JPS6242962A - アジドスルホニル安息香酸の製造法 - Google Patents
アジドスルホニル安息香酸の製造法Info
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- JPS6242962A JPS6242962A JP61189722A JP18972286A JPS6242962A JP S6242962 A JPS6242962 A JP S6242962A JP 61189722 A JP61189722 A JP 61189722A JP 18972286 A JP18972286 A JP 18972286A JP S6242962 A JPS6242962 A JP S6242962A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08C—TREATMENT OR CHEMICAL MODIFICATION OF RUBBERS
- C08C19/00—Chemical modification of rubber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/02—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof
- C07C303/22—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof from sulfonic acids, by reactions not involving the formation of sulfo or halosulfonyl groups; from sulfonic halides by reactions not involving the formation of halosulfonyl groups
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はアジドスルホニル安息香酸の製造法、そのよう
にして製造されたアジドスルホニル安息香酸、並びにエ
ラストマーにおけるカルボキシ化剤としてのその使用に
関する。
にして製造されたアジドスルホニル安息香酸、並びにエ
ラストマーにおけるカルボキシ化剤としてのその使用に
関する。
［ハウヘンーヴ工・イル（Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ）
＋ メトデン・デア・オルガニツクェン・ヘミ−（Ｍｅ
ｔｈｏｄｅｎｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅ
ｍｉｅ）、 Ｘ Ｉ ｊの第６５３頁から、クロロスル
ボニルベンゼンをナトリウムアジドと反応さセることに
よりあるいはヒドラジノスルボニルベンゼンを・ノート
リウムニトリルト反応させることにより、アジドスルホ
ニルベンゼンが製造されることが知られる。更に、［ジ
ェイ・ケム・ツク（Ｊ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、） （Ｃ）
、 １９６８ Ｊの第１１〜１６頁から、クロロス
ルホニル安息香酸をヒドラジン水和物とエタノール又は
ジオキサン中で低温例えば０℃にて反応させることによ
り、アジドスルホニル安息香酸が製造されることが知ら
れる。慎重なる酸性化及び一般に再結晶を行った後、対
応するヒドラジノスルホニル安息香酸が結晶として得ら
れる（これらのヒドラジノスルホニル安息香酸は、融点
において分解する。）。該ヒドラジノスルホニル安息香
酸は、対応するアジドスルホニル安息香酸に変換される
。
＋ メトデン・デア・オルガニツクェン・ヘミ−（Ｍｅ
ｔｈｏｄｅｎｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅ
ｍｉｅ）、 Ｘ Ｉ ｊの第６５３頁から、クロロスル
ボニルベンゼンをナトリウムアジドと反応さセることに
よりあるいはヒドラジノスルボニルベンゼンを・ノート
リウムニトリルト反応させることにより、アジドスルホ
ニルベンゼンが製造されることが知られる。更に、［ジ
ェイ・ケム・ツク（Ｊ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、） （Ｃ）
、 １９６８ Ｊの第１１〜１６頁から、クロロス
ルホニル安息香酸をヒドラジン水和物とエタノール又は
ジオキサン中で低温例えば０℃にて反応させることによ
り、アジドスルホニル安息香酸が製造されることが知ら
れる。慎重なる酸性化及び一般に再結晶を行った後、対
応するヒドラジノスルホニル安息香酸が結晶として得ら
れる（これらのヒドラジノスルホニル安息香酸は、融点
において分解する。）。該ヒドラジノスルホニル安息香
酸は、対応するアジドスルホニル安息香酸に変換される
。
アジドスルホニル安息香酸を製造するためのかかる方法
