JPS61236025A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS61236025A JPS61236025A JP60077303A JP7730385A JPS61236025A JP S61236025 A JPS61236025 A JP S61236025A JP 60077303 A JP60077303 A JP 60077303A JP 7730385 A JP7730385 A JP 7730385A JP S61236025 A JPS61236025 A JP S61236025A
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- magnetic recording
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は非磁性基体上に磁気記録層として蒸着法による
強磁性薄膜を設けてなる磁気記録媒体の製造方法に関し
、とくに耐錆性および表面摩擦係数が改良された磁気記
録媒体の製造方法に関する。
強磁性薄膜を設けてなる磁気記録媒体の製造方法に関し
、とくに耐錆性および表面摩擦係数が改良された磁気記
録媒体の製造方法に関する。
従来より磁気記録媒体としては、非磁性基体上にｒ−Ｆ
ｅｚｅｓ、Ｃｏをドープしたｒ−Ｆｅ２０３、Ｆｅ３Ｏ
４、ＣＯをドープしたＦｅ３Ｏ４、ｒ−Ｆｅ２０３とＦ
ｅ３Ｏ４のベルトライド化合物、ＣＯをドープしたベル
トライド化合物、ＣｒＯ２等の酸化物磁性粉末あるいは
Ｆｅ、ＣｏＸＮｉ等を主成分とする合金磁性粉末等の粉
末磁性材料を塩化ビニル−酢酸゛ビニル共重合体、スチ
レン−ブタジェン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタ
ン樹脂等の有機バインダー中に分散せしめ、塗布、乾燥
させる塗布型のものが広く使用されてきている。
ｅｚｅｓ、Ｃｏをドープしたｒ−Ｆｅ２０３、Ｆｅ３Ｏ
４、ＣＯをドープしたＦｅ３Ｏ４、ｒ−Ｆｅ２０３とＦ
ｅ３Ｏ４のベルトライド化合物、ＣＯをドープしたベル
トライド化合物、ＣｒＯ２等の酸化物磁性粉末あるいは
Ｆｅ、ＣｏＸＮｉ等を主成分とする合金磁性粉末等の粉
末磁性材料を塩化ビニル−酢酸゛ビニル共重合体、スチ
レン−ブタジェン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタ
ン樹脂等の有機バインダー中に分散せしめ、塗布、乾燥
させる塗布型のものが広く使用されてきている。
近年高密度磁気記録への要求の高まりと共に、真空蒸着
、ス／ぐツタリング、イオンブレーティング等の方法に
より形成される強磁性金属薄膜はバインダーを使用しな
い、いわゆる金属薄膜型の磁気記録媒体として注目を浴
びており実用化への努力がなされてきている。
、ス／ぐツタリング、イオンブレーティング等の方法に
より形成される強磁性金属薄膜はバインダーを使用しな
い、いわゆる金属薄膜型の磁気記録媒体として注目を浴
びており実用化への努力がなされてきている。
従来の塗布型の磁気記録媒体では主として飽和磁化の小
さい金属酸化物を磁性材料として使用していると共に、
磁性層中の磁性材料の体積含有率が３０〜Ｊ′θ優にす
ぎないため高出力高密度記録媒体としては不適当なもの
である。さらにその製造工程も複雑で溶剤回収あるいは
公害防止のための大きな付帯設備を必要とするという欠
点を有している。金属薄膜型磁気記録媒体では酸化物磁
性材料より大きな飽和磁化を有する強磁性金属を有機バ
インダーの如き非磁性物質を介在させぬ状態で極めて薄
い膜として形成できるという利点を有する。高密度記録
化につれて記録再生磁気ヘッドのギャップ長も／ 、Ｏ
ｐｍ以下のものを使用するようになってきているが、そ
れに伴って磁気記録層への記録深さも浅くなる傾向があ
り、磁性膜の厚み全部が磁気信号の記録に利用され得る
金属薄膜型磁気記録媒体は高出力高密度記録媒体として
極めてすぐれている。金属薄膜型磁気記録媒体のうちで
も膜の形成を真空蒸着により行なう方法は膜の形成速度
の速いこと、製造工程が簡単であることあるいは排液処
理を必要としないドライプロセスであること等の利点を
有する。中でも特に磁性金属の蒸発ビームを非磁性基体
