JPH11240718A - 酸化チタン膜形成組成物および酸化チタン膜の製造方法 - Google Patents
酸化チタン膜形成組成物および酸化チタン膜の製造方法Info
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- JPH11240718A JPH11240718A JP6446798A JP6446798A JPH11240718A JP H11240718 A JPH11240718 A JP H11240718A JP 6446798 A JP6446798 A JP 6446798A JP 6446798 A JP6446798 A JP 6446798A JP H11240718 A JPH11240718 A JP H11240718A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 酸化チタン膜を膜厚化することにより基材の
影響であるアルカリイオンの影響を受けずに耐久性に優
れ、光触媒作用や抗菌性を向上させた酸化チタン膜形成
組成物および酸化チタン膜の製造方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも（ａ）有機チタン化合物と、
（ｂ）有機珪素化合物と、そして（ｃ）有機溶剤を含ん
だペースト状であり、上記（ａ）と（ｂ）の添加量比が
金属原子数比Ｔｉ／Ｓｉで１／２〜４／１である酸化チ
タン膜形成組成物である。
影響であるアルカリイオンの影響を受けずに耐久性に優
れ、光触媒作用や抗菌性を向上させた酸化チタン膜形成
組成物および酸化チタン膜の製造方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも（ａ）有機チタン化合物と、
（ｂ）有機珪素化合物と、そして（ｃ）有機溶剤を含ん
だペースト状であり、上記（ａ）と（ｂ）の添加量比が
金属原子数比Ｔｉ／Ｓｉで１／２〜４／１である酸化チ
タン膜形成組成物である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は酸化チタン膜形成組
成物および酸化チタン膜の製造方法に係り、詳しくは酸
化チタン膜を膜厚化することにより基材の影響であるア
ルカリイオンの影響を受けずに耐久性に優れ、光触媒作
用や抗菌性を向上させた酸化チタン膜形成組成物および
酸化チタン膜の製造方法に関する。
成物および酸化チタン膜の製造方法に係り、詳しくは酸
化チタン膜を膜厚化することにより基材の影響であるア
ルカリイオンの影響を受けずに耐久性に優れ、光触媒作
用や抗菌性を向上させた酸化チタン膜形成組成物および
酸化チタン膜の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から酸化チタンの光触媒作用を利用
して大気中の汚染物質などを分解除去しようする試みは
広く行われ、抗菌、脱臭機能を有する種々の用途に使用
されている。酸化チタンの光触媒機能を向上させる方法
としては、これまで酸化チタンゾル表面にＡｇ，Ｃｕ，
Ｐｔ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｏ等の金属粒子を固定し、これを
基材上に塗布、焼成することで酸化チタン薄膜の光触媒
作用を向上させる方法（特開平８−１３１８３４号公
報）、Ａｇをイオンあるいはメタルの状態で酸化チタン
粒子の表面近傍に含有させ、この酸化チタン粒子を焼成
して酸化チタン薄膜を作製し抗菌性能を改善する方法
（特開平９−２２７３１９号公報）、酸化チタン粒子の
内部あるいは表面に鉄化合物を存在させ、この酸化チタ
ン粒子を焼成して得られた酸化チタン薄膜の光触媒機能
を向上させる方法（特開平７−３０３８３５号公報）、
酸化チタンの内部あるいは表面にバナジウム化合物を含
有させたものを焼成して得られた酸化チタン薄膜の光触
媒機能を向上させる方法（特開平７−２７５７０４号公
報）等が提案されている。これらの方法はいずれも酸化
チタン粒子の生成物を材料として使用することが前提条
件となった方法であり、その生成過程あるいは生成後の
次工程で種々の金属あるいは金属化合物が導入され、酸
化チタンの光触媒機能を向上させている。
して大気中の汚染物質などを分解除去しようする試みは
