JPS6148126A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6148126A JPS6148126A JP16985784A JP16985784A JPS6148126A JP S6148126 A JPS6148126 A JP S6148126A JP 16985784 A JP16985784 A JP 16985784A JP 16985784 A JP16985784 A JP 16985784A JP S6148126 A JPS6148126 A JP S6148126A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- cooling
- recording medium
- magnetic recording
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はテープ状基体上に磁気記録層として強磁性金属
Ｎ膜を設けてなる磁気記録媒体の製造方法に関し、特に
磁気特性にすぐれると共に短波長領域での電磁変換特性
にすぐれる金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関する
。
Ｎ膜を設けてなる磁気記録媒体の製造方法に関し、特に
磁気特性にすぐれると共に短波長領域での電磁変換特性
にすぐれる金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関する
。
従来磁気記録媒体としては、非磁性支持体上Ｋｒ−に’
ｅ２０ｓ、Ｃｏｆドープしたｒ−ＦｅｚＯａ、Ｆｅ５ｚ
Ｕ４．ＣｏｌドープしたＦｅ ３０４、ｒ −Ｆ ｅ
２０３とＦｅｚＯ４のベルトライド化合物、Ｃｒ０ｚ寺
の磁性粉末あるいは強磁性合金粉末寺を粉末磁性材料を
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジェ
ン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機
バインダー中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗
布型のものが広く使用されてきている。近年高密度記録
ヘの要求の高ｉシと共に真空蒸着、スパッタリング、イ
オンブレーティング寺のペーパーデポジション法おるい
は電気メツ午、無ＩＺ解メツ苧寺のメツ千法により形成
される強磁性金ＰＪ４薄膜を輯気記録層とする、バイン
ダーを使用しない、いわゆる非バインダー型磁気記録媒
体が注目を浴びておシ実用化への努力が種々行なわれて
いる。
ｅ２０ｓ、Ｃｏｆドープしたｒ−ＦｅｚＯａ、Ｆｅ５ｚ
Ｕ４．ＣｏｌドープしたＦｅ ３０４、ｒ −Ｆ ｅ
２０３とＦｅｚＯ４のベルトライド化合物、Ｃｒ０ｚ寺
の磁性粉末あるいは強磁性合金粉末寺を粉末磁性材料を
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジェ
ン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機
バインダー中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗
布型のものが広く使用されてきている。近年高密度記録
ヘの要求の高ｉシと共に真空蒸着、スパッタリング、イ
オンブレーティング寺のペーパーデポジション法おるい
は電気メツ午、無ＩＺ解メツ苧寺のメツ千法により形成
される強磁性金ＰＪ４薄膜を輯気記録層とする、バイン
ダーを使用しない、いわゆる非バインダー型磁気記録媒
体が注目を浴びておシ実用化への努力が種々行なわれて
いる。
従来の塗布盤の磁気記録媒体では主として強磁性金属よ
り飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な磁性層薄層化が信号出
力の低下をもたらすため限界にきておフ、かつその製造
工程も複雑で、溶剤回収あるいは公害防止のための大き
な附帯設備を要するという欠点含有している。非バイン
