JPS5944826A - マスク合わせ装置 - Google Patents
マスク合わせ装置Info
- Publication number
- JPS5944826A JPS5944826A JP57154653A JP15465382A JPS5944826A JP S5944826 A JPS5944826 A JP S5944826A JP 57154653 A JP57154653 A JP 57154653A JP 15465382 A JP15465382 A JP 15465382A JP S5944826 A JPS5944826 A JP S5944826A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- mask
- transparent plate
- alignment
- mark
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔=)6明の技術分I叶〕
この発明な−」、坐禅体製ノ゛ムにおけるマスク合わせ
装置t<(に閏する。
装置t<(に閏する。
半導体ウェハ(以IX、f!ウェハと略称)に光彫刻金
施すのに、ウェハに感光液を塗布し、そのオリ−エンチ
ージョンフラット部によってマスクと位置合わせを行な
い、マスクを通して貼光を施17てそのマスクパターン
をウェハの感光膜に転写する工Kegがある。
施すのに、ウェハに感光液を塗布し、そのオリ−エンチ
ージョンフラット部によってマスクと位置合わせを行な
い、マスクを通して貼光を施17てそのマスクパターン
をウェハの感光膜に転写する工Kegがある。
上記ウェハとマスクとの位置合わせはウニノーをマスク
に対し密接させるとマスクのパターン+ y’r。
に対し密接させるとマスクのパターン+ y’r。
はウェハの感光++qを損傷するので、若干の間隙をお
いて、すなわち非接触の状y心で相メ1位111合わ1
.JをJjt!+ したのち、密フイさせてノ9[定時
間の熱光をなL7、ついでウェハを離脱さぜ′C次工程
に移行する2、上記位1べ合わせの詳細は、ウェハをオ
リエンテーションフラット部で高精度に位IIq合わ+
4:を付なつ゛C保持治具に装着したのち、搬送ユニッ
トて崩冗ステージへ正4i(dに搬送載置し、マスクを
接11・1!さく、? /7−のち所定間隙をもたせる
か、−1〕こり」、マスクとり−1−ハをはじめから所
定間11’Aに設けるだめの手段が1酒ぜしれている。
いて、すなわち非接触の状y心で相メ1位111合わ1
.JをJjt!+ したのち、密フイさせてノ9[定時
間の熱光をなL7、ついでウェハを離脱さぜ′C次工程
に移行する2、上記位1べ合わせの詳細は、ウェハをオ
リエンテーションフラット部で高精度に位IIq合わ+
4:を付なつ゛C保持治具に装着したのち、搬送ユニッ
トて崩冗ステージへ正4i(dに搬送載置し、マスクを
接11・1!さく、? /7−のち所定間隙をもたせる
か、−1〕こり」、マスクとり−1−ハをはじめから所
定間11’Aに設けるだめの手段が1酒ぜしれている。
この手段と17て仁1ステーソに1−ド動機イrtt
、さらにはストッパ等を設けたものがある。
、さらにはストッパ等を設けたものがある。
1だ、マスクどウェハとの位置合わせを両者に付したマ
ークに」、ってこれらを一致させて施すものもある。
ークに」、ってこれらを一致させて施すものもある。
〔背ち(技術の間M”1点〕
上記従来の技術によれば、マスク交換を要するとき、そ
の工4呈にかかつている1枚目のウェハをマスクの直下
に(般送してマスク合わヒを施す必要があり、手間がか
かる上にそのウェハを不良にしてしまうことがある。
の工4呈にかかつている1枚目のウェハをマスクの直下
に(般送してマスク合わヒを施す必要があり、手間がか
かる上にそのウェハを不良にしてしまうことがある。
また、マスク合わぜにウェハとマスクに位1を1合わせ
のためのマークを入れることはマーク(=Jり工程を装
すること、マーク部分のウェハは不良となるのでのらに