の不利な点は、有機溶媒例えばエタノール又はジオキサ
ンの使用、ヒドラジド中間体の再結晶による単離、二工
程法及びヒドラジンのモル過剰である。ナトリウムアジ
ドの使用の不利な点は、入手性が制限されること並びに
ナトリウムアジドが高価であることである。
の不利な点は、有機溶媒例えばエタノール又はジオキサ
ンの使用、ヒドラジド中間体の再結晶による単離、二工
程法及びヒドラジンのモル過剰である。ナトリウムアジ
ドの使用の不利な点は、入手性が制限されること並びに
ナトリウムアジドが高価であることである。
本発明の目的は、アジドスルホニル安息香酸を製造する
ためのはるかに簡単な方法を提供することである。
ためのはるかに簡単な方法を提供することである。
本発明は、アジドスルホニル安息香酸の製造法において
、クロロスルホニル安息香酸の水溶性塩を水性媒質中で
ヒドラジン（ＮｚＨａ）と反応させ、得られたヒドラジ
ノスルホニル安息香酸塩を同じ水性媒質中で亜硝酸と反
応させ、アジドスルホニル安息香酸塩を含む生じた水溶
液を酸性化してアジドスルホニル安息香酸を沈殿させ、
そしてアジドスルホニル安息香酸を分離する、ことを特
徴とする上記製造法に関する。本発明による方法は前記
二工程法よりもはるかに経済的である、ということがわ
かった。
、クロロスルホニル安息香酸の水溶性塩を水性媒質中で
ヒドラジン（ＮｚＨａ）と反応させ、得られたヒドラジ
ノスルホニル安息香酸塩を同じ水性媒質中で亜硝酸と反
応させ、アジドスルホニル安息香酸塩を含む生じた水溶
液を酸性化してアジドスルホニル安息香酸を沈殿させ、
そしてアジドスルホニル安息香酸を分離する、ことを特
徴とする上記製造法に関する。本発明による方法は前記
二工程法よりもはるかに経済的である、ということがわ
かった。
本発明による方法において出発化合物として用いられ得
るクロロスルホニル安息香酸は、一般式（ここで、−Ｃ
ＯＯＨ基は一３Ｏ２ＣＩ基に対してオハ用・、メタ又は
バラに位置し、Ｘはアルキル基、アルコキシ基、ニトロ
基、カルボキシル基、エステル基、ハロゲン又はヒドロ
キシ基であり、ｎはＯ，Ｉ。
るクロロスルホニル安息香酸は、一般式（ここで、−Ｃ
ＯＯＨ基は一３Ｏ２ＣＩ基に対してオハ用・、メタ又は
バラに位置し、Ｘはアルキル基、アルコキシ基、ニトロ
基、カルボキシル基、エステル基、ハロゲン又はヒドロ
キシ基であり、ｎはＯ，Ｉ。
２．３又は４である。）
を有する。かくして、出発化合物は唯１個の−ＣＯＯＨ
４（−ｓｏｇｃ＋４に対してオルト、メタ又はパラの位
置）を含有するクロロスルホニル安息香酸であり得、あ
るいは他の残りの位置において十記の基によって置換さ
れていてもよい。それらは、種々の位置において種々の
基によって置換され得る。出発化合物はずべて、安息香
酸から誘導されると考えられる。アルキル基又はアルコ
キシ基ば、好ましくは１〜２０個の炭素原子を有し得、
線状でも分岐状でもよい。エステル基は、好ましくは＼
ＯＲ 子を有する低級アルキル基である。）の基である。
４（−ｓｏｇｃ＋４に対してオルト、メタ又はパラの位
置）を含有するクロロスルホニル安息香酸であり得、あ
るいは他の残りの位置において十記の基によって置換さ
れていてもよい。それらは、種々の位置において種々の
基によって置換され得る。出発化合物はずべて、安息香
酸から誘導されると考えられる。アルキル基又はアルコ
キシ基ば、好ましくは１〜２０個の炭素原子を有し得、
線状でも分岐状でもよい。エステル基は、好ましくは＼
ＯＲ 子を有する低級アルキル基である。）の基である。
出発化合物は、１個よりも多い−Ｃ（１０１１基を有し
得る。最も好ましい出発化合物は、３−クロロスルホニ
ル安息香酸である。更に、好ましい出発化合物は、３−
クロロスルホニル安息香酸のメチル−、メトキシ−、ヒ
ドロキシ−、クロロ−及びブロモ−誘導体である。
得る。最も好ましい出発化合物は、３−クロロスルホニ
ル安息香酸である。更に、好ましい出発化合物は、３−
クロロスルホニル安息香酸のメチル−、メトキシ−、ヒ
ドロキシ−、クロロ−及びブロモ−誘導体である。
クロロスルホニル安息香酸の水溶性塩は、好ましくはア
ンモニウム塩又はアルカリ金属塩、一層好ましくはすト
ウム塩又はカリウム塩である。水溶性塩は、クロロスル
ホニル安息香酸をナトリウム又はカリウムの炭酸塩ある
いはナトリウム又はカリウムの重炭酸塩又はホウ酸塩の
存在下で水に溶解させるごとにより得られる。重炭酸ナ
トリウムが好ましく、重炭酸ナトリウムは他の反応成分
即ちヒドラジン（一般に、ヒドラジン水和物の形態で存
在）とともに存在し得る。クロロスルボニル安息香酸は
、ヒドラジン水和物及び重炭酸ナトリウムの水溶液に少
量ずつ又は滴下的に添加され得る。反応中の温度は、一
般に低く例えば２５℃未満である。得られたヒドラジノ
スルホニル安息香酸塩は次いで亜硝酸と反応せしめられ
、しかして後者の化合物は一般にナトリウムニトリルを
強酸例えば塩化水素又は硫酸と反応させることによりそ