ダー型の゛磁気記録媒体では上記酸化物より大きな飽和
磁化を有する強磁性金属をバインダーのすｕき非磁性物
質を含有しない状態で薄膜として形成せしめるため、高
密度記録化のために超薄層化できるという利点を有し、
しかもその製造工程はよシ簡略化される。
り飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な磁性層薄層化が信号出
力の低下をもたらすため限界にきておフ、かつその製造
工程も複雑で、溶剤回収あるいは公害防止のための大き
な附帯設備を要するという欠点含有している。非バイン
ダー型の゛磁気記録媒体では上記酸化物より大きな飽和
磁化を有する強磁性金属をバインダーのすｕき非磁性物
質を含有しない状態で薄膜として形成せしめるため、高
密度記録化のために超薄層化できるという利点を有し、
しかもその製造工程はよシ簡略化される。
高密度記録化の磁気記録媒体に要求される条件の一つと
して、高抗磁力化、薄形化が理論的にも実験的にも提唱
されており、φ布製の磁気記録媒体よりも一桁小さい薄
層化が容易で、飽和磁束密度の大きい非バインダー型磁
気記録媒体への期待は大きい。
して、高抗磁力化、薄形化が理論的にも実験的にも提唱
されており、φ布製の磁気記録媒体よりも一桁小さい薄
層化が容易で、飽和磁束密度の大きい非バインダー型磁
気記録媒体への期待は大きい。
とくに真空蒸着による方法は、メッキの場合のような排
液処Ｉ！！？必要とせず製造工程も簡単で膜の析出速度
も大きくできるため非常にメリットが大きい。真空蒸着
によって磁気記録媒体に望ましい抗磁力および角型性を
有する磁性膜を製造する方法としては、米国特許３３ｆ
！−２６３２号、同３３Ｇｃ２ｊＪｊ号等に述べられて
いる斜め蒸着法が知られている。
液処Ｉ！！？必要とせず製造工程も簡単で膜の析出速度
も大きくできるため非常にメリットが大きい。真空蒸着
によって磁気記録媒体に望ましい抗磁力および角型性を
有する磁性膜を製造する方法としては、米国特許３３ｆ
！−２６３２号、同３３Ｇｃ２ｊＪｊ号等に述べられて
いる斜め蒸着法が知られている。
実際にテープ状基体に斜め蒸着法により強磁性金属薄膜
を設は磁気記録媒体を製造するに際しては、テープ状基
体を冷却キャンに沿って搬送せしめ蒸発源より蒸発せし
められた磁性金属材料の蒸気流を移動するテープ状基体
に斜めに入射蒸着せしめる方法が行なわれる。この際、
基体に対して入射する蒸気流の入射角が大きいほど高抗
磁力の磁性薄膜が得られるが入射角が太きいと蒸着効率
が低下するとい・う現象があり生産上問題でるる。
を設は磁気記録媒体を製造するに際しては、テープ状基
体を冷却キャンに沿って搬送せしめ蒸発源より蒸発せし
められた磁性金属材料の蒸気流を移動するテープ状基体
に斜めに入射蒸着せしめる方法が行なわれる。この際、
基体に対して入射する蒸気流の入射角が大きいほど高抗
磁力の磁性薄膜が得られるが入射角が太きいと蒸着効率
が低下するとい・う現象があり生産上問題でるる。
比較的低入射角にてｆ−Ａ磁力の茜い磁性薄膜を形成さ
せる方法として斜め蒸着の際に酸素を導入させる方法が
提案されており、例えは特開昭夕を一弘ｌ弘弘３号には
テープ状移動基体に対する蒸気流の入射角（σ）が高入
射角（σｍａｘ）から低入射角（０ｍ ｉ ｎ ）へと
連続的に変化するように前記基体を移動せしめると共に
、低入射角（θｍｉｎ）近傍に酸化性ガスを導入する方
法が開示されている。
せる方法として斜め蒸着の際に酸素を導入させる方法が
提案されており、例えは特開昭夕を一弘ｌ弘弘３号には
テープ状移動基体に対する蒸気流の入射角（σ）が高入
射角（σｍａｘ）から低入射角（０ｍ ｉ ｎ ）へと
連続的に変化するように前記基体を移動せしめると共に
、低入射角（θｍｉｎ）近傍に酸化性ガスを導入する方
法が開示されている。
この方法によれば高抗磁力の候は得られるが角型性が劣
化するという欠点を有していた。
化するという欠点を有していた。
磁気特性を改良する方法として真空槽中にＡｒあるいは
Ｈｅガスを導入しつつコバルトをポリエステルフィルム
基板に対し斜め蒸着させる方法が「真空」第２μ巻、第