広く行われ、抗菌、脱臭機能を有する種々の用途に使用
されている。酸化チタンの光触媒機能を向上させる方法
としては、これまで酸化チタンゾル表面にＡｇ，Ｃｕ，
Ｐｔ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｏ等の金属粒子を固定し、これを
基材上に塗布、焼成することで酸化チタン薄膜の光触媒
作用を向上させる方法（特開平８−１３１８３４号公
報）、Ａｇをイオンあるいはメタルの状態で酸化チタン
粒子の表面近傍に含有させ、この酸化チタン粒子を焼成
して酸化チタン薄膜を作製し抗菌性能を改善する方法
（特開平９−２２７３１９号公報）、酸化チタン粒子の
内部あるいは表面に鉄化合物を存在させ、この酸化チタ
ン粒子を焼成して得られた酸化チタン薄膜の光触媒機能
を向上させる方法（特開平７−３０３８３５号公報）、
酸化チタンの内部あるいは表面にバナジウム化合物を含
有させたものを焼成して得られた酸化チタン薄膜の光触
媒機能を向上させる方法（特開平７−２７５７０４号公
報）等が提案されている。これらの方法はいずれも酸化
チタン粒子の生成物を材料として使用することが前提条
件となった方法であり、その生成過程あるいは生成後の
次工程で種々の金属あるいは金属化合物が導入され、酸
化チタンの光触媒機能を向上させている。
【０００３】また、ソーダライムガラスのような基材上
にこれら酸化チタン薄膜を付着させる場合、酸化珪素薄
膜をソーダライムガラスと酸化チタン薄膜との間にプレ
コート膜として設け、酸化チタン薄膜をソーダライムガ
ラスから移行してくるアルカリイオンから保護したり、
また酸化チタン薄膜を厚くすることで移行してくるアル
カリイオンの悪影響を小さくしていた。
にこれら酸化チタン薄膜を付着させる場合、酸化珪素薄
膜をソーダライムガラスと酸化チタン薄膜との間にプレ
コート膜として設け、酸化チタン薄膜をソーダライムガ
ラスから移行してくるアルカリイオンから保護したり、
また酸化チタン薄膜を厚くすることで移行してくるアル
カリイオンの悪影響を小さくしていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の方法で
は予め表面処理した酸化チタン粒子を作製した後、これ
を用いて焼成して酸化チタン薄膜を作製する工程を有し
ているため、生産性を向上する課題があった。また、ソ
ーダライムガラス基材上に酸化珪素薄膜を設けること
は、製造上、１工程増えることになって所定範囲の積層
した膜厚を維持することが困難になり、製造コストも上
昇する等の悪影響があった。また、抗菌材の厚膜化は焼
成時の収縮によって基材との剥離や脱落の原因にもなっ
ており、数μｍ以上に厚膜化することは困難であった。
は予め表面処理した酸化チタン粒子を作製した後、これ
を用いて焼成して酸化チタン薄膜を作製する工程を有し
ているため、生産性を向上する課題があった。また、ソ
ーダライムガラス基材上に酸化珪素薄膜を設けること
は、製造上、１工程増えることになって所定範囲の積層
した膜厚を維持することが困難になり、製造コストも上
昇する等の悪影響があった。また、抗菌材の厚膜化は焼
成時の収縮によって基材との剥離や脱落の原因にもなっ
ており、数μｍ以上に厚膜化することは困難であった。
【０００５】本発明はこのような問題点を改善するもの
であり、酸化チタン膜を厚膜化することにより基材の影
響であるアルカリイオンの影響を受けずに耐久性に優
れ、光触媒作用や抗菌性を向上させた酸化チタン膜形成
組成物および酸化チタン膜の製造方法を提供する。
であり、酸化チタン膜を厚膜化することにより基材の影
響であるアルカリイオンの影響を受けずに耐久性に優
れ、光触媒作用や抗菌性を向上させた酸化チタン膜形成
組成物および酸化チタン膜の製造方法を提供する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】即ち、本願の請求項１記
載の発明は、少なくとも（ａ）有機チタン化合物と、
（ｂ）有機珪素化合物と、そして（ｃ）有機溶剤を含ん
だペースト状であり、上記（ａ）と（ｂ）の添加量比が
金属原子数比Ｔｉ／Ｓｉで１／２〜４／１である酸化チ
タン膜形成組成物にある。本発明の酸化チタン膜形成組
成物では、有機珪素化合物を所定範囲の量を添加するこ
とにより酸化チタン膜を膜厚化することにより耐酸性と
耐アルカリ性の耐久性と抗菌性の両特性を両立させるこ
とができる。
載の発明は、少なくとも（ａ）有機チタン化合物と、
（ｂ）有機珪素化合物と、そして（ｃ）有機溶剤を含ん
だペースト状であり、上記（ａ）と（ｂ）の添加量比が
金属原子数比Ｔｉ／Ｓｉで１／２〜４／１である酸化チ
タン膜形成組成物にある。本発明の酸化チタン膜形成組
成物では、有機珪素化合物を所定範囲の量を添加するこ
とにより酸化チタン膜を膜厚化することにより耐酸性と
耐アルカリ性の耐久性と抗菌性の両特性を両立させるこ
とができる。
【０００７】本願の請求項２記載の発明は、バインダー
樹脂を含む酸化チタン膜形成組成物にある。
樹脂を含む酸化チタン膜形成組成物にある。
【０００８】本願の請求項３記載の発明は、少なくとも
（ａ）有機チタン化合物と、（ｂ）有機珪素化合物と、
そして（ｃ）有機溶剤を含んだペースト状であり、上記
（ａ）と（ｂ）の添加量比が金属原子数比Ｔｉ／Ｓｉで
１／２〜４／１からなる酸化チタン膜形成組成物を基材
に塗布した後、焼成して膜厚０．０５〜５μｍの焼成膜
にする酸化チタン膜の製造方法にある。
（ａ）有機チタン化合物と、（ｂ）有機珪素化合物と、
そして（ｃ）有機溶剤を含んだペースト状であり、上記
（ａ）と（ｂ）の添加量比が金属原子数比Ｔｉ／Ｓｉで
１／２〜４／１からなる酸化チタン膜形成組成物を基材
に塗布した後、焼成して膜厚０．０５〜５μｍの焼成膜
にする酸化チタン膜の製造方法にある。
【０００９】本願の請求項４記載の発明は、バインダー
樹脂を含む酸化チタン膜の製造方法にある。
樹脂を含む酸化チタン膜の製造方法にある。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明で使用する（ａ）有機チタ
ン化合物は、チタンのエトキシド、プロポキジド等のア
ルコキシド類、アセチルアセトン塩、有機酸塩、各種錯
塩等であり、具体的にはテトラエトキシチタン、テトラ
メトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトラブト
キシチタン、チタンアセチルアセトン塩、ステアリン酸
チタンが挙げられる。また、酸化チタンゾルも併用する
ことができる。これは平均粒子径０．００１〜０．５μ
ｍのアナターゼ型酸化チタンが水、有機溶剤等の溶媒中
に１〜５０重量％の濃度で分散したものである。
ン化合物は、チタンのエトキシド、プロポキジド等のア
ルコキシド類、アセチルアセトン塩、有機酸塩、各種錯
塩等であり、具体的にはテトラエトキシチタン、テトラ
メトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトラブト
キシチタン、チタンアセチルアセトン塩、ステアリン酸
チタンが挙げられる。また、酸化チタンゾルも併用する
ことができる。これは平均粒子径０．００１〜０．５μ
ｍのアナターゼ型酸化チタンが水、有機溶剤等の溶媒中
に１〜５０重量％の濃度で分散したものである。
【００１１】本発明で使用する（ｂ）有機珪素化合物
は、Ｓｉ（シリカ）のメトキシ、エトキシド、プロポキ
ジド等のアルコキシド類、アセチルアセトン塩、ポリオ
ルガノシロキサン等であり、具体的にはメチルトリメト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリ
プロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチル
トリエトキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチ
ルトリプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリブトキ
シシラン、フェニルトリプロポキシシラン、ジメチルジ
メトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチル
ジブトキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジエ
チルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジ
エチルジブトキシシラン、ジエチルジプロポキシジラ
ン、フェニルメチルジメトキシシラン、シラン−アセチ
ルアセトン塩、ポリジメチルシロキサンが挙げられる。
尚、シリカゾルも併用することができる。
は、Ｓｉ（シリカ）のメトキシ、エトキシド、プロポキ
ジド等のアルコキシド類、アセチルアセトン塩、ポリオ
ルガノシロキサン等であり、具体的にはメチルトリメト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリ
プロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチル
トリエトキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチ
ルトリプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリブトキ
シシラン、フェニルトリプロポキシシラン、ジメチルジ
メトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチル
ジブトキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジエ
チルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジ
エチルジブトキシシラン、ジエチルジプロポキシジラ
ン、フェニルメチルジメトキシシラン、シラン−アセチ
ルアセトン塩、ポリジメチルシロキサンが挙げられる。
尚、シリカゾルも併用することができる。
【００１２】上記（ａ）有機チタン化合物と（ｂ）有機
珪素化合物の添加量比は、金属原子数比Ｔｉ／Ｓｉで１
／２〜４／１であり、１／２未満の場合には有機珪素化
合物の割合が多くなり、酸化チタン膜の光触媒活性や抗
菌性の効果が軽減し、また４／１を越えると酸化チタン
膜中の有機珪素化合物の量が少なくなるため、生成する
酸化チタン膜の耐酸化性に乏しいものとなる。
珪素化合物の添加量比は、金属原子数比Ｔｉ／Ｓｉで１
／２〜４／１であり、１／２未満の場合には有機珪素化
合物の割合が多くなり、酸化チタン膜の光触媒活性や抗
菌性の効果が軽減し、また４／１を越えると酸化チタン
膜中の有機珪素化合物の量が少なくなるため、生成する
酸化チタン膜の耐酸化性に乏しいものとなる。
【００１３】また、本発明で使用するバインダー樹脂
は、酸化チタン膜形成組成物の粘度を適度に維持して基
材への塗布時の取扱を良好に維持し、また基材上に塗布
した酸化チタン膜形成組成物膜の乾燥後の強度を保持す
る機能を有している。このバインダー樹脂は焼成時にお
いて低温で分解することが好ましいが、特に限定される
ものではなく有機溶剤に可溶なものであればよい。
は、酸化チタン膜形成組成物の粘度を適度に維持して基
材への塗布時の取扱を良好に維持し、また基材上に塗布
した酸化チタン膜形成組成物膜の乾燥後の強度を保持す
る機能を有している。このバインダー樹脂は焼成時にお
いて低温で分解することが好ましいが、特に限定される
ものではなく有機溶剤に可溶なものであればよい。
【００１４】また、上記バインダー樹脂としては、例え
ばニトロセルロース、エチルセルロース、酢酸セルロー
ス、ブチルセルロース等のセルロース類が好ましい。こ
の添加量は印刷あるいは塗布条件によって決定され、制
限はない。
ばニトロセルロース、エチルセルロース、酢酸セルロー
ス、ブチルセルロース等のセルロース類が好ましい。こ
の添加量は印刷あるいは塗布条件によって決定され、制
限はない。
【００１５】本発明で使用する有機溶剤は、バインダー
樹脂を溶解するものあり、例えばメタクレゾール、カル
ビトール、ジメチルホルムアミド、ジメチルイミダゾリ
ジノン、ターピノール、ジアセトンアルコール、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール
モノブチルエーテル等の高沸点溶剤を一種もしくは二種
以上使用することができる。
樹脂を溶解するものあり、例えばメタクレゾール、カル
ビトール、ジメチルホルムアミド、ジメチルイミダゾリ
ジノン、ターピノール、ジアセトンアルコール、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール
モノブチルエーテル等の高沸点溶剤を一種もしくは二種
以上使用することができる。
【００１６】上記酸化チタン膜形成組成物は、（ａ）有
機チタン化合物と、（ｂ）有機珪素化合物、また必要に
応じてバインダー樹脂とを（ｃ）有機溶剤に溶かしたも
のを良く攪拌してペースト状に得ることができる。
機チタン化合物と、（ｂ）有機珪素化合物、また必要に
応じてバインダー樹脂とを（ｃ）有機溶剤に溶かしたも
のを良く攪拌してペースト状に得ることができる。
【００１７】このように作製されたペースト状の酸化チ
タン膜形成組成物は、基材上にディップ法、スプレー
法、ロールコ−ト法、スピンコート法、スクリーン印
刷、フレクソ印刷、グラビア印刷のような印刷法で適宜
に使用される。塗膜の厚さは０．１〜５０μｍである。
上記スクリーン印刷手順は、水平に置かれたスクリーン
（例えば、ポリエステル平織物、２５５メッシュ）の下
に、数ミリメートルの間隔をもたせて印刷基板（ガラ
ス）を設置する。このスクリーンの上に抗菌膜形成剤を
のせた後、スキージーを用いてスクリーン全面にを広げ
る。この時には、スクリーンと基材とは間隔を有してい
る。続いて、スクリーンが基材に接触する程度にスキー
ジーでスクリーンを押さえ付けて移動させる。これで一
回の印刷が終了し、以後これを繰り返す。
タン膜形成組成物は、基材上にディップ法、スプレー
法、ロールコ−ト法、スピンコート法、スクリーン印
刷、フレクソ印刷、グラビア印刷のような印刷法で適宜
に使用される。塗膜の厚さは０．１〜５０μｍである。
上記スクリーン印刷手順は、水平に置かれたスクリーン
（例えば、ポリエステル平織物、２５５メッシュ）の下
に、数ミリメートルの間隔をもたせて印刷基板（ガラ
ス）を設置する。このスクリーンの上に抗菌膜形成剤を
のせた後、スキージーを用いてスクリーン全面にを広げ
る。この時には、スクリーンと基材とは間隔を有してい
る。続いて、スクリーンが基材に接触する程度にスキー
ジーでスクリーンを押さえ付けて移動させる。これで一
回の印刷が終了し、以後これを繰り返す。
【００１８】その後、基材を１００〜２００°Ｃの大気
中に１０分間放置して有機溶剤を除去して乾燥、あるい
は密閉容器中で脱気しながら乾燥した後、５００〜８０
０°Ｃで数分間熱処理して焼成する。焼成して得られた
酸化チタン膜の膜厚は、０．０５〜５μｍ、好ましくは
０．１〜１μｍであり、０．０５μｍ未満になると基材
から移動するアルカリイオンの影響で光触媒活性が低下
し、また抗菌性も低下する傾向がある。また、５μｍを
越えると、焼成時の酸化チタン薄膜自体の収縮により、
薄膜内部や薄膜と基材界面に欠陥が生じ、また薄膜の耐
久性が低下する傾向がある。
中に１０分間放置して有機溶剤を除去して乾燥、あるい
は密閉容器中で脱気しながら乾燥した後、５００〜８０
０°Ｃで数分間熱処理して焼成する。焼成して得られた
酸化チタン膜の膜厚は、０．０５〜５μｍ、好ましくは
０．１〜１μｍであり、０．０５μｍ未満になると基材
から移動するアルカリイオンの影響で光触媒活性が低下
し、また抗菌性も低下する傾向がある。また、５μｍを
越えると、焼成時の酸化チタン薄膜自体の収縮により、
薄膜内部や薄膜と基材界面に欠陥が生じ、また薄膜の耐
久性が低下する傾向がある。
【００１９】本発明の酸化チタン膜形成組成物を塗布す
る基材としては、ナトリウムのようなアルカリ網目修飾
イオンを含むソーダライムガラスや並板ガラス、石英ガ
ラスなどのガラス、あるいはセラミックスであってもよ
く、特に限定するものではない。
る基材としては、ナトリウムのようなアルカリ網目修飾
イオンを含むソーダライムガラスや並板ガラス、石英ガ
ラスなどのガラス、あるいはセラミックスであってもよ
く、特に限定するものではない。
【００２０】
【実施例】次に、本発明を具体的な実施例により更に詳
細に説明する。 実施例１、比較例１〜３ 表１に示す配合を、プロペラ攪拌装置を用いて５０°Ｃ
に温度調節された湯浴で暖めながら１時間混合して ６
０分間攪拌混合して酸化チタン膜形成組成物を得た。
細に説明する。 実施例１、比較例１〜３ 表１に示す配合を、プロペラ攪拌装置を用いて５０°Ｃ
に温度調節された湯浴で暖めながら１時間混合して ６
０分間攪拌混合して酸化チタン膜形成組成物を得た。
【００２１】この酸化チタン膜形成組成物を前述のスク
リーン印刷によって厚み３ｍｍ、縦横５０ｍｍのフロー
トガラス上に塗布し、１５０°Ｃに設定された乾燥機中
で５分間乾燥し、７００°Ｃに設定された炉中で５分間
焼成した後、空冷して酸化チタン膜被覆を得た。得られ
た酸化チタン膜の膜厚、抗菌性、耐久性、そして透明性
の評価を行った。その結果も表１に示す。尚、上記の評
価方法は以下の通りである。
リーン印刷によって厚み３ｍｍ、縦横５０ｍｍのフロー
トガラス上に塗布し、１５０°Ｃに設定された乾燥機中
で５分間乾燥し、７００°Ｃに設定された炉中で５分間
焼成した後、空冷して酸化チタン膜被覆を得た。得られ
た酸化チタン膜の膜厚、抗菌性、耐久性、そして透明性
の評価を行った。その結果も表１に示す。尚、上記の評
価方法は以下の通りである。
【００２２】（酸化チタン膜の膜厚測定）得られた酸化
チタン膜の膜厚を触針式膜厚計により測定した。
チタン膜の膜厚を触針式膜厚計により測定した。
【００２３】（酸化チタン膜の抗菌性測定方法）酸化チ
タン膜の抗菌性測定方法では、試験用菌株として大腸菌
（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ ＩＦＯ ３９７
２）を用い、ＡＳＴＭ・Ｇｅ２１−７０に準拠して、試
験片を寒天培地に乗せ、上記菌株を培養した菌液を０．
５ｍｌ滴下した。これを蛍光灯照射下および非照射下で
３５°Ｃで保存した。尚、蛍光灯照射の条件は、４００
０〜５０００ルクスである。２４時間後に、試料から生
残菌を洗い出し、この洗い出し液の生残菌を寒天平板培
養法により測定した。
タン膜の抗菌性測定方法では、試験用菌株として大腸菌
（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ ＩＦＯ ３９７
２）を用い、ＡＳＴＭ・Ｇｅ２１−７０に準拠して、試
験片を寒天培地に乗せ、上記菌株を培養した菌液を０．
５ｍｌ滴下した。これを蛍光灯照射下および非照射下で
３５°Ｃで保存した。尚、蛍光灯照射の条件は、４００
０〜５０００ルクスである。２４時間後に、試料から生
残菌を洗い出し、この洗い出し液の生残菌を寒天平板培
養法により測定した。
【００２４】（酸化チタン膜の耐久性）酸化チタン膜の
耐酸性評価では、酸化チタン膜被覆ガラスを０．１Ｎの
硫酸水溶液に４０°Ｃで２４時間浸漬後、直ちに紙で研
磨して膜の破損状態有無を目視で観察した。耐アルカリ
性評価では、酸化チタン膜を０．１Ｎの水酸化ナトリウ
ム水溶液に４０°Ｃで２４時間浸漬後、直ちに紙で研磨
して膜の破損状態有無を目視で観察した。
耐酸性評価では、酸化チタン膜被覆ガラスを０．１Ｎの
硫酸水溶液に４０°Ｃで２４時間浸漬後、直ちに紙で研
磨して膜の破損状態有無を目視で観察した。耐アルカリ
性評価では、酸化チタン膜を０．１Ｎの水酸化ナトリウ
ム水溶液に４０°Ｃで２４時間浸漬後、直ちに紙で研磨
して膜の破損状態有無を目視で観察した。
【００２５】（酸化チタン膜の透明性）酸化チタン膜被
覆ガラスを濁度計によりヘーズ率を求めた。
覆ガラスを濁度計によりヘーズ率を求めた。
【００２６】
【表１】
【００２７】この結果、比較例１は酸化チタンのみで構
成されており、優れた抗菌性を有する反面、耐酸性に劣
っている。比較例２では酸化チタンと酸化珪素で構成さ
れており、耐酸性と耐アルカリ性共に問題はないが、酸
化珪素の量が多すぎるために酸化チタンの特性である抗
菌性が損なわれている。比較例３では酸化チタンの膜厚
が薄すぎるために耐酸性と耐アルカリ性の両方の特性を
悪化させている。一方、実施例１では酸化チタンと酸化
珪素の２種で構成され、酸化珪素の量が適量であるため
に耐酸性と耐アルカリ性の耐久性と抗菌性の両特性を両
立していることが判る。
成されており、優れた抗菌性を有する反面、耐酸性に劣
っている。比較例２では酸化チタンと酸化珪素で構成さ
れており、耐酸性と耐アルカリ性共に問題はないが、酸
化珪素の量が多すぎるために酸化チタンの特性である抗
菌性が損なわれている。比較例３では酸化チタンの膜厚
が薄すぎるために耐酸性と耐アルカリ性の両方の特性を
悪化させている。一方、実施例１では酸化チタンと酸化
珪素の２種で構成され、酸化珪素の量が適量であるため
に耐酸性と耐アルカリ性の耐久性と抗菌性の両特性を両
立していることが判る。
【００２８】
【発明の効果】以上のように本願の請求項１〜４記載の
発明は、少なくとも（ａ）有機チタン化合物と、（ｂ）
有機珪素化合物と、そして（ｃ）有機溶剤を含んだペー
スト状であり、上記（ａ）と（ｂ）の添加量比が金属原
子数比Ｔｉ／Ｓｉで１／２〜４／１である酸化チタン膜
形成組成物、またこの酸化チタン膜形成組成物を基材に
塗布した後、焼成して膜厚０．０５〜５μｍの焼成膜に
した酸化チタン膜の製造方法にあり、有機珪素化合物を
所定範囲の量を添加することにより酸化チタン膜を膜厚
化することにより耐酸性と耐アルカリ性の耐久性と抗菌
性の両特性を両立させる効果がある。
発明は、少なくとも（ａ）有機チタン化合物と、（ｂ）
有機珪素化合物と、そして（ｃ）有機溶剤を含んだペー
スト状であり、上記（ａ）と（ｂ）の添加量比が金属原
子数比Ｔｉ／Ｓｉで１／２〜４／１である酸化チタン膜
形成組成物、またこの酸化チタン膜形成組成物を基材に
塗布した後、焼成して膜厚０．０５〜５μｍの焼成膜に
した酸化チタン膜の製造方法にあり、有機珪素化合物を
所定範囲の量を添加することにより酸化チタン膜を膜厚
化することにより耐酸性と耐アルカリ性の耐久性と抗菌
性の両特性を両立させる効果がある。
Claims (4)
- 【請求項１】 少なくとも（ａ）有機チタン化合物と、
（ｂ）有機珪素化合物と、そして（ｃ）有機溶剤を含ん
だペースト状であり、上記（ａ）と（ｂ）の添加量比が
金属原子数比Ｔｉ／Ｓｉで１／２〜４／１であることを
特徴とする酸化チタン膜形成組成物。 - 【請求項２】 バインダー樹脂を含む請求項１記載の酸
化チタン膜形成組成物。 - 【請求項３】 少なくとも（ａ）有機チタン化合物と、
（ｂ）有機珪素化合物と、そして（ｃ）有機溶剤を含ん
だペースト状であり、上記（ａ）と（ｂ）の添加量比が
金属原子数比Ｔｉ／Ｓｉで１／２〜４／１からなる酸化
チタン膜形成組成物を基材に塗布した後、焼成して膜厚
０．０５〜５μｍの焼成膜にすることを特徴とする酸化
チタン膜の製造方法。 - 【請求項４】 バインダー樹脂を含む請求項３記載の酸
化チタン膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6446798A JPH11240718A (ja) | 1998-02-27 | 1998-02-27 | 酸化チタン膜形成組成物および酸化チタン膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6446798A JPH11240718A (ja) | 1998-02-27 | 1998-02-27 | 酸化チタン膜形成組成物および酸化チタン膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11240718A true JPH11240718A (ja) | 1999-09-07 |
Family
ID=13259073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6446798A Pending JPH11240718A (ja) | 1998-02-27 | 1998-02-27 | 酸化チタン膜形成組成物および酸化チタン膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11240718A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20130024844A (ko) | 2011-08-30 | 2013-03-08 | 오꾸노 케미칼 인더스트리즈 컴파니,리미티드 | 장식성을 갖는 착색 산화 티탄 박막 형성용 조성물 |
-
1998
- 1998-02-27 JP JP6446798A patent/JPH11240718A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20130024844A (ko) | 2011-08-30 | 2013-03-08 | 오꾸노 케미칼 인더스트리즈 컴파니,리미티드 | 장식성을 갖는 착색 산화 티탄 박막 형성용 조성물 |
| JP2013049738A (ja) * | 2011-08-30 | 2013-03-14 | Okuno Chemical Industries Co Ltd | 装飾性を有する着色酸化チタン薄膜形成用組成物 |
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