JPH09209154A - Production of optical article having film - Google Patents
Production of optical article having filmInfo
- Publication number
- JPH09209154A JPH09209154A JP8021241A JP2124196A JPH09209154A JP H09209154 A JPH09209154 A JP H09209154A JP 8021241 A JP8021241 A JP 8021241A JP 2124196 A JP2124196 A JP 2124196A JP H09209154 A JPH09209154 A JP H09209154A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hard coat
- layer
- coat layer
- plasma
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、耐擦傷性向上のた
めの硬化層を表面に備えた物品の製造方法に係わり、特
に、ＣＲＴディスプレー、光学用レンズ、液晶表示素子
などの光学的物品の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an article having a cured layer on its surface for improving scratch resistance, and particularly to an optical article such as a CRT display, an optical lens and a liquid crystal display device. It relates to a manufacturing method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】眼鏡用プラスチックレンズ等の光学物品
の耐擦傷性を向上させるために、ハードコートと呼ばれ
る被膜を表面に形成する技術が知られている。この被膜
を形成するために、従来、シランカップリング剤に対象
物を浸漬する浸漬表面処理（ディッピング）技術が用い
られている。この浸漬表面処理技術は、対象物の素材が
合成樹脂である場合、耐熱性の点などから非常に有効な
技術であることが知られている。2. Description of the Related Art There is known a technique of forming a coating called a hard coat on the surface in order to improve scratch resistance of optical articles such as spectacle plastic lenses. In order to form this coating, a dipping surface treatment (dipping) technique of dipping an object in a silane coupling agent has been conventionally used. It is known that this immersion surface treatment technique is a very effective technique from the viewpoint of heat resistance when the material of the object is a synthetic resin.
【０００３】また、浸漬表面処理技術においては、被膜
の材質が異なると、浸漬剤の組成も異なる。このため、
例えば、プラスチックレンズにハードコートを形成する
場合には、新たな高屈折率レンズが開発されるたびに、
これに対応可能な屈折率のハードコートを形成するため
の浸漬剤を開発しなければならない。そのため、浸漬剤
の開発費用の負担が重くなってきている。Further, in the immersion surface treatment technique, if the material of the coating film is different, the composition of the dipping agent is also different. For this reason,
For example, when forming a hard coat on a plastic lens, each time a new high refractive index lens is developed,
A dipping agent for forming a hard coat having a refractive index compatible with this must be developed. Therefore, the burden of development cost of the dipping agent is becoming heavy.
【０００４】また、プラスチックレンズの場合、レンズ
の屈折率ごとに用いる浸漬剤が異なるため、浸漬表面処
理用の装置等の設備を、屈折率ごとに、複数台設置しな
ければならない。このため、設備の減価償却費が毎年増
大する傾向にある。Further, in the case of a plastic lens, since the dipping agent used differs depending on the refractive index of the lens, it is necessary to install a plurality of equipment such as a device for dipping surface treatment for each refractive index. Therefore, the depreciation cost of equipment tends to increase every year.
【０００５】さらに、最近では特注品のプラスチックレ
ンズを受注する傾向がある。特に、眼鏡レンズの場合、
１ペア（２枚）で受注し、そのまま製造工場の一貫製造
ラインを流れる工程などが検討されている。この場合、
特注品がどのような屈折率であってもハードコートを形
成できるようにするためには、常に全屈折率分の浸漬表
面処理装置ラインを設置しておく必要があり、生産効率
が悪くなる欠点を有している。Further, recently, there is a tendency to receive an order for a custom-made plastic lens. Especially for eyeglass lenses,
Orders are received for one pair (two sheets), and the process of directly flowing through the integrated manufacturing line of the manufacturing plant is being considered. in this case,
In order to be able to form a hard coat regardless of the refractive index of a custom-made product, it is necessary to always install a dipping surface treatment equipment line for all the refractive indexes, which is a drawback that production efficiency deteriorates. have.