表面に斜めに入射させて蒸着する斜方入射真空蒸着法は
工程および装置機構が比較的簡単であると同時に良好な
磁気特性を有する膜が得られるため実用上すぐれている
。
さい金属酸化物を磁性材料として使用していると共に、
磁性層中の磁性材料の体積含有率が３０〜Ｊ′θ優にす
ぎないため高出力高密度記録媒体としては不適当なもの
である。さらにその製造工程も複雑で溶剤回収あるいは
公害防止のための大きな付帯設備を必要とするという欠
点を有している。金属薄膜型磁気記録媒体では酸化物磁
性材料より大きな飽和磁化を有する強磁性金属を有機バ
インダーの如き非磁性物質を介在させぬ状態で極めて薄
い膜として形成できるという利点を有する。高密度記録
化につれて記録再生磁気ヘッドのギャップ長も／ 、Ｏ
ｐｍ以下のものを使用するようになってきているが、そ
れに伴って磁気記録層への記録深さも浅くなる傾向があ
り、磁性膜の厚み全部が磁気信号の記録に利用され得る
金属薄膜型磁気記録媒体は高出力高密度記録媒体として
極めてすぐれている。金属薄膜型磁気記録媒体のうちで
も膜の形成を真空蒸着により行なう方法は膜の形成速度
の速いこと、製造工程が簡単であることあるいは排液処
理を必要としないドライプロセスであること等の利点を
有する。中でも特に磁性金属の蒸発ビームを非磁性基体
表面に斜めに入射させて蒸着する斜方入射真空蒸着法は
工程および装置機構が比較的簡単であると同時に良好な
磁気特性を有する膜が得られるため実用上すぐれている
。
しかしながら蒸着法（二よる強磁性薄膜から成る磁気記
録媒体（＝かかわる問題として耐錆性および表面摩擦係
数がある。磁気記録媒体はその保存中に腐蝕等による経
時変化から記録された信号の減少あるいは消失があって
はならないことが要求される。さらに磁気記録媒体はヘ
ッドあるいはガイド等との接触運動が円滑になされるべ
くその表面摩擦係数の小さいことが要求される。
録媒体（＝かかわる問題として耐錆性および表面摩擦係
数がある。磁気記録媒体はその保存中に腐蝕等による経
時変化から記録された信号の減少あるいは消失があって
はならないことが要求される。さらに磁気記録媒体はヘ
ッドあるいはガイド等との接触運動が円滑になされるべ
くその表面摩擦係数の小さいことが要求される。
蒸着による磁気記録媒体の耐錆性を改良する方法として
種々提案されているが、その７つに特開昭！７−／り♂
！４ｔ３号、特開昭ｊｒ−／７ｊ４ｔグー／７ｊされて
いるような方法がある。すなわち回転キャンの周側面（
：沿って移動する非磁性基板上に強磁性蒸着薄膜を形成
後、基板を同一キャン面に沿わせた状態で該強磁性薄膜
表面を酸化性ガスを用いたグロー放電雰囲気にさらす方
法である。この方法（二より高温高湿中保存での残留磁
束の減少は改善されるが、他の環境テストにおける耐候
性の改良が常に得られるとは限らず、蒸着膜の表面摩擦
係数にも問題があった。
種々提案されているが、その７つに特開昭！７−／り♂
！４ｔ３号、特開昭ｊｒ−／７ｊ４ｔグー／７ｊされて
いるような方法がある。すなわち回転キャンの周側面（
：沿って移動する非磁性基板上に強磁性蒸着薄膜を形成
後、基板を同一キャン面に沿わせた状態で該強磁性薄膜
表面を酸化性ガスを用いたグロー放電雰囲気にさらす方
法である。この方法（二より高温高湿中保存での残留磁
束の減少は改善されるが、他の環境テストにおける耐候
性の改良が常に得られるとは限らず、蒸着膜の表面摩擦
係数にも問題があった。
本発明の目的は、耐錆性および表面摩擦係数においてす
ぐれる、蒸着法（二よる磁気記録媒体の製造方法を提供
することにある。
ぐれる、蒸着法（二よる磁気記録媒体の製造方法を提供
することにある。
本発明は、回転キャンに沿って移動する非磁性基体上に
蒸着法により強磁性薄膜を形成後、該基体を同一キャン
に沿わせた状態で該強磁性薄膜表面近傍（−酸化性ガス
を導入し且つ該酸化性ガスをグロー放電せしめて磁気記
録媒体を製造する方法において、該強磁性薄膜表面への
単位面積あたりのグロー放電印加エネルギー（Ｇ）を７
．０Ｗ−３ｅｃ／Ｃｍ２以上とすることを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法、に関する。さらに回転キャンに
沿って移動する非磁性基体上に、最小入射角近傍に酸化
