JPS5851522A - 異物除去装置 - Google Patents
異物除去装置Info
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- JPS5851522A JPS5851522A JP14947081A JP14947081A JPS5851522A JP S5851522 A JPS5851522 A JP S5851522A JP 14947081 A JP14947081 A JP 14947081A JP 14947081 A JP14947081 A JP 14947081A JP S5851522 A JPS5851522 A JP S5851522A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
- H01L21/3046—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting using blasting, e.g. sand-blasting
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発胸は物品に付層した異物上帯電により除去する異物
除去装置に関する。
除去装置に関する。
例えば牛導体鯛造工程では、Ｉｌｌ［ｌｌ１１１パター
ンを党。
ンを党。
電子−Ｘ＠尋によりレジスト上に感光δゼて形成する。
こｆ１際、レジスト上に付層した輿智か存在すると、異
物下のレジストは感光されず、欠陥個所となる。従来は
、エアーブローによる除去法食用いていたが、これは１
０１１鴨以下の異物のような微細な異物の除去には有効
ではない。ｔ７ｔｓ電子ｉＩ１等の真空中で行なわれる
描画においては、上記除去法は使用できず、真空装置内
での異物除去は様々な困難のために行なわれていなｈ０
本発明の目的は、上記エアーブローにより除去できない
異物の如き異物や、真空装置内の異物等で［実に除去で
きる異物除去装置倉提供することにある。
物下のレジストは感光されず、欠陥個所となる。従来は
、エアーブローによる除去法食用いていたが、これは１
０１１鴨以下の異物のような微細な異物の除去には有効
ではない。ｔ７ｔｓ電子ｉＩ１等の真空中で行なわれる
描画においては、上記除去法は使用できず、真空装置内
での異物除去は様々な困難のために行なわれていなｈ０
本発明の目的は、上記エアーブローにより除去できない
異物の如き異物や、真空装置内の異物等で［実に除去で
きる異物除去装置倉提供することにある。
この目的′ｋｉ１成するため、本発明による異物除去Ｗ
＆直は、帯電による静電気ｔ８用し、帯電物質を異物の
付層した物品に誉近葛ゼて異物を除去するもので６る。
＆直は、帯電による静電気ｔ８用し、帯電物質を異物の
付層した物品に誉近葛ゼて異物を除去するもので６る。
以下、本発明紫図面（示す′４施例にしたかつてａらに
詳ｇＪＫ績明する。
詳ｇＪＫ績明する。
１１！１図は本＠明による異物除去Ｗ＆置の一実施カを
示す斜視図である。
示す斜視図である。
本実施ｆ％ｌにおいて、符号ｌけハウジングでめｐ、該
ハウジング１の中には、異物を除去される物品３（７ｔ
とえばマスクまたはウェハ）ｔ−載せて移動する無端コ
ンベヤ状のコンベヤ２か設けられている。
ハウジング１の中には、異物を除去される物品３（７ｔ
とえばマスクまたはウェハ）ｔ−載せて移動する無端コ
ンベヤ状のコンベヤ２か設けられている。
また、ＩＩＩＩ記ハウジング１の内部には、帯電による
静電気で物品３上に付着した異物を除去するための帯電
物４がコンベヤ２の上方の一部分ｔトンネル状に覆うよ
う該コンベヤ２の上ｔ−またぐよう圧して設置もれてい
る。
静電気で物品３上に付着した異物を除去するための帯電
物４がコンベヤ２の上方の一部分ｔトンネル状に覆うよ
う該コンベヤ２の上ｔ−またぐよう圧して設置もれてい
る。
したがって、本実施例においては、異物の付着した一品
３【コンベヤ２の上に叔ゼて該コンベヤ２￥１：移動δ
ゼると、物品３は帯電物４に接近して咳帝電物４の下ａ
’を通過するので、この通過中に物品３上の異物は帯電
物４の帯電による静電気で該帯電物４に吸着され、物品
３上から除去される。
３【コンベヤ２の上に叔ゼて該コンベヤ２￥１：移動δ
ゼると、物品３は帯電物４に接近して咳帝電物４の下ａ
’を通過するので、この通過中に物品３上の異物は帯電
物４の帯電による静電気で該帯電物４に吸着され、物品
３上から除去される。
なお、第１図の実施例とけ逆に、帯電物４を物品３に対
して相対移動場ぜてもよい。第２図はこのような場合の
一笑施ｆ１１ｔ−示すものであり、帯電ｔ＃１Ｊ４ｔ−
可動保持部材５により保持して物品３上で誉近移動δぜ
て異物の除去上行うものである。
して相対移動場ぜてもよい。第２図はこのような場合の
一笑施ｆ１１ｔ−示すものであり、帯電ｔ＃１Ｊ４ｔ−
可動保持部材５により保持して物品３上で誉近移動δぜ
て異物の除去上行うものである。
また、帯電物４＃′ｉ第１図および第２図のもの以外に
も様々な形状のものを使用できる、第３図（（転）〜（
至）は帯電物４０例をそれぞれ示している。すなわち、
第゛３図（４）の帯電物４ムけ角棒状、同図に）の帯電
物４Ｂは丸棒状でるる。また、第３図（０）は平板状の
帯電物４０、同図中）は網目状の帯電物４Ｄの例を示す
。さらに、ｔｓ３図（Ｊｌｉ）は球状の帯電物４１１、
同図ｆｆ）は半球状の帯電物４νの例である。
も様々な形状のものを使用できる、第３図（（転）〜（
至）は帯電物４０例をそれぞれ示している。すなわち、
第゛３図（４）の帯電物４ムけ角棒状、同図に）の帯電
物４Ｂは丸棒状でるる。また、第３図（０）は平板状の
帯電物４０、同図中）は網目状の帯電物４Ｄの例を示す
。さらに、ｔｓ３図（Ｊｌｉ）は球状の帯電物４１１、
同図ｆｆ）は半球状の帯電物４νの例である。
勿論、帯電物４ｒｉ前記以外にも様々表形勝のものとす
ることかできる。
ることかできる。
前記実施力の異物除去装置金用込ることにより、たとえ
ばマスクプレート、ウェハの如き物品に付着したａｍな