μ号、２’１３−２１１は一ジに開示ちれている。しか
しながら長尺テープ状基体を連続的に搬送しつつ、且つ
入射角が連続的に変化するような斜め蒸着法により磁気
テープを製造する場合には単に真空槽壁より真空槽中に
Ａｒ・、Ｈｅガス等を導入しても磁気特性の改良は″
（Ｊられなかった。さらに特開昭！ｌ−３２２３１７号
には入射角規制のマスクの先端部からガスを噴射させる
ことによりマスク先端部への蒸着材料の付着を防止し長
手方向にわたって均一な磁気特性の磁気テープを得る方
法が開示されている。しかしながら長尺蒸着における蒸
着材料のマスクへの付着による入射角変化に起因する磁
気特性の変化防止にガス噴射が効果あるとの開示おるが
、ガス導入そのものによる磁気特性の改良については何
ら言及されていない。
Ｈｅガスを導入しつつコバルトをポリエステルフィルム
基板に対し斜め蒸着させる方法が「真空」第２μ巻、第
μ号、２’１３−２１１は一ジに開示ちれている。しか
しながら長尺テープ状基体を連続的に搬送しつつ、且つ
入射角が連続的に変化するような斜め蒸着法により磁気
テープを製造する場合には単に真空槽壁より真空槽中に
Ａｒ・、Ｈｅガス等を導入しても磁気特性の改良は″
（Ｊられなかった。さらに特開昭！ｌ−３２２３１７号
には入射角規制のマスクの先端部からガスを噴射させる
ことによりマスク先端部への蒸着材料の付着を防止し長
手方向にわたって均一な磁気特性の磁気テープを得る方
法が開示されている。しかしながら長尺蒸着における蒸
着材料のマスクへの付着による入射角変化に起因する磁
気特性の変化防止にガス噴射が効果あるとの開示おるが
、ガス導入そのものによる磁気特性の改良については何
ら言及されていない。
本発明の第７の目的は、上記の欠点を改良した磁気記録
媒体、特に磁気特性のすぐれた磁気記録媒体の製造方法
を提供することにある。さらに本発明の第コの目的は短
波長領域での電磁変換特性にすぐれる磁気記録媒体の製
造方法を提供することにある。
媒体、特に磁気特性のすぐれた磁気記録媒体の製造方法
を提供することにある。さらに本発明の第コの目的は短
波長領域での電磁変換特性にすぐれる磁気記録媒体の製
造方法を提供することにある。
本発明は、冷却キャンに旧って移動するテープ状基体に
対して蒸発源より魚発せしめられ１ζ磁住金属材料の蒸
気流の入射角（σ）が高入射角（θｍａｘ）から低入射
角（θｍｉｎ）へと連続的に変化するように蒸着せしの
て磁気記録媒体′ｔ−製造する方法に２いて、該基体の
近傍かつ低入射角（σｍ ｉ ｎ ）蒸気流付近にガス
尋人部を配し、希ガスあるいは希ガスと酸紫ガスとの混
合ガスを導入しつつ強磁性金属薄膜を形成することｔ特
徴とする磁気記録媒体の製造方法に関する。さらに、上
記ａ遣方法において希ガスとｌＪｔ素ガスとの混合比（
酸素ガス／希ガス）をＯ−２，Ｏとしたことを特徴とす
る磁気記録媒体のＪＪ！造方法に関する。さらに本発明
は上記製造方法において冷却キャンの中心からガス尋人
部遥の距離（１モ）と酊却キャンの半径＜ｒ）との比（
１も／ｒ）がｉ、ｉｏ以下となるようにガス導入部を配
設して彊碑性金属薄膜を形成することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法に関する。
対して蒸発源より魚発せしめられ１ζ磁住金属材料の蒸
気流の入射角（σ）が高入射角（θｍａｘ）から低入射
角（θｍｉｎ）へと連続的に変化するように蒸着せしの
て磁気記録媒体′ｔ−製造する方法に２いて、該基体の
近傍かつ低入射角（σｍ ｉ ｎ ）蒸気流付近にガス
尋人部を配し、希ガスあるいは希ガスと酸紫ガスとの混
合ガスを導入しつつ強磁性金属薄膜を形成することｔ特
徴とする磁気記録媒体の製造方法に関する。さらに、上
記ａ遣方法において希ガスとｌＪｔ素ガスとの混合比（
酸素ガス／希ガス）をＯ−２，Ｏとしたことを特徴とす
る磁気記録媒体のＪＪ！造方法に関する。さらに本発明
は上記製造方法において冷却キャンの中心からガス尋人
部遥の距離（１モ）と酊却キャンの半径＜ｒ）との比（
１も／ｒ）がｉ、ｉｏ以下となるようにガス導入部を配