性ガスを導入しつつ斜方入射蒸着法により強磁性薄膜を
形成することを特徴とする上記の磁気記録媒体の製造方
法である。さらにまた、最小入射角近傍への酸化性ガス
導入（二よる圧力上昇をΔｐ１．蒸着後の強磁性薄膜表
面近傍への酸化性ガス導入による圧力上昇なΔｐ２とす
る時する上記の磁気記録媒体の製造方法である。
蒸着法により強磁性薄膜を形成後、該基体を同一キャン
に沿わせた状態で該強磁性薄膜表面近傍（−酸化性ガス
を導入し且つ該酸化性ガスをグロー放電せしめて磁気記
録媒体を製造する方法において、該強磁性薄膜表面への
単位面積あたりのグロー放電印加エネルギー（Ｇ）を７
．０Ｗ−３ｅｃ／Ｃｍ２以上とすることを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法、に関する。さらに回転キャンに
沿って移動する非磁性基体上に、最小入射角近傍に酸化
性ガスを導入しつつ斜方入射蒸着法により強磁性薄膜を
形成することを特徴とする上記の磁気記録媒体の製造方
法である。さらにまた、最小入射角近傍への酸化性ガス
導入（二よる圧力上昇をΔｐ１．蒸着後の強磁性薄膜表
面近傍への酸化性ガス導入による圧力上昇なΔｐ２とす
る時する上記の磁気記録媒体の製造方法である。
以下図面を用い本発明の説明を行なう。
第１図は本発明による磁気記録媒体の製造方法を実施す
るための装置の一例を概略的に示す。真空槽／／は隔壁
／２（二より上部の送出し巻取り室／３と蒸着室／４ｔ
に区分されており、それぞれ真空排気口／Ｊ、／ｌによ
り独立（二真空排気されるようになっている。テープ状
非磁性基体／７は送出しロール／？から回転キャン／９
に沿って搬送され巻取りロール２０；：巻取られるよう
；：なっている。回転キャン／？の下方には蒸発源ルツ
ボ２／が配設されており、磁性材料２．２が電子銃λ３
からの電子ビーム、２４ｔの照射により加熱され蒸発さ
れる。磁性材料の蒸気流２！は回転キャン／りに沿って
移動するテープ状非磁性基体／７の表面に到達し強磁性
蒸着膜として析出する。回転キャン／りの近傍；：はマ
スク２６．２７が設置されておりそれぞれ蒸気流２！の
テープ状非磁性基体／７の表面への入射角θｍａｘおよ
び０ｍ ｉ ｎを設定するようになっている。最低入射
角θ ・ の近１ ｎ 傍にはノズル、２／が設けられており酸化性ガスが導入
される。回転キャン／りの近傍にはフードコタが配設さ
れていてガス導入パイプ３０より酸化性ガスがテープ状
非磁性基体１２上の強磁性蒸着膜表面に導入される。フ
ード２９内にはＲＦ放電コイル３／があってＲＦ電源３
．２と接続されている。蒸着室／４ｔの圧力は真空計３
３により測定される。本発明において強磁性薄膜表面へ
の単位面積あたりのグロー放電印加エネルギー（Ｇ）と
は、ＲＦ放電コイルに印加されるノセワー火Ｅ （Ｗ）
とし、グロー放電の印加されるテープ状非磁性基体／７
の幅をｗ（ｃｍ）とし、テープ状非磁性基体／２の回転
キャン／りに沿っての搬送速度なり（ｃｍのである。本
発明者等はグロー放電印加エネルギ性（：てグロー放電
処理を施した場合に耐錆性および表面摩擦係数において
顕著な改良が得られることを見出したものである。
るための装置の一例を概略的に示す。真空槽／／は隔壁
／２（二より上部の送出し巻取り室／３と蒸着室／４ｔ
に区分されており、それぞれ真空排気口／Ｊ、／ｌによ
り独立（二真空排気されるようになっている。テープ状
非磁性基体／７は送出しロール／？から回転キャン／９
に沿って搬送され巻取りロール２０；：巻取られるよう
；：なっている。回転キャン／？の下方には蒸発源ルツ
ボ２／が配設されており、磁性材料２．２が電子銃λ３
からの電子ビーム、２４ｔの照射により加熱され蒸発さ
れる。磁性材料の蒸気流２！は回転キャン／りに沿って
移動するテープ状非磁性基体／７の表面に到達し強磁性
蒸着膜として析出する。回転キャン／りの近傍；：はマ
スク２６．２７が設置されておりそれぞれ蒸気流２！の
テープ状非磁性基体／７の表面への入射角θｍａｘおよ
び０ｍ ｉ ｎを設定するようになっている。最低入射
角θ ・ の近１ ｎ 傍にはノズル、２／が設けられており酸化性ガスが導入
される。回転キャン／りの近傍にはフードコタが配設さ
れていてガス導入パイプ３０より酸化性ガスがテープ状
非磁性基体１２上の強磁性蒸着膜表面に導入される。フ
