the use of other inventions such as the present invention in other state known in the art, and the specific fields of application and uses of the present invention. Various changes are also possible. Accordingly, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed to include other embodiments.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 습식 세정 장치에 의하면, 기존의 측량 탱크를 설비할 필요가 없으므로 점유 면적이 줄어들어 공간 활용성이 향상된다. 또한, 약액의 교환주기를 고려하여 약액을 공급하는 각 구성요소를 간략히함으로써 최적의 조합으로 동일한 성능을 구현하면서 설비의 원가를 낮추는 효과가 있다.As described above in detail, according to the wet cleaning apparatus according to the present invention, since the existing survey tank does not need to be installed, the occupied area is reduced, thereby improving space utilization. In addition, by simplifying each component supplying the chemical solution in consideration of the exchange period of the chemical solution has the effect of lowering the cost of the facility while implementing the same performance in the optimum combination.
도 1은 종래 기술에 따른 습식 세정 장치를 도시한 구성도.1 is a block diagram showing a wet cleaning apparatus according to the prior art.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 습식 세정 장치를 도시한 구성도.Figure 2 is a block diagram showing a wet cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 제1실시예의 변경례에 따른 습식 세정 장치를 도시한 구성도.3 is a block diagram showing a wet cleaning apparatus according to a modification of the first embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 습식 세정 장치를 도시한 구성도.Figure 4 is a block diagram showing a wet cleaning apparatus according to a second embodiment of the present invention.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>
100; 황산 공급원 102; 황산 공급관의 메인밸브100; Sulfuric acid source 102; Main valve of sulfuric acid supply pipe
104,106; 황산의 질량 유동 제어기 120; 황산 투입관104,106; Mass flow controller 120 of sulfuric acid; Sulfuric acid injection tube
122; 황산 투입관의 밸브 140; 제1 황산 공급관122; Valve 140 of the sulfuric acid inlet pipe; 1st sulfuric acid supply pipe
142; 제1 황산 공급관의 밸브 140a; 제2 황산 공급관142; Valve 140a of the first sulfuric acid supply pipe; 2nd sulfuric acid supply pipe
142a; 제2 황산 공급관의 밸브 160; 제1 황산 보충관142a; Valve 160 of the second sulfuric acid supply pipe; 1st sulfuric acid supplement tube
162; 제1 황산 보충관의 밸브 160a; 제2 황산 보충관162; Valve 160a of the first sulfuric acid supplement pipe; 2nd sulfuric acid supplement tube
162a; 제2 황산 보충관의 밸브 200; 과수 공급원162a; The valve 200 of the second sulfuric acid supplement pipe; Fruit tree
202; 과수 공급관의 메인밸브 204,206; 과수의 질량 유동 제어기202; Main valves 204 and 206 of the fruit feed pipe; Fruit mass flow controller
240; 제1 과수 공급관 242; 제1 과수 공급관의 밸브240; First fruit feed pipe 242; Valve of the first fruit feed pipe
240a; 제2 과수 공급관 240a; 제2 과수 공급관의 밸브240a; Second fruit water supply pipe 240a; Valve of the second fruit feed pipe
260; 제1 과수 보충관 262; 제1 과수 보충관의 밸브260; First fruit supplement tube 262; Valve of the 1st fruit make-up pipe
260a; 제2 과수 보충관 262a; 제2 과수 보충관의 밸브260a; Second fruit filler tube 262a; Valve of the second fruit filler tube
400; 황산 측량 탱크 500; 제1처리조400; Sulfuric acid measurement tank 500; First treatment tank
510; 제1처리조의 외조 500a; 제2처리조510; Outer tank 500a of the first treatment tank; 2nd treatment tank
510a; 제2처리조의 외조510a; Outer tank of the second treatment tank
Claims (9)
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| KR10-2004-0036925A KR100536172B1 (en) | 2004-05-24 | 2004-05-24 | Wet station |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2004-0036925A KR100536172B1 (en) | 2004-05-24 | 2004-05-24 | Wet station |
Publications (2)
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Family
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| KR10-2004-0036925A KR100536172B1 (en) | 2004-05-24 | 2004-05-24 | Wet station |
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-
2004
- 2004-05-24 KR KR10-2004-0036925A patent/KR100536172B1/en not_active IP Right Cessation
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