設して彊碑性金属薄膜を形成することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法に関する。
第７図は本発明による一気記録媒体の製造方法の一実施
悪様で示している。真空容器／の内部は仕切り壁λによ
って上室３と下室弘に仕切られており、それ七れ排気ロ
！、乙により独立に真空排気されるようになっている。
悪様で示している。真空容器／の内部は仕切り壁λによ
って上室３と下室弘に仕切られており、それ七れ排気ロ
！、乙により独立に真空排気されるようになっている。
上室３にはテープ状基体７の送出しロールｒと＠取りロ
ール２が配設されている。送出ロールｔからのテープ状
基体７は冷却キャン１０に沿つ′Ｃ下下室へ移動する。
ール２が配設されている。送出ロールｔからのテープ状
基体７は冷却キャン１０に沿つ′Ｃ下下室へ移動する。
下室弘には蒸発源／ｌが設置されていて磁性金属材料／
コは加熱され、その蒸気流１３はマスクｌ弘を介して冷
却キャン１０に歯って移動するテープ状基体７の上に到
達し蒸着膜として付着する。マスクｌ弘は基体７に対す
る所望の入射角の蒸気流１３の鰺が、冷却ギャンｉｏ面
上の基体７に到達せしめられるように配設されている。
コは加熱され、その蒸気流１３はマスクｌ弘を介して冷
却キャン１０に歯って移動するテープ状基体７の上に到
達し蒸着膜として付着する。マスクｌ弘は基体７に対す
る所望の入射角の蒸気流１３の鰺が、冷却ギャンｉｏ面
上の基体７に到達せしめられるように配設されている。
テープ状基体７が冷却キヤンｉｏの回転（図では右回転
）によシ移ｍｂするにつれ磁性金属材料の蒸着流／３の
基体７に対する入射角（σ）は高入射角（σｍａｘ ）
から低入射角（Ｕｍｉｎ）へと連続的に変化するように
蒸着が行なわれる。冷却キヤン１０面上の基体７の近傍
でかつ低入射角（θｍｉｎ）蒸気流近傍にガス導入ノズ
ルＩｆｆ設置する。ガス導入ノズル／ｊは、冷却キャン
１０の中心からの距離（ｉｔ ）と冷却キャン／Ｑの中
佐（ｒ）との比１（、／ｒがｌ。
）によシ移ｍｂするにつれ磁性金属材料の蒸着流／３の
基体７に対する入射角（σ）は高入射角（σｍａｘ ）
から低入射角（Ｕｍｉｎ）へと連続的に変化するように
蒸着が行なわれる。冷却キヤン１０面上の基体７の近傍
でかつ低入射角（θｍｉｎ）蒸気流近傍にガス導入ノズ
ルＩｆｆ設置する。ガス導入ノズル／ｊは、冷却キャン
１０の中心からの距離（ｉｔ ）と冷却キャン／Ｑの中
佐（ｒ）との比１（、／ｒがｌ。
ＩＯ以下となるような位（財）に設置されており、ここ
刀為ら希ガスわるいは希ガスと酸素ガスとの混合ガスが
吠き出される。強磁性薄膜の形成されたテープ状基体７
は冷却キャン１ｏＫ１６つて下室弘から上室３へ移動し
た後巻取りロールタに巻取られるようＶＣなっている。
刀為ら希ガスわるいは希ガスと酸素ガスとの混合ガスが
吠き出される。強磁性薄膜の形成されたテープ状基体７
は冷却キャン１ｏＫ１６つて下室弘から上室３へ移動し
た後巻取りロールタに巻取られるようＶＣなっている。
本発明に用いられる磁性金属材料とし°Ｃは、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、ｌ’Ｊｉ寺９］」亀、あるいはＦ ｅ −Ｃｏ、上
’ｅ−Ｎ ｉ、 Ｃｏ −Ｎ ｉ、 １
ｉ”ｅ−Ｃｏ−Ｎ ｉ 。
ｏ、ｌ’Ｊｉ寺９］」亀、あるいはＦ ｅ −Ｃｏ、上
’ｅ−Ｎ ｉ、 Ｃｏ −Ｎ ｉ、 １
ｉ”ｅ−Ｃｏ−Ｎ ｉ 。
Ｉ＋’ ｅ −１も ｈ 、 Ｆｅ−Ｃｕ、
Ｃｏ−Ｃｕ、 Ｌ：ｏ −Ａｕ、Ｃｏ−１％
Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃ。
Ｃｏ−Ｃｕ、 Ｌ：ｏ −Ａｕ、Ｃｏ−１％
Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃ。
−Ｇｄ、 Ｃｏ−８ｍ、 Ｕ ｏ−に’ ｔ、 Ｎ ｉ
−Ｃｕ、ｋｎ−Ｂ ｉ、Ｍｎ−８ｂ、Ｍｎ−Ａｔ、に
