JPS5852242A - ヒドロキシフエニル酢酸の製造方法 - Google Patents

ヒドロキシフエニル酢酸の製造方法

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Publication number
JPS5852242A
JPS5852242A JP15011681A JP15011681A JPS5852242A JP S5852242 A JPS5852242 A JP S5852242A JP 15011681 A JP15011681 A JP 15011681A JP 15011681 A JP15011681 A JP 15011681A JP S5852242 A JPS5852242 A JP S5852242A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
reaction
medium
hydroxymandelic
temperature
Prior art date
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Pending
Application number
JP15011681A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhisa Nakajima
中島 和久
Kazuaki Gogi
郷木 和昭
Toshio Yamamoto
敏夫 山本
Manabu Misumi
三隅 学
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd filed Critical Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP15011681A priority Critical patent/JPS5852242A/ja
Publication of JPS5852242A publication Critical patent/JPS5852242A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はヒドロキシマンデル酸からヒドロキシフェニル
酢酸を製造する方法、特に4−ヒドロキシマンデル酸か
ら4−ヒドロキシフェニルの中間体として有用な化合物
であり、その製造法について最近いくつか報告がなされ
ている。
イスレも4−ヒドロキシマンデル酸を接触水素還元して
4−ヒドロキシフェニル酢酸を製造する方法であり、例
えば■特開昭54−148746号公報では水媒体中、
多量の塩酸の存在下で反応温度80−o以下で接触水素
還元を行なう方法が、■特開昭55−92544号公報
には低級脂肪族カルボン酸媒体中、少量の鉱酸の存在下
に反応温度50〜100′Oで接触水素還元を行なう方
法が、■特開昭56−75455号公報には水媒体中、
鉱酸の不存在下に室温から200T)までの温度範囲で
接触水素還元を行なう方法がそれぞれ記載されている。
本発明者等がこれらの方法を検討したところ、■は4−
ヒドロキシフェニル酢酸の収率が8596程度であり、
工業的には必ずしも満足出来ないこと又、大量の鉱酸を
使用するため反応装置の腐蝕が大きな問題であり、更に
副生ずる中和塩のため4−ヒドロキシフェニル酢酸の品
質が着しく損われるという欠点があり、■も4−ヒドロ
キシフェニル酢酸の収率が80〜85%程度で実用上、
満足出来ず上記の如く水媒体の使用では工業的にけ必ず
しも有利であると言えないことが判った。これに対し■
の方法Fi4−ヒドロキシフェニル酢酸の収率が最高で
95%にも達する上、反応装置の腐蝕も実質上問題とな
らない実用性の高い方法であり低級脂肪族カルボン酸媒
体の使用は水媒体の使用より有利であるが、工業的規模
での実施に当ってtf史c収率が向上すれば、それだけ
好ましいことは言うまでもない。
しかし、該反応において収率が既に95g6であること
は、これ以上の収率向上は化学常識から普通は困難視さ
れるところであるが、本発明者等はあえてこの課題に挑
戦し鋭意研究を重ねた結果、低級脂肪族カルボン酸媒体
中でヒドロキシマンデル酸を接触水素還元してヒドロキ
シフェニル酢酸を製造する際に、反応を110つ〜20
0″0の温度にて実施する場合、はぼ定量的にヒドロキ
シフェニル酢酸が得られることを見出し本発明を完成す
るに到った。
本発明の方法は従来法と比較して次の様な特徴点がある
■ 接触水素還元反応を110υ〜200Cという高温
で行なうことにより4−ヒドロキシマンデル酸に対しほ
ぼ定量的に4−ヒドロキシフェニル酢酸が得られる。反
応温度を変更するという割合簡単な操作で、常識的には
困難視される定量的な反応が実施可能となることは、全
く驚異的なことであると言わざるを得ない。本発明の如
く、4−ヒドロキシフェニル酢酸を製造する際に110
℃〜200℃という高温で反応を行って収率を向上させ
ようとする試みはこれまで知られてなく、事実■、■の
方法ではいずれも低温で反応を行っている。4−ヒドロ
キシマンデル酸の還元において反応温度をあまり高くす
ることは該マンデル酸の分解や副生物の生成等のため、
常識的には好ましくな(、従来は比較的低温での反応が
主に実施されていたのであるが、本発明においてはかか
る常識に反して意外にも高温での反応で収率良く目的物
が得られるのである。■は確かに高温で反応を行ってい
るが、■の特徴点は鉱酸を系内に共存させないことであ
り、温度コントロールに゛よって目的物の収率を向上さ
せようとする技術思想は存在しない。
■ 上記高温反応での効果は低級脂肪族カルボン酸を媒
体とする時のみ得られる特異的なもので、水媒体等の他
の媒体を使用する場合はかかる効果は得られない。
■ 従来法においては接触水素還元時に反応促進剤とし
