JPH1139610A - 薄膜磁気ヘッド及びそれを用いた磁気記録装置 - Google Patents
薄膜磁気ヘッド及びそれを用いた磁気記録装置Info
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- JPH1139610A JPH1139610A JP18626197A JP18626197A JPH1139610A JP H1139610 A JPH1139610 A JP H1139610A JP 18626197 A JP18626197 A JP 18626197A JP 18626197 A JP18626197 A JP 18626197A JP H1139610 A JPH1139610 A JP H1139610A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】トラック幅に対する膜厚の比が大きな記録用誘
導型薄膜磁気ヘッドの磁極及び磁気コアにおいて一軸異
方性を保ち、高透磁率、高応答性及び低保磁力、かつ安
定した実効トラック幅を確保した記録用誘導型薄膜磁気
ヘッドを有する薄膜磁気ヘッドを提供する。 【解決手段】薄膜積層方向（膜厚方向）に一軸異方性を
持つ硬磁性体１３を下地膜として形成された磁極１４及
び磁気コア１５は、下地膜の異方性を反映して、磁化容
易軸が薄膜積層方向（膜厚方向）になっている。また、
磁気コア１５には、一軸異方性を保つための溝１７が入
っており、さらに該溝１７及び切欠き部１８により渦電
流の発生が抑制されている。
導型薄膜磁気ヘッドの磁極及び磁気コアにおいて一軸異
方性を保ち、高透磁率、高応答性及び低保磁力、かつ安
定した実効トラック幅を確保した記録用誘導型薄膜磁気
ヘッドを有する薄膜磁気ヘッドを提供する。 【解決手段】薄膜積層方向（膜厚方向）に一軸異方性を
持つ硬磁性体１３を下地膜として形成された磁極１４及
び磁気コア１５は、下地膜の異方性を反映して、磁化容
易軸が薄膜積層方向（膜厚方向）になっている。また、
磁気コア１５には、一軸異方性を保つための溝１７が入
っており、さらに該溝１７及び切欠き部１８により渦電
流の発生が抑制されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録装置に用
いられる薄膜磁気ヘッドの構造に関する。
いられる薄膜磁気ヘッドの構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置の高密度記録において
高保磁力媒体への書き込み能力を確保するために、記録
用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極の膜厚は、現状１５キロ
ガウス以上の高飽和磁束密度を有する磁性体を用いた場
合に約３μｍであり、高密度記録時の記録用誘導型薄膜
磁気ヘッドの磁極のトラック幅は、面記録密度１Ｇb／i
n2クラスで約３μｍ、面記録密度１０Ｇb／in2クラスで
約０.５μｍなるトレンドがある。よって、磁気ディス
ク装置の記録デ−タの高密度化に伴い、記録用誘導型薄
膜磁気ヘッドの磁極の膜厚Puとトラック幅Ｔwの関係
は、面記録密度１Ｇb／in2クラスで現状Ｐu／Ｔw＝約
１、将来面記録密度１０Ｇb／in2クラスでＰu／Ｔw＝６
になると予想される。ここで、図１及び図２で示すよう
に本発明の説明及び請求範囲を明確にするために、記録
用誘導型薄膜磁気ヘッドの浮上面に現れる先端部１４を
「磁極」、奥の部分１５を「磁気コア」と表現を分け
る。
高保磁力媒体への書き込み能力を確保するために、記録
用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極の膜厚は、現状１５キロ
ガウス以上の高飽和磁束密度を有する磁性体を用いた場
合に約３μｍであり、高密度記録時の記録用誘導型薄膜
磁気ヘッドの磁極のトラック幅は、面記録密度１Ｇb／i
n2クラスで約３μｍ、面記録密度１０Ｇb／in2クラスで
約０.５μｍなるトレンドがある。よって、磁気ディス
ク装置の記録デ−タの高密度化に伴い、記録用誘導型薄
膜磁気ヘッドの磁極の膜厚Puとトラック幅Ｔwの関係
は、面記録密度１Ｇb／in2クラスで現状Ｐu／Ｔw＝約
１、将来面記録密度１０Ｇb／in2クラスでＰu／Ｔw＝６
になると予想される。ここで、図１及び図２で示すよう
に本発明の説明及び請求範囲を明確にするために、記録
用誘導型薄膜磁気ヘッドの浮上面に現れる先端部１４を
「磁極」、奥の部分１５を「磁気コア」と表現を分け
る。
【０００３】文献１("Magnetic thin films in recordi
ng technology" by V.S.Speriosu et al,IBM J. RES. D
