JPH11247582A - 立坑接合部に於ける免震及び止水工法並びに免震及び止水構造 - Google Patents
立坑接合部に於ける免震及び止水工法並びに免震及び止水構造Info
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- JPH11247582A JPH11247582A JP5349598A JP5349598A JPH11247582A JP H11247582 A JPH11247582 A JP H11247582A JP 5349598 A JP5349598 A JP 5349598A JP 5349598 A JP5349598 A JP 5349598A JP H11247582 A JPH11247582 A JP H11247582A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 できる限り安価な費用で立坑とシールドトン
ネルとの接合部を免震化するとともに、シールドトンネ
ルの坑口での止水性を向上して立坑接合部に於ける大幅
な断面力低減を図る。 【解決手段】 立坑１１とシールドトンネル１２との接
合部に於いて、坑口のセグメント１６ａの内側端部を立
坑躯体１１ａの内側へ突出させ、坑口のセグメント１６
ａと立坑躯体１１ａとをゴム状絶縁層１９にて絶縁し、
その外周部に場所打ちコンクリート２０を打設して立坑
躯体１１ａに接合させる。また、シールドトンネル１２
のセグメント１６と地盤改良部１３との隙間に免震材を
注入して免震層１８を形成する。
ネルとの接合部を免震化するとともに、シールドトンネ
ルの坑口での止水性を向上して立坑接合部に於ける大幅
な断面力低減を図る。 【解決手段】 立坑１１とシールドトンネル１２との接
合部に於いて、坑口のセグメント１６ａの内側端部を立
坑躯体１１ａの内側へ突出させ、坑口のセグメント１６
ａと立坑躯体１１ａとをゴム状絶縁層１９にて絶縁し、
その外周部に場所打ちコンクリート２０を打設して立坑
躯体１１ａに接合させる。また、シールドトンネル１２
のセグメント１６と地盤改良部１３との隙間に免震材を
注入して免震層１８を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は立坑接合部に於ける
免震及び止水工法並びに免震及び止水構造に関するもの
であり、特に、シールドトンネルの発進部と到達部の双
方の立坑接合部に於ける免震及び止水工法並びに免震及
び止水構造に関するものである。
免震及び止水工法並びに免震及び止水構造に関するもの
であり、特に、シールドトンネルの発進部と到達部の双
方の立坑接合部に於ける免震及び止水工法並びに免震及
び止水構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図７（ａ）は一般的な立坑１とシールド
トンネル２との接合部を示し、このような非免震の立坑
の接合部付近には、地震時に過大な断面力が作用する。
このとき、立坑接合部に於ける立坑躯体１ａとセグメン
ト２ａとの間に発生するシールドトンネル２の長手方向
の相対変位は数十mmもあるため、通常のセグメント２ａ
のリング継手構造では吸収しきれない。
トンネル２との接合部を示し、このような非免震の立坑
の接合部付近には、地震時に過大な断面力が作用する。
このとき、立坑接合部に於ける立坑躯体１ａとセグメン
ト２ａとの間に発生するシールドトンネル２の長手方向
の相対変位は数十mmもあるため、通常のセグメント２ａ
のリング継手構造では吸収しきれない。
【０００３】このため従来は、図７（ｂ）に示すよう
に、立坑接合部のセグメントの１リング或いは２リング
を、大変形吸収可能な可撓セグメント２ｂに置き換えて
施工し、この可撓セグメント２ｂで集中的に相対変位を
吸収しようとしている。
に、立坑接合部のセグメントの１リング或いは２リング
を、大変形吸収可能な可撓セグメント２ｂに置き換えて
施工し、この可撓セグメント２ｂで集中的に相対変位を
吸収しようとしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、可撓セグメン
トは吸収機構が複雑であるためコスト高になるととも
に、組立作業に多大な時間を要するので工程上も問題が
ある。更に、立坑接合部付近に分布するトンネル相対変
位を１箇所に集中して吸収しようとするが、実際にはト
ンネル外周には地盤が存在するため、可撓セグメントの
両側のトンネル外周地盤が抵抗して期待通りの変位吸収
は困難である。
トは吸収機構が複雑であるためコスト高になるととも
に、組立作業に多大な時間を要するので工程上も問題が
ある。更に、立坑接合部付近に分布するトンネル相対変
位を１箇所に集中して吸収しようとするが、実際にはト
ンネル外周には地盤が存在するため、可撓セグメントの
両側のトンネル外周地盤が抵抗して期待通りの変位吸収
は困難である。
【０００５】そこで、できる限り安価な費用で立坑とシ
ールドトンネルとの接合部を免震化するとともに、シー
ルドトンネルの坑口での止水性を向上して立坑接合部に
於ける大幅な断面力低減を図るために解決すべき技術的
課題が生じてくるのであり、本発明はこの課題を解決す
ることを目的とする。
ールドトンネルとの接合部を免震化するとともに、シー
ルドトンネルの坑口での止水性を向上して立坑接合部に
於ける大幅な断面力低減を図るために解決すべき技術的
課題が生じてくるのであり、本発明はこの課題を解決す
ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために提案されたものであり、立坑とシールドトン
ネルとの接合部に於いて、シールドトンネルの坑口では
立坑躯体の内側へセグメントを突出させ、該坑口のセグ
メントと前記立坑躯体とをゴム状固形物にて絶縁すると
ともに、シールドトンネルのセグメントと地盤との隙間
に免震材を注入して免震層を形成する立坑接合部に於け
る免震及び止水工法、並びに、立坑とシールドトンネル
との接合部に於いて、シールドトンネルの坑口では立坑
躯体の内側へセグメントを突出させ、該坑口のセグメン
トと前記立坑躯体とをゴム状固形物にて絶縁するととも
に、シールドトンネルのセグメントと地盤との隙間に免
震層を形成した立坑接合部に於ける免震及び止水構造を
提供する。
するために提案されたものであり、立坑とシールドトン
ネルとの接合部に於いて、シールドトンネルの坑口では
立坑躯体の内側へセグメントを突出させ、該坑口のセグ
メントと前記立坑躯体とをゴム状固形物にて絶縁すると
ともに、シールドトンネルのセグメントと地盤との隙間
に免震材を注入して免震層を形成する立坑接合部に於け
る免震及び止水工法、並びに、立坑とシールドトンネル
との接合部に於いて、シールドトンネルの坑口では立坑
躯体の内側へセグメントを突出させ、該坑口のセグメン
トと前記立坑躯体とをゴム状固形物にて絶縁するととも
に、シールドトンネルのセグメントと地盤との隙間に免
震層を形成した立坑接合部に於ける免震及び止水構造を
提供する。
【０００７】また、立坑とシールドトンネルとの接合部
に於いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内側
へセグメントを突出させ、該坑口のセグメントと前記立
坑躯体との隙間の開口部をゴム状止水部材にて閉鎖し、
該坑口のセグメントの外周面にゴム状絶縁層を設け、且
つ、該ゴム状絶縁層の外周部に場所打ちコンクリートを
打設して立坑躯体に接合させるとともに、シールドトン
ネルのセグメントと地盤との隙間に免震材を注入して免
震層を形成する立坑接合部に於ける免震及び止水工法、
並びに、立坑とシールドトンネルとの接合部に於いて、
シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内側へセグメン
トを突出させ、該坑口のセグメントと前記立坑躯体との
隙間の開口部を閉鎖するゴム状止水部材を装着し、該坑
口のセグメントの外周面にゴム状絶縁層を設け、且つ、
該ゴム状絶縁層の外周部に前記立坑躯体と接合する場所
打ちコンクリートを打設するとともに、シールドトンネ
ルのセグメントと地盤との隙間に免震層を形成した立坑
接合部に於ける免震及び止水構造を提供する。
に於いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内側
へセグメントを突出させ、該坑口のセグメントと前記立
坑躯体との隙間の開口部をゴム状止水部材にて閉鎖し、
該坑口のセグメントの外周面にゴム状絶縁層を設け、且
つ、該ゴム状絶縁層の外周部に場所打ちコンクリートを
打設して立坑躯体に接合させるとともに、シールドトン
ネルのセグメントと地盤との隙間に免震材を注入して免
震層を形成する立坑接合部に於ける免震及び止水工法、
並びに、立坑とシールドトンネルとの接合部に於いて、
シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内側へセグメン
トを突出させ、該坑口のセグメントと前記立坑躯体との
隙間の開口部を閉鎖するゴム状止水部材を装着し、該坑
口のセグメントの外周面にゴム状絶縁層を設け、且つ、
該ゴム状絶縁層の外周部に前記立坑躯体と接合する場所
打ちコンクリートを打設するとともに、シールドトンネ
ルのセグメントと地盤との隙間に免震層を形成した立坑
接合部に於ける免震及び止水構造を提供する。
【０００８】加えて、立坑とシールドトンネルとの接合
部に於いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内
側へセグメントを突出させ、該坑口のセグメントと前記
立坑躯体との隙間の開口部をゴム状止水部材にて閉鎖
し、該坑口のセグメントの端部と前記立坑躯体に夫々固
定板を取り付け、且つ、双方の固定板間にゴム状止水リ
ングを装着して該坑口のセグメントの立坑内へ突出して
いる外周面を密閉するとともに、シールドトンネルのセ
グメントと地盤との隙間に免震材を注入して免震層を形
成する立坑接合部に於ける免震及び止水工法、並びに、
立坑とシールドトンネルとの接合部に於いて、シールド
トンネルの坑口では立坑躯体の内側へセグメントを突出
させ、該坑口のセグメントと前記立坑躯体との隙間の開
口部を閉鎖するゴム状止水部材を装着し、該坑口のセグ
メントの端部と前記立坑躯体に夫々固定板を取り付け、
且つ、該坑口のセグメントの立坑内へ突出している外周
面を密閉するゴム状止水リングを双方の固定板間に装着
するとともに、シールドトンネルのセグメントと地盤と
の隙間に免震層を形成した立坑接合部に於ける免震及び
止水構造を提供する。
部に於いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内
側へセグメントを突出させ、該坑口のセグメントと前記
立坑躯体との隙間の開口部をゴム状止水部材にて閉鎖
し、該坑口のセグメントの端部と前記立坑躯体に夫々固
定板を取り付け、且つ、双方の固定板間にゴム状止水リ
ングを装着して該坑口のセグメントの立坑内へ突出して
いる外周面を密閉するとともに、シールドトンネルのセ
グメントと地盤との隙間に免震材を注入して免震層を形
成する立坑接合部に於ける免震及び止水工法、並びに、
立坑とシールドトンネルとの接合部に於いて、シールド
トンネルの坑口では立坑躯体の内側へセグメントを突出
させ、該坑口のセグメントと前記立坑躯体との隙間の開
口部を閉鎖するゴム状止水部材を装着し、該坑口のセグ
メントの端部と前記立坑躯体に夫々固定板を取り付け、
且つ、該坑口のセグメントの立坑内へ突出している外周
面を密閉するゴム状止水リングを双方の固定板間に装着
するとともに、シールドトンネルのセグメントと地盤と
の隙間に免震層を形成した立坑接合部に於ける免震及び
止水構造を提供する。
【０００９】更に、立坑とシールドトンネルとの接合部
に於いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内側
へセグメントを突出させ、該坑口のセグメントと前記立
坑躯体との隙間の開口部をゴム状止水部材にて閉鎖し、
該坑口のセグメントの外周面及び端面にゴム状絶縁層を
設け、且つ、該ゴム状絶縁層の外周部及び内側端部に場
所打ちコンクリートを打設して立坑内壁を構築するとと
もに、シールドトンネルのセグメントと地盤との隙間に
免震材を注入して免震層を形成する立坑接合部に於ける
免震及び止水工法、並びに、立坑とシールドトンネルと
の接合部に於いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯
体の内側へセグメントを突出させ、該坑口のセグメント
と前記立坑躯体との隙間の開口部を閉鎖するゴム状止水
部材を装着し、該坑口のセグメントの外周面及び端面に
ゴム状絶縁層を設け、且つ、該ゴム状絶縁層の外周部及
び内側端部に場所打ちコンクリートを打設して立坑内壁
を構築するとともに、シールドトンネルのセグメントと
地盤との隙間に免震層を形成した立坑接合部に於ける免
震及び止水構造を提供する。
に於いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内側
へセグメントを突出させ、該坑口のセグメントと前記立
坑躯体との隙間の開口部をゴム状止水部材にて閉鎖し、
該坑口のセグメントの外周面及び端面にゴム状絶縁層を
設け、且つ、該ゴム状絶縁層の外周部及び内側端部に場
所打ちコンクリートを打設して立坑内壁を構築するとと
もに、シールドトンネルのセグメントと地盤との隙間に
免震材を注入して免震層を形成する立坑接合部に於ける
免震及び止水工法、並びに、立坑とシールドトンネルと
の接合部に於いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯
体の内側へセグメントを突出させ、該坑口のセグメント
と前記立坑躯体との隙間の開口部を閉鎖するゴム状止水
部材を装着し、該坑口のセグメントの外周面及び端面に
ゴム状絶縁層を設け、且つ、該ゴム状絶縁層の外周部及
び内側端部に場所打ちコンクリートを打設して立坑内壁
を構築するとともに、シールドトンネルのセグメントと
地盤との隙間に免震層を形成した立坑接合部に於ける免
震及び止水構造を提供する。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に従って詳述する。図１は立坑１１とシールドトンネル