て実質上少量の鉱酸が必要とされるが、本発明において
は鉱酸の存在は逆に著しい収率・低下をもたらすので、
鉱酸の使用は絶対に避けなければならない。
以下、本発明の方法を更に具体的に説明する。
まず、接触水素還元を行なうに際しては、酢酸、プロピ
オン酸、酪駿、特に好ましくは酢酸等の低級脂肪族カル
ボン酸媒体を使用することが必−である。該媒体以外で
は効率的な還元の実施は不可能である。媒体の使用量は
原料4−ヒドロキシマンデル酸の重量に対して少くとも
3倍量以上、好ましくt−1s〜10倍量が適当である
上記媒体には反応を阻害しない程度の少量の他の媒体、
例えば水等を添加することも差支えない。
反応時の温度ti110u 〜200℃の範HK限定す
ることが必要である。かかる範囲外では収率が低下し本
発明の効果は得られない。上記の温度範囲の中でも、1
20〜150oの範囲で反応を行なうのが特に有利であ
る。
反応時の圧力は反応温度によって多少異なるが通常は2
r;I/edG以上が必要である。好ましくは4 h/
at a以上の範囲で実施される。
又、反応時間F′i1〜4時間程度必要である。接触水
素還元に用いる触媒としてはパラジウム/炭素等のパラ
ジウム/炭素、ラネーニラクル11(F)ニッケル系触
媒、あるいけ白金触媒があげられる。
上記金属触媒の担持率#io、s〜5重量%が適当であ
る。又、該触媒は原料4−ヒドロキシマンデル酸の重量
に対して5〜15%程度使用される。
かくして還元が終了した後は、常法(従って触媒成分を
除去したのち、反応F液より媒体を留去して4−ヒドロ
キシフェニル酢酸の結晶を得る。
必要であれば活性炭処理、水媒体中での再結晶等任意の
精製が実施可能である。
本発明によれば4−ヒドロ1キシフエニル酢llが4−
ヒドロキシマンデル酸に対して定量的にン★収率で得ら
れ、その工業的な利用価値は極めて大であると言える。
次に実例を挙げて本発明の方法をl!sこ詳しく説明す
る。
実施例1 内容積200+4の電磁誘導回転攪拌式ステンレス製オ
ートクレーブに酢酸60m、4−ヒドロキシマンデル酸
2OF(86ミリモル)、O,S*パラジウム/炭素1
.6fを供給した。オートクレーブ内を窒素置換、更に
水素置換した後、昇温し、反応湿度130′0において
水素で全圧を16’F/jGにコントロールし、以降水
素を補給しながら上記温度、圧力を維持して反応を行っ
た。150分後に水素の吸収が停止した。
反応終了後、オートクレーブを冷却し反応生成液から触
媒をF別した。F液中の酢酸媒体を減圧下に留去し15
.5 yの4−ヒドロキシフェニル酢酸の白色結晶を得
た。
原料の4−ヒドロキシマンデル酸に対する収率は99モ
ル%であった。又水から再結後の結晶の融点I/114
9.5〜150.5℃であった。
対照例1 実施例1の酢酸媒体に代えて水媒体を使用したところ4
−ヒドロキシフェニル酢酸の収率#i82モル%に過ぎ
なかった。
対照例2〜6 実施例1の反応温度を100’0(対照例2)、及び2
30つ(対照例5)に変更したところ4−ヒドロキシフ
ェニル酢酸の収率は対照例2が68モル%、対照例5が
23モル%であった。
実施例2〜4 実施例1における反応温度を125℃(実施例2)、1
40℃(実施例6)、145℃(実施例4)に変更した
ところ4−ヒドロキシフェニル酢酸の収率はそれぞれ9
8モル%、99モル%、98モル%であった。
実施例5〜6 実施例1のパラジウム/炭素触媒に代えてラネーニッケ
ル触媒(但し、使用量ti5F)を使用し反応温度15
0U(実施例5)、及び150’C(実施例6)で反応
を行った。
4−ヒドロキシフェニル酢酸の収率は実施例5が95モ
ル%、実施例6が9′5モル%であった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 低級脂肪族カルボン酸媒体中で、ヒドロキシマンデル酸
    を接触水素還元してヒドロキシフェニル酢酸を製造する
    に当り、該反応をll0C〜200℃の温度にて実施す
    ることを特徴とするヒドロキシフェニル酢酸の製造方法
JP15011681A 1981-09-22 1981-09-22 ヒドロキシフエニル酢酸の製造方法 Pending JPS5852242A (ja)

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JPS5852242A true JPS5852242A (ja) 1983-03-28

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JP15011681A Pending JPS5852242A (ja) 1981-09-22 1981-09-22 ヒドロキシフエニル酢酸の製造方法

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JP (1) JPS5852242A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04328559A (ja) * 1991-04-26 1992-11-17 Mitsubishi Paper Mills Ltd 平版印刷版用現像液
US5395964A (en) * 1993-05-28 1995-03-07 Societe Francaise Hoechst Preparation process for hydroxyphenylacetic acids

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04328559A (ja) * 1991-04-26 1992-11-17 Mitsubishi Paper Mills Ltd 平版印刷版用現像液
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