EVELOP. VOL.34 NO.6 NOVEMBER 1990)で述べられている
ように、記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極及び磁気コ
アは単層膜で構成された場合、面内で複雑な磁区構造を
とる。このような記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極及
び磁気コアの磁区構造の存在は、磁区の不安定性に起因
したノイズの増加、磁壁の移動による記録磁界の損失や
記録応答性の低下など記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの特
性を劣化させる。この磁区構造の存在による記録用誘導
型薄膜磁気ヘッドの特性を劣化を回避するために、文献
１では、記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極の多層膜構
造を示している。この磁極の多層膜化により、記録用誘
導型薄膜磁気ヘッドの磁極及び磁気コアは、面内でほぼ
単一な磁区構造が保たれる。
ng technology" by V.S.Speriosu et al,IBM J. RES. D
EVELOP. VOL.34 NO.6 NOVEMBER 1990)で述べられている
ように、記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極及び磁気コ
アは単層膜で構成された場合、面内で複雑な磁区構造を
とる。このような記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極及
び磁気コアの磁区構造の存在は、磁区の不安定性に起因
したノイズの増加、磁壁の移動による記録磁界の損失や
記録応答性の低下など記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの特
性を劣化させる。この磁区構造の存在による記録用誘導
型薄膜磁気ヘッドの特性を劣化を回避するために、文献
１では、記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極の多層膜構
造を示している。この磁極の多層膜化により、記録用誘
導型薄膜磁気ヘッドの磁極及び磁気コアは、面内でほぼ
単一な磁区構造が保たれる。
【０００４】前記で述べたように面記録密度が１Ｇb／i
n2を超えてくると、記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極
の膜厚とトラック幅の大小関係が逆転し、単層膜で構成
された記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極は、図３で示
すように面内に加えて膜厚方向にまで磁区構造をとり、
磁区構造による記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの特性の劣
化が顕在化してくる。この場合においても、図４で示す
ように上記記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極の多層膜
構造が、磁極の多磁区化を抑制する効果がある。
n2を超えてくると、記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極
の膜厚とトラック幅の大小関係が逆転し、単層膜で構成
された記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極は、図３で示
すように面内に加えて膜厚方向にまで磁区構造をとり、
磁区構造による記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの特性の劣
化が顕在化してくる。この場合においても、図４で示す
ように上記記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極の多層膜
構造が、磁極の多磁区化を抑制する効果がある。
【０００５】しかし、記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁
極の膜厚がトラック幅より大きな場合、磁極端部の磁荷
の影響を減少させるために必要磁気薄膜積層数が増加
し、結果としてプロセスの複雑化を招き、特に寸法精度
で優位なメッキプロセスの適用が困難となる。さらに、
文献１及び文献２("Domain structures in multi-layer
ed Co-Ni-Fe-Pd films observed by spin-polarized SE
