JPH1128664A - Slurry liquid feeding system for polishing processed body - Google Patents
Slurry liquid feeding system for polishing processed bodyInfo
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- JPH1128664A JPH1128664A JP19522597A JP19522597A JPH1128664A JP H1128664 A JPH1128664 A JP H1128664A JP 19522597 A JP19522597 A JP 19522597A JP 19522597 A JP19522597 A JP 19522597A JP H1128664 A JPH1128664 A JP H1128664A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハの
表面に塗布する高価なスラリー液（研磨剤）を供給する
スラリー液供給システムに関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a slurry liquid supply system for supplying an expensive slurry liquid (abrasive) to be applied to the surface of a semiconductor wafer.
【０００２】[0002]
【従来の技術】半導体ウエハやＬＣＤ基板等の表面精度
を上げる為、該表面にスラリー液を流すＣＭＰ（ケミカ
ル・メカニカル・ポリッシング 特開平９−６３９９６
号公報）の装置がある。この装置で半導体ウエハ等にス
ラリー液を供給する技術が特開平７−１４４２号公報及
び特開昭５９−１９７７９３号公報で開示されている。
上記公報の半導体ウエハ等にスラリー液を供給する方式
は、新規のスラリー液を用いて、表面を研磨し、その後
廃棄するものである。2. Description of the Related Art In order to improve the surface accuracy of a semiconductor wafer, an LCD substrate, or the like, a CMP (Chemical Mechanical Polishing) method in which a slurry liquid is applied to the surface is disclosed.
Publication). Techniques for supplying a slurry liquid to a semiconductor wafer or the like with this apparatus are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 7-1442 and 59-197793.
The method of supplying a slurry liquid to a semiconductor wafer or the like disclosed in the above publication is to polish the surface using a new slurry liquid and then discard it.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体ウエハ等
にスラリー液を供給する方式では、高価なスラリー液を
一回のみを用いて再生せずに利用していないので、安価
な表面処理ができなかった。又、スラリー液を冷却させ
るのに、スラリー液内にフロンを流し、スラリー液を冷
却させているので、フロンをスラリー液に配管させる途
中で配管からリーク（漏れ）が発生してもわからないの
で危険であり、しかもタンクの取り外しが面倒である。In the conventional method of supplying a slurry liquid to a semiconductor wafer or the like, an inexpensive surface treatment can be performed because an expensive slurry liquid is not used without being regenerated using only one time. Did not. Also, since fluorocarbon is allowed to flow in the slurry liquid to cool the slurry liquid, the slurry liquid is cooled, so there is no danger that leaks (leakage) may occur from the piping while piping the fluorocarbon to the slurry liquid. And the removal of the tank is troublesome.
【０００４】上記タンク内のスラリー液を攪拌する攪拌
用ペラの形状は、プロペラの形状では攪拌能力が弱く効
率が悪い。[0004] The shape of the stirring propeller for stirring the slurry liquid in the above-mentioned tank is poor in efficiency because the stirring ability is weak with the propeller shape.
【０００５】上記スラリー液の循環路に、使用済みスラ
リー液をフィルタで濾し、この時に出るミストがフィル
タに目詰まりしてしまう。The used slurry liquid is filtered through the slurry liquid circulation path by a filter, and mist generated at this time is clogged in the filter.
【０００６】本発明は上記のような問題点に鑑みてなさ
れたもので、使用済みの廃棄スラリー液を回収して不純
物を取り除いて再度使用できるように再生することを目
的としている。The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to recover used waste slurry liquid, remove impurities, and regenerate it so that it can be reused.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者はかかる課題を
解決する為、ＣＭＰ機で半導体ウエハ等にスラリー液を
供給するスラリー供給方法を検討し、本発明に到達した
ものである。Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor has studied a method of supplying a slurry to a semiconductor wafer or the like by using a CMP machine, and has reached the present invention.
