JPS59140279A - 半導体チップマウント用の無溶剤型導電性接着剤 - Google Patents

半導体チップマウント用の無溶剤型導電性接着剤

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JPS59140279A
JPS59140279A JP1365783A JP1365783A JPS59140279A JP S59140279 A JPS59140279 A JP S59140279A JP 1365783 A JP1365783 A JP 1365783A JP 1365783 A JP1365783 A JP 1365783A JP S59140279 A JPS59140279 A JP S59140279A
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JP
Japan
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resin
conductive adhesive
triazine
electrically conductive
epoxy resin
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JP1365783A
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English (en)
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JPH045705B2 (ja
Inventor
Teru Okunoyama
奥野山 輝
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Toshiba Chemical Products Co Ltd
Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Toshiba Chemical Products Co Ltd
Toshiba Chemical Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector

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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 し発明の技術分野] 本発明は、絶縁基板や電極にICチップを接着するのに
好適な無溶剤型導電性接着剤に関する。
[発明の技術的背景とその問題点] 金属薄板(リードフレーム)や絶縁基板上の所足部分に
IC,LSIおよびLED等の半導体チップを接続する
工程は、素子の長期信頼性に影響を与える重要な工程の
ひとつである。
従来からこの方法のひとつとして、チップ裏面の3iを
リードフレーム上のAUメッキ面に加熱圧着し、Al1
−3iの共晶法が主流であった。
しかし、近年の貴金属、特にAuの高騰を契機として、
樹脂モールド型半導体素子ではAU −3i共晶法から
ハンダを使用する方法ミ導電性接着剤を使用する方法等
に急速に移行しつつある。
しかし、ハンダを使用する方法は、一部実用化されてい
るがハンダやハンダボールが飛散して電極等に付着し、
腐食・断線の原因となる可能性が指摘されている。 一
方導電性接着剤を使用する方法では、通常銀粉4を配合
したエポキシ樹脂が10年程前から一部実用化されてき
たが信頼性の面でAU−3iの共晶法に比較して満足づ
べきものがなかった。
導電性接着剤を使用した場合(よ、樹脂やその硬化剤が
半導体素子接着用として作られたものでないためにA1
電極の腐食を促進し断線不良の原因となる場合が多い。
 また従来、熱時強度向上のため固形のエポキシ樹脂を
溶剤で希釈したタイプの系を使用しているためにスクリ
ーン印刷やディスペンサー等により所定部分上に接着剤
を塗布した後のタックフリータイムが短かく、その結果
、長時間放置後に硬化させた場合の強度が極端に低下す
るという欠点があった。
[発明の目的] 本発明は、上記の欠・点を除去するためになされたもの
で、不純物が少なく、熱的強度が強く、しかも長時間放
置後の硬化においても強度の低下が1少ない無溶剤型導
電性接着剤を提供することを目的としている。
[発明の概要〕 本発明は、上記の目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結
果、後述する結合剤を使用すれば不純物が少なく、熱時
強度が強く、しかも長時間放置後の硬化においても強度
低下の少ない導電性接着剤が得られることを見い出した
ものである。
即ち、本発明は、(a )ビスマレイミドとトリアジン
樹脂モノマーとを主成分としてなる樹脂と、(b )常
温で液状のエポキシ樹脂と、(C)導電性粉体とをベヒ
クル(V ehicle)とすることを特徴とする無溶
剤型導電性接着剤である。
本発明に使用する(a )ヒスマレイミドとトリアジン
樹脂モノマーとを主成分としてなる樹脂は、一般式 で表されるビスマレイミド、並びに一般式NミC−0−
Ar 2−O−C=N て表されるジシアネート、及びこのジシアネ−1〜が3
分子以上環化重合したトリアジン環を分子中に有し、か
つ分子末端にシアネート基(N=C−0−)を有するト
リアジン樹脂とから成っている。
このような樹脂としては、例えば三菱ガス化学社製” 
B Tレジン′″ (商品名)がある。 このようなり
Tレジンとしては、例えばBT2170゜BT2470
.BT2300.BT2’400゜BT3103等のよ
うな銘柄が市販されており、そのいずれも本発明に使用
することができる。
本発明に使用される(b )常温で液状のエポキシ樹脂
としては、現在工業生産されているものとして次のよう
なものがある。 例えばシェル化学社製エビ:1−)−
(El)ikote) 827 、828等のビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、ダイセル化学工業社製セロキ
サイド2021.ユニオンカーバイド社製ERL−42
21,4299,4234゜4206等のシクロ系エポ
キシ樹脂およびその他ビスフェノールF型エポキシ樹脂
等が挙げられる。
これらのエポキシ樹脂はそれぞれ単独で、または2種以
上混合して使用される。
(a )ヒスマレイミドとトリアジン樹脂上ツマ−とを
主成分として成る樹脂と、′(b)常温で液状のエポキ
シ樹脂との配合割合は10:90〜90’:10(重量
比)の範囲にあることが望ましく、なかIυず< 30
 : 70〜70 : 30 (重量比)の範囲にある
ことが望ましい。  (a )の割合が10重量部未満
では、得られるベヒクルの耐熱性が劣り、熱時の強度が
低下し、逆に(b)の成分の配合割合が10重量部未満
では、ベヒ9クルの粘度が高くなり作業性が悪くなる。
 従って上記範囲が好ましい。
また本発明に用いる(C)導電性粉体としては、フし−
り状、球状、あるいは樹脂コートされた平均粒径10μ
以下の銀、銅等の金属粉を使用するのが好ましい。  
<C>導電性粉体とベヒクル((a)+(b))との配
合割合は60:40〜90:10(重量比)が適してい
る。 導電性粉体が60重量部未満では満足な導電性が
得られないし、また90重量部を超える場合は作業性や
半導体チップとのなじみが悪くなる。 従って上記範囲
が好ましい。本発明においては、以上の成分の他に粘度
を調整する目的でモノエポキシ化合物や有機溶剤を導電
性接着剤 100重量部に対して10重量%の範囲内で
必要に応じて使用することもできる。
本発明の無溶剤型導電性接着剤は、以上゛に述べた各成
分を3本ロール等により混練して製造する。
そして接着剤を所定の場所にディスペンサー、スクリー
ン印刷およびビン転写法等によって塗布した後、数秒か
ら数十時間後、各種半導体チップを載せ加熱硬化させて
使用する。 本発明の無溶剤型導電性接着剤は種々の硬
化条件で硬化できるが、150℃で2時間のオーブン硬
化もしくは250℃以上で数分のヒータブロック硬化が
好ましい。
[発明の実施例] 次に本発明の実施例について説明する。
実施例 1〜3、比較例 第1表に示す各成分を3本ロールにより3回混練して一
液型導電性接着剤を製造した。 得られた導電性接着剤
の導電性、硬化後のチップなじみ性、発泡性および各種
条件下での熱時強度は第1表に示す通りであった。 第
1表中の比較例は従来のタレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂−フ]2ノール樹脂硬化系ベヒクルをブチルセロ
ソルブで希釈した後、第1表に示した銀粉を混練して導
電性接着剤とし、実施例と同様にして特性を第1表に示
した。
第1表 *1 1m1l+正方のICチップの側面を350℃の
ヒート板上でプッシュプルゲージで水平に押した時の剪
断強度。尚硬化はすべて200℃×2分+270℃×2
分の2段階で行った。
[発明の効果コ 以上の説明から明らかなように本発明の無溶剤型導電性
接着剤は、接着剤を長時間放置した後においてもチップ
とのなじみ性および熱時強度が強く、しかも高速硬化に
おいても発泡せず、従来の導電性接着剤に比較して多こ
の利点を有している。
特許出願人 東芝ケミカル株式会判