M" by K.Mitsuoka et al, IEEE TRANSACTIONS ON MAGNE
TICS VOL.24 NO.6 NOVEMBER 1988)では、記録用誘導型
薄膜磁気ヘッドの磁極の多層膜構造において、図３の３
１や図４の４１で示される磁極端部のカ−リング磁壁の
存在が述べられている。このような記録用誘導型薄膜磁
気ヘッドトラック端部のカ−リング磁壁の存在は、記録
用誘導型薄膜磁気ヘッドの実効トラック幅の損失及び揺
らぎを引き起こし、高記録密度、高トラック密度におけ
る問題として顕在化してくる。
極の膜厚がトラック幅より大きな場合、磁極端部の磁荷
の影響を減少させるために必要磁気薄膜積層数が増加
し、結果としてプロセスの複雑化を招き、特に寸法精度
で優位なメッキプロセスの適用が困難となる。さらに、
文献１及び文献２("Domain structures in multi-layer
ed Co-Ni-Fe-Pd films observed by spin-polarized SE
M" by K.Mitsuoka et al, IEEE TRANSACTIONS ON MAGNE
TICS VOL.24 NO.6 NOVEMBER 1988)では、記録用誘導型
薄膜磁気ヘッドの磁極の多層膜構造において、図３の３
１や図４の４１で示される磁極端部のカ−リング磁壁の
存在が述べられている。このような記録用誘導型薄膜磁
気ヘッドトラック端部のカ−リング磁壁の存在は、記録
用誘導型薄膜磁気ヘッドの実効トラック幅の損失及び揺
らぎを引き起こし、高記録密度、高トラック密度におけ
る問題として顕在化してくる。
【０００６】また、文献３("High frequency response
of thin film heads by scanning kerr efect microsco
pe" by B.W.Corb)において、高周波記録時の記録用誘導
型薄膜磁気ヘッドの磁気コア内で発生する渦電流による
記録磁界の損失や記録応答性の低下が指摘されている。
of thin film heads by scanning kerr efect microsco
pe" by B.W.Corb)において、高周波記録時の記録用誘導
型薄膜磁気ヘッドの磁気コア内で発生する渦電流による
記録磁界の損失や記録応答性の低下が指摘されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第１の目的
は、トラック幅に対する膜厚の比が大きな記録用誘導型
薄膜磁気ヘッドの磁極において、単一磁性層で一軸異方
性を保ち、高透磁率、高応答性及び低保磁力記録用誘導
型薄膜磁気ヘッドを有する薄膜磁気ヘッドを提供する。
は、トラック幅に対する膜厚の比が大きな記録用誘導型
薄膜磁気ヘッドの磁極において、単一磁性層で一軸異方
性を保ち、高透磁率、高応答性及び低保磁力記録用誘導
型薄膜磁気ヘッドを有する薄膜磁気ヘッドを提供する。
【０００８】本発明の第２の目的は、記録用誘導型薄膜
磁気ヘッドの磁極のトラック端部において磁区の生成を
抑制し、記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの実効トラック幅
の損失及び揺らぎを低減した薄膜磁気ヘッドを提供す
る。
磁気ヘッドの磁極のトラック端部において磁区の生成を
抑制し、記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの実効トラック幅
の損失及び揺らぎを低減した薄膜磁気ヘッドを提供す
る。
【０００９】本発明の第３の目的は、記録用誘導型薄膜
磁気ヘッドの磁気コアにおいて、単一磁性層で一軸異方
性を保ち、かつ渦電流の発生を抑制し、高透磁率、高応
答性及び低保磁力記録用誘導型薄膜磁気ヘッドを有する
薄膜磁気ヘッドを提供する。
磁気ヘッドの磁気コアにおいて、単一磁性層で一軸異方
性を保ち、かつ渦電流の発生を抑制し、高透磁率、高応
答性及び低保磁力記録用誘導型薄膜磁気ヘッドを有する
薄膜磁気ヘッドを提供する。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記第１、第
２の目的を達成すべく、前記複合型薄膜磁気ヘッドにお
いて、薄膜積層方向（膜厚方向）を記録用誘導型薄膜磁
気ヘッドの磁極の磁化容易軸にすることを特徴とする。
２の目的を達成すべく、前記複合型薄膜磁気ヘッドにお
いて、薄膜積層方向（膜厚方向）を記録用誘導型薄膜磁
気ヘッドの磁極の磁化容易軸にすることを特徴とする。
【００１１】さらに、上記第３の目的を達成すべく、薄
膜積層方向（膜厚方向）を記録用誘導型薄膜磁気ヘッド
の磁気コアの磁化容易軸にし、かつ記録用誘導型薄膜磁