【０００８】請求項１では、銅パイプを介して触媒を直
接流し、冷却及び加熱させながらタンク内のスラリー液
温度を一定させる温調方法において、二重構造のウォー
タージャケット式タンクを設け、冷凍機からの冷却水を
該タンクに循環させて冷却する工程と、該スラリー液が
充填されている循環タンク部分に直接加熱ヒータを設
け、該ウォータージャケット式タンク内のスラリー液を
加熱させる加熱工程とから成り、該冷却水の温度を温度
調節器により制御するスラリー液温調方法にある。According to a first aspect of the present invention, there is provided a temperature control method for flowing a catalyst directly through a copper pipe and cooling and heating the slurry to keep the temperature of the slurry in the tank constant. From the step of circulating the cooling water from the tank to cool the tank, and the step of providing a heater directly to the circulation tank portion filled with the slurry liquid and heating the slurry liquid in the water jacket type tank. The temperature of the slurry is controlled by a temperature controller.
【０００９】請求項２では、該タンク内のスラリー液温
度を一定させる装置に用いるスラリー液の攪拌用ペラに
おいて、スラリー液が充填されている循環タンクの上面
に、攪拌用モータの先端が下方に位置した攪拌シャフト
から成る攪拌シャフト回転手段と、該攪拌シャフトの先
端に該シャフト方向と直交して攪拌用ペラ板を設け、該
攪拌用ペラ板の両端には、該シャフト軸中心から半径Ｒ
離れた位置の接線方向に攪拌用ペラ片を配置し、この攪
拌用ペラ片の一端が接線方向に接し、他端が半径Ｒより
大又は小に成るように角度を持たせ、この角度を持った
状態で該攪拌用ペラの外周を該シャフト方向に立ち上げ
た攪拌用ペラ片から成る攪拌用ペラ装置にある。According to a second aspect of the present invention, in a slurry stirring agitator used in an apparatus for keeping the temperature of the slurry in the tank constant, a tip of a stirring motor is provided on an upper surface of a circulation tank filled with the slurry. A stirring shaft rotating means consisting of a stirring shaft positioned; and a stirring propeller plate provided at the tip of the stirring shaft at right angles to the shaft direction. At both ends of the stirring propeller plate, a radius R from the center of the shaft axis is provided.
A stirrer piece is arranged in a tangential direction at a distant position, and one end of this stirrer piece is tangentially contacted, and the other end is angled such that it is larger or smaller than the radius R. In the stirring propeller device, the stirring propeller is formed by a stirring prop piece which is raised in an outer periphery of the stirring propeller in the shaft direction in a state where the stirring propeller is in an upright position.
【００１０】請求項３では、銅パイプを介して触媒を直
接流し、冷却及び加熱させながらタンク内のスラリー液
温度を一定させる温調方法で、研磨材の混ざった使用済
みスラリー液のフィルタの目詰まりを除去する方法にお
いて、Ｎ２および純水の混合液を間欠的に該フィルタの
下部及び側面に、フィルタ自体の耐圧力より弱い圧力で
噴射させ、フィルタ表面に固形化したスラリー液付着物
を除去する方法にある。According to a third aspect of the present invention, a filter for a used slurry liquid mixed with an abrasive is used in a temperature control method in which a catalyst is directly flowed through a copper pipe and the temperature of the slurry liquid in the tank is kept constant while cooling and heating. In the method of removing clogging, a mixture of N2 and pure water is intermittently sprayed onto the lower and side surfaces of the filter at a pressure lower than the pressure resistance of the filter itself to remove solidified slurry liquid adhering to the filter surface. There is a way to do it.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参考にしなが
ら、本発明にかかるスラリー供給システム（方法）をＣ
ＭＰ装置に適用した一実施の形態について説明する。
尚、説明において、同一機能及び構成要素について詳細
に説明し、重複説明は省略する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a slurry supply system (method) according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
An embodiment applied to an MP apparatus will be described.
In the description, the same functions and components will be described in detail, and redundant description will be omitted.