ード２９内にはＲＦ放電コイル３／があってＲＦ電源３
．２と接続されている。蒸着室／４ｔの圧力は真空計３
３により測定される。本発明において強磁性薄膜表面へ
の単位面積あたりのグロー放電印加エネルギー（Ｇ）と
は、ＲＦ放電コイルに印加されるノセワー火Ｅ （Ｗ）
とし、グロー放電の印加されるテープ状非磁性基体／７
の幅をｗ（ｃｍ）とし、テープ状非磁性基体／２の回転
キャン／りに沿っての搬送速度なり（ｃｍのである。本
発明者等はグロー放電印加エネルギ性（：てグロー放電
処理を施した場合に耐錆性および表面摩擦係数において
顕著な改良が得られることを見出したものである。
さらに本発明における圧力上昇Δｐ／とは酸化性ガスの
ノズルλ♂および導入管３Ｑからの導入なしでの蒸着し
た場合の蒸着室の圧力をｐｏとし、ノズル２ｒのみから
の酸化性ガス導入で蒸着した場合の蒸着室の圧力をｐ／
とする時Δｐｉ＝ｐｉ−ｐｏで与えられ、さらに圧力上
昇Δｐ、２とはノズル２／に加えてガス導入パイプ３０
からも酸化性ガスを導入して蒸着した時の蒸着室の圧力
ｐλとする時Δｐ２＝ｐ、２−ｐ／ を指す。本発明者
等はグロー放電印加エネルギー（Ｇ）が７．０だ磁気記
録媒体は耐錆性がさらに改良されることを見出したもの
である。
ノズルλ♂および導入管３Ｑからの導入なしでの蒸着し
た場合の蒸着室の圧力をｐｏとし、ノズル２ｒのみから
の酸化性ガス導入で蒸着した場合の蒸着室の圧力をｐ／
とする時Δｐｉ＝ｐｉ−ｐｏで与えられ、さらに圧力上
昇Δｐ、２とはノズル２／に加えてガス導入パイプ３０
からも酸化性ガスを導入して蒸着した時の蒸着室の圧力
ｐλとする時Δｐ２＝ｐ、２−ｐ／ を指す。本発明者
等はグロー放電印加エネルギー（Ｇ）が７．０だ磁気記
録媒体は耐錆性がさらに改良されることを見出したもの
である。
本発明における蒸着とは、上記米国特許第３３４１２ｔ
３２号の明細書等に述べられている通常の真空蒸着の他
、電界、磁界あるいは電子ビーム照゛ 射等により蒸気
、流のイオン化、加速化等を行って蒸発分子の平均自由
行程の大きい雰囲気にて支持基体上に薄膜を形成させる
方法をも含むものであって、例えば特開昭ｊ／−／４ｔ
？θθ？号明細書に示されているような電界蒸着法、特
公昭４ｔ３−／／！コ！号、特公昭グご一２０４ｔ／４
を号、特公昭４ｔ７−．２４Ｊ−７り号、特公昭グター
グ６４ｔ３９号、特開昭ダター３３？り０号、特開昭り
９−３４ｔｉｔｒＪ号、特開昭４ｔ９−１３Ｊ号公報ζ
二示されているようなイオン化蒸着法も本発明に用いら
れる。
３２号の明細書等に述べられている通常の真空蒸着の他
、電界、磁界あるいは電子ビーム照゛ 射等により蒸気
、流のイオン化、加速化等を行って蒸発分子の平均自由
行程の大きい雰囲気にて支持基体上に薄膜を形成させる
方法をも含むものであって、例えば特開昭ｊ／−／４ｔ
？θθ？号明細書に示されているような電界蒸着法、特
公昭４ｔ３−／／！コ！号、特公昭グご一２０４ｔ／４
を号、特公昭４ｔ７−．２４Ｊ−７り号、特公昭グター
グ６４ｔ３９号、特開昭ダター３３？り０号、特開昭り
９−３４ｔｉｔｒＪ号、特開昭４ｔ９−１３Ｊ号公報ζ
二示されているようなイオン化蒸着法も本発明に用いら
れる。
本発明により製造される磁気記録媒体は、膜面に水平方
向（２磁化して記録する従来からの水平磁化記録媒体あ
るいは膜面に垂直方向に磁化して記録する垂直磁化記録
媒体いずれでも良く、前者の場合は第１図に示すような
Ｃｏ−Ｎｉ系等磁性金属の斜方入射蒸着法が用いられ、
後者の場合にはＣｏ−Ｃｒ系あるいはＣｏ系等磁性金属
の垂直入射蒸着法が用いられる。
向（２磁化して記録する従来からの水平磁化記録媒体あ
るいは膜面に垂直方向に磁化して記録する垂直磁化記録
媒体いずれでも良く、前者の場合は第１図に示すような
Ｃｏ−Ｎｉ系等磁性金属の斜方入射蒸着法が用いられ、
後者の場合にはＣｏ−Ｃｒ系あるいはＣｏ系等磁性金属
の垂直入射蒸着法が用いられる。
本発明において斜方入射蒸着法とは基体表面の法線に対
し膜形成金属材料の蒸気流をある入射角θで入射させ基
体表面上に蒸着薄膜を析出させる方法である。本発明に
おいては斜方入射蒸着法により磁性薄膜を形成せしめる
際、入射角θｍａｘｌユて斜方入射蒸着を開始し、基体
の移動と共に入射角θを連続的（＝減少させるよう（２