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (a)ヒスマレイミドとトリアジン樹脂モノマーと
    を主成分としてなる樹脂と、(b )常温で液状のエポ
    キシ樹脂と、(C)導電性粉体とをベヒクルとすること
    を特徴とする無溶剤型導電性接着剤。 2 (a)ビスマレイミドとトリアジン樹脂モノマーと
    を主成分としてなる樹脂と、(b)常温で液状のエポキ
    シ樹脂との配合割合は、10:90〜90:10(重両
    比)の範囲にあることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の無溶剤型導電性接着剤。 3 (a)ヒスマレイミドとトリアジン樹脂モノマーと
    を主成分としてなる樹脂は、一般式で表されるヒスマレ
    イミド、並びに 一般式  N=C−0−Ar 2−O−C=Nで表され
    るジシアネート、及びに前記ジシアネートが3分子以上
    環化重合したトリアジン環 を分子中に有しかつ分子末端にシアネート基(N=C−
    〇−)を有するトリアジン樹脂(但し、式中Ar、、A
    r2は同−又は異なる2価の芳香族基を表す)からなる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載
    の無溶剤型導電性接着剤。
JP1365783A 1983-02-01 1983-02-01 半導体チップマウント用の無溶剤型導電性接着剤 Granted JPS59140279A (ja)

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JPH045705B2 JPH045705B2 (ja) 1992-02-03

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11140417A (ja) * 1997-11-10 1999-05-25 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 導電性接着剤
US6534179B2 (en) 2001-03-27 2003-03-18 International Business Machines Corporation Halogen free triazines, bismaleimide/epoxy polymers, prepregs made therefrom for circuit boards and resin coated articles, and use

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JPS50132099A (ja) * 1974-04-08 1975-10-18
JPS5212459A (en) * 1975-07-17 1977-01-31 Shoei Chemical Ind Co Heattproof electrically conductive adhesives for ic chips

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JPH045705B2 (ja) 1992-02-03

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