除去する必要があって歩留前で不利であるなどの問題点
がある。
のためのマークを入れることはマーク(=Jり工程を装
すること、マーク部分のウェハは不良となるのでのらに
除去する必要があって歩留前で不利であるなどの問題点
がある。
この発明は11L来の技術の問題点に鑑みてなされたV
I+1規なマスク合わぜ裟祷を提供する。
I+1規なマスク合わぜ裟祷を提供する。
この発明にかかる半導体用マスク合わせ装置はウェハを
定位装着し垂直に上下動するウェハ支持部と、ウェハ支
持部の垂直上方に位置し主面に1組の交差線がマークさ
れた板状透明体でなりとσ)マークをウェハのオリエン
テーションフラット、¥Iβ部とウェハの外周に対する
切線に一致させる位1f’i調整機構を備えた位置合わ
せ媒体と、前記ウェハ支持部と前記位置合わせ媒体との
中間で垂直に−[−下1ibするマスク保持部と、前記
マスク保持部のマスクを前記位置合わせ媒体に近接させ
この媒体のマークにマスクの基準マークを対応させるマ
スク位1g(pWj整装整綿置部具1itI L/たこ
とケ+i=¥徴とし、透明板状の位置合わせ媒体を定位
支持されるウェハに対し位置合わせしておき、位置合わ
せ媒体にマスクを位置合わせして保持し、多数ウェハを
、1y次ウェハ支持部に支持させてマスクに位置合わせ
し露光を施すようにしたものである。
定位装着し垂直に上下動するウェハ支持部と、ウェハ支
持部の垂直上方に位置し主面に1組の交差線がマークさ
れた板状透明体でなりとσ)マークをウェハのオリエン
テーションフラット、¥Iβ部とウェハの外周に対する
切線に一致させる位1f’i調整機構を備えた位置合わ
せ媒体と、前記ウェハ支持部と前記位置合わせ媒体との
中間で垂直に−[−下1ibするマスク保持部と、前記
マスク保持部のマスクを前記位置合わせ媒体に近接させ
この媒体のマークにマスクの基準マークを対応させるマ
スク位1g(pWj整装整綿置部具1itI L/たこ
とケ+i=¥徴とし、透明板状の位置合わせ媒体を定位
支持されるウェハに対し位置合わせしておき、位置合わ
せ媒体にマスクを位置合わせして保持し、多数ウェハを
、1y次ウェハ支持部に支持させてマスクに位置合わせ
し露光を施すようにしたものである。
次にこの発明を1実施例につき図面をき照1〜て詳細に
説明する。
説明する。
まず第1図および第2図にウェハと位16合わせ媒体と
の位置合わせを示す。図における(1)はウェハで、水
平の修正が可能なステージ(2)((2a)は水平修正
のだめのベアリング)上に定位載置される。
の位置合わせを示す。図における(1)はウェハで、水
平の修正が可能なステージ(2)((2a)は水平修正
のだめのベアリング)上に定位載置される。
また、上記ステージ(2)は上下動駆動源(3a)によ
って上下動し、かつ、垂直を保持する垂直動筒体(3b
)の填部に取着されてなり、前記ステージとともにウェ
ハ支持部側を形成する。
って上下動し、かつ、垂直を保持する垂直動筒体(3b
)の填部に取着されてなり、前記ステージとともにウェ
ハ支持部側を形成する。
次に、(4)は前記ウェハ支持部の垂直上方に配置され
た板状透明の位置合わせ媒体(以下透明板と略称)で、
−例のアクリル樹脂でなり、その主面に有色または蝕刻
の交差線を有する。図における(5a)、(5h)はマ
ークされた交差線で、その一方(5a)ハウエバのオリ
エンテーションフラット膚に、他方(5b)は前記交差
I!1Iil(5a)に−例として直交しウェハの周縁
に対する1つの切純に夫々一致される。
た板状透明の位置合わせ媒体(以下透明板と略称)で、
−例のアクリル樹脂でなり、その主面に有色または蝕刻
の交差線を有する。図における(5a)、(5h)はマ
ークされた交差線で、その一方(5a)ハウエバのオリ
エンテーションフラット膚に、他方(5b)は前記交差
I!1Iil(5a)に−例として直交しウェハの周縁
に対する1つの切純に夫々一致される。
また、上記透明板(4)は支持体(6)を介して後述す
るマスクボルタとともに装置本体(7)に取着されてい
る。この透明板は支持体(6)に位置調節ができるよう
