JPS5944826A - マスク合わせ装置 - Google Patents
マスク合わせ装置Info
- Publication number
- JPS5944826A JPS5944826A JP57154653A JP15465382A JPS5944826A JP S5944826 A JPS5944826 A JP S5944826A JP 57154653 A JP57154653 A JP 57154653A JP 15465382 A JP15465382 A JP 15465382A JP S5944826 A JPS5944826 A JP S5944826A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- mask
- transparent plate
- alignment
- mark
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔＝）６明の技術分Ｉ叶〕
この発明な−」、坐禅体製ノ゛ムにおけるマスク合わせ
装置ｔ＜（に閏する。
装置ｔ＜（に閏する。
半導体ウェハ（以ＩＸ、ｆ！ウェハと略称）に光彫刻金
施すのに、ウェハに感光液を塗布し、そのオリ−エンチ
ージョンフラット部によってマスクと位置合わせを行な
い、マスクを通して貼光を施１７てそのマスクパターン
をウェハの感光膜に転写する工Ｋｅｇがある。
施すのに、ウェハに感光液を塗布し、そのオリ−エンチ
ージョンフラット部によってマスクと位置合わせを行な
い、マスクを通して貼光を施１７てそのマスクパターン
をウェハの感光膜に転写する工Ｋｅｇがある。
上記ウェハとマスクとの位置合わせはウニノーをマスク
に対し密接させるとマスクのパターン＋ ｙ’ｒ。
に対し密接させるとマスクのパターン＋ ｙ’ｒ。
はウェハの感光＋＋ｑを損傷するので、若干の間隙をお
いて、すなわち非接触の状ｙ心で相メ１位１１１合わ１
．ＪをＪｊｔ！＋ したのち、密フイさせてノ９［定時
間の熱光をなＬ７、ついでウェハを離脱さぜ′Ｃ次工程
に移行する２、上記位１べ合わせの詳細は、ウェハをオ
リエンテーションフラット部で高精度に位ＩＩｑ合わ＋
４：を付なつ゛Ｃ保持治具に装着したのち、搬送ユニッ
トて崩冗ステージへ正４ｉ（ｄに搬送載置し、マスクを
接１１・１！さく、？ ／７−のち所定間隙をもたせる
か、−１〕こり」、マスクとり−１−ハをはじめから所
定間１１’Ａに設けるだめの手段が１酒ぜしれている。
いて、すなわち非接触の状ｙ心で相メ１位１１１合わ１
．ＪをＪｊｔ！＋ したのち、密フイさせてノ９［定時
間の熱光をなＬ７、ついでウェハを離脱さぜ′Ｃ次工程
に移行する２、上記位１べ合わせの詳細は、ウェハをオ
リエンテーションフラット部で高精度に位ＩＩｑ合わ＋
４：を付なつ゛Ｃ保持治具に装着したのち、搬送ユニッ
トて崩冗ステージへ正４ｉ（ｄに搬送載置し、マスクを
接１１・１！さく、？ ／７−のち所定間隙をもたせる
か、−１〕こり」、マスクとり−１−ハをはじめから所
定間１１’Ａに設けるだめの手段が１酒ぜしれている。
この手段と１７て仁１ステーソに１−ド動機イｒｔｔ
、さらにはストッパ等を設けたものがある。
、さらにはストッパ等を設けたものがある。
１だ、マスクどウェハとの位置合わせを両者に付したマ
ークに」、ってこれらを一致させて施すものもある。
ークに」、ってこれらを一致させて施すものもある。
〔背ち（技術の間Ｍ”１点〕
上記従来の技術によれば、マスク交換を要するとき、そ
の工４呈にかかつている１枚目のウェハをマスクの直下
に（般送してマスク合わヒを施す必要があり、手間がか
かる上にそのウェハを不良にしてしまうことがある。
の工４呈にかかつている１枚目のウェハをマスクの直下
に（般送してマスク合わヒを施す必要があり、手間がか
かる上にそのウェハを不良にしてしまうことがある。
また、マスク合わぜにウェハとマスクに位１を１合わせ
のためのマークを入れることはマーク（＝Ｊり工程を装
すること、マーク部分のウェハは不良となるのでのらに
除去する必要があって歩留前で不利であるなどの問題点
がある。