１２の接合部を示し、同図に従って、請求項１記載の立
坑接合部に於ける免震及び止水工法、並びに請求項２記
載の免震及び止水構造について説明する。立坑１１には
立坑躯体１１ａが構築されており、シールドトンネル１
２の発進部から数ｍ前後の区間には、予め地盤改良施工
により地盤改良部１３が設けられている。該地盤改良部
１３は、シールド掘削により応力を解放しても地山が自
立するほどの強度を有している。地盤改良部１３の前方
（同図にて左端）は、地盤改良施工を行わない通常の地
盤１４である。
に従って詳述する。図１は立坑１１とシールドトンネル
１２の接合部を示し、同図に従って、請求項１記載の立
坑接合部に於ける免震及び止水工法、並びに請求項２記
載の免震及び止水構造について説明する。立坑１１には
立坑躯体１１ａが構築されており、シールドトンネル１
２の発進部から数ｍ前後の区間には、予め地盤改良施工
により地盤改良部１３が設けられている。該地盤改良部
１３は、シールド掘削により応力を解放しても地山が自
立するほどの強度を有している。地盤改良部１３の前方
（同図にて左端）は、地盤改良施工を行わない通常の地
盤１４である。
【００１１】ここで、立坑躯体１１ａのシールド発進開
口部には、全周縁部に亙ってゴム状止水部材１５が取り
付けられており、シールドマシン（図示せず）が先ず地
盤改良部１３を掘削する際に、該ゴム状止水部材１５が
シールドトンネル１２の内側へ湾曲してその先端部がス
キンプレートに摺擦し、更に、エレクタで設置された坑
口のセグメント１６ａの外周面に該ゴム状止水部材１５
が当接する。該ゴム状止水部材１５によって立坑躯体１
１ａと坑口のセグメント１６ａとの隙間が閉鎖され、前
記地盤改良部１３から流出しようとする地下水を止水で
きる。
口部には、全周縁部に亙ってゴム状止水部材１５が取り
付けられており、シールドマシン（図示せず）が先ず地
盤改良部１３を掘削する際に、該ゴム状止水部材１５が
シールドトンネル１２の内側へ湾曲してその先端部がス
キンプレートに摺擦し、更に、エレクタで設置された坑
口のセグメント１６ａの外周面に該ゴム状止水部材１５
が当接する。該ゴム状止水部材１５によって立坑躯体１
１ａと坑口のセグメント１６ａとの隙間が閉鎖され、前
記地盤改良部１３から流出しようとする地下水を止水で
きる。
【００１２】続いて、シールドマシンの掘進に従って順
次セグメント１６，１６…を設置していき、シールドマ
シンのシールドテール（図示せず）或いは後方のセグメ
ントのグラウトホール１７から、地盤改良部１３とセグ
メント１６との隙間（テールボイド）に免震材を注入す
る。テールボイドへ注入された免震材は一定時間後に硬
化し、免震層１８が形成される。地盤改良部１３では、
前述したように地山が自立するため、確実に一定厚みの
免震層１８が形成される。また、免震材の注入工程に前
後して、前記立坑躯体１１ａと坑口のセグメント１６ａ
とをゴム状固形物にて絶縁する。
次セグメント１６，１６…を設置していき、シールドマ
シンのシールドテール（図示せず）或いは後方のセグメ
ントのグラウトホール１７から、地盤改良部１３とセグ
メント１６との隙間（テールボイド）に免震材を注入す
る。テールボイドへ注入された免震材は一定時間後に硬
化し、免震層１８が形成される。地盤改良部１３では、
前述したように地山が自立するため、確実に一定厚みの
免震層１８が形成される。また、免震材の注入工程に前
後して、前記立坑躯体１１ａと坑口のセグメント１６ａ
とをゴム状固形物にて絶縁する。
【００１３】図２は請求項３及び４記載の発明の実施の
形態を示したものであり、ゴム状固形物の一例として、
前記坑口のセグメント１６ａの立坑内に突出している外
周面にゴム状絶縁層１９を設ける。該ゴム状絶縁層１９
はゴム板を前記坑口のセグメント１６ａの外周面に巻き
付けて接着したり、或いは、前記坑口のセグメント１６
ａの外周部に型枠を設置して液状ゴムを流し込む等の方
法により形成される。更に、該ゴム状絶縁層１９の外周
部に場所打ちコンクリート２０を打設し、立坑躯体１１
ａに場所打ちコンクリート２０を接合させる。
形態を示したものであり、ゴム状固形物の一例として、
前記坑口のセグメント１６ａの立坑内に突出している外
周面にゴム状絶縁層１９を設ける。該ゴム状絶縁層１９
はゴム板を前記坑口のセグメント１６ａの外周面に巻き
付けて接着したり、或いは、前記坑口のセグメント１６
ａの外周部に型枠を設置して液状ゴムを流し込む等の方
法により形成される。更に、該ゴム状絶縁層１９の外周
部に場所打ちコンクリート２０を打設し、立坑躯体１１
ａに場所打ちコンクリート２０を接合させる。
【００１４】斯くして、前記テールボイドに形成された
免震層１８により、地震時にシールドトンネルに作用す
る断面力が低減されるとともに、前記ゴム状絶縁層１９