に例えt、「ねじ孔がばか孔になっており、位置調節1
輪に締結する。この操作tよウェハの→ノ゛イズが変わ
らない限り1回でよい。また、支持体(6)は装置本体
(力にきわめて高い精度で着脱自在にlTq 、Mされ
ている。
るマスクボルタとともに装置本体(7)に取着されてい
る。この透明板は支持体(6)に位置調節ができるよう
に例えt、「ねじ孔がばか孔になっており、位置調節1
輪に締結する。この操作tよウェハの→ノ゛イズが変わ
らない限り1回でよい。また、支持体(6)は装置本体
(力にきわめて高い精度で着脱自在にlTq 、Mされ
ている。
次にマスクを上記透明板に位1言合わせする機構は第3
図および第4図に示すように、まず、ステージ(2)を
下降させておき、マスク(8)を位置n+、jl整のX
スライド(9)、 Yスライド機構)、θスライド を
備えるマスクホルダ0力に上記スライド機構を介してJ
4V。
図および第4図に示すように、まず、ステージ(2)を
下降させておき、マスク(8)を位置n+、jl整のX
スライド(9)、 Yスライド機構)、θスライド を
備えるマスクホルダ0力に上記スライド機構を介してJ
4V。
着する。そして、各スライド機構を夫々のつまみ、Xス
ライドつまみ(9a)、 Yスライドつまみ(11a・
。
ライドつまみ(9a)、 Yスライドつまみ(11a・
。
θスライドつまみ(12a)で操作して透明板(4)の
前記交差線(5a)、(5b)の夫々より内側に平行に
設けられた交差線(5c)、(5d)にマスクパターン
の所定のラインに一致させる。交差497に対応させる
状1川を第5図に示す。マスクパターンに合わせるだめ
の交差線(5c)、(5rl)の位+11はウェハ」二
に最も数多く欠けのないチップを得るために、予めコン
ピュータを用いて算出しておいたものである。
前記交差線(5a)、(5b)の夫々より内側に平行に
設けられた交差線(5c)、(5d)にマスクパターン
の所定のラインに一致させる。交差497に対応させる
状1川を第5図に示す。マスクパターンに合わせるだめ
の交差線(5c)、(5rl)の位+11はウェハ」二
に最も数多く欠けのないチップを得るために、予めコン
ピュータを用いて算出しておいたものである。
斜上の如くして位置合わせが達成されるので、ウェハと
マスクを所定の間隔に近]桧させて蹟光規。
マスクを所定の間隔に近]桧させて蹟光規。
付を施せばウェハにマスクパターンを位1n合わせした
のと同じことになるので、マスクに対し以降ウェハをス
デージ」二に定位ずれば1v1ちにマスクに位置合わせ
されたことになる。
のと同じことになるので、マスクに対し以降ウェハをス
デージ」二に定位ずれば1v1ちにマスクに位置合わせ
されたことになる。
〔発明の列1果〕
この発明によれr、l: 、ウェハ、゛またはマスクに
変更がない限り、透明板によって、透明板とウェハ、透
明板とマスクとを位置合わせしておけば、個々の位置合
わせをしないで逐次ウェハにマスクパターンを焼料でき
る。このだめ、操作の能率が著るしく向上をみるととも
にマスクのJjj 1Nも低減するので廉価になるなど
の顕著な利点がある。
変更がない限り、透明板によって、透明板とウェハ、透
明板とマスクとを位置合わせしておけば、個々の位置合
わせをしないで逐次ウェハにマスクパターンを焼料でき
る。このだめ、操作の能率が著るしく向上をみるととも
にマスクのJjj 1Nも低減するので廉価になるなど
の顕著な利点がある。
r、:H1図ないしiff’、 5図はいずれもこの発
明の1実施例を説明するだめのもので、第1図は透明板
とウェハとの位置合わせを示ず装置の上1111図、第
2図シ↓!−f’> 1図の111「面図、亀コ3図は
マスクと透明板との19+jgi合わせを示す製置の上
面図、第4図(よ第3図の19i面図、2:+E5図は
マスク、透明板、つ上ハ間の対16を罰、明−載るだめ
の斜視図である。 1 ウ jニ )−4位
置合わせ媒体(透明板) 5a、5b、5c、5d透明板のv差線()と嘔1へマ
ーク)8 マスク 9 、11.12 位1fi’t ii’4 J’j