変化させて入射角θｍｉｎにて磁性薄膜の析出を停止さ
せるものである。
し膜形成金属材料の蒸気流をある入射角θで入射させ基
体表面上に蒸着薄膜を析出させる方法である。本発明に
おいては斜方入射蒸着法により磁性薄膜を形成せしめる
際、入射角θｍａｘｌユて斜方入射蒸着を開始し、基体
の移動と共に入射角θを連続的（＝減少させるよう（２
変化させて入射角θｍｉｎにて磁性薄膜の析出を停止さ
せるものである。
磁性金属蒸着膜コの膜厚は磁気記録媒体として充分な出
力を与え得る厚さおよび高密度記録の充分行える薄さを
必要とすることから約θ、０．２μｍから！。θμｍ、
好ましくは０．０２μｍから２．０μｍである。
力を与え得る厚さおよび高密度記録の充分行える薄さを
必要とすることから約θ、０．２μｍから！。θμｍ、
好ましくは０．０２μｍから２．０μｍである。
本発明に用いられる磁性金属材料としては、Ｆｅ、Ｃｏ
、 Ｎｉ等の金属、あるいはｌ’ｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ
ＸＣｏ−Ｎｉ、 Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ。
、 Ｎｉ等の金属、あるいはｌ’ｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ
ＸＣｏ−Ｎｉ、 Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ。
Ｆｅ−Ｒｈ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃ
ｏ−Ｙ、Ｃｏ−１，ａ、Ｃｏ−ｐｒ、Ｃ。
ｏ−Ｙ、Ｃｏ−１，ａ、Ｃｏ−ｐｒ、Ｃ。
−Ｇｄ、Ｃｏ−８ｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ％Ｆｅ−
ＣｒＸＣｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、
Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ、 Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ ｉ −Ｃｒ等の
強磁性合金である。
ＣｒＸＣｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、
Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ、 Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ ｉ −Ｃｒ等の
強磁性合金である。
本発明に用いられる基体としてはポリエチレンテレフタ
レート１．ポリイミド、ポリアミド、ポリ［化ビニル、
三酢酸セルロース、ポリカポネート、ポリエチレンナフ
タレートのようなシラスチック（−スが好ましい。
レート１．ポリイミド、ポリアミド、ポリ［化ビニル、
三酢酸セルロース、ポリカポネート、ポリエチレンナフ
タレートのようなシラスチック（−スが好ましい。
本発明の磁気記録媒体においては、必要に応じ潤滑剤層
あるいは支持体裏面にいわゆるバック層を設けてもよい
。
あるいは支持体裏面にいわゆるバック層を設けてもよい
。
また、磁性金属蒸着膜と支持体との間（二有機あるいは
無機物からなる層を設けてもよい。
無機物からなる層を設けてもよい。
次に実施例をもって本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
第１図（＝示した巻取り式蒸着装置を用いて、り。
１μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上（：
斜方入射蒸着法によりＣｏ−Ｎ１（ＮｉＪＯ重量％）蒸
着磁性薄膜を形成させて磁気テープを形成せしめた。フ
ィルム幅は３００ｍｍとし、搬送速度はグθｍ／分、θ
ｍａｘは９０°、０ｍ ｉ ｎは３！０とし膜厚θ、／
夕μｍとなるよう磁性薄膜を形成した。ＲＦコイル３／
に印加されるパワーを種々変化させることにより磁性薄
膜表面への単位面積あたりのグロー放電印加エネルギー
ＣＧ）の変ったサンプルを作製した。同時にノズル２？
