JPH1095639A - 電子部品製造薬液用容器 - Google Patents
電子部品製造薬液用容器Info
- Publication number
- JPH1095639A JPH1095639A JP26376696A JP26376696A JPH1095639A JP H1095639 A JPH1095639 A JP H1095639A JP 26376696 A JP26376696 A JP 26376696A JP 26376696 A JP26376696 A JP 26376696A JP H1095639 A JPH1095639 A JP H1095639A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- container
- glass container
- solution
- hydrogen chloride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Packging For Living Organisms, Food Or Medicinal Products That Are Sensitive To Environmental Conditiond (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】アルカリ金属やＣａ、Ｐｂなどの金属の金属の
溶出が少なく、しかも異物の発生を起こすことのない電
子部品製造薬液用容器を提供すること。 【解決手段】ガラスからなり、その内面が加熱下におい
て塩化水素ガスで処理されていることを特徴とする電子
部品製造薬液用容器。
溶出が少なく、しかも異物の発生を起こすことのない電
子部品製造薬液用容器を提供すること。 【解決手段】ガラスからなり、その内面が加熱下におい
て塩化水素ガスで処理されていることを特徴とする電子
部品製造薬液用容器。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子部品製造薬液用容
器、さらに詳しくは半導体素子や液晶表示素子などの電
子部品の製造に使用されるレジスト溶液、現像液、剥離
液、リンス液、シリカ系被膜形成用塗布液などの薬液を
収納するガラス容器であって、ガラスから薬液内への不
純物金属の混入がなく、かつ薬液の長期保存が可能な電
子部品製造薬液用容器に関する。
器、さらに詳しくは半導体素子や液晶表示素子などの電
子部品の製造に使用されるレジスト溶液、現像液、剥離
液、リンス液、シリカ系被膜形成用塗布液などの薬液を
収納するガラス容器であって、ガラスから薬液内への不
純物金属の混入がなく、かつ薬液の長期保存が可能な電
子部品製造薬液用容器に関する。
【０００２】
【従来技術】従来、半導体素子や液晶表示素子などの電
子部品の製造分野においては、レジスト溶液、現像液、
剥離液、リンス液、シリカ系被膜形成用塗布液などの多
くの薬液が使用されている。前記薬液で、例えばレジス
ト溶液にあっては、回路パターンを形成するためのリソ
グラフィ処理において用いられている。該リソグラフィ
処理では、紫外線や電子線などの活性線を照射し、その
照射部分を現像液により除去して基板上にレジストパタ
ーンを形成するポジ型レジストや、逆に未照射部分を現
像液により除去して基板上にレジストパターンを形成す
るネガ型レジストが使用されている。これらのレジスト
は通常溶液としてガラス容器に収納されているが、該レ
ジスト溶液に微量の不純物が混入しても電子部品の特性
に悪影響を及ぼすところから、ガラス容器の内側には不
純物の混入を抑制するため種々の処理が施されているの
が一般的である。前記処理としては例えばクロム酸−硫
酸混酸や強アルカリに数日間浸し、ガラス表面の不純物
を溶出させる処理方法やガラス内面を硫黄酸化物で処理
する方法（特開昭５９−３５０４３号公報）などが知ら
れている。
子部品の製造分野においては、レジスト溶液、現像液、
剥離液、リンス液、シリカ系被膜形成用塗布液などの多
くの薬液が使用されている。前記薬液で、例えばレジス
ト溶液にあっては、回路パターンを形成するためのリソ
グラフィ処理において用いられている。該リソグラフィ
処理では、紫外線や電子線などの活性線を照射し、その
照射部分を現像液により除去して基板上にレジストパタ
ーンを形成するポジ型レジストや、逆に未照射部分を現
像液により除去して基板上にレジストパターンを形成す
るネガ型レジストが使用されている。これらのレジスト
は通常溶液としてガラス容器に収納されているが、該レ
ジスト溶液に微量の不純物が混入しても電子部品の特性
に悪影響を及ぼすところから、ガラス容器の内側には不
純物の混入を抑制するため種々の処理が施されているの
が一般的である。前記処理としては例えばクロム酸−硫
酸混酸や強アルカリに数日間浸し、ガラス表面の不純物