及び場所打ちコンクリート２０により、シールドトンネ
ルの坑口での止水性並びに免震性が向上し、両者の相乗
効果によって立坑１１とシールドトンネル１２との接合
部付近に於いて、極めて高い免震効果を得ることができ
る。
免震層１８により、地震時にシールドトンネルに作用す
る断面力が低減されるとともに、前記ゴム状絶縁層１９
及び場所打ちコンクリート２０により、シールドトンネ
ルの坑口での止水性並びに免震性が向上し、両者の相乗
効果によって立坑１１とシールドトンネル１２との接合
部付近に於いて、極めて高い免震効果を得ることができ
る。
【００１５】尚、シールドマシンの掘進に従って通常の
地盤１４にセグメント１６を設置したときは、図１に示
すように、該地盤１４とセグメント１６との隙間（テー
ルボイド）には通常の裏込め注入材２１を注入する。
地盤１４にセグメント１６を設置したときは、図１に示
すように、該地盤１４とセグメント１６との隙間（テー
ルボイド）には通常の裏込め注入材２１を注入する。
【００１６】図３は請求項５及び６記載の発明の実施の
形態を示し、請求項２記載の発明と同様に、立坑躯体１
１ａのシールド発進開口部には、全周縁部に亙ってゴム
状止水部材１５が取り付けられおり、該ゴム状止水部材
１５によって立坑躯体１１ａと坑口のセグメント１６ａ
との隙間が閉鎖されている。また、該坑口のセグメント
１６ａの立坑１１内に突出している端部と前記立坑躯体
１１ａに夫々固定板２２を取り付け、ゴム状固形物の他
の一例として、双方の固定板２２，２２間にゴム状止水
リング２３を装着する。該ゴム状止水リング２３はベロ
ーズ状に形成され、シールドトンネル１２の軸方向並び
に半径方向の何れにも可撓または伸縮可能であり、前記
坑口のセグメント１６ａの立坑１１内に突出している外
周面を密閉して、シールドトンネルの坑口での止水性並
びに免震性を確保できる。
形態を示し、請求項２記載の発明と同様に、立坑躯体１
１ａのシールド発進開口部には、全周縁部に亙ってゴム
状止水部材１５が取り付けられおり、該ゴム状止水部材
１５によって立坑躯体１１ａと坑口のセグメント１６ａ
との隙間が閉鎖されている。また、該坑口のセグメント
１６ａの立坑１１内に突出している端部と前記立坑躯体
１１ａに夫々固定板２２を取り付け、ゴム状固形物の他
の一例として、双方の固定板２２，２２間にゴム状止水
リング２３を装着する。該ゴム状止水リング２３はベロ
ーズ状に形成され、シールドトンネル１２の軸方向並び
に半径方向の何れにも可撓または伸縮可能であり、前記
坑口のセグメント１６ａの立坑１１内に突出している外
周面を密閉して、シールドトンネルの坑口での止水性並
びに免震性を確保できる。
【００１７】図４は請求項７及び８記載の発明の実施の
形態を示し、請求項１乃至４記載の発明と同様に、立坑
躯体１１ａのシールド発進開口部には、全周縁部に亙っ
てゴム状止水部材１５が取り付けられおり、該ゴム状止
水部材１５によって立坑躯体１１ａと坑口のセグメント
１６ａとの隙間が閉鎖されている。また、ゴム状固形物
の他の一例として、該坑口のセグメント１６ａの立坑１
１内に突出している外周面及び端面を覆うようにゴム状
絶縁層２４を設ける。該ゴム状絶縁層２４はＬ形断面の
ゴムを前記坑口のセグメント１６ａの外周面及び端面に
巻き付けて接着したり、或いは前記坑口のセグメント１
６ａの外周部及び内側端部に型枠を設置して液状ゴムを
流し込む等の方法により形成される。
形態を示し、請求項１乃至４記載の発明と同様に、立坑
躯体１１ａのシールド発進開口部には、全周縁部に亙っ
てゴム状止水部材１５が取り付けられおり、該ゴム状止
水部材１５によって立坑躯体１１ａと坑口のセグメント
１６ａとの隙間が閉鎖されている。また、ゴム状固形物
の他の一例として、該坑口のセグメント１６ａの立坑１
１内に突出している外周面及び端面を覆うようにゴム状
絶縁層２４を設ける。該ゴム状絶縁層２４はＬ形断面の
ゴムを前記坑口のセグメント１６ａの外周面及び端面に
巻き付けて接着したり、或いは前記坑口のセグメント１
６ａの外周部及び内側端部に型枠を設置して液状ゴムを
流し込む等の方法により形成される。
【００１８】更に、該ゴム状絶縁層２４の外周部に場所
打ちコンクリートを打設し、前記立坑躯体１１ａの内側
に立坑内壁１１ｂを構築する。この立坑内壁１１ｂはゴ
ム状絶縁層２４の外周面及び端面を覆うように施工さ
れ、ゴム状絶縁層２４を介して前記坑口のセグメント１
６ａと立坑内壁１１ｂとが一体化され、シールドトンネ
ルの坑口での止水性並びに変位吸収による絶縁性が向上
する。
打ちコンクリートを打設し、前記立坑躯体１１ａの内側
に立坑内壁１１ｂを構築する。この立坑内壁１１ｂはゴ
ム状絶縁層２４の外周面及び端面を覆うように施工さ
れ、ゴム状絶縁層２４を介して前記坑口のセグメント１
６ａと立坑内壁１１ｂとが一体化され、シールドトンネ