のためのマークを入れることはマーク（＝Ｊり工程を装
すること、マーク部分のウェハは不良となるのでのらに
除去する必要があって歩留前で不利であるなどの問題点
がある。
この発明は１１Ｌ来の技術の問題点に鑑みてなされたＶ
Ｉ＋１規なマスク合わぜ裟祷を提供する。
Ｉ＋１規なマスク合わぜ裟祷を提供する。
この発明にかかる半導体用マスク合わせ装置はウェハを
定位装着し垂直に上下動するウェハ支持部と、ウェハ支
持部の垂直上方に位置し主面に１組の交差線がマークさ
れた板状透明体でなりとσ）マークをウェハのオリエン
テーションフラット、￥Ｉβ部とウェハの外周に対する
切線に一致させる位１ｆ’ｉ調整機構を備えた位置合わ
せ媒体と、前記ウェハ支持部と前記位置合わせ媒体との
中間で垂直に−［−下１ｉｂするマスク保持部と、前記
マスク保持部のマスクを前記位置合わせ媒体に近接させ
この媒体のマークにマスクの基準マークを対応させるマ
スク位１ｇ（ｐＷｊ整装整綿置部具１ｉｔＩ Ｌ／たこ
とケ＋ｉ＝￥徴とし、透明板状の位置合わせ媒体を定位
支持されるウェハに対し位置合わせしておき、位置合わ
せ媒体にマスクを位置合わせして保持し、多数ウェハを
、１ｙ次ウェハ支持部に支持させてマスクに位置合わせ
し露光を施すようにしたものである。
定位装着し垂直に上下動するウェハ支持部と、ウェハ支
持部の垂直上方に位置し主面に１組の交差線がマークさ
れた板状透明体でなりとσ）マークをウェハのオリエン
テーションフラット、￥Ｉβ部とウェハの外周に対する
切線に一致させる位１ｆ’ｉ調整機構を備えた位置合わ
せ媒体と、前記ウェハ支持部と前記位置合わせ媒体との
中間で垂直に−［−下１ｉｂするマスク保持部と、前記
マスク保持部のマスクを前記位置合わせ媒体に近接させ
この媒体のマークにマスクの基準マークを対応させるマ
スク位１ｇ（ｐＷｊ整装整綿置部具１ｉｔＩ Ｌ／たこ
とケ＋ｉ＝￥徴とし、透明板状の位置合わせ媒体を定位
支持されるウェハに対し位置合わせしておき、位置合わ
せ媒体にマスクを位置合わせして保持し、多数ウェハを
、１ｙ次ウェハ支持部に支持させてマスクに位置合わせ
し露光を施すようにしたものである。
次にこの発明を１実施例につき図面をき照１〜て詳細に
説明する。
説明する。
まず第１図および第２図にウェハと位１６合わせ媒体と
の位置合わせを示す。図における（１）はウェハで、水
平の修正が可能なステージ（２）（（２ａ）は水平修正
のだめのベアリング）上に定位載置される。
の位置合わせを示す。図における（１）はウェハで、水
平の修正が可能なステージ（２）（（２ａ）は水平修正
のだめのベアリング）上に定位載置される。
また、上記ステージ（２）は上下動駆動源（３ａ）によ
って上下動し、かつ、垂直を保持する垂直動筒体（３ｂ
）の填部に取着されてなり、前記ステージとともにウェ
ハ支持部側を形成する。
って上下動し、かつ、垂直を保持する垂直動筒体（３ｂ
）の填部に取着されてなり、前記ステージとともにウェ
ハ支持部側を形成する。
次に、（４）は前記ウェハ支持部の垂直上方に配置され
た板状透明の位置合わせ媒体（以下透明板と略称）で、
−例のアクリル樹脂でなり、その主面に有色または蝕刻
の交差線を有する。図における（５ａ）、（５ｈ）はマ
ークされた交差線で、その一方（５ａ）ハウエバのオリ
エンテーションフラット膚に、他方（５ｂ）は前記交差
Ｉ！１Ｉｉｌ（５ａ）に−例として直交しウェハの周縁
に対する１つの切純に夫々一致される。
た板状透明の位置合わせ媒体（以下透明板と略称）で、
−例のアクリル樹脂でなり、その主面に有色または蝕刻
の交差線を有する。図における（５ａ）、（５ｈ）はマ
ークされた交差線で、その一方（５ａ）ハウエバのオリ
エンテーションフラット膚に、他方（５ｂ）は前記交差
Ｉ！１Ｉｉｌ（５ａ）に−例として直交しウェハの周縁
に対する１つの切純に夫々一致される。
また、上記透明板（４）は支持体（６）を介して後述す
るマスクボルタとともに装置本体（７）に取着されてい
る。この透明板は支持体（６）に位置調節ができるよう
に例えｔ、「ねじ孔がばか孔になっており、位置調節１
輪に締結する。この操作ｔよウェハの→ノ゛イズが変わ
