JPS584926A - 回転塗布装置 - Google Patents
回転塗布装置Info
- Publication number
- JPS584926A JPS584926A JP10192981A JP10192981A JPS584926A JP S584926 A JPS584926 A JP S584926A JP 10192981 A JP10192981 A JP 10192981A JP 10192981 A JP10192981 A JP 10192981A JP S584926 A JPS584926 A JP S584926A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- coating liquid
- coating
- spinning
- fins
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体ウェハーに不純物やフォトレジスト等の
液体を均一に回転塗布する装置に関するものである。
液体を均一に回転塗布する装置に関するものである。
従来使用されている回転塗布装置は、第1図の断面図に
示すように1回転塗布装置の外箱1の内部に力、プ2を
固定し、外箱lの下部に中空シャフトモータ3を散り付
け、その回転軸4は中空シャフトモータ3に固定された
軸受5を通シ、更にカップ2の底部に設けた軸受6を通
して、その先端にはウェハーチャック7が装着された構
造であった。しかし、このような構造の従来の回転塗布
装置は、ウェハーチャ、り7に半導体ウェハー8を固定
し塗布液を滴化し−た後に回転させると、飛散した塗布
液9が力、プ2の内壁に当ってはね返り、再びウェハー
8上に塗布され異常拡散や外観不良を生ずるという欠点
を有していた。
示すように1回転塗布装置の外箱1の内部に力、プ2を
固定し、外箱lの下部に中空シャフトモータ3を散り付
け、その回転軸4は中空シャフトモータ3に固定された
軸受5を通シ、更にカップ2の底部に設けた軸受6を通
して、その先端にはウェハーチャック7が装着された構
造であった。しかし、このような構造の従来の回転塗布
装置は、ウェハーチャ、り7に半導体ウェハー8を固定
し塗布液を滴化し−た後に回転させると、飛散した塗布
液9が力、プ2の内壁に当ってはね返り、再びウェハー
8上に塗布され異常拡散や外観不良を生ずるという欠点
を有していた。
本発明の目的は、飛散した塗布液が再び半導体ウェハー
上に塗布されないような回転塗布装置を提供することK
ある。
上に塗布されないような回転塗布装置を提供することK
ある。
本発明によれば、固定した半導体ウェハーを回転せしめ
る回転部の一部にフィンを取シ付け、半導体ウェハー周
辺の雰囲気を塗布面側から下方に向けて流れるようにし
たことを特徴とする回転塗布装置を得る。
る回転部の一部にフィンを取シ付け、半導体ウェハー周
辺の雰囲気を塗布面側から下方に向けて流れるようにし
たことを特徴とする回転塗布装置を得る。
以下、図面によシ本発明による回転塗布装置の説明を行
なう。
なう。
第2図は本発明の一実施例の回転塗布装置の断面図で、
第1図と同じく外箱1.ウェハーチャ。
第1図と同じく外箱1.ウェハーチャ。
り7等を備えるとともにウェハーチャック7の側面には
フィン10が設けられ、又カップ2の底部には穴があけ
である。これらの構造によって、半導体ウェハー8が回
転するにともないフィン10も回転し、雰囲気が塗布面
側から下方に流れ、カップ2の底部に設けた穴より排気
される。以上によシ、飛散した塗布液9は再び半導体ウ
ェハー上にはね返ることがなくなり、均一に塗布できる
。
フィン10が設けられ、又カップ2の底部には穴があけ
である。これらの構造によって、半導体ウェハー8が回
転するにともないフィン10も回転し、雰囲気が塗布面
側から下方に流れ、カップ2の底部に設けた穴より排気
される。以上によシ、飛散した塗布液9は再び半導体ウ
ェハー上にはね返ることがなくなり、均一に塗布できる
。
また従来の回転部にフィンを取シ付けるだけなので新た
な機構部が必要なく、構造が複雑化しないので取扱いは
従来と変わらない。
な機構部が必要なく、構造が複雑化しないので取扱いは
従来と変わらない。
上記実施例の他、回転軸にフィンを設け、回転軸の回転
と共に下降気流を作り出す機構とすることも可能である
。
と共に下降気流を作り出す機構とすることも可能である
。
以上述べたように本発明による回転塗布装置は、従来の
装置の欠点を除きウェハー面に塗布液を均一に回転塗布
することが出来る。
装置の欠点を除きウェハー面に塗布液を均一に回転塗布
することが出来る。
第1図は従来の回転塗布装置の断面図、第2図は本発明
の一実施例を示す回転塗布装置の断面図である。 1・・・・・・外箱、2・・・・−・カップ、3・・・
・・・中空シャフトモータ、4・・・・・・回転軸、5
,6・・・・・・軸受、7・・・°°°ウェハーチャッ
ク、8・・・・・・半導体ウェハー、9・・・・・・飛
散した塗布液、10・・・・・・フィン。
の一実施例を示す回転塗布装置の断面図である。 1・・・・・・外箱、2・・・・−・カップ、3・・・
・・・中空シャフトモータ、4・・・・・・回転軸、5
,6・・・・・・軸受、7・・・°°°ウェハーチャッ
ク、8・・・・・・半導体ウェハー、9・・・・・・飛
散した塗布液、10・・・・・・フィン。
Claims (1)
- 半導体ウェハーに液体を回転塗布する装置において、前
記半導体ウェハーを支持する回転部の一部にフィンを取
り付けたことを特徴とする回転塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10192981A JPS584926A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | 回転塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10192981A JPS584926A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | 回転塗布装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS584926A true JPS584926A (ja) | 1983-01-12 |
Family
ID=14313597
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10192981A Pending JPS584926A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | 回転塗布装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS584926A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4877499A (en) * | 1984-11-05 | 1989-10-31 | The Dow Chemical Company | Membrane unit for electrolytic cell |