’ｅ−Ｃｒ％Ｃｏ−（：ｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、 Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｃｒ、 ＩＮ １−Ｃｏ−Ｃｒ、 １１’ｅ−Ｃｏ−
Ｎｉ −Ｃｒ％の強（１ｉ性付金でりる。特ｆＣ好ｌし
いりはＣｏあるいはＣｏ ’ｉ（７０！ｌｒ社係以上含
市するよりな合金である。強磁性薄膜は単層でも積層し
てもよく七の総厚は、磁気記録媒体として充分な出力を
与え得る厚さおよび昼密度記Ｈの充分行える薄さｔ必要
とすることから一般には約０．０２μｍからｊ 、 ０
４ｍ、好°ましくは０．Ｏｒｐｍから２゜０μｍである
。
−Ｃｕ、ｋｎ−Ｂ ｉ、Ｍｎ−８ｂ、Ｍｎ−Ａｔ、に
’ｅ−Ｃｒ％Ｃｏ−（：ｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、 Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｃｒ、 ＩＮ １−Ｃｏ−Ｃｒ、 １１’ｅ−Ｃｏ−
Ｎｉ −Ｃｒ％の強（１ｉ性付金でりる。特ｆＣ好ｌし
いりはＣｏあるいはＣｏ ’ｉ（７０！ｌｒ社係以上含
市するよりな合金である。強磁性薄膜は単層でも積層し
てもよく七の総厚は、磁気記録媒体として充分な出力を
与え得る厚さおよび昼密度記Ｈの充分行える薄さｔ必要
とすることから一般には約０．０２μｍからｊ 、 ０
４ｍ、好°ましくは０．Ｏｒｐｍから２゜０μｍである
。
本発明に用いられる基体としてはポリエチレンテレフタ
レート、ボリイばド、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、三
星酸セルロース、ポリカポネート。
レート、ボリイばド、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、三
星酸セルロース、ポリカポネート。
ポリエチレンナフタレートのようなプラスチックベース
が好ましい。さらにアルばニウム、黄銅、ステンレスス
チール、チタンのような金属帯も基体として用いられる
。
が好ましい。さらにアルばニウム、黄銅、ステンレスス
チール、チタンのような金属帯も基体として用いられる
。
本発明にｂ−いて入射角としては一般には２０ 。
〜ＰＯ°が望ましく、特に高入射角（１７ｍａｘ）はｂ
ｏ ’ 〜ｙｏ ｕ、 １１１１：入射角（θｍｉｎ）
は２０’〜７！０が望ましい。
ｏ ’ 〜ｙｏ ｕ、 １１１１：入射角（θｍｉｎ）
は２０’〜７！０が望ましい。
希ガスとしては元来周期表のＯＭＪ元素、ヘリウムＨｅ
＋イ・オンＮｅ、アルゴンＡｒ、クリプトンＫ ｒ 、
ｄｒセノンＸｅ、ラドンＩ：Ｌｎが使用される。
＋イ・オンＮｅ、アルゴンＡｒ、クリプトンＫ ｒ 、
ｄｒセノンＸｅ、ラドンＩ：Ｌｎが使用される。
仄９′（′Ａ施例τもって木■四ン共体的にｈシＬ明す
るが本り６明を誌これらに眠足袋れるものではない。
るが本り６明を誌これらに眠足袋れるものではない。
実施例−１゜
外７図にボさ７’した娘ｂ’ｋｉ’、 ｋ用いで、ｌλ
、夕ｌεｍ厚のポリエナレ／テレフタレートフィルム基
体上にり虫凪性博１ｉμ全形成せしめ（＋ｒｉス（テー
プ忙作製し罠。
、夕ｌεｍ厚のポリエナレ／テレフタレートフィルム基
体上にり虫凪性博１ｉμ全形成せしめ（＋ｒｉス（テー
プ忙作製し罠。
几
冷却−１ゝヤンの半径Ｊりｏｒａｍで７比が／、０夕と
なるようノズルビ設けた。フィルムｐ４１００圃、フィ
ルム搬送速ｇ−２０１１＋／分とし高入射角（Ｕｍａｘ
）’＜Ｐｏ °、低入射ＭＣ＆ｍ１ｎ）−ｉｐＯｏとし
く、：ｏｌ’Ｊｉ合金（Ｎ ｉ ： ２０ ｉ量’ｌｙ
） ’ｒ：ｐＭ’Ａす＜テノ模厚／２００にとなるよ
う強磁性薄膜ケ形成した。
なるようノズルビ設けた。フィルムｐ４１００圃、フィ
ルム搬送速ｇ−２０１１＋／分とし高入射角（Ｕｍａｘ
）’＜Ｐｏ °、低入射ＭＣ＆ｍ１ｎ）−ｉｐＯｏとし
く、：ｏｌ’Ｊｉ合金（Ｎ ｉ ： ２０ ｉ量’ｌｙ
） ’ｒ：ｐＭ’Ａす＜テノ模厚／２００にとなるよ
う強磁性薄膜ケ形成した。
ノズルｌ！からアルゴン分よび酸素ガスの比率を変えた
混合ガスｔ−尋人し数棟の磁気テープて作成した。こう