【００１２】図１に示したＣＭＰ装置に用いるスラリー
供給方法は、冷却タンク１と循環タンク２から成る側面
が二重構造のウォータジャケット式のタンク３を設け、
該冷却タンク１には、冷凍機（チラー）４内のフロンで
冷却された冷却水５を注入させるようになっており、冷
却済みの冷却水をオン・オフバルブＡ又はリーク用バル
ブ７を介して該冷凍機４に戻している。しかも、ウォー
タジャケット式タンク３の底面はスラリー液６を加温さ
せるラバーヒータ９が張り付いている。このラバーヒー
タ９はＳＳＲ８に配線され、温度感知センサ１４で感知
した温度情報からラバーヒータ９の電流をオン・オフし
て循環タンク２のスラリー液６の温度を制御している。In the slurry supply method used in the CMP apparatus shown in FIG. 1, a water jacket type tank 3 having a double side structure comprising a cooling tank 1 and a circulation tank 2 is provided.
Cooling water 5 cooled by chlorofluorocarbon in a refrigerator (chiller) 4 is injected into the cooling tank 1, and the cooled cooling water is supplied through an on / off valve A or a leak valve 7. It is returned to the refrigerator 4. In addition, a rubber heater 9 for heating the slurry 6 is attached to the bottom surface of the water jacket type tank 3. The rubber heater 9 is wired to the SSR 8, and controls the temperature of the slurry 6 in the circulation tank 2 by turning on / off the current of the rubber heater 9 based on the temperature information detected by the temperature sensor 14.
【００１３】該循環タンク２の上蓋には攪拌用モータ１
０が固定されており、図２の（Ａ）で攪拌ペラに示すよ
うに、該攪拌用モータ１０のシャフト（材料はプロピレ
ン）１１が該循環用タンク２内にシャフト１１方向が下
向きに装着され、このシャフト１１の先端は、攪拌用ペ
ラ板（材料はプロピレン）１２が該シャフト１１と直交
して固定されており、更に該攪拌用ペラ板１２の両他端
には該シャフト１１方向と平行な方向に攪拌用ペラ片１
３が立直している。図２（Ｂ）で示すように、該攪拌用
ペラ片１３が攪拌用ペラ板１２と、直交しているばかり
でなく、攪拌用ペラ板１２の回転方向に対してθ角度を
付けて立直させている。この角度を付けたことによっ
て、攪拌の効果が一段と効率良く攪拌でき、スラリー液
６と他の溶液の混合及び、スラリー液６の沈殿物を、な
るべくスラリー液６に浮遊させ沈殿物の防止につなげて
いる。A stirring motor 1 is provided on the upper lid of the circulation tank 2.
0 is fixed, and a shaft (material is propylene) 11 of the stirring motor 10 is mounted in the circulation tank 2 with the direction of the shaft 11 facing downward as shown by a stirring propeller in FIG. A stirrer plate (made of propylene) 12 is fixed to the tip of the shaft 11 at right angles to the shaft 11, and the other end of the stirrer plate 12 is parallel to the shaft 11 direction. Propeller piece 1 in any direction
3 is upright. As shown in FIG. 2 (B), the stirrer piece 13 is not only orthogonal to the stirrer plate 12 but also is turned upright at an angle θ with respect to the rotation direction of the stirrer plate 12. ing. By providing this angle, the effect of stirring can be further efficiently stirred, and the mixture of the slurry liquid 6 and another solution and the precipitate of the slurry liquid 6 are suspended in the slurry liquid 6 as much as possible to prevent the precipitate. ing.
【００１４】該循環タンク２には該スラリー液６の温度
を感知するセンサ１４が設けられており、このセンサ１
４の情報を温度調節器ＴＣ１にインプットされ、過昇防
止手段ＴＣ２に伝達され、ラバーヒータ９の電流をオン
・オフすることで、スラリー液６の温度を調整する温度
調節器ＴＣ１がある。この温度調節器ＴＣ１で所定の温
度を越えると、循環タンク２の周りに冷却水を流す為
に、冷凍機４のオン・オフバルブを開いて該スラリー液
６の温度を所定の温度にコントロールする構成になって
いる。The circulation tank 2 is provided with a sensor 14 for sensing the temperature of the slurry 6.