気ヘッドの磁気コアに膜厚（薄膜積層方向長さ）／幅
（基板水平方向長さ）≧２になるような溝を入れたこと
を特徴とする。
膜積層方向（膜厚方向）を記録用誘導型薄膜磁気ヘッド
の磁気コアの磁化容易軸にし、かつ記録用誘導型薄膜磁
気ヘッドの磁気コアに膜厚（薄膜積層方向長さ）／幅
（基板水平方向長さ）≧２になるような溝を入れたこと
を特徴とする。
【００１２】また、上記第１，２，３目的をより確実に
達成すべく、記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極及び磁
気コアの下地膜に薄膜積層方向に一軸異方性をもつ垂直
配向性硬磁性体を用いることを特徴とする。
達成すべく、記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極及び磁
気コアの下地膜に薄膜積層方向に一軸異方性をもつ垂直
配向性硬磁性体を用いることを特徴とする。
【００１３】上記の手段による作用を、図１，２に示
す。
す。
【００１４】（作用１）トラック幅に対する膜厚の比が
大きな記録用誘導型薄膜磁気ヘッドにおいて、図１に示
すように薄膜積層方向（膜厚方向）に一軸異方性を持つ
硬磁性体１３を下地膜として、かつ薄膜積層方向（膜厚
方向）に一軸異方性を持つ磁極１４は、薄膜積層方向
（膜厚方向）の形状磁気異方性は小さく、一軸異方性の
分散は小さくなり、図１に示すように単磁区構造が実現
される。この磁極１４の単磁区構造により、高透磁率、
高応答性及び低保磁力記録用誘導型薄膜磁気ヘッドが得
られる。
大きな記録用誘導型薄膜磁気ヘッドにおいて、図１に示
すように薄膜積層方向（膜厚方向）に一軸異方性を持つ
硬磁性体１３を下地膜として、かつ薄膜積層方向（膜厚
方向）に一軸異方性を持つ磁極１４は、薄膜積層方向
（膜厚方向）の形状磁気異方性は小さく、一軸異方性の
分散は小さくなり、図１に示すように単磁区構造が実現
される。この磁極１４の単磁区構造により、高透磁率、
高応答性及び低保磁力記録用誘導型薄膜磁気ヘッドが得
られる。
【００１５】（作用２）図１において、図３，４で示し
たカ−リング磁壁は、記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁
極の薄膜積層方向（膜厚方向）端部１６に発生してお
り、記録特性には影響を与えず、実効トラック幅の損失
及び揺らぎが回避できる。
たカ−リング磁壁は、記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁
極の薄膜積層方向（膜厚方向）端部１６に発生してお
り、記録特性には影響を与えず、実効トラック幅の損失
及び揺らぎが回避できる。
【００１６】（作用３）図１に示すように薄膜積層方向
（膜厚方向）に一軸異方性を持つ硬磁性体１３を下地膜
として、かつ薄膜積層方向（膜厚方向）に一軸異方性を
持つ磁気コア１５に図１，２で示すような膜厚（薄膜積
層方向長さ）／幅（基板水平方向長さ）≧２になる溝１
７を入れることにより、薄膜積層方向（膜厚方向）の形
状磁気異方性は小さく、一軸異方性の分散は小さくな
り、図１に示すように単磁区構造が実現される。この磁
気コア１５の単磁区構造により、高透磁率、高応答性及
び低保磁力記録用誘導型薄膜磁気ヘッドが得られる。
（膜厚方向）に一軸異方性を持つ硬磁性体１３を下地膜
として、かつ薄膜積層方向（膜厚方向）に一軸異方性を
持つ磁気コア１５に図１，２で示すような膜厚（薄膜積
層方向長さ）／幅（基板水平方向長さ）≧２になる溝１
７を入れることにより、薄膜積層方向（膜厚方向）の形
状磁気異方性は小さく、一軸異方性の分散は小さくな
り、図１に示すように単磁区構造が実現される。この磁
気コア１５の単磁区構造により、高透磁率、高応答性及
び低保磁力記録用誘導型薄膜磁気ヘッドが得られる。
【００１７】また、溝１７及び切欠き部１８により、磁
気コア内を流れる磁束に直行する渦電流の電流路が遮断
され、高周波記録時の渦電流による記録磁界損失が回避
できる。
気コア内を流れる磁束に直行する渦電流の電流路が遮断
され、高周波記録時の渦電流による記録磁界損失が回避
できる。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下に、実施例により本発明を説
明する。なお、各種実施例を説明するにつき、同一の部
位については、同一の符号で示し、重複した説明を省略
した。
明する。なお、各種実施例を説明するにつき、同一の部
位については、同一の符号で示し、重複した説明を省略
した。
【００１９】（実施例１）図１に本発明の一実施例によ
る記録用誘導型薄膜磁気ヘッドを示す。飽和磁束密度１
０kGauss、透磁率1000である軟磁性膜で構成された下部
