JPS6235445A - 試料面分析装置 - Google Patents

試料面分析装置

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JPS6235445A
JPS6235445A JP60172780A JP17278085A JPS6235445A JP S6235445 A JPS6235445 A JP S6235445A JP 60172780 A JP60172780 A JP 60172780A JP 17278085 A JP17278085 A JP 17278085A JP S6235445 A JPS6235445 A JP S6235445A
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JP
Japan
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sample
sample surface
electron beam
ray
crystal
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JP60172780A
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JPH0642357B2 (ja
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Teruji Hirai
平居 暉士
Takeshi Araki
武 荒木
Hideto Komi
秀人 古味
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Shimadzu Corp
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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ 産業上の利用分野 本発明はX線マイクロアナライザ等の、荷電粒子のマイ
クロビームで試料を励起し、試料から放射されるX線等
を検出することにより試料表面の広域の元素分布を測定
する装置に関する。
口 従来の技術 ]ンピュータの利用により、試料面の元素の濃度分布等
のカラー表示が行われるようになり、X線マイクロアナ
ライザ等による、試料表面の広い面積における定性分析
及び特定元素の定量分析が求められるようになってきた
しかしX線マイクロアナライザのような装置は本来、試
料の局所分析(1μsn程度)を行う装置であり、広域
の分析としては、X線分光器の波長を特定の元素の特性
X線の波長に合せて設定しておき、試料の方を駆動して
広い面積の走査を行い、特定元素の濃度分布を求めるこ
とが行われている。
しかしこの方法は、分析面積を画素点に分割して、一画
素点毎にX線測定を行わねばならないから非常な時間が
か\る。X線測定の所要時間は一画素点当り10mS程
度で、仮に測定面積を縦横夫々500の画素に分割する
と全部で250000個の画素になり、正味のX線測定
時間は40分余りである。しかし試料を止めては動かす
と云う動作を繰返すので、機構の慣性のため高速駆動は
できず、スロースタート、スローストップを繰返すこと
になり、−走査線の終りの折返し点では機構のバックラ
ッシュを除くため余分の移動を行わせねばならないから
、試料の移動のために実測定時間の何倍もの時間を消費
し、所定面積の測定に10時間もか\ることがあった。
ハ 発明が解決しようとする問題点 上述したように荷電粒子のマイクロビームラ用いる分析
装置で広い面積における指定元素の定量分布の測定を行
うことが求められているが適当な方法がなかった。本発
明は荷電粒子マイクロビームを用いる分析装置で数mm
〜数σ平方程度の広□面積における指定元素の濃度分布
を精度良くかつ短時間で行い得るようにしようとするも
のである。
二 問題点解決のための手段 試料を回転させると共に、回転の半径方向に移動させ、
X線分光器は定量をしようとする元素の特性X線の波長
位置に設定して上記試料面上の空間的に固定した一定点
をにらむようにした。即ちX線分光器は試料面を渦巻線
状に走査しながらX線検出出力を、試料上のマイクロビ
ーム照射点の位置のデータに対応させて記録するように
した。
ホ 作用 本発明は試料を一方向の回転と一方向の直線運動との組
合せで動かし、マイクロビームにょる試査の場合のよう
なバックラッシュ消六の動作が不要であり、余分な試料
運動がなく、一方向運動であるから慣性の問題がなく、
そのため起動停止に要する時間消費がない。試料の運動
期間を全部実分析時間に当てることができるので、分析
所要時間が短縮できるのである。
へ 実施例 図は本発明の一実施例を示す。1は試料で、電子ビーム
2を試料lの表面に収束させる。5は試料面の電子ビー
ム照射点から放射されるX線で、分光結晶3で分光され
、X線検出器4に入射せしめられる。試料1の電子ビー
ム照射点と分光結晶3とX線検出器4の曲面スリットが
共通のローランド円R上に位置するように、分光結晶と
X線検出器とは機構的に連結され、波長走査用モータM
によって駆動され指定元素の特性X線の波長位置に設定
される。試料1は試料ホルダ6に保持される。試料ホル
ダ6はX方向微動台7、Y方向微動台8によって位置調
節可能である。X方向微動台、Y方向微動台は回転テー
ブル9の中央に載置固定されている。回転テーブル9は
一方向移動ステージ14に垂直軸によって回転自在に保
持され、同ステージに固定されたモータ11により歯車
10を介して回転駆動される。一方移動ステージ14は
、基台B上に一方向ガイドにより一方向摺動可能に載置
されており、同ステージに固定されたナツトが基台Bに
保持された送りねじ16に螺合しており、送りねじ16
をモータ17で駆動することにより、一方向、図では左
右方向に移動せしめられる。
上述溝造で、回転テーブル9を回転させながら一方向移
動ステージ14を例えば左方向に移動させると、試料l
上の電子ビーム照射点は空間的には不動であるが、試料