して得られたケ致気テープの６ｄ気特性、電磁変換特性
を側ボした。磁気％性としては抗（ｄ力、角型比全振動
型磁力計によシ測定し、［磁変侯％性としては磁気ヘッ
ドとテープの相対速度を３、ｊｒｎ／抄に詞整した７盤
ｖ’ｒルにて４１’ｖｌＨｚのこれから明らかなように
アルゴンガスと酸素ガスとの混合比がＯ−λ、Ｑとなる
ようにノズルｌ！からガス’ｋＡ人すると磁気＃ｊ性、
ビデオ出力に２いてすぐｆ１７ヒ憔気記録媒体が得られ
る。
混合ガスｔ−尋人し数棟の磁気テープて作成した。こう
して得られたケ致気テープの６ｄ気特性、電磁変換特性
を側ボした。磁気％性としては抗（ｄ力、角型比全振動
型磁力計によシ測定し、［磁変侯％性としては磁気ヘッ
ドとテープの相対速度を３、ｊｒｎ／抄に詞整した７盤
ｖ’ｒルにて４１’ｖｌＨｚのこれから明らかなように
アルゴンガスと酸素ガスとの混合比がＯ−λ、Ｑとなる
ようにノズルｌ！からガス’ｋＡ人すると磁気＃ｊ性、
ビデオ出力に２いてすぐｆ１７ヒ憔気記録媒体が得られ
る。
′Ａ厖何例−２
ノズル／りからアルゴンガスｆ３００ｃｔ１分導入し、
胆は実施ν５−１と同様にして磁気テープをｆ’ｔ−製
した。このΩノズルｌりの位時を変化させ種Ｌ 種の一比に対する磁気テープを作製しその磁気時注、ビ
デオ出力を実施例−１と同様にして測定した。奮た比較
のために第１図の装置においてノズル／ｌからアルゴン
ガスを供給したテンプルも作製した♂結果を表２に示す
。
胆は実施ν５−１と同様にして磁気テープをｆ’ｔ−製
した。このΩノズルｌりの位時を変化させ種Ｌ 種の一比に対する磁気テープを作製しその磁気時注、ビ
デオ出力を実施例−１と同様にして測定した。奮た比較
のために第１図の装置においてノズル／ｌからアルゴン
ガスを供給したテンプルも作製した♂結果を表２に示す
。
表 −
試料＆≠、／コ、／３．／弘、ｌり、１６の比較 ｉＬ
からノズルを一値で／ 、１０以下となるように設賦し
てアルゴンガス２４人することによりすぐれた磁気記録
媒体の得られることが明らかである。
てアルゴンガス２４人することによりすぐれた磁気記録
媒体の得られることが明らかである。
実施例−３゜
第７図に示された装置に２い°ＣＣ冷却キャン半径忙Ｖ
−λ！閾とした鉄ｄによシタ、！μｍ厚のポリエチレン
テレフタレートフィルムの基体上に強磁性金属薄膜で形
成せしめ磁気テープ金作製した。
−λ！閾とした鉄ｄによシタ、！μｍ厚のポリエチレン
テレフタレートフィルムの基体上に強磁性金属薄膜で形
成せしめ磁気テープ金作製した。
フィルム幅ＪＯＯｒｒｒｍ、フィルム搬送速度夕Ｏｒｎ
７分とし高入射角（σｍａｘ）ｆｌｒ ’、低入射角
（Ｕｔｎｉｎ）を弘！０としＣｏＣｒ合金（Ｃ，ｒ ：
ｊ重ｉｉ係）の蒸着膜を膜厚／夕（７１７Ａとなるよ
う形成せしめた。
７分とし高入射角（σｍａｘ）ｆｌｒ ’、低入射角
（Ｕｔｎｉｎ）を弘！０としＣｏＣｒ合金（Ｃ，ｒ ：
ｊ重ｉｉ係）の蒸着膜を膜厚／夕（７１７Ａとなるよ
う形成せしめた。
ヘリウムガスと酸素ガスの混合比およびノズル位、Ｆｔ
−かえて作製したテンプルについて＊施例１と同様にし
て磁気時（生およびビデオ出力を測定したところ表３の
ごとくであった。
−かえて作製したテンプルについて＊施例１と同様にし
て磁気時（生およびビデオ出力を測定したところ表３の
ごとくであった。
これから明らかなように本発明の製造方法によシ作製し
た磁気テープはすぐれた硯気特性、茜ビデオ出力特性を
有するものでおる。
た磁気テープはすぐれた硯気特性、茜ビデオ出力特性を
有するものでおる。
このよりに冷却キャンに宿って移２１１１するテープ状
基体の近傍かつ低入射角（＃ｔｎｉｎ）の蒸気流付近に
ガス導入部を配し希ガスあるいは希ガスと酸緊ガスとの
ｒｌ、＝縫ガス１＆：尋人しつつ斜め蒸着により強磁性
金属薄、Ｂ幅忙形成することにより、磁気特性にすぐれ
ると共にビデオ出力も赳、い金属、隼膜型磁気記録媒体
’ｅ （＋）ることができるものである。
基体の近傍かつ低入射角（＃ｔｎｉｎ）の蒸気流付近に
ガス導入部を配し希ガスあるいは希ガスと酸緊ガスとの
ｒｌ、＝縫ガス１＆：尋人しつつ斜め蒸着により強磁性