らない限り１回でよい。また、支持体（６）は装置本体
（力にきわめて高い精度で着脱自在にｌＴｑ 、Ｍされ
ている。
るマスクボルタとともに装置本体（７）に取着されてい
る。この透明板は支持体（６）に位置調節ができるよう
に例えｔ、「ねじ孔がばか孔になっており、位置調節１
輪に締結する。この操作ｔよウェハの→ノ゛イズが変わ
らない限り１回でよい。また、支持体（６）は装置本体
（力にきわめて高い精度で着脱自在にｌＴｑ 、Ｍされ
ている。
次にマスクを上記透明板に位１言合わせする機構は第３
図および第４図に示すように、まず、ステージ（２）を
下降させておき、マスク（８）を位置ｎ＋、ｊｌ整のＸ
スライド（９）、 Ｙスライド機構）、θスライド を
備えるマスクホルダ０力に上記スライド機構を介してＪ
４Ｖ。
図および第４図に示すように、まず、ステージ（２）を
下降させておき、マスク（８）を位置ｎ＋、ｊｌ整のＸ
スライド（９）、 Ｙスライド機構）、θスライド を
備えるマスクホルダ０力に上記スライド機構を介してＪ
４Ｖ。
着する。そして、各スライド機構を夫々のつまみ、Ｘス
ライドつまみ（９ａ）、 Ｙスライドつまみ（１１ａ・
。
ライドつまみ（９ａ）、 Ｙスライドつまみ（１１ａ・
。
θスライドつまみ（１２ａ）で操作して透明板（４）の
前記交差線（５ａ）、（５ｂ）の夫々より内側に平行に
設けられた交差線（５ｃ）、（５ｄ）にマスクパターン
の所定のラインに一致させる。交差４９７に対応させる
状１川を第５図に示す。マスクパターンに合わせるだめ
の交差線（５ｃ）、（５ｒｌ）の位＋１１はウェハ」二
に最も数多く欠けのないチップを得るために、予めコン
ピュータを用いて算出しておいたものである。
前記交差線（５ａ）、（５ｂ）の夫々より内側に平行に
設けられた交差線（５ｃ）、（５ｄ）にマスクパターン
の所定のラインに一致させる。交差４９７に対応させる
状１川を第５図に示す。マスクパターンに合わせるだめ
の交差線（５ｃ）、（５ｒｌ）の位＋１１はウェハ」二
に最も数多く欠けのないチップを得るために、予めコン
ピュータを用いて算出しておいたものである。
斜上の如くして位置合わせが達成されるので、ウェハと
マスクを所定の間隔に近］桧させて蹟光規。
マスクを所定の間隔に近］桧させて蹟光規。
付を施せばウェハにマスクパターンを位１ｎ合わせした
のと同じことになるので、マスクに対し以降ウェハをス
デージ」二に定位ずれば１ｖ１ちにマスクに位置合わせ
されたことになる。
のと同じことになるので、マスクに対し以降ウェハをス
デージ」二に定位ずれば１ｖ１ちにマスクに位置合わせ
されたことになる。
〔発明の列１果〕
この発明によれｒ、ｌ： 、ウェハ、゛またはマスクに
変更がない限り、透明板によって、透明板とウェハ、透
明板とマスクとを位置合わせしておけば、個々の位置合
わせをしないで逐次ウェハにマスクパターンを焼料でき
る。このだめ、操作の能率が著るしく向上をみるととも
にマスクのＪｊｊ １Ｎも低減するので廉価になるなど
の顕著な利点がある。
変更がない限り、透明板によって、透明板とウェハ、透
明板とマスクとを位置合わせしておけば、個々の位置合
わせをしないで逐次ウェハにマスクパターンを焼料でき
る。このだめ、操作の能率が著るしく向上をみるととも
にマスクのＪｊｊ １Ｎも低減するので廉価になるなど
の顕著な利点がある。
ｒ、：Ｈ１図ないしｉｆｆ’、 ５図はいずれもこの発
明の１実施例を説明するだめのもので、第１図は透明板
とウェハとの位置合わせを示ず装置の上１１１１図、第
２図シ↓！−ｆ’＞ １図の１１１「面図、亀コ３図は
マスクと透明板との１９＋ｊｇｉ合わせを示す製置の上
面図、第４図（よ第３図の１９ｉ面図、２：＋Ｅ５図は
マスク、透明板、つ上ハ間の対１６を罰、明−載るだめ
の斜視図である。 １ ウ ｊニ ）−４位
置合わせ媒体（透明板） ５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ透明板のｖ差線（）と嘔１へマ
ーク）８ マスク ９ 、１１．１２ 位１ｆｉ’ｔ ｉｉ’４ Ｊ’ｊ