【０００６】また、従来の浸漬表面処理法でハードコー
トを形成する場合、コートする前の表面処理として、ア
ルカリ溶液に浸すというような表面の活性化処理等が不
可欠である。しかしながら、最近、環境問題などからこ
れらに使用される廃液処理等の問題が起こり始めてい
る。さらにまた、従来の被膜の製造工程では縮合硬化工
程が必須であり、この工程に数時間要するため、納期の
短縮化を計る上で非常に重要な改善上の課題となってい
る。また、複数の被膜を積層する必要のある物品の場
合、これらの被膜を全て浸漬表面処理法で形成すると、
高価な浸漬剤が何種類も必要になり、製造コストに見合
わなくなるという問題も生じている。When a hard coat is formed by a conventional dipping surface treatment method, surface activation treatment such as dipping in an alkaline solution is indispensable as the surface treatment before coating. However, recently, problems such as waste liquid treatment used for these have begun to occur due to environmental problems and the like. Furthermore, a condensation curing process is indispensable in the conventional film manufacturing process, and this process requires several hours, which is a very important improvement problem in order to shorten the delivery time. In addition, in the case of an article that needs to be laminated with a plurality of coatings, if all these coatings are formed by the dipping surface treatment method,
There is also a problem that many kinds of expensive dipping agents are required and the manufacturing cost cannot be met.
【０００７】そこで、浸漬表面処理法を用いずに被膜を
形成する技術として、プラズマＣＶＤによって被膜を製
造する技術が、特開平５ー１４０３５６に開示されてい
る。この技術は、車両などに使われる透明樹脂製窓に、
密着性及び表面硬度を向上させるための表面硬化膜を形
成するために、プラズマＣＶＤによってシリコン含有膜
（ＳｉＯx膜）を形成するものである。Therefore, as a technique for forming a coating without using the dipping surface treatment method, a technique for producing a coating by plasma CVD is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 5-140356. This technology is used for transparent resin windows used in vehicles,
A silicon-containing film (SiOx film) is formed by plasma CVD in order to form a surface hardened film for improving adhesion and surface hardness.
【０００８】また、複数層の被膜を形成するために、ヨ
ーロッパ特許ＥＰ−２０３７３０号においては、光学部
品基材上に有機ケイ素化合物を浸漬表面処理法により形
成し、その上に反射防止膜を形成し、さらにその上に有
機物硬化性物質（撥水性コート）を形成させるものが提
案されている。Further, in order to form a plurality of layers, in European Patent EP-203730, an organosilicon compound is formed on an optical component substrate by a dipping surface treatment method, and an antireflection film is formed thereon. In addition, there is proposed a method in which an organic substance-curable substance (water repellent coat) is further formed thereon.
【０００９】また、特開昭６２−２４７３０２号公報で
は、無機物の反射防止コート膜上に、シラザン化合物を
形成させ、撥水性を持たせ表面を改質させる技術が開示
されている。Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-247302 discloses a technique of forming a silazane compound on an antireflection coating film of an inorganic substance to impart water repellency to modify the surface.
【００１０】また、眼鏡プラスチックレンズの場合に
は、プラスチックレンズを保護するためのハードコート
と呼ばれる有機シリコーン被膜を浸漬表面処理法（ディ
ッピング法）によって形成した後、反射防止膜を真空蒸
着法により形成する方法を用いる。このとき、２〜３種
類のハードコート設備を利用して、数種類のプラスチッ
クレンズに対応したハードコート被膜を機能的に選択
し、複数種類のプラスチックレンズに同一のハードコー
ト被膜を形成させることにより、製造コストを低減させ
る工夫が行なわれている。In the case of eyeglass plastic lenses, an organic silicone coating called a hard coat for protecting the plastic lenses is formed by a dipping surface treatment method (dipping method), and then an antireflection film is formed by a vacuum deposition method. Method is used. At this time, by using two to three types of hard coat equipment, functionally selecting a hard coat film corresponding to several types of plastic lenses, and forming the same hard coat film on a plurality of types of plastic lenses, Measures have been taken to reduce the manufacturing cost.
【００１１】また、特開平７−５６００１号および特開
平７−５６００２号公報には、プラスチックレンズのハ
ードコート層の屈折率を、膜厚方向について変化させる
ことにより、干渉縞の発生を抑制することが開示されて
いる。このために、ハードコート層を高屈折率材料と低
屈折率材料とを混合した材料で形成し、膜厚方向につい
て混合割合を変化させることにより、屈折率を変化させ
ている。Further, in JP-A-7-56001 and JP-A-7-56002, the occurrence of interference fringes is suppressed by changing the refractive index of the hard coat layer of the plastic lens in the film thickness direction. Is disclosed. For this reason, the hard coat layer is formed of a material in which a high refractive index material and a low refractive index material are mixed, and the refractive index is changed by changing the mixing ratio in the film thickness direction.
【００１２】[0012]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
特開平５−１４０３５６号公報に記載されている方法で
形成された被膜は、耐温水性が低く、眼鏡用プラスチッ
クレンズ等の耐温水性が要求される対象物には使用でき
ない。具体的には、この方法で形成された被膜は、８０
℃、１０分の温水浸漬テストにおいて、膜が***してし
まい、外観上の良好な品質が得られない欠点を有してい
る。However, the coating film formed by the method described in the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 5-140356 has a low hot water resistance and requires a hot water resistance of plastic lenses for eyeglasses. It cannot be used for objects that are subject to Specifically, the film formed by this method has a thickness of 80
In a warm water immersion test at 10 ° C. for 10 minutes, the film is bulged, which has the drawback that good appearance cannot be obtained.
【００１３】また、ＥＰ−２０３７３０号等のように、
浸漬表面処理法と、他の気相成長方法とを組み合わせて
複数層の被膜を形成する方法は、浸漬表面処理法により
形成する被膜の硬化時間に、非常に長い時間が必要であ
る。また、次の反射防止膜の形成工程へ移るために、一
度大気に晒される状態が避けられず、一貫した工程を連
続して行うことが困難である。Further, as in EP-203730,
The method of forming a coating film of a plurality of layers by combining the immersion surface treatment method and another vapor phase growth method requires a very long time for curing the coating film formed by the immersion surface treatment method. In addition, since the process moves to the next step of forming the antireflection film, it is inevitable that the film is once exposed to the atmosphere, and it is difficult to perform consistent steps continuously.
【００１４】また、特開平７−５６００１号および特開
平７−５６００２号公報記載の技術においては、ハード
コート層の屈折率を変化させることにより、干渉縞の発
生を抑制することは可能であるが、この層を、プラスチ
ックレンズを保護するためのハードコート層として実際
に作用させるためには、硬い膜にする必要がある。その
ために、ハードコート層は、通常、厚い膜（通常３μｍ
以上）に形成される。Further, in the techniques described in JP-A-7-56001 and JP-A-7-56002, it is possible to suppress the generation of interference fringes by changing the refractive index of the hard coat layer. In order for this layer to actually act as a hard coat layer for protecting the plastic lens, it needs to be a hard film. Therefore, the hard coat layer is usually a thick film (usually 3 μm).
Above).
【００１５】[0015]
【００１７】このような厚いハードコート層をプラズマ
ＣＶＤで形成するためには、プラズマ中に発生する金属
および酸素等の各正負イオンからなる空間電荷を、成膜
が終了するまでの長い時間、平衡状態に保つ必要があ
る。そのため、それらの各正負イオンを安定化させる制
御が必要であるが、実際には、この制御を長い時間にわ
たり行なうことは、基板側に発生するバイアス電圧が不
安定になりやすく、プラズマによる放電が、断続あるい
は中断される現象が伴い、形成される薄膜内部の原子組
成比が不均一になり、ハードコート層内の酸素結合状態
の欠損が生じ、形成される酸化物膜が低級酸化物を含む
ようになり、ハードコート層自体が吸収を生じ、着色し
てしまう。In order to form such a thick hard coat layer by plasma CVD, a space charge consisting of positive and negative ions such as metal and oxygen generated in plasma is equilibrated for a long time until the film formation is completed. You need to keep it. Therefore, it is necessary to control to stabilize each of the positive and negative ions, but in practice, if this control is performed for a long time, the bias voltage generated on the substrate side is likely to become unstable, and the discharge due to the plasma is generated. , The atomic composition ratio inside the formed thin film becomes non-uniform due to the phenomenon of interruption or interruption, the oxygen bond state in the hard coat layer is lost, and the formed oxide film contains a lower oxide. As a result, the hard coat layer itself absorbs and is colored.
【００１６】したがって、特開平７−５６００１号およ
び特開平７−５６００２号公報記載の技術で、実際にハ
ードコート層を形成すると、ハードコート層が着色して
しまい、実用上、問題が生じる。この着色は、ハードコ
ート層の機械的耐久性を向上させるために、膜厚を大き
くするほど顕著になる。Therefore, when the hard coat layer is actually formed by the techniques described in JP-A-7-56001 and JP-A-7-56002, the hard coat layer is colored, which causes a problem in practical use. This coloring becomes more remarkable as the film thickness is increased in order to improve the mechanical durability of the hard coat layer.
【００１７】よって、眼鏡等の透明なプラスチックレン
ズに、特開平７−５６００１号および特開平７−５６０
０２号公報記載の技術を実施することは、実際には非常
に困難である。Therefore, a transparent plastic lens such as spectacles can be applied to JP-A-7-56001 and JP-A-7-560.
It is actually very difficult to carry out the technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 02-202.
【００１８】また、本発明者は、基材とハードコート層
との間に、厚さ方向に向かって屈折率が変化する変性層
を、様々な条件で形成することを試みた。しかし、形成
された光学物品の中には、膜が剥離したり、光学的な特
性に問題が発生したり、また、衝撃に対して弱いという
問題点が生じた。The present inventor has also tried to form a modified layer whose refractive index changes in the thickness direction between the substrate and the hard coat layer under various conditions. However, in the formed optical article, there are problems that the film is peeled off, a problem occurs in optical characteristics, and that it is weak against impact.
【００１９】また、従来のディッピング（浸漬処理）に
よる有機系シリコーンハードコートをプラスチックレン
ズ上に設けた場合、レンズをディッピング溶液に垂直方
向に浸すため、レンズ半径方向における膜厚分布のムラ
が生じてしまう。例え、レンズとハードコートの屈折率
をほぼ同じにしたとしても、この両者の界面における反
射の相違が生じてしまい、干渉縞（リップル）が強調さ
れてしまい、美的外観を損なってしまうことは免れな
い。このことは、レンズ自体が曲面を有しているため、
特に顕著に現れることが判った。Further, when an organic silicone hard coat by conventional dipping (immersion treatment) is provided on a plastic lens, the lens is soaked in a dipping solution in the vertical direction, so that the film thickness distribution in the radial direction of the lens becomes uneven. I will end up. For example, even if the refractive index of the lens and the hard coat are made approximately the same, the difference in reflection at the interface between the two causes the interference fringes (ripple) to be emphasized, which impairs the aesthetic appearance. Absent. This means that the lens itself has a curved surface,
It turned out that it appears particularly noticeably.
【００２０】本発明は、上記問題点を解決し、耐環境性
が大きく、気相成長法により一貫した工程で形成するこ
とができる被膜を備えた光学物品を提供することを目的
とする。An object of the present invention is to solve the above problems and to provide an optical article having a large environment resistance and provided with a coating which can be formed by a vapor phase growth method in a consistent process.
【００２１】[0021]
【課題を解決するための手段】本発明者は、基材とハー
ドコート層との間に、厚さ方向に向かって屈折率が変化
する変性層を、様々な条件で形成し、その際の変性層の
材料、成膜条件、変性層とハードコート層または基材と
の相性など、各条件における問題点について研究した。
その結果、材料や成膜条件等を制御することでも好適な
変性層を得ることができたが、変性層の膜厚を調整する
ことが最も低コストかつ簡単な工程、つまり製造工程を
増やすことなく、また、これまでしようしていた材料を
用いて、適した変性層が得られることを見出した。Means for Solving the Problems The present inventor has formed a modified layer whose refractive index changes in the thickness direction between a base material and a hard coat layer under various conditions. The problems under each condition such as the material of the modified layer, the film forming conditions, and the compatibility between the modified layer and the hard coat layer or the substrate were studied.
As a result, it was possible to obtain a suitable modified layer by controlling the materials and film formation conditions, but adjusting the film thickness of the modified layer is the lowest cost and simplest process, that is, increasing the number of manufacturing processes. It has been found that a suitable modified layer can be obtained by using the materials which have been used so far.
【００２２】また、この変性層のうえにハードコート層
を形成し、ハードコート層の表面を酸素を含むガスのプ
ラズマまたは酸素ガスのイオンビームで活性化処理し、
その後反射防止膜を形成することにより、ハードコート
層と反射防止膜との密着性を向上させることができるこ
とを見いだした。A hard coat layer is formed on the modified layer, and the surface of the hard coat layer is activated by plasma of a gas containing oxygen or an ion beam of oxygen gas,
It was found that the adhesion between the hard coat layer and the antireflection film can be improved by subsequently forming the antireflection film.
【００２３】よって、上記目的を達成するために、本発
明によれば、基材上に被膜を備えた光学物品の製造方法
であって、前記基材の上に、Ｓｉを含む有機化合物ガス
およびＴｉを含む有機化合物ガスの少なくとも一方を用
い、プラズマを用いた化学気相成長法により、厚さ方向
に向かって屈折率が変化している変性層を形成する第１
の工程と、前記変性層の上に、Ｓｉを含む有機化合物ガ
スと、酸素ガスとの混合ガスを用い、プラズマを用いた
化学気相成長法により、ハードコート層を形成する第２
の工程と、前記ハードコート層の表面を、少なくとも酸
素ガスを含むガスのプラズマ、または、酸素ガスのイオ
ンビームによって活性化処理する第３の工程と