US4886586A (en) * | 1988-09-26 | 1989-12-12 | The Dow Chemical Company | Combination electrolysis cell seal member and membrane tentering means for a filter press type electrolytic cell |
US4892632A (en) * | 1988-09-26 | 1990-01-09 | The Dow Chemical Company | Combination seal member and membrane holder for an electrolytic cell |
US4898653A (en) * | 1988-09-26 | 1990-02-06 | The Dow Chemical Company | Combination electrolysis cell seal member and membrane tentering means |
US4915803A (en) * | 1988-09-26 | 1990-04-10 | The Dow Chemical Company | Combination seal and frame cover member for a filter press type electrolytic cell |
US4940518A (en) * | 1988-09-26 | 1990-07-10 | The Dow Chemical Company | Combination seal member and membrane holder for a filter press type electrolytic cell |
US11406998B2 (en) | 2017-09-26 | 2022-08-09 | Volkswagen Aktiengesellschaft | Rotational unit having a hollow-shaft motor |
-
1981
- 1981-06-30 JP JP10192981A patent/JPS584926A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4877499A (en) * | 1984-11-05 | 1989-10-31 | The Dow Chemical Company | Membrane unit for electrolytic cell |
US4886586A (en) * | 1988-09-26 | 1989-12-12 | The Dow Chemical Company | Combination electrolysis cell seal member and membrane tentering means for a filter press type electrolytic cell |
US4892632A (en) * | 1988-09-26 | 1990-01-09 | The Dow Chemical Company | Combination seal member and membrane holder for an electrolytic cell |
US4898653A (en) * | 1988-09-26 | 1990-02-06 | The Dow Chemical Company | Combination electrolysis cell seal member and membrane tentering means |
US4915803A (en) * | 1988-09-26 | 1990-04-10 | The Dow Chemical Company | Combination seal and frame cover member for a filter press type electrolytic cell |
US4940518A (en) * | 1988-09-26 | 1990-07-10 | The Dow Chemical Company | Combination seal member and membrane holder for a filter press type electrolytic cell |
US11406998B2 (en) | 2017-09-26 | 2022-08-09 | Volkswagen Aktiengesellschaft | Rotational unit having a hollow-shaft motor |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0444216Y2 (ja) | ||
US5989632A (en) | Coating solution applying method and apparatus | |
JPS584926A (ja) | 回転塗布装置 | |
JPH05243140A (ja) | 回転塗布装置及び回転塗布方法 | |
JPH04174848A (ja) | レジスト塗布装置 | |
JPH0512990B2 (ja) | ||
JPS60143871A (ja) | レジスト塗布装置 | |
JP2635135B2 (ja) | 塗布装置 | |
JP3050630B2 (ja) | 塗布装置 | |
JP2800008B2 (ja) | 回転処理装置及び回転処理方法 | |
JP2822603B2 (ja) | 浸漬塗布装置 | |
JPS61141138A (ja) | 塗布方法 | |
JPH05109612A (ja) | レジスト塗布装置 | |
JP2002239443A (ja) | スピンコーター | |
JPH07308625A (ja) | 基板の回転塗布装置 | |
JPS61206224A (ja) | レジスト塗布装置 | |
JPH0441975Y2 (ja) | ||
JPH02149367A (ja) | スピン塗布装置 | |
JPS60145617A (ja) | 塗布装置 | |
JP2004071680A (ja) | 回転式載置台 | |
JP2593465B2 (ja) | 半導体ウエーハの液処理装置 | |
JPH01228575A (ja) | スピンコーター | |
JPH0450946Y2 (ja) | ||
JPS6333660Y2 (ja) | ||
JPH04302414A (ja) | 塗布機 |