There is a temperature controller TC1 which inputs the information of No. 4 to the temperature controller TC1 and transmits the information to the excessive rise prevention means TC2 to turn on and off the current of the rubber heater 9 to adjust the temperature of the slurry liquid 6. When the temperature exceeds a predetermined temperature by the temperature controller TC1, an on / off valve of the refrigerator 4 is opened to control the temperature of the slurry 6 to a predetermined temperature in order to flow cooling water around the circulation tank 2. It has become.
【００１５】上記に説明したように、温度コントロール
がなされたスラリー液６を半導体ウエハ等にスラリー液
６又は混合液を点下させ、研磨しその廃液、即ち使用済
みスラリー液６を回収し、ウォータジャケット式タンク
３の循環タンク２に戻す配管途中にフィルタ２０（配管
経路を図示せず）が設けられている。As described above, the slurry liquid 6 whose temperature is controlled is dripped with the slurry liquid 6 or a mixed liquid on a semiconductor wafer or the like, polished, and the waste liquid, that is, the used slurry liquid 6 is collected, and the water is collected. A filter 20 (the piping route is not shown) is provided in the piping of the jacket type tank 3 returning to the circulation tank 2.
【００１６】このフィルタ２０は、図３に示すように、
フィルタハウジング２１と、フィルタカートリッジ２２
と、フラッシュ（噴射）洗浄用ベント２３と、このベン
ト２３からＮ２及び純水の混合液２４を間欠的に吹き付
ける装置とから構成されており、該フィルタハウジング
２１に装着されているフィルタカートリッジ２２は、該
フィルタハウジング２１内に集まった使用済みスラリー
液は、該フィルタカートリッジ２２内に渦Ｐを発生させ
ながら固形物を残してスラリー液をのみこんでいく。そ
の結果、該フィルタカートリッジ２２表面には付着物が
こびり付く。このこびり付いたフィルタカートリッジ２
２の表面にＮ２及び純水の混合液を間欠的にフラッシュ
（噴射）させて、該スラリー液の固形化したものを吹き
飛ばして除去する。This filter 20, as shown in FIG.
Filter housing 21 and filter cartridge 22
A vent 23 for flush (spray) cleaning, and a device for intermittently blowing a mixed solution 24 of N2 and pure water from the vent 23. The filter cartridge 22 mounted on the filter housing 21 The used slurry liquid collected in the filter housing 21 whirls the slurry liquid while leaving solid matter while generating a vortex P in the filter cartridge 22. As a result, deposits adhere to the surface of the filter cartridge 22. This stuck filter cartridge 2
A mixture of N2 and pure water is intermittently flushed (sprayed) onto the surface of the second 2, and the solidified slurry is blown off and removed.
【００１７】[0017]
【発明の効果】外側と内側タンクから成る二重構造のウ
ォータジャケット式タンクを設け、外側タンクには、フ
ロン〔Ｒ−２２〕で冷却された冷却水を外側タンクに流
し循環させているので、該フロンを直接に流さない為、
環境的に安全である。このフロンは冷凍機内に使用され
ているのみである。また、冷却水の使用によりタンクを
装置本体から容易に取り外すことができ、メンテナンス
の向上につながる。又、スラリー液の入ったタンクに配
置された攪拌ペラの形状と攪拌シャフトの形状が攪拌効
率の良い角度を設けているので、従来の丸棒タイプと比
べて攪拌効果が高い。スラリー供給方法（システム）の
フラッシュ（噴射）洗浄方法では、フィルタの交換サイ
クルが長くなり、ひいてはコスト的に安くなる。特注フ
ィルタを使用しなくても良くなる。According to the present invention, a water jacket type tank having a double structure comprising an outer tank and an inner tank is provided, and cooling water cooled by Freon [R-22] is supplied to the outer tank to circulate the outer tank. In order not to flow the Freon directly,
Environmentally safe. This chlorofluorocarbon is only used in refrigerators. Further, the tank can be easily removed from the apparatus main body by using the cooling water, which leads to an improvement in maintenance. Further, since the shape of the stirring shaft and the shape of the stirring shaft disposed in the tank containing the slurry liquid form an angle with good stirring efficiency, the stirring effect is higher than that of the conventional round bar type. In the flushing (spraying) cleaning method of the slurry supply method (system), the replacement cycle of the filter becomes longer, and the cost becomes lower. It is not necessary to use a custom filter.