Ｙ ＩＩＱ ４Ｎリ ウエノｈ支持部 代理人 弁理士 井 上 −力 筒 １ 図 第 ２ 図 第 ３ 図 第 ４ 図
明の１実施例を説明するだめのもので、第１図は透明板
とウェハとの位置合わせを示ず装置の上１１１１図、第
２図シ↓！−ｆ’＞ １図の１１１「面図、亀コ３図は
マスクと透明板との１９＋ｊｇｉ合わせを示す製置の上
面図、第４図（よ第３図の１９ｉ面図、２：＋Ｅ５図は
マスク、透明板、つ上ハ間の対１６を罰、明−載るだめ
の斜視図である。 １ ウ ｊニ ）−４位
置合わせ媒体（透明板） ５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ透明板のｖ差線（）と嘔１へマ
ーク）８ マスク ９ 、１１．１２ 位１ｆｉ’ｔ ｉｉ’４ Ｊ’ｊ
Ｙ ＩＩＱ ４Ｎリ ウエノｈ支持部 代理人 弁理士 井 上 −力 筒 １ 図 第 ２ 図 第 ３ 図 第 ４ 図
Claims (1)
- ウェハを定位装着し垂直に上下動するウェハ支持部と、
前記・′１エバ支持部の垂直上方に位１召、シ主面に１
絹のｙ差に、♀がマークされた板状透明体でなりこのマ
ークをウェハのオリエンテーションフラット線部とウェ
ハの外周に対する切線に一致させる位ｉｉ’ｉ’、 Ｎ
’ｌ整４Ａ ４１＃を備えた位置合わせ媒体と、前８己
ウェハ支持部と前記位筐１合わせ媒体との中間で垂直に
上Ｆ！ＩＩＩＩするマスク保持部と、前記マスク保持）
’；Ｉ＋のマスクを６１１記ｒ〜を直合わせ媒体に近接
さゼこの媒体のマークにマスクの基準マークを対応さぜ
るマスク位１１ｖ調整礎置邸と金共備１−だマスク合わ
せ装ｊ’４．。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57154653A JPS5944826A (ja) | 1982-09-07 | 1982-09-07 | マスク合わせ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57154653A JPS5944826A (ja) | 1982-09-07 | 1982-09-07 | マスク合わせ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5944826A true JPS5944826A (ja) | 1984-03-13 |
Family
ID=15588934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57154653A Pending JPS5944826A (ja) | 1982-09-07 | 1982-09-07 | マスク合わせ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5944826A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102018131358A1 (de) | 2017-12-22 | 2019-06-27 | Toyo Tire & Rubber Co., Ltd. | Luftreifen |
| DE102018131338A1 (de) | 2017-12-22 | 2019-06-27 | Toyo Tire & Rubber Co., Ltd. | Luftreifen |
-
1982
- 1982-09-07 JP JP57154653A patent/JPS5944826A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102018131358A1 (de) | 2017-12-22 | 2019-06-27 | Toyo Tire & Rubber Co., Ltd. | Luftreifen |
| DE102018131338A1 (de) | 2017-12-22 | 2019-06-27 | Toyo Tire & Rubber Co., Ltd. | Luftreifen |
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