を溶出させる処理方法やガラス内面を硫黄酸化物で処理
する方法（特開昭５９−３５０４３号公報）などが知ら
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、電子部品が
高度化、微細化するに従い薬液に混入する微量の不純物
が半導体素子の酸化膜の耐圧不良を起こすなどの問題か
ら、Ｎａなどのアルカリ金属の混入を防止する方法が種
々検討されている。また、最近アルカリ金属だけでな
く、ＣａやＰｂなどの他の金属についても酸化膜の耐圧
不良やシリコンの酸化速度を増加させることでシリコン
基板の誘電率を変化させるなどの問題が確認されてい
る。そこでアルカリ金属だけでなくＣａやＰｂなどの金
属の混入をも防止することが急務の課題となっている。
高度化、微細化するに従い薬液に混入する微量の不純物
が半導体素子の酸化膜の耐圧不良を起こすなどの問題か
ら、Ｎａなどのアルカリ金属の混入を防止する方法が種
々検討されている。また、最近アルカリ金属だけでな
く、ＣａやＰｂなどの他の金属についても酸化膜の耐圧
不良やシリコンの酸化速度を増加させることでシリコン
基板の誘電率を変化させるなどの問題が確認されてい
る。そこでアルカリ金属だけでなくＣａやＰｂなどの金
属の混入をも防止することが急務の課題となっている。
【０００４】上記アルカリ金属や他の金属などの不純物
の薬液への混入、あるいは異物の発生は薬液を入れるガ
ラス容器からの前記不純物の溶出に起因するところが大
きく、それらの溶出を抑制することが重要な課題となっ
ている。上記従来の処理方法で処理されたガラス容器に
あってはアルカリ金属の溶出や異物の発生が抑えられる
が、微細化した電子部品の製造に十分満足できる程度の
溶出防止が果たされていない。そのため薬液用容器の素
材としてパイレックスガラスや石英ガラスを使用した
り、あるいはフッ素樹脂などの保護膜をガラス内面に設
けことなどが行われているが、これらの素材は高価であ
りガラス容器の製品コストを高いものにし、工業的な収
納容器とするには難点があった。
の薬液への混入、あるいは異物の発生は薬液を入れるガ
ラス容器からの前記不純物の溶出に起因するところが大
きく、それらの溶出を抑制することが重要な課題となっ
ている。上記従来の処理方法で処理されたガラス容器に
あってはアルカリ金属の溶出や異物の発生が抑えられる
が、微細化した電子部品の製造に十分満足できる程度の
溶出防止が果たされていない。そのため薬液用容器の素
材としてパイレックスガラスや石英ガラスを使用した
り、あるいはフッ素樹脂などの保護膜をガラス内面に設
けことなどが行われているが、これらの素材は高価であ
りガラス容器の製品コストを高いものにし、工業的な収
納容器とするには難点があった。
【０００５】こうした現状に鑑み、本発明者等は鋭意研
究を重ねた結果、ガラス容器内面を加熱下で塩化水素ガ
スで処理することで、アルカリ金属や他の金属の薬液へ
の経時的な溶出量の増加を抑えるとともに、長期保存に
よっても異物の発生のないガラス容器が得られることを
見出し本発明を完成したものである。
究を重ねた結果、ガラス容器内面を加熱下で塩化水素ガ
スで処理することで、アルカリ金属や他の金属の薬液へ
の経時的な溶出量の増加を抑えるとともに、長期保存に
よっても異物の発生のないガラス容器が得られることを
見出し本発明を完成したものである。
【０００６】すなわち、本発明は、アルカリ金属、Ｃａ
やＰｂなどの他の金属などの不純物金属の溶出が少な
く、しかも異物の発生のないガラス容器を提供すること
を目的とする。
やＰｂなどの他の金属などの不純物金属の溶出が少な
く、しかも異物の発生のないガラス容器を提供すること
を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明は、ガラスからなり、その内面が加熱下において塩化
水素ガスで処理されていることを特徴とする電子部品製
造薬液用容器に係る。
明は、ガラスからなり、その内面が加熱下において塩化
水素ガスで処理されていることを特徴とする電子部品製
造薬液用容器に係る。
【０００８】本発明の電子部品製造薬液用容器は、ソー
ダ灰ガラス、ホウケイ酸ガラスなどのガラス容器製造用
素材としてよく知られた素材で形成された容器であっ
て、その内面が加熱下において塩化水素ガスで処理さ
れ、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、Ｆｅ、
Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎなどの重金属等の不純物の溶出がな
く、しかも薬液に異物を発生させることのないガラス容
器である。前記塩化水素ガスによる処理方法としては、
ガラス容器内に塩化水素ガスを充満させた状態で加熱す
る方法、加熱したガラス容器に塩化水素ガスを充満する
方法、塩化アンモニアなどの加熱で塩化水素ガスを発生