【００１８】一方、使用済みスラリー液が、ウォータジ
ャケット式タンクの循環タンクに戻る配管部に設けられ
たフィルタは、図３に示すように、フィルタハウジング
と、フィルタカートリッジと、フラッシュ（噴射）洗浄
用ベントと、このベントからＮ２及び純水の混合液を間
欠的に吹き付ける装置とから構成されており、該フィル
タハウジングに装着されているフィルターカートリッジ
は、該フィルタハウジング内に集まった使用済みスラリ
ー液は、該カートリッジ内に渦を発生させながら固形物
を残してスラリー液をのみ込んでいく。その結果、該カ
ートリッジ表面には付着物がこびり付く。このこびり付
いたカートリッジの表面にＮ２及び純水の混合液を間欠
的にフラッシュ（噴射）させて、該スラリー液の固形化
したものを吹き飛ばして除去する。On the other hand, as shown in FIG. 3, a filter provided in a pipe portion in which the used slurry liquid returns to the circulation tank of the water jacket type tank is provided with a filter housing, a filter cartridge, and a flush (spray) cleaning. A vent, and a device for intermittently spraying a mixed solution of N2 and pure water from the vent. The filter cartridge mounted on the filter housing includes a used slurry liquid collected in the filter housing. Then, while generating a vortex in the cartridge, the solid solution is left and the slurry liquid is poured only. As a result, deposits adhere to the surface of the cartridge. A mixed solution of N2 and pure water is intermittently flushed (sprayed) on the surface of the stuck cartridge, and the solidified slurry liquid is blown off and removed.
【００１９】ここで、該フィルタカートリッジ自体の耐
圧力に対して、弱い圧力でフラッシュしなければならな
い。該フィルタカートリッジの交換サイクルが長くなり
コストの低下につながる。特注該フィルタカートリッジ
を使用しなくても済む。Here, the flushing must be performed at a pressure lower than the pressure resistance of the filter cartridge itself. The replacement cycle of the filter cartridge is lengthened, leading to a reduction in cost. It is not necessary to use the custom-made filter cartridge.
【図１】図１はスラリー供給方法の全体構成側断面図を
示す。FIG. 1 is a sectional side view of the entire structure of a slurry supply method.
【図２】図２（Ａ）は循環タンク内の攪拌用ペラ形状の
側断面図を示す。図２（Ｂ）は循環タンク内の攪拌用ペ
ラ形状の下から見た底面図を示す。FIG. 2 (A) is a side sectional view of the shape of a stirring propeller in a circulation tank. FIG. 2B is a bottom view as viewed from below the shape of the stirring propeller in the circulation tank.
【図３】図３はスラリー供給方法に設けたフィルタの側
断面図を示す。FIG. 3 is a side sectional view of a filter provided in the slurry supply method.
１ 冷却タンク ２ 循環タンク ３ ウォータジャケット式タンク ４ 冷凍機 ６ スラリー液 ７ リーク用バルブ ９ ラバーヒータ １０ 攪拌用モータ １１ シャフト １２ 攪拌用ペラ板 １３ 攪拌用ペラ片 １４ 温度感知センサ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cooling tank 2 Circulation tank 3 Water jacket type tank 4 Refrigerator 6 Slurry liquid 7 Leak valve 9 Rubber heater 10 Stirring motor 11 Shaft 12 Stirring plate 13 Stirring piece 14 Temperature sensor
Claims (3)
及び加熱させながらタンク内のスラリー液温度を一定さ
せる温調方法において、 冷却水タンクとスラリー液循環タンクが独立した二重構
造のウォータージャケット式タンクを設け、冷凍機から
の冷却水を該冷却水タンクに循環させて冷却する工程
と、該スラリー液が充填されている循環タンク底面に直
接加熱ヒータを設けスラリー液を加熱する加熱工程と、
該スラリー液の温度をセンサーで検知し、この情報に基
づいて冷却水の流量と加熱ヒータに電流を制御して、該
スラリー液温度を温度調節器で一定にする工程から成る
スラリー液温調方法。1. A temperature control method for flowing a catalyst directly through a copper pipe and cooling and heating the slurry to keep the temperature of the slurry in the tank constant. A step of providing a jacket type tank and circulating cooling water from a refrigerator through the cooling water tank to cool the tank; and a step of heating a slurry liquid by providing a heater directly on the bottom of the circulation tank filled with the slurry liquid When,
Detecting the temperature of the slurry liquid with a sensor, controlling the flow rate of cooling water and the current to a heater based on this information, and keeping the temperature of the slurry liquid constant with a temperature controller. .