の場で調製される。ナトリウムニトリルは、得られたヒ
ドラジノスルホニル安息香酸塩の水溶液に一度に添加さ
れ得る。亜硝酸を放出させるために、該水溶液に強酸が
少量ずつ又は滴下的に添加される。反応温度は、一般に
０８ないし１５℃である。溶液をｐＨ２〜３に酸性化し
た後、生じたアジドスルホニル安息香酸が沈殿する。そ
の化合物が溶液から分離され、そして所望なら洗浄され
そして乾燥される（好ましくは、真空中、室温にて）。
ンモニウム塩又はアルカリ金属塩、一層好ましくはすト
ウム塩又はカリウム塩である。水溶性塩は、クロロスル
ホニル安息香酸をナトリウム又はカリウムの炭酸塩ある
いはナトリウム又はカリウムの重炭酸塩又はホウ酸塩の
存在下で水に溶解させるごとにより得られる。重炭酸ナ
トリウムが好ましく、重炭酸ナトリウムは他の反応成分
即ちヒドラジン（一般に、ヒドラジン水和物の形態で存
在）とともに存在し得る。クロロスルボニル安息香酸は
、ヒドラジン水和物及び重炭酸ナトリウムの水溶液に少
量ずつ又は滴下的に添加され得る。反応中の温度は、一
般に低く例えば２５℃未満である。得られたヒドラジノ
スルホニル安息香酸塩は次いで亜硝酸と反応せしめられ
、しかして後者の化合物は一般にナトリウムニトリルを
強酸例えば塩化水素又は硫酸と反応させることによりそ
の場で調製される。ナトリウムニトリルは、得られたヒ
ドラジノスルホニル安息香酸塩の水溶液に一度に添加さ
れ得る。亜硝酸を放出させるために、該水溶液に強酸が
少量ずつ又は滴下的に添加される。反応温度は、一般に
０８ないし１５℃である。溶液をｐＨ２〜３に酸性化し
た後、生じたアジドスルホニル安息香酸が沈殿する。そ
の化合物が溶液から分離され、そして所望なら洗浄され
そして乾燥される（好ましくは、真空中、室温にて）。
出発化合物である３−クロロスルボニル安息香酸は、下
記の反応式 に従い、３モルのクロロスルホン酸を１モルのベンゾイ
ルクロライドと反応させることにより得られ得る。
記の反応式 に従い、３モルのクロロスルホン酸を１モルのベンゾイ
ルクロライドと反応させることにより得られ得る。
アジドスルホニル安息香酸特に３−アジドスルホニル安
息香酸は、カルボキシル化エラストマーの製造のための
カルボキシル化剤として適する。
息香酸は、カルボキシル化エラストマーの製造のための
カルボキシル化剤として適する。
後者の例はエテンープロペンゴムであり、約１９０”Ｃ
すいし２１０℃の温度にてアジドスルホニル安息香酸と
容易に反応する。
すいし２１０℃の温度にてアジドスルホニル安息香酸と
容易に反応する。
エレンメイヤーガラス（三角フラスコ）中に、１．５リ
ツトルの水、１モルのヒドラジン水和物（水中８０χ−
溶液として）及び２モルのＮａＨＣＯ，を入れた。この
混合物に、１モルの３−クロロスルホニル安息香酸を、
５℃の温度にてかくはんしながら少しずつ添加した。生
じた溶液を更に２時間５℃の温度にてかくはんした。そ
の溶液に１゜１モルのＮａＮ０１を添加し、次いで２時
間で２，１モルのＨｃｔ（Ｈｃｔ／Ｈｇ０．１／１）を
添加した。該エレンメイヤーガラスを水浴中に保持しな
がら、温度を５℃に維持した。
ツトルの水、１モルのヒドラジン水和物（水中８０χ−
溶液として）及び２モルのＮａＨＣＯ，を入れた。この
混合物に、１モルの３−クロロスルホニル安息香酸を、
５℃の温度にてかくはんしながら少しずつ添加した。生
じた溶液を更に２時間５℃の温度にてかくはんした。そ
の溶液に１゜１モルのＮａＮ０１を添加し、次いで２時
間で２，１モルのＨｃｔ（Ｈｃｔ／Ｈｇ０．１／１）を
添加した。該エレンメイヤーガラスを水浴中に保持しな
がら、温度を５℃に維持した。
該溶液をＩＩｃＩで約２〜３のｐｕに酸性化した後、３
−アジドスルホニル安息香酸が沈殿した。沈殿物を水で
洗浄し、そして真空中で２０℃にて乾燥した。２１６０
ａｉ−’及び１６９０ｃｍ−’の赤外吸収を有する３−
アジドスルホニル安息香酸（融点１２２〜１２７℃、分
解）０．８５モルが得られた。
−アジドスルホニル安息香酸が沈殿した。沈殿物を水で
洗浄し、そして真空中で２０℃にて乾燥した。２１６０
ａｉ−’及び１６９０ｃｍ−’の赤外吸収を有する３−
アジドスルホニル安息香酸（融点１２２〜１２７℃、分
解）０．８５モルが得られた。
収率は８５％である。
Claims (11)
- （１）アジドスルホニル安息香酸の製造法において、ク
ロロスルホニル安息香酸の水溶性塩を水性媒質中でヒド
ラジン（Ｎ＿２Ｈ＿４）と反応させ、得られたヒドラジ
ノスルホニル安息香酸塩を同じ水性媒質中で亜硝酸と反
応させ、アジドスルホニル安息香酸塩を含む生じた水溶
液を酸性化してアジドスルホニル安息香酸を沈殿させ、
そしてアジドスルホニル安息香酸を分離する、ことを特
徴とする上記製造法。 - （２）クロロスルホニル安息香酸が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、−ＣＯＯＨ基は−ＳＯ＿２Ｃｌ基に対してオ