磁気コア１１上に、ギャップ膜１２、コイル２０、絶縁
膜１９が形成されている。
る記録用誘導型薄膜磁気ヘッドを示す。飽和磁束密度１
０kGauss、透磁率1000である軟磁性膜で構成された下部
磁気コア１１上に、ギャップ膜１２、コイル２０、絶縁
膜１９が形成されている。
【００２０】そしてその上に、薄膜積層方向に一軸異方
性を有する硬磁性体下地膜１３が積層され、飽和磁束密
度１５kGauss、透磁率1000である軟磁性膜で構成された
磁極１４及び磁気コア１５が形成されている。
性を有する硬磁性体下地膜１３が積層され、飽和磁束密
度１５kGauss、透磁率1000である軟磁性膜で構成された
磁極１４及び磁気コア１５が形成されている。
【００２１】磁極１４及び磁気コア１５の製造工程の詳
細を図５，６で示す。絶縁膜１９を形成後、薄膜積層方
向に一軸異方性を有する硬磁性体下地膜１３を成膜す
る。その上に、レジスト５１を塗布し、リソグラフィ−
により所定の形状にパタ−ニングする。このパタ−ニン
グされたレジスト５１中に、磁極１４及び磁気コア１５
をメッキにより形成し、レジスト５１を除去後下地膜１
３をミリングにより除去する。これにより磁極１４及び
磁気コア１５を所定の形状に形成する。本実施例におけ
る磁気コア１５の形状は、図２で示されるように膜厚
（薄膜積層方向長さ）／幅（基板水平方向長さ）≧２に
なるような溝１７及び切欠き部１８が入っている。
細を図５，６で示す。絶縁膜１９を形成後、薄膜積層方
向に一軸異方性を有する硬磁性体下地膜１３を成膜す
る。その上に、レジスト５１を塗布し、リソグラフィ−
により所定の形状にパタ−ニングする。このパタ−ニン
グされたレジスト５１中に、磁極１４及び磁気コア１５
をメッキにより形成し、レジスト５１を除去後下地膜１
３をミリングにより除去する。これにより磁極１４及び
磁気コア１５を所定の形状に形成する。本実施例におけ
る磁気コア１５の形状は、図２で示されるように膜厚
（薄膜積層方向長さ）／幅（基板水平方向長さ）≧２に
なるような溝１７及び切欠き部１８が入っている。
【００２２】次に磁極１４及び磁気コア１５の磁化容易
軸を薄膜積層方向にするため、基板より大きな面積を有
する電磁石や永久磁石を基板上下方向に設置し、薄膜積
層方向に磁界を印加した状態で磁極１４及び磁気コア１
５のメッキを行う。さらに磁極１４及び磁気コア１５形
成後、同様に薄膜積層方向に磁界を印加した状態でアニ
−リングを施し、磁極１４及び磁気コア１５の製造が完
成される。
軸を薄膜積層方向にするため、基板より大きな面積を有
する電磁石や永久磁石を基板上下方向に設置し、薄膜積
層方向に磁界を印加した状態で磁極１４及び磁気コア１
５のメッキを行う。さらに磁極１４及び磁気コア１５形
成後、同様に薄膜積層方向に磁界を印加した状態でアニ
−リングを施し、磁極１４及び磁気コア１５の製造が完
成される。
【００２３】従来の磁極及び磁気コア形成時には、磁極
及び磁気コアの磁化容易軸を基板と平行なトラック幅方
向にしているので、磁界印加用の電磁石や永久磁石の間
隔が広がり、基板面内で印加磁界方向が平行でなくな
る。そのため、磁極及び磁気コアの近傍にフラックスガ
イドを設け、基板面内で磁界を一様方向に印加してい
る。
及び磁気コアの磁化容易軸を基板と平行なトラック幅方
向にしているので、磁界印加用の電磁石や永久磁石の間
隔が広がり、基板面内で印加磁界方向が平行でなくな
る。そのため、磁極及び磁気コアの近傍にフラックスガ
イドを設け、基板面内で磁界を一様方向に印加してい
る。
【００２４】この場合、磁極及び磁気コア上部のレジス
トで保護、及びフラックスガイドの除去工程が追加され
る。本実施例においては、該フラックスガイドを必要と
しない構造であるので、前記磁極及び磁気コア上部のレ
ジスト保護工程及びフラックスガイドの除去工程が省略
でき、磁気ヘッド製造工程が簡略化される。
トで保護、及びフラックスガイドの除去工程が追加され
る。本実施例においては、該フラックスガイドを必要と
しない構造であるので、前記磁極及び磁気コア上部のレ
ジスト保護工程及びフラックスガイドの除去工程が省略
でき、磁気ヘッド製造工程が簡略化される。
【００２５】また、本実施例において、磁極１４の幅は
０.５μｍ、膜厚は３μｍであり、また図２で示される
ように記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁気コア１５には
膜厚（薄膜積層方向長さ）／幅（基板水平方向長さ）≧
２になるような溝１７が入れられており、このような従
来の光リソグラフィ−技術では困難な、高解像度、高焦
点深度の要求される微細加工は、Ｘ線近接露光技術を用
いて達成される。
０.５μｍ、膜厚は３μｍであり、また図２で示される