面に対しては局線を画いて移動し、試料面の円形領域が
電子ビームによって走査されることになる。
回転テーブル9の周縁には磁気テープが貼設してあり、
一方向移動ステージ14に固定された磁気ヘッド13が
この磁気テープに対向させである。
上記磁気テープには回転テーブル9の回転角を示すため
の情報が記録しである。この情報は例えば、回転テーブ
ル9の回転角表示の起点を表わす符号と円周を1024
等分する一定ピッチのパルス状符号とで、CPU18は
磁気ヘッド13によりこれらの符号を読取り、回転角の
起点からのパルス符号の数を計数して回転テーブル9の
回転位置を検出している。送りねじ16を駆動するモー
タ17はパルスモータで、CPU18は回転テーブル9
の回転中心が電子ビーム2の光軸と一致する位置にある
ときの移動ステージ14の位置を起点にして、パルスモ
ータ17の駆動パルスを計数して回転テーブル9の中心
の図で左右方向の位置を検出している。移動ステージ1
4の起点位置は移動ステージ14がリミットスイッチS
に当接することによって検出される。以上の構成により
試料l上の任意の位置は回転テーブル9の回転角と移動
ステージの起点からの距離を座標データとして表CPU
は上述した試料運動によってマイクロビームで試料面の
走査を行いながらX線検出器4の出力を試料1上の各点
でサンプリングし、サンプリングしたデータを試料1の
X線強度サンプリング点の座標に対応するメモリ19の
アドレスに格納する。このようにして試料表面の所定面
積における指定元素の濃度分布のデータが得られ、これ
に基いて試料面の目的元素の濃度分布のカラー表示等が
できる。マイクロビームの光学系の周囲に複数台のX線
分光器が配置されている場合には上述方法で同時に複数
元素の濃度分布を測定することができる。
ト 効果 本発明によれば、試料面をマイクロビームで走査するの
に試料の一方向の回転と一方向の移動との組合せを用い
ているので、X方向、Y方向のジグザグ走査に比し走査
機構が簡単になり、往復運動が少いから高速走査が可能
となって、大面積の分析が能率的に行われる。X線分析
では測定精度を上げるためには一つの点について成る程
度時間をかける必要があるが、試料面を画素に区分し、
画素毎に分析を行って行く方法では、試料を一画素分ず
つ送っては停止すると云う動作を繰返し、起動、停止の
度に慣性吸収のためスロースタート、スローストップを
行うので、実測定時間よりこの移動時間の方が多くなり
、実測定時間が2〜3時間である場合でも全所要時間は
10時間もか\ると云うのが実情であるが、本発明によ
れば、略実測定時間で分析を完了することができる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例の要部側面図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 試料面を荷電粒子ビームで照射し、試料面から放射され
    る放射線を検出する構成で、試料を回転させる台と、こ
    の台を一方向に往復移動させる手段を有し、上記台を一
    方向に移動させながら試料をこの移動速度に比し高速に
    回転させて試料面を渦線伏走査線に沿って上記荷電粒子
    ビームで走査するようにし、試料面の各位置から放射さ
    れる放射線の検出信号を試料面上を移動する荷電粒子ビ
    ーム照射点の各位置と対応させたメモリ上の各アドレス
    に格納するようにした試料面分析装置。
JP60172780A 1985-08-05 1985-08-05 試料面分析装置 Expired - Lifetime JPH0642357B2 (ja)

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JP60172780A JPH0642357B2 (ja) 1985-08-05 1985-08-05 試料面分析装置

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JP60172780A JPH0642357B2 (ja) 1985-08-05 1985-08-05 試料面分析装置

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Publication Number Publication Date
JPS6235445A true JPS6235445A (ja) 1987-02-16
JPH0642357B2 JPH0642357B2 (ja) 1994-06-01

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ID=15948212

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JP (1) JPH0642357B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63318055A (ja) * 1987-06-19 1988-12-26 Shimadzu Corp Epmaの測定デ−タ表示方法
JPH01102839A (ja) * 1987-10-15 1989-04-20 Hitachi Ltd 分析機能付き電子顕微鏡
JPH0424544A (ja) * 1990-05-18 1992-01-28 Motohiro Iwami 試料表面層の深さ方向への分析方法
JPWO2021240675A1 (ja) * 2020-05-27 2021-12-02

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WO2021240675A1 (ja) * 2020-05-27 2021-12-02 株式会社日立ハイテク 核酸分析装置

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JPH0642357B2 (ja) 1994-06-01

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