からの酸素ガス一定導入量３ｒＯｃｃ１分に対し、導入
管３θからの酸素ガスの導入量を変化させるルを作製し
た。ノズルコ♂からのみ酸素ガス３／ＱＣＣ７分を導入
した時の蒸着室の圧力ｐ／はハ／Ｘ１０−４’ｌ’ｏｒ
ｒでΔｐ／）ｔｔｘｌｏ−５’ｌ’ｏｒｒであった。こ
うして得られた磁気テープの耐錆性および表面摩擦係数
を測定した。耐錆性についてはＪＩＳＺコ３２／の塩水
噴霧テスト法に準拠し！チ濃度の塩水噴霧テストを７２
時間実施後の錆の発生状況を！段階評価により調べた。
斜方入射蒸着法によりＣｏ−Ｎ１（ＮｉＪＯ重量％）蒸
着磁性薄膜を形成させて磁気テープを形成せしめた。フ
ィルム幅は３００ｍｍとし、搬送速度はグθｍ／分、θ
ｍａｘは９０°、０ｍ ｉ ｎは３！０とし膜厚θ、／
夕μｍとなるよう磁性薄膜を形成した。ＲＦコイル３／
に印加されるパワーを種々変化させることにより磁性薄
膜表面への単位面積あたりのグロー放電印加エネルギー
ＣＧ）の変ったサンプルを作製した。同時にノズル２？
からの酸素ガス一定導入量３ｒＯｃｃ１分に対し、導入
管３θからの酸素ガスの導入量を変化させるルを作製し
た。ノズルコ♂からのみ酸素ガス３／ＱＣＣ７分を導入
した時の蒸着室の圧力ｐ／はハ／Ｘ１０−４’ｌ’ｏｒ
ｒでΔｐ／）ｔｔｘｌｏ−５’ｌ’ｏｒｒであった。こ
うして得られた磁気テープの耐錆性および表面摩擦係数
を測定した。耐錆性についてはＪＩＳＺコ３２／の塩水
噴霧テスト法に準拠し！チ濃度の塩水噴霧テストを７２
時間実施後の錆の発生状況を！段階評価により調べた。
表面摩擦係数については５ＵＳＪθＺの直径ｔｍｍの棒
に対する速度／ｇｍｍ／ｓｅｃでの磁性薄膜面の動摩擦
係数を調べた。結果は表／のようである。
に対する速度／ｇｍｍ／ｓｅｃでの磁性薄膜面の動摩擦
係数を調べた。結果は表／のようである。
実施例ユ
第７図に示した巻取り式蒸着装置を用いて／２゜！μｍ
厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に斜方入射
熱着法によりＣｏＣｒ （Ｃｒ／を重量％）蒸着磁性薄
膜を形成させて磁気テープを作製した。フィルム幅はに
ｏｏｍｍとしθｍａｘ は９０°、０ｍ ｉ ｎはグθ
０とし膜厚は０．２２μｍとなるよう磁性薄膜を形成し
た。ＲＦコイル３／に印加される。ｅワーはダ、θｋＷ
とし、搬送速度を変化させることによって磁性薄膜表面
への単位面積あたりのグロー放電印加エネルギー（Ｇ）
の変化したサンプルを得た。ノズル２？からの酸素ガス
導入量をｚｏｏｃｃｙ分とし導入管３θからの酸素ガス
導入量を変化させることにより種々のノズルλ？からの
み酸素ガス導入時の蒸着室の圧力ｐ／はり×／θ−５’
ｌ’ｏｒｒでΔｐ／は＠Ｘ１Ｏ−５ＴＯｒｒであった。
厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に斜方入射
熱着法によりＣｏＣｒ （Ｃｒ／を重量％）蒸着磁性薄
膜を形成させて磁気テープを作製した。フィルム幅はに
ｏｏｍｍとしθｍａｘ は９０°、０ｍ ｉ ｎはグθ
０とし膜厚は０．２２μｍとなるよう磁性薄膜を形成し
た。ＲＦコイル３／に印加される。ｅワーはダ、θｋＷ
とし、搬送速度を変化させることによって磁性薄膜表面
への単位面積あたりのグロー放電印加エネルギー（Ｇ）
の変化したサンプルを得た。ノズル２？からの酸素ガス
導入量をｚｏｏｃｃｙ分とし導入管３θからの酸素ガス
導入量を変化させることにより種々のノズルλ？からの
み酸素ガス導入時の蒸着室の圧力ｐ／はり×／θ−５’
ｌ’ｏｒｒでΔｐ／は＠Ｘ１Ｏ−５ＴＯｒｒであった。
こうして得られた磁気テープの耐錆性、表面摩擦係数を
実施例／と同様にして測定したところ表コのようであっ
た。
実施例／と同様にして測定したところ表コのようであっ
た。
上の実施例から明らかなように強磁性薄膜表面への単位
面積あたりのグロー放電印加エネルギー（Ｇ）を１．θ
Ｗ−３ｅｃ／Ｃｍ２以上となる条件（：で作製した磁気
記録媒体はすぐれた耐錆性、および表面摩擦係数を示す
ものである。
面積あたりのグロー放電印加エネルギー（Ｇ）を１．θ
Ｗ−３ｅｃ／Ｃｍ２以上となる条件（：で作製した磁気
記録媒体はすぐれた耐錆性、および表面摩擦係数を示す
ものである。
このように本発明の製造方法によれば耐錆性および表面