金属薄、Ｂ幅忙形成することにより、磁気特性にすぐれ
ると共にビデオ出力も赳、い金属、隼膜型磁気記録媒体
’ｅ （＋）ることができるものである。
第７図は本発明による磁気記録媒体の製造方法ｔ−案施
するた＾）の真壁蒸着装置の一例を示している。 ｌ・・・真空容器、 ２・・・仕切壁、 ３・・・上室
。 弘・・・下室、 ！、６・・・ｍ気孔、 ７・・・基体
。 ｔ・・・送シ出しロール、 タ・・・巻取ｖｔＪ−ル。 １０・・・冷却キャン、 ／ｌ・・・蒸発源。 １２・・・磁性金属材料、 ／Ｊ・・・磁性金祖ｃ１
゛料蒸気流／ψ・・・マスク、 ／夕・・・ガス導入ノ
ズル。
するた＾）の真壁蒸着装置の一例を示している。 ｌ・・・真空容器、 ２・・・仕切壁、 ３・・・上室
。 弘・・・下室、 ！、６・・・ｍ気孔、 ７・・・基体
。 ｔ・・・送シ出しロール、 タ・・・巻取ｖｔＪ−ル。 １０・・・冷却キャン、 ／ｌ・・・蒸発源。 １２・・・磁性金属材料、 ／Ｊ・・・磁性金祖ｃ１
゛料蒸気流／ψ・・・マスク、 ／夕・・・ガス導入ノ
ズル。
Claims (3)
- （１）冷却キヤンに沿つて移動するテープ状基体に対し
て、蒸発源より蒸発せしめられた磁性金属材料の蒸気流
の入射角（θ）が高入射角（θｍａｘ）から低入射角（
θｍｉｎ）へと連続的に変化するように蒸着せしめて磁
気記録媒体を製造する方法において、該基体の近傍且つ
低入射角（θｍｉｎ）蒸気流付近にガス導入部を配し希
ガスあるいは希ガスと酸素ガスとの混合ガスを導入しつ
つ強磁性金属薄膜を形成することを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法。 - （２）希ガスと酸素ガスとの混合比（酸素ガス／希ガス
）を０〜２．０としたことを特徴とする特許請求の範囲
第（１）項記載の磁気記録媒体の製造方法。 - （３）冷却キヤンの中心からガス導入部迄の距離（Ｒ）
と冷却キヤンの半径（ｒ）との比（Ｒ／ｒ）が１．１０
以下の範囲となるようにガス導入部を配設して強磁性金
属薄膜を形成することを特徴とする特許請求の範囲第（
１）項記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16985784A JPS6148126A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US06/914,513 US4713262A (en) | 1984-08-14 | 1986-10-02 | Manufacturing method for a magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16985784A JPS6148126A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6148126A true JPS6148126A (ja) | 1986-03-08 |
Family
ID=15894224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16985784A Pending JPS6148126A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6148126A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5419199A (en) * | 1977-07-12 | 1979-02-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium porcess |
| JPS54116202A (en) * | 1978-03-01 | 1979-09-10 | Tdk Corp | Production of magnetic recording media |
| JPS5841443A (ja) * | 1981-09-04 | 1983-03-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製法 |
-
1984
- 1984-08-14 JP JP16985784A patent/JPS6148126A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5419199A (en) * | 1977-07-12 | 1979-02-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium porcess |
| JPS54116202A (en) * | 1978-03-01 | 1979-09-10 | Tdk Corp | Production of magnetic recording media |
| JPS5841443A (ja) * | 1981-09-04 | 1983-03-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS62121929A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0546014B2 (ja) | ||
| JPS6194242A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| US4539264A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPS6148128A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6148126A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| US4713262A (en) | Manufacturing method for a magnetic recording medium | |
| JPH0546013B2 (ja) | ||
| JPS61236025A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0462163B2 (ja) | ||
| JPS5841442A (ja) | 磁気記録媒体の製法 | |
| JP2894253B2 (ja) | 高機能性薄膜の製造方法 | |
| JPS62285220A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH083902B2 (ja) | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6194238A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS61273738A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0341898B2 (ja) | ||
| JPS6148127A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6194240A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH07182644A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6378336A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH04248126A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6190321A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS62102414A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH06112043A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 |