ルト、メタ又はパラに位置し、Ｘはアルキル基、アルコ
キシ基、ニトロ基、カルボキシル基、エステル基、ハロ
ゲン又はヒドロキシ基であり、ｎは０、１、２、３又は
４である。）を有する、特許請求の範囲第１項に記載の
製造法。 - （３）酸が３−クロロスルホニル安息香酸である、特許
請求の範囲第１項又は第２項に記載の製造法。 - （４）クロロスルホニル安息香酸の水溶性塩がアルカリ
金属塩又はアンモニウム塩である、特許請求の範囲第１
〜３項のいずれか１つの項に記載の製造法。 - （５）アルカリ金属塩がナトリウム塩又はカリウム塩で
ある、特許請求の範囲第４項に記載の製造法。 - （６）クロロスルホニル安息香酸の水溶性塩が、クロロ
スルホニル安息香酸をナトリウム又はカリウムの炭酸塩
又は重炭酸塩の存在下で水に溶解させることにより得ら
れたものである、特許請求の範囲第１〜５項のいずれか
１つの項に記載の製造法。 - （７）亜硝酸が、亜硝酸ナトリウムを強酸と反応させる
ことによりその場で調製される、特許請求の範囲第１〜
６項のいずれか１つの項に記載の製造法。 - （８）強酸が塩化水素又は硫酸である、特許請求の範囲
第７項に記載の製造法。 - （９）強酸を反応溶液に滴下的に添加して、亜硝酸を反
応溶液中でゆつくり放出させる、特許請求の範囲第７項
又は第８項に記載の製造法。 - （１０）反応温度が０°〜１５℃である、特許請求の範
囲第９項に記載の製造法。 - （１１）カルボキシル化エラストマーの製造法において
、エラストマーを特許請求の範囲第１〜１０項のいずれ
か１つの項に記載の製造法によつて製造されたアジドス
ルホニル安息香酸と反応させる、ことを特徴とするカル
ボキシル化エラストマーの製造法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB858520583A GB8520583D0 (en) | 1985-08-16 | 1985-08-16 | Azidosulphonylbenzoic acid |
| GB8520583 | 1985-08-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6242962A true JPS6242962A (ja) | 1987-02-24 |
| JPH0761993B2 JPH0761993B2 (ja) | 1995-07-05 |
Family
ID=10583883
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61189722A Expired - Lifetime JPH0761993B2 (ja) | 1985-08-16 | 1986-08-14 | アジドスルホニル安息香酸の製造法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4666631A (ja) |
| EP (1) | EP0212741B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0761993B2 (ja) |
| CA (1) | CA1285285C (ja) |
| DE (1) | DE3667276D1 (ja) |
| ES (1) | ES2001518A6 (ja) |
| GB (1) | GB8520583D0 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007262044A (ja) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Eiwa Kasei Kogyo Kk | Ｐ，ｐ’−オキシビス（ベンゼンスルホニルヒドラジド）の製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
| GB8810101D0 (en) * | 1988-04-28 | 1988-06-02 | Shell Int Research | Novel thermoplastic rubber compositions |
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| TWI746568B (zh) | 2016-06-23 | 2021-11-21 | 美商陶氏全球科技有限責任公司 | 磺醯疊氮酸酐之製造 |
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| US2625565A (en) * | 1951-03-28 | 1953-01-13 | Parke Davis & Co | Preparation of thio-alkyl pantothenamides |