ルの坑口での止水性並びに変位吸収による絶縁性が向上
する。
【００１９】本実施の形態では、立坑とシールドトンネ
ルの発進部に於ける免震及び止水工法について説明した
が、立坑とシールドトンネルの到達部に於いても、シー
ルドマシンのスキンプレートを取り除くことにより、本
実施の形態と同様の工法にて立坑接合部に於ける免震及
び止水性を確保できる。
ルの発進部に於ける免震及び止水工法について説明した
が、立坑とシールドトンネルの到達部に於いても、シー
ルドマシンのスキンプレートを取り除くことにより、本
実施の形態と同様の工法にて立坑接合部に於ける免震及
び止水性を確保できる。
【００２０】ここで、前記ゴム状止水部材１５及びゴム
状絶縁層１９，２４並びにゴム状止水リング２３の素材
はゴム製に限定されず、ゴムのように弾性を有し且つ止
水性があれば、他の素材であってもよい。
状絶縁層１９，２４並びにゴム状止水リング２３の素材
はゴム製に限定されず、ゴムのように弾性を有し且つ止
水性があれば、他の素材であってもよい。
【００２１】尚、本発明の精神を逸脱しない限り種々の
改変を為すことができ、そして、本発明が該改変された
ものに及ぶことは当然である。
改変を為すことができ、そして、本発明が該改変された
ものに及ぶことは当然である。
【００２２】
【実施例】図５は、上記立坑接合部の免震及び止水施工
を行った解析モデルを示し、免震層１８の施工区間はシ
ールドトンネル１２の外径や地盤の状態等により適宜決
定されるが、当解析モデルは立坑１１から約１０ｍの区
間に免震層１８を設けてある。
を行った解析モデルを示し、免震層１８の施工区間はシ
ールドトンネル１２の外径や地盤の状態等により適宜決
定されるが、当解析モデルは立坑１１から約１０ｍの区
間に免震層１８を設けてある。
【００２３】図６は、本発明の免震施工を行った上記解
析モデルについての数値解析結果と、図７（ａ）にて説
明した非免震のケース並びに図７（ｂ）にて説明した可
撓セグメントのケースの数値解析結果を比較して表した
ものである。免震施工のケースでは、１０ｍ区間の相対
変位を立坑側へ逃がし、免震施工区間では軸力の分散が
図られている。その結果、最大発生軸力は非免震のケー
スの２割程度にまで減少し、大きな断面力低減効果が発
揮されていることがわかる。
析モデルについての数値解析結果と、図７（ａ）にて説
明した非免震のケース並びに図７（ｂ）にて説明した可
撓セグメントのケースの数値解析結果を比較して表した
ものである。免震施工のケースでは、１０ｍ区間の相対
変位を立坑側へ逃がし、免震施工区間では軸力の分散が
図られている。その結果、最大発生軸力は非免震のケー
スの２割程度にまで減少し、大きな断面力低減効果が発
揮されていることがわかる。
【００２４】これに対して、可撓セグメントのケースで
は、可撓セグメントから遠ざかった箇所では殆ど可撓セ
グメント設置の影響が及ばず、最大発生軸力からみると
断面力低減効果はあまり大きいとは言えない。
は、可撓セグメントから遠ざかった箇所では殆ど可撓セ
グメント設置の影響が及ばず、最大発生軸力からみると
断面力低減効果はあまり大きいとは言えない。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明ではシール
ドトンネルと地盤との隙間に形成された免震層により、
地震時にシールドトンネルに作用する断面力が低減され
るとともに、シールドトンネルの坑口のセグメントと立
坑躯体がゴム状固形物により絶縁されて、坑口での止水
性並びに免震性が向上する。従って、比較的安価な費用
にて立坑とシールドトンネルとの接合部を免震化でき、
且つ、前記免震層とゴム状固形物の相乗効果により、大
幅な断面力低減を図ることができる。
ドトンネルと地盤との隙間に形成された免震層により、
地震時にシールドトンネルに作用する断面力が低減され
るとともに、シールドトンネルの坑口のセグメントと立
坑躯体がゴム状固形物により絶縁されて、坑口での止水
性並びに免震性が向上する。従って、比較的安価な費用
にて立坑とシールドトンネルとの接合部を免震化でき、
且つ、前記免震層とゴム状固形物の相乗効果により、大
幅な断面力低減を図ることができる。
【図１】請求項１及び２記載の発明の実施の形態を示
し、立坑とシールドトンネルの接合部付近の縦断端面
図。
し、立坑とシールドトンネルの接合部付近の縦断端面
図。
【図２】請求項３及び４記載の発明の実施の形態を示
し、立坑接合部の要部縦断端面図。
し、立坑接合部の要部縦断端面図。
【図３】請求項５及び６記載の発明の実施の形態を示
し、立坑接合部の要部縦断端面図。
し、立坑接合部の要部縦断端面図。
【図４】請求項７及び８記載の発明の実施の形態を示
し、立坑接合部の要部縦断端面図。
し、立坑接合部の要部縦断端面図。