Y IIQ 4Nリ ウエノh支持部 代理人 弁理士 井 上 −力 筒 1 図 第 2 図 第 3 図 第 4 図
明の1実施例を説明するだめのもので、第1図は透明板
とウェハとの位置合わせを示ず装置の上1111図、第
2図シ↓!−f’> 1図の111「面図、亀コ3図は
マスクと透明板との19+jgi合わせを示す製置の上
面図、第4図(よ第3図の19i面図、2:+E5図は
マスク、透明板、つ上ハ間の対16を罰、明−載るだめ
の斜視図である。 1 ウ jニ )−4位
置合わせ媒体(透明板) 5a、5b、5c、5d透明板のv差線()と嘔1へマ
ーク)8 マスク 9 、11.12 位1fi’t ii’4 J’j
Y IIQ 4Nリ ウエノh支持部 代理人 弁理士 井 上 −力 筒 1 図 第 2 図 第 3 図 第 4 図
Claims (1)
- ウェハを定位装着し垂直に上下動するウェハ支持部と、
前記・′1エバ支持部の垂直上方に位1召、シ主面に1
絹のy差に、♀がマークされた板状透明体でなりこのマ
ークをウェハのオリエンテーションフラット線部とウェ
ハの外周に対する切線に一致させる位ii’i’、 N
’l整4A 41#を備えた位置合わせ媒体と、前8己
ウェハ支持部と前記位筐1合わせ媒体との中間で垂直に
上F!IIIIするマスク保持部と、前記マスク保持)
’;I+のマスクを611記r〜を直合わせ媒体に近接
さゼこの媒体のマークにマスクの基準マークを対応さぜ
るマスク位11v調整礎置邸と金共備1−だマスク合わ
せ装j’4.。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57154653A JPS5944826A (ja) | 1982-09-07 | 1982-09-07 | マスク合わせ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57154653A JPS5944826A (ja) | 1982-09-07 | 1982-09-07 | マスク合わせ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5944826A true JPS5944826A (ja) | 1984-03-13 |
Family
ID=15588934
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57154653A Pending JPS5944826A (ja) | 1982-09-07 | 1982-09-07 | マスク合わせ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5944826A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102018131358A1 (de) | 2017-12-22 | 2019-06-27 | Toyo Tire & Rubber Co., Ltd. | Luftreifen |
DE102018131338A1 (de) | 2017-12-22 | 2019-06-27 | Toyo Tire & Rubber Co., Ltd. | Luftreifen |
-
1982
- 1982-09-07 JP JP57154653A patent/JPS5944826A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102018131358A1 (de) | 2017-12-22 | 2019-06-27 | Toyo Tire & Rubber Co., Ltd. | Luftreifen |
DE102018131338A1 (de) | 2017-12-22 | 2019-06-27 | Toyo Tire & Rubber Co., Ltd. | Luftreifen |
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