ように記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁気コア１５には
膜厚（薄膜積層方向長さ）／幅（基板水平方向長さ）≧
２になるような溝１７が入れられており、このような従
来の光リソグラフィ−技術では困難な、高解像度、高焦
点深度の要求される微細加工は、Ｘ線近接露光技術を用
いて達成される。
【００２６】図９は本発明の一実施例の磁気記録装置の
構成を示す概略図である。本図に示す様に、磁気記録装
置は高精度・高速回転するスピンドル１０４上に等間隔
に装着された複数の磁気記録媒体１０３と、この磁気記
録媒体１０３上に情報を記録・再生するために移動可能
なキャリッジ１０５に保持された磁気ヘッド郡１０６
と、このキャリッジ１０５を高速駆動し高速位置決めす
るためのボイスコイルモ−タ１０７、これらを支持する
高剛性のベ−ス１０８等から構成される。又、磁気記録
制御装置等の上位装置等から送り出される信号に従っ
て、ボイスコイルモ−タ１０７を制御するボイスコイル
モ−タ制御回路部、上位装置との信号のやり取りを行な
うインタ−フェイス部、磁気ヘッドに流れる電流を制御
するリ−ド／ライト回路等を備えた記録再生処理部１０
９を介して上位装置と接続される。ここで、磁気ヘッド
郡１０６は本発明に示す薄膜磁気ヘッドを用いることに
より、小型、低コスト、高信頼性の大容量の記録密度を
有する磁気記録装置を提供することが出来た。
構成を示す概略図である。本図に示す様に、磁気記録装
置は高精度・高速回転するスピンドル１０４上に等間隔
に装着された複数の磁気記録媒体１０３と、この磁気記
録媒体１０３上に情報を記録・再生するために移動可能
なキャリッジ１０５に保持された磁気ヘッド郡１０６
と、このキャリッジ１０５を高速駆動し高速位置決めす
るためのボイスコイルモ−タ１０７、これらを支持する
高剛性のベ−ス１０８等から構成される。又、磁気記録
制御装置等の上位装置等から送り出される信号に従っ
て、ボイスコイルモ−タ１０７を制御するボイスコイル
モ−タ制御回路部、上位装置との信号のやり取りを行な
うインタ−フェイス部、磁気ヘッドに流れる電流を制御
するリ−ド／ライト回路等を備えた記録再生処理部１０
９を介して上位装置と接続される。ここで、磁気ヘッド
郡１０６は本発明に示す薄膜磁気ヘッドを用いることに
より、小型、低コスト、高信頼性の大容量の記録密度を
有する磁気記録装置を提供することが出来た。
【００２７】（実施例２）図７に本発明の一実施例によ
る記録用誘導型薄膜磁気ヘッドを示す。下部磁気コア７
１の磁化容易軸が薄膜積層方向になっている。その他部
位の構成及び製造方法は、実施例１と同様である。
る記録用誘導型薄膜磁気ヘッドを示す。下部磁気コア７
１の磁化容易軸が薄膜積層方向になっている。その他部
位の構成及び製造方法は、実施例１と同様である。
【００２８】（実施例３）図８に本発明の一実施例によ
る記録用誘導型薄膜磁気ヘッドを示す。下部磁気コア１
１、ギャップ膜１２及び磁極１３に浮上面よりＦＩＢ(F
ocused Ion Beam)を用いて堀込み８１を設け、トラック
幅を決定する薄膜磁気ヘッドにおいて、磁極１４及び磁
気コア１５の磁化容易軸が薄膜積層方向になっている。
その他部位の構成及び製造方法は、実施例１と同様であ
る。
る記録用誘導型薄膜磁気ヘッドを示す。下部磁気コア１
１、ギャップ膜１２及び磁極１３に浮上面よりＦＩＢ(F
ocused Ion Beam)を用いて堀込み８１を設け、トラック
幅を決定する薄膜磁気ヘッドにおいて、磁極１４及び磁
気コア１５の磁化容易軸が薄膜積層方向になっている。
その他部位の構成及び製造方法は、実施例１と同様であ
る。
【００２９】
【発明の効果】本発明によれば、高密度記録、高トラッ
ク密度時に高透磁率、高応答性、低保磁力を有し、安定
した実効トラック幅を確保される記録用誘導型薄膜磁気
ヘッド有する薄膜磁気ヘッドを具現化できる。
ク密度時に高透磁率、高応答性、低保磁力を有し、安定
した実効トラック幅を確保される記録用誘導型薄膜磁気
ヘッド有する薄膜磁気ヘッドを具現化できる。
【図１】本発明の効果の説明及び本発明の一実施例を示
す図。
す図。
【図２】本発明の効果の説明及び本発明の一実施例を示
す図。
す図。
【図３】本発明の解決しようとする課題を説明するため
の図。
の図。
【図４】本発明の解決しようとする課題を説明するため
の図。
の図。
【図５】本発明の一実施例を説明するための図。
【図６】本発明の一実施例を説明するための図。
【図７】本発明の一実施例を説明するための図。
【図８】本発明の一実施例を説明するための図。
【図９】本発明の一実施例の磁気記録装置を示す図。
１３…下地膜、１４…磁極、１５…磁気コア、１７…