【図５】本発明の立坑接合部の免震及び止水施工を行っ
た解析モデルを示す解説図。
た解析モデルを示す解説図。
【図６】図５の解析モデルによる数値解析結果と、従来
の非免震のケース並びに可撓セグメントのケースの数値
解析結果を比較したグラフ。
の非免震のケース並びに可撓セグメントのケースの数値
解析結果を比較したグラフ。
【図７】（ａ）は、非免震の立坑の接合部付近を示す解
説図。（ｂ）は、可撓セグメントを施工した立坑の接合
部付近を示す解説図。
説図。（ｂ）は、可撓セグメントを施工した立坑の接合
部付近を示す解説図。
１１ 立坑 １１ａ 立坑躯体 １１ｂ 立坑内壁 １２ シールドトンネル １３ 地盤改良部 １４ 地盤 １５ ゴム状止水部材 １６ セグメント １６ａ 坑口のセグメント １７ グラウトホール １８ 免震層 １９ ゴム状絶縁層 ２０ 場所打ちコンクリート ２１ 裏込め注入材 ２２ 固定板 ２３ ゴム状止水リング ２４ ゴム状絶縁層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 星隈 順一 茨城県つくば市大字旭１番地 建設省土木 研究所内 (72)発明者 長屋 和宏 茨城県つくば市大字旭１番地 建設省土木 研究所内 (72)発明者 鈴木 猛康 茨城県つくば市大字鬼ケ窪1043 株式会社 熊谷組技術研究所内 (72)発明者 田代 ▲昇▼ 東京都新宿区津久戸町２番１号 株式会社 熊谷組東京本社内 (72)発明者 木戸 義和 東京都新宿区津久戸町２番１号 株式会社 熊谷組東京本社内
Claims (8)
- 【請求項１】 立坑とシールドトンネルとの接合部に於
いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内側へセ
グメントを突出させ、該坑口のセグメントと前記立坑躯
体とをゴム状固形物にて絶縁するとともに、シールドト
ンネルのセグメントと地盤との隙間に免震材を注入して
免震層を形成することを特徴とする立坑接合部に於ける
免震及び止水工法。 - 【請求項２】 立坑とシールドトンネルとの接合部に於
いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内側へセ
グメントを突出させ、該坑口のセグメントと前記立坑躯
体とをゴム状固形物にて絶縁するとともに、シールドト
ンネルのセグメントと地盤との隙間に免震層を形成した
ことを特徴とする立坑接合部に於ける免震及び止水構
造。 - 【請求項３】 立坑とシールドトンネルとの接合部に於
いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内側へセ
グメントを突出させ、該坑口のセグメントと前記立坑躯
体との隙間の開口部をゴム状止水部材にて閉鎖し、該坑
口のセグメントの外周面にゴム状絶縁層を設け、且つ、
該ゴム状絶縁層の外周部に場所打ちコンクリートを打設
して立坑躯体に接合させるとともに、シールドトンネル
のセグメントと地盤との隙間に免震材を注入して免震層
を形成することを特徴とする立坑接合部に於ける免震及
び止水工法。 - 【請求項４】 立坑とシールドトンネルとの接合部に於
いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内側へセ
グメントを突出させ、該坑口のセグメントと前記立坑躯
体との隙間の開口部を閉鎖するゴム状止水部材を装着
し、該坑口のセグメントの外周面にゴム状絶縁層を設
け、且つ、該ゴム状絶縁層の外周部に前記立坑躯体と接
合する場所打ちコンクリートを打設するとともに、シー
ルドトンネルのセグメントと地盤との隙間に免震層を形
成したことを特徴とする立坑接合部に於ける免震及び止
水構造。 - 【請求項５】 立坑とシールドトンネルとの接合部に於
いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内側へセ
グメントを突出させ、該坑口のセグメントと前記立坑躯
体との隙間の開口部をゴム状止水部材にて閉鎖し、該坑
口のセグメントの端部と前記立坑躯体に夫々固定板を取
り付け、且つ、双方の固定板間にゴム状止水リングを装
着して該坑口のセグメントの立坑内へ突出している外周
面を密閉するとともに、シールドトンネルのセグメント
と地盤との隙間に免震材を注入して免震層を形成するこ
とを特徴とする立坑接合部に於ける免震及び止水工法。 - 【請求項６】 立坑とシールドトンネルとの接合部に於
いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内側へセ
グメントを突出させ、該坑口のセグメントと前記立坑躯
体との隙間の開口部を閉鎖するゴム状止水部材を装着
し、該坑口のセグメントの端部と前記立坑躯体に夫々固
定板を取り付け、且つ、該坑口のセグメントの立坑内へ