異物を確実に除去できるので、レジスト塗布時のＪｌ！
！物混入や、レジスト塗布後の表面に付着した異＃！Ｊ
Ｖｃよるレジスト未感光に起因する欠陥の低減等の効果
ｔ−得ることかできる。また、真空装置等の密画ａれた
空間内での異物除去も容易に行うことか可能でるる。
ばマスクプレート、ウェハの如き物品に付着したａｍな
異物を確実に除去できるので、レジスト塗布時のＪｌ！
！物混入や、レジスト塗布後の表面に付着した異＃！Ｊ
Ｖｃよるレジスト未感光に起因する欠陥の低減等の効果
ｔ−得ることかできる。また、真空装置等の密画ａれた
空間内での異物除去も容易に行うことか可能でるる。
なお、本発明は半導体製品の製造以外にも広く通用でき
、たとえば精密模＃ｌｌＫおける値小異物の除去＋１［
４１！効である。
、たとえば精密模＃ｌｌＫおける値小異物の除去＋１［
４１！効である。
以上説明したように、本発明によれば、異物の除去を容
易かつ確実に行うことができる。
易かつ確実に行うことができる。
第１図は本発明による異物除去装置の一実施例の斜視図
、第２図は本発明の他の１つの実施ｆ１を示す部分図、
第３図（４）〜（７）は本発明に用いる帯電物の各種実
施例を示す図でおる。 １・・・ハウジング、２・・・コンベヤ、３・・・物品
、４、番ム、４Ｂ％ ４０．４ｐ％ ４Ｍ、４ν・・・
帯電物、５・・・可動保持部材。 代理人 弁理士 薄 １）利 幸 ′・＋１ニー 第１図 第 ３Ｍ
、第２図は本発明の他の１つの実施ｆ１を示す部分図、
第３図（４）〜（７）は本発明に用いる帯電物の各種実
施例を示す図でおる。 １・・・ハウジング、２・・・コンベヤ、３・・・物品
、４、番ム、４Ｂ％ ４０．４ｐ％ ４Ｍ、４ν・・・
帯電物、５・・・可動保持部材。 代理人 弁理士 薄 １）利 幸 ′・＋１ニー 第１図 第 ３Ｍ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、付着した異物を除去される物品と、異物を該物品か
ら静電気で除去する帯電物と、１１Ｉ配物品ｔたは前記
帯電物のいずれか一方を他方に対して互−ＫＩ＃近させ
るよう相対移動さゼる手段とｔ−有する異物除去装置。 ２、帥紀相附移動手段は、前記物品ｔ−叡ゼて移動する
コンベヤであることを％愼とする特許請求の範囲第１項
記載の異物除去装置ｔつ ３、前記相対移動手段は、ＰＩＪ配帝電物を倚持して移
動する可動保持手段であること１＊＊とする特許請求の
範囲第１項記載のＪｌｌ線除去装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14947081A JPS5851522A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 異物除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14947081A JPS5851522A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 異物除去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5851522A true JPS5851522A (ja) | 1983-03-26 |
Family
ID=15475835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14947081A Pending JPS5851522A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 異物除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5851522A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59179507A (ja) * | 1983-03-29 | 1984-10-12 | Toa Nenryo Kogyo Kk | エチレン共重合体の製造方法 |
| JP2013157382A (ja) * | 2012-01-27 | 2013-08-15 | Mitsubishi Electric Corp | 異物除去装置、異物除去方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5610116A (en) * | 1979-07-05 | 1981-02-02 | Mizuo Ikeda | Drug for athlete's foot (dermatophytosis) |
-
1981
- 1981-09-24 JP JP14947081A patent/JPS5851522A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5610116A (en) * | 1979-07-05 | 1981-02-02 | Mizuo Ikeda | Drug for athlete's foot (dermatophytosis) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59179507A (ja) * | 1983-03-29 | 1984-10-12 | Toa Nenryo Kogyo Kk | エチレン共重合体の製造方法 |
| JP2013157382A (ja) * | 2012-01-27 | 2013-08-15 | Mitsubishi Electric Corp | 異物除去装置、異物除去方法 |
| US9659795B2 (en) | 2012-01-27 | 2017-05-23 | Mitsubishi Electric Corporation | Foreign matter removal device and foreign matter removal method |
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