る装置に用いるスラリー液の攪拌用ペラにおいて、 循環タンクの上面に、攪拌用モータの先端が下方に向け
た攪拌シャフト回転手段と、該攪拌シャフトの先端には
該シャフト方向と直交して攪拌用ペラ板を設け、更に、
該攪拌用ペラ板の両端には、該シャフト軸中心から半径
Ｒ離れた位置に、攪拌用ペラ板の回転方向に対して角度
を持たせて攪拌用ペラ片を配置した構成の、スラリー供
給方法の攪拌用ペラ。2. A slurry stirring agitator used in an apparatus for keeping the temperature of a slurry in the tank constant, comprising: a stirring shaft rotating means with a tip of a stirring motor directed downward on an upper surface of a circulation tank; At the tip of the shaft, a stirring plate is provided at right angles to the shaft direction.
A slurry supply method comprising a configuration in which stirring agitating pieces are arranged at both ends of the agitating prop plate at a position away from the center of the shaft axis by a radius R with respect to the rotation direction of the agitating prop plate. Stirring propeller.
及び加熱させながらタンク内のスラリー液温度を一定さ
せる温調方法で、研磨材の混ざった使用済みスラリー液
のフィルタの目詰まりを除去する方法において、 フィルタ自体の耐圧力より弱い圧力でＮ２及び純水の混
合液を間欠的にフィルタに噴射させて、フィルタ表面に
付着した固形化物を除去する方法。3. A clogging of a filter of a used slurry liquid mixed with an abrasive is performed by a temperature control method in which a catalyst is directly flowed through a copper pipe and a temperature of a slurry liquid in a tank is kept constant while cooling and heating. A method of intermittently injecting a mixed solution of N2 and pure water into the filter at a pressure weaker than the pressure resistance of the filter itself to remove solidified substances attached to the filter surface.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19522597A JPH1128664A (en) | 1997-07-07 | 1997-07-07 | Slurry liquid feeding system for polishing processed body |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19522597A JPH1128664A (en) | 1997-07-07 | 1997-07-07 | Slurry liquid feeding system for polishing processed body |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1128664A true JPH1128664A (en) | 1999-02-02 |
Family
ID=16337558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19522597A Pending JPH1128664A (en) | 1997-07-07 | 1997-07-07 | Slurry liquid feeding system for polishing processed body |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1128664A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007098484A (en) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Hoya Corp | Glass substrate for magnetic disk and manufacturing method of magnetic disk |
| JP2011248984A (en) * | 2010-05-31 | 2011-12-08 | Asahi Glass Co Ltd | Glass substrate for magnetic recording medium and manufacturing method of the same |
| JP2016007652A (en) * | 2014-06-23 | 2016-01-18 | 株式会社荏原製作所 | Temperature control system of polishing pad and substrate treatment apparatus provided with the same |
-
1997
- 1997-07-07 JP JP19522597A patent/JPH1128664A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007098484A (en) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Hoya Corp | Glass substrate for magnetic disk and manufacturing method of magnetic disk |
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| JP2016007652A (en) * | 2014-06-23 | 2016-01-18 | 株式会社荏原製作所 | Temperature control system of polishing pad and substrate treatment apparatus provided with the same |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020312 |