溝、１８…切欠き部。
溝、１８…切欠き部。
Claims (4)
- 【請求項１】記録／再生分離型薄膜磁気ヘッド或いは、
記録／再生一体型薄膜磁気ヘッドにおいて、薄膜積層方
向（膜厚方向）を記録用誘導型薄膜磁気ヘッドの磁極の
磁化容易軸にすることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項２】請求項１において、記録用誘導型薄膜磁気
ヘッドの磁気コアに膜厚（薄膜積層方向長さ）／幅（基
板水平方向長さ）≧２になるような溝を入れたことを特
徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項３】請求項１において、記録用誘導型薄膜磁気
ヘッドの磁極及び磁気コアの下地膜に薄膜積層方向に一
軸異方性をもつ垂直配向性硬磁性体を用いたことを特徴
とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項４】記録面有する回転可能な円板と、前記記録
面上へデ−タを書込み又はデ−タを読み出す信号変換器
と、この信号変換器が取付けられて前記円板の前記記録
面上を移動するスライダ−と、を備えた磁気記録装置に
おいて、前記請求項１から請求項３の薄膜磁気ヘッドの
特徴の内少なくとも一つ以上の薄膜磁気ヘッドの特徴を
備えた磁気記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18626197A JPH1139610A (ja) | 1997-07-11 | 1997-07-11 | 薄膜磁気ヘッド及びそれを用いた磁気記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18626197A JPH1139610A (ja) | 1997-07-11 | 1997-07-11 | 薄膜磁気ヘッド及びそれを用いた磁気記録装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1139610A true JPH1139610A (ja) | 1999-02-12 |
Family
ID=16185192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18626197A Pending JPH1139610A (ja) | 1997-07-11 | 1997-07-11 | 薄膜磁気ヘッド及びそれを用いた磁気記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1139610A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6473265B1 (en) * | 1999-12-06 | 2002-10-29 | Seagate Technology Llc | High frequency writer with sliced core topology |
| US6490126B1 (en) | 1999-04-08 | 2002-12-03 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head having a magnetic layer including stacked magnetic material layers and a resistance layer and method of manufacturing same |
-
1997
- 1997-07-11 JP JP18626197A patent/JPH1139610A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6490126B1 (en) | 1999-04-08 | 2002-12-03 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head having a magnetic layer including stacked magnetic material layers and a resistance layer and method of manufacturing same |
| US6473265B1 (en) * | 1999-12-06 | 2002-10-29 | Seagate Technology Llc | High frequency writer with sliced core topology |
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