摩擦係数の著しく改良された金属薄膜型磁気記録媒体を
製造することができるもので、本方法による金属薄膜型
磁気記録媒体の実用上のメリットは大である。
摩擦係数の著しく改良された金属薄膜型磁気記録媒体を
製造することができるもので、本方法による金属薄膜型
磁気記録媒体の実用上のメリットは大である。
第１図は本発明による磁気記録媒体の製造方法を実施す
るための装置の一例を概略的に示している。 ／／・・・・・・真空槽 ／２・・・・・・隔壁 ／３・・・・・・巻取室 ／４ｔ・・・・・・蒸着室 ／Ｊ−、／ｌ・・・・・・真空排気 ／７・・・・・・テープ状非磁性基体 ／ｌ・・・・・・送出シロール ／９・・・・・・回転キャン コθ・・・・・・巻取ロール ２／・・・・・・蒸発源ルツボ コ２・・・・・・磁性材料 λ３・・・・・・電子銃 ２４ｔ・・・・・・電子ビーム ２！・・・・・・蒸気流 コ乙、２７・・・・・・マスク コ♂・・・・・・ノズル ２９・・・・・・フード ３θ・・・・・・ガス導入ノミイブ ３／・・・・・・ＲＦコイル ３．２・・・・・・ＲＦ電源 ３３・・・・・・真空計
るための装置の一例を概略的に示している。 ／／・・・・・・真空槽 ／２・・・・・・隔壁 ／３・・・・・・巻取室 ／４ｔ・・・・・・蒸着室 ／Ｊ−、／ｌ・・・・・・真空排気 ／７・・・・・・テープ状非磁性基体 ／ｌ・・・・・・送出シロール ／９・・・・・・回転キャン コθ・・・・・・巻取ロール ２／・・・・・・蒸発源ルツボ コ２・・・・・・磁性材料 λ３・・・・・・電子銃 ２４ｔ・・・・・・電子ビーム ２！・・・・・・蒸気流 コ乙、２７・・・・・・マスク コ♂・・・・・・ノズル ２９・・・・・・フード ３θ・・・・・・ガス導入ノミイブ ３／・・・・・・ＲＦコイル ３．２・・・・・・ＲＦ電源 ３３・・・・・・真空計
Claims (3)
- （１）回転キヤンに沿つて移動する非磁性基体上に蒸着
により強磁性薄膜を形成後、該基体を同一キヤンに沿わ
せた状態で該強磁性薄膜表面近傍に酸化性ガスを導入し
且つ該酸化性ガスをグロー放電せしめて磁気記録媒体を
製造する方法において、該強磁性薄膜表面への単位面積
あたりのグロー放電印加エネルギーを１．０Ｗ・ｓｅｃ
／ｃｍ＾２以上とすることを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。 - （２）回転キヤンに沿つて移動する非磁性基体上に、最
小入射角近傍に酸化性ガスを導入しつつ斜方入射蒸着法
により強磁性薄膜を形成することを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の磁気記録媒体の製造方法。 - （３）最小入射角近傍への酸化性ガス導入による圧力上
昇をΔｐ１、蒸着後の強磁性薄膜表面近傍への酸化性ガ
ス導入による圧力上昇をΔｐ２とする時Δｐ２／Δｐ１
が５以上となるようにすることを特徴とする特許請求の
範囲第２項記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60077303A JPH0685216B2 (ja) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US06/850,309 US4652460A (en) | 1985-04-11 | 1986-04-10 | Process for preparing magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60077303A JPH0685216B2 (ja) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61236025A true JPS61236025A (ja) | 1986-10-21 |
| JPH0685216B2 JPH0685216B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=13630139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60077303A Expired - Lifetime JPH0685216B2 (ja) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4652460A (ja) |