突出している外周面を密閉するゴム状止水リングを双方
の固定板間に装着するとともに、シールドトンネルのセ
グメントと地盤との隙間に免震層を形成したことを特徴
とする立坑接合部に於ける免震及び止水構造。 - 【請求項７】 立坑とシールドトンネルとの接合部に於
いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内側へセ
グメントを突出させ、該坑口のセグメントと前記立坑躯
体との隙間の開口部をゴム状止水部材にて閉鎖し、該坑
口のセグメントの外周面及び端面にゴム状絶縁層を設
け、且つ、該ゴム状絶縁層の外周部及び内側端部に場所
打ちコンクリートを打設して立坑内壁を構築するととも
に、シールドトンネルのセグメントと地盤との隙間に免
震材を注入して免震層を形成することを特徴とする立坑
接合部に於ける免震及び止水工法。 - 【請求項８】 立坑とシールドトンネルとの接合部に於
いて、シールドトンネルの坑口では立坑躯体の内側へセ
グメントを突出させ、該坑口のセグメントと前記立坑躯
体との隙間の開口部を閉鎖するゴム状止水部材を装着
し、該坑口のセグメントの外周面及び端面にゴム状絶縁
層を設け、且つ、該ゴム状絶縁層の外周部及び内側端部
に場所打ちコンクリートを打設して立坑内壁を構築する
とともに、シールドトンネルのセグメントと地盤との隙
間に免震層を形成したことを特徴とする立坑接合部に於
ける免震及び止水構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05349598A JP3373776B2 (ja) | 1998-03-05 | 1998-03-05 | 立坑接合部に於ける免震及び止水工法並びに免震及び止水構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05349598A JP3373776B2 (ja) | 1998-03-05 | 1998-03-05 | 立坑接合部に於ける免震及び止水工法並びに免震及び止水構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11247582A true JPH11247582A (ja) | 1999-09-14 |
| JP3373776B2 JP3373776B2 (ja) | 2003-02-04 |
Family
ID=12944426
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05349598A Expired - Fee Related JP3373776B2 (ja) | 1998-03-05 | 1998-03-05 | 立坑接合部に於ける免震及び止水工法並びに免震及び止水構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3373776B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012149461A (ja) * | 2011-01-20 | 2012-08-09 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 継手構造 |
| JP2018059323A (ja) * | 2016-10-05 | 2018-04-12 | 株式会社大林組 | 立坑および立坑の地震時設計方法 |
| CN114351740A (zh) * | 2022-01-14 | 2022-04-15 | 成都华阳建筑股份有限公司 | 一种高水位地下室承压降水井的封堵方法 |
-
1998
- 1998-03-05 JP JP05349598A patent/JP3373776B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012149461A (ja) * | 2011-01-20 | 2012-08-09 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 継手構造 |
| JP2018059323A (ja) * | 2016-10-05 | 2018-04-12 | 株式会社大林組 | 立坑および立坑の地震時設計方法 |
| CN114351740A (zh) * | 2022-01-14 | 2022-04-15 | 成都华阳建筑股份有限公司 | 一种高水位地下室承压降水井的封堵方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3373776B2 (ja) | 2003-02-04 |
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