| US2680120A (en) * | 1953-01-23 | 1954-06-01 | Du Pont | Azidosulfonylphenylamido propanediols and a method for their preparation |
| US2830029A (en) * | 1955-04-28 | 1958-04-08 | American Cyanamid Co | Preparation of cellular products containing organic sulfonyl azides and composition thereof |
| US2865932A (en) * | 1956-05-18 | 1958-12-23 | Olin Mathieson | Azides of di-carboxyaryl compounds |
| US3373181A (en) * | 1962-05-21 | 1968-03-12 | Aerojet General Co | Aliphatic nitraza hydrazides and processes for preparing nitraza diisocyanates therefrom |
| CH427780A (de) * | 1962-08-30 | 1967-01-15 | Sandoz Ag | Verfahren zur Herstellung von neuen Aryl-tetralyl-Verbindungen |
| US3220985A (en) * | 1962-10-15 | 1965-11-30 | Hercules Powder Co Ltd | Modifying hydrocarbon polymers |
| US3376127A (en) * | 1965-07-08 | 1968-04-02 | Pittsburgh Plate Glass Co | Aquatic herbicidal methods |
| US4002651A (en) * | 1974-06-26 | 1977-01-11 | Union Carbide Corporation | Azido-silane compositions |
| DE3560793D1 (en) * | 1984-04-02 | 1987-11-26 | Merck & Co Inc | Process for preparing c8 -c24 alkylbenzene sulfonylazides |
-
1985
- 1985-08-16 GB GB858520583A patent/GB8520583D0/en active Pending
-
1986
- 1986-01-21 US US06/819,953 patent/US4666631A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-07-08 CA CA000513282A patent/CA1285285C/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-08-04 EP EP86201374A patent/EP0212741B1/en not_active Expired
- 1986-08-04 DE DE8686201374T patent/DE3667276D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1986-08-14 ES ES8601116A patent/ES2001518A6/es not_active Expired
- 1986-08-14 JP JP61189722A patent/JPH0761993B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007262044A (ja) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Eiwa Kasei Kogyo Kk | Ｐ，ｐ’−オキシビス（ベンゼンスルホニルヒドラジド）の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0761993B2 (ja) | 1995-07-05 |
| EP0212741B1 (en) | 1989-12-06 |
| CA1285285C (en) | 1991-06-25 |
| ES2001518A6 (es) | 1988-06-01 |
| DE3667276D1 (de) | 1990-01-11 |
| GB8520583D0 (en) | 1985-09-25 |
| US4666631A (en) | 1987-05-19 |
| EP0212741A1 (en) | 1987-03-04 |
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