| JP (1) | JPH0685216B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6154023A (ja) * | 1984-08-24 | 1986-03-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63282921A (ja) * | 1987-05-15 | 1988-11-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| DE4101195A1 (de) * | 1991-01-21 | 1992-07-23 | Basf Magnetics Gmbh | Verfahren zur herstellung eines magnetischen aufzeichnungstraegers |
| JP2988188B2 (ja) * | 1992-09-09 | 1999-12-06 | 松下電器産業株式会社 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| DE4308632B4 (de) * | 1993-03-18 | 2007-10-04 | Applied Materials Gmbh & Co. Kg | Verfahren und Vorrichtung zum Nachbehandeln von Aluminium-beschichteten Kunststoff-Folien |
| KR20180034771A (ko) * | 2016-09-27 | 2018-04-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 조립체, 이를 포함하는 증착 장치, 및 마스크 조립체의 제조방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59119543A (ja) * | 1982-12-25 | 1984-07-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS59124035A (ja) * | 1982-12-30 | 1984-07-18 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3232520A1 (de) * | 1981-09-03 | 1983-03-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | Verfahren zur herstellung eines magnetischen aufzeichnungstraegers |
| JPS58130443A (ja) * | 1982-01-28 | 1983-08-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1985
- 1985-04-11 JP JP60077303A patent/JPH0685216B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-04-10 US US06/850,309 patent/US4652460A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59119543A (ja) * | 1982-12-25 | 1984-07-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS59124035A (ja) * | 1982-12-30 | 1984-07-18 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0685216B2 (ja) | 1994-10-26 |
| US4652460A (en) | 1987-03-24 |
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