する化合物をガラス容器内に投入し加熱分解する方法、
加熱したガラス容器内に加熱で塩化水素ガスを発生する
化合物を吹き付ける方法、加熱下成形加工された直後の
ガラス容器の内面に塩化水素ガスを接触させる方法など
が挙げられる。前記処理方法のうち、塩化アンモニアな
どの加熱で熱分解し塩化水素ガスを発生する化合物を使
用する方法は、腐食性の高い塩化水素ガスを直接使用す
る必要がなく処理コストを低くできて好ましいが、塩化
アンモニアが固体であるところから、ガラス容器の大量
生産、自動化には不向きで、自動化には塩化水素ガスを
使用する方法がよい。前記自動化にあっては、塩化水素
ガスを製造ラインに設けた塩化水素導入管から溶融した
ガラスを型に流し込み、型抜きした際のガラス容器（加
熱状態）内に吹き込み、ガラス容器内を塩化水素ガスで
充満させる方法が好適である。前記塩化水素ガス処理で
使用する加熱温度としては、３５０〜６００℃の範囲が
好ましい。
ダ灰ガラス、ホウケイ酸ガラスなどのガラス容器製造用
素材としてよく知られた素材で形成された容器であっ
て、その内面が加熱下において塩化水素ガスで処理さ
れ、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、Ｆｅ、
Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎなどの重金属等の不純物の溶出がな
く、しかも薬液に異物を発生させることのないガラス容
器である。前記塩化水素ガスによる処理方法としては、
ガラス容器内に塩化水素ガスを充満させた状態で加熱す
る方法、加熱したガラス容器に塩化水素ガスを充満する
方法、塩化アンモニアなどの加熱で塩化水素ガスを発生
する化合物をガラス容器内に投入し加熱分解する方法、
加熱したガラス容器内に加熱で塩化水素ガスを発生する
化合物を吹き付ける方法、加熱下成形加工された直後の
ガラス容器の内面に塩化水素ガスを接触させる方法など
が挙げられる。前記処理方法のうち、塩化アンモニアな
どの加熱で熱分解し塩化水素ガスを発生する化合物を使
用する方法は、腐食性の高い塩化水素ガスを直接使用す
る必要がなく処理コストを低くできて好ましいが、塩化
アンモニアが固体であるところから、ガラス容器の大量
生産、自動化には不向きで、自動化には塩化水素ガスを
使用する方法がよい。前記自動化にあっては、塩化水素
ガスを製造ラインに設けた塩化水素導入管から溶融した
ガラスを型に流し込み、型抜きした際のガラス容器（加
熱状態）内に吹き込み、ガラス容器内を塩化水素ガスで
充満させる方法が好適である。前記塩化水素ガス処理で
使用する加熱温度としては、３５０〜６００℃の範囲が
好ましい。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に実施例に基づいて本発明をさ
らに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何
ら限定されるものではない。
らに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何
ら限定されるものではない。
【００１０】
実施例１ １リットルの細口ガラス容器の中に、塩化アンモニウム
３ｇを入れたのち、このガラス容器を電気炉にて５００
℃で加熱して、塩化アンモニウムを熱分解し、発生した
塩化水素ガスでガラス容器内面を処理し、次いで純水で
洗浄し、乾燥した。得られたガラス容器にメチルアミル
ケトン９５０ｍｌを入れ、常温で静置し、メチルアミル
ケトン中に溶出するＮａ、Ｃａ、Ｐｂのそれぞれの金属
の溶出量を原子吸光測定装置Ｚ−９０００（日立製作所
社製）を用いて、ガラス容器に入れた直後、３週間後、
６週間後、１０週間後、１５週間後で測定し、溶出量の
経時変化を求めた。その結果を表１に示す。
３ｇを入れたのち、このガラス容器を電気炉にて５００
℃で加熱して、塩化アンモニウムを熱分解し、発生した
塩化水素ガスでガラス容器内面を処理し、次いで純水で
洗浄し、乾燥した。得られたガラス容器にメチルアミル
ケトン９５０ｍｌを入れ、常温で静置し、メチルアミル
ケトン中に溶出するＮａ、Ｃａ、Ｐｂのそれぞれの金属
の溶出量を原子吸光測定装置Ｚ−９０００（日立製作所
社製）を用いて、ガラス容器に入れた直後、３週間後、
６週間後、１０週間後、１５週間後で測定し、溶出量の
経時変化を求めた。その結果を表１に示す。
【００１１】
【表１】
【００１２】比較のために硫酸アンモニウムで処理した
ガラス容器について上記と同様な溶出試験を行った。そ
の結果を表２に示す。
ガラス容器について上記と同様な溶出試験を行った。そ
の結果を表２に示す。
【００１３】
【表２】
【００１４】実施例２ １リットルの細口ガラス容器の中に、塩化アンモニウム
３ｇを入れたのち、このガラス容器を電気炉にて５００
℃で加熱して、塩化アンモニウムを熱分解し、発生した
塩化水素ガスでガラス容器内面を処理し、ついで純水で
洗浄、乾燥した。得られたガラス容器にノボラック樹
脂、キノンジアジド基含有化合物及び有機溶剤からなる
ポジ型レジスト溶液を入れ、冷暗所に静置しポジ型レジ
スト溶液中の異物の発生を観察したところ、１ヶ月経過
後も異物の発生が確認できなかった。
３ｇを入れたのち、このガラス容器を電気炉にて５００
℃で加熱して、塩化アンモニウムを熱分解し、発生した
塩化水素ガスでガラス容器内面を処理し、ついで純水で
洗浄、乾燥した。得られたガラス容器にノボラック樹
脂、キノンジアジド基含有化合物及び有機溶剤からなる
ポジ型レジスト溶液を入れ、冷暗所に静置しポジ型レジ
スト溶液中の異物の発生を観察したところ、１ヶ月経過
後も異物の発生が確認できなかった。
【００１５】
【発明の効果】本発明の電子部品製造薬液用容器は、ア
ルカリ金属やＣａ、Ｐｂなどの金属の溶出の経時的増加
が少なく、レジスト溶液、現像液、剥離液、リンス液、
シリカ系被膜形成用塗布液などの薬液中にガラス容器か
らのアルカリ金属やＣａ、Ｐｂなどの金属の溶出が少な
く、これらの薬液を用いて電子部品を製造する際にも悪
影響を及ぼすことがない上に、長期の保存によっても異
物を発生させることがないガラス容器である。前記ガラ
ス容器に収納した薬液を使用することで微細化の進んだ
電子部品を歩留まり高く製造できる。
ルカリ金属やＣａ、Ｐｂなどの金属の溶出の経時的増加
が少なく、レジスト溶液、現像液、剥離液、リンス液、
シリカ系被膜形成用塗布液などの薬液中にガラス容器か
らのアルカリ金属やＣａ、Ｐｂなどの金属の溶出が少な
く、これらの薬液を用いて電子部品を製造する際にも悪
影響を及ぼすことがない上に、長期の保存によっても異
物を発生させることがないガラス容器である。前記ガラ
ス容器に収納した薬液を使用することで微細化の進んだ
電子部品を歩留まり高く製造できる。
Claims (1)
- 【請求項１】ガラスからなり、その内面が加熱下におい
て塩化水素ガスで処理されていることを特徴とする電子
部品製造薬液用容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26376696A JPH1095639A (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | 電子部品製造薬液用容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26376696A JPH1095639A (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | 電子部品製造薬液用容器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1095639A true JPH1095639A (ja) | 1998-04-14 |
Family
ID=17393991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26376696A Pending JPH1095639A (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | 電子部品製造薬液用容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1095639A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003286054A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-07 | Taiheiyo Cement Corp | ガラス骨材及びその製造方法 |
-
1996
- 1996-09-13 JP JP26376696A patent/JPH1095639A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003286054A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-07 | Taiheiyo Cement Corp | ガラス骨材及びその製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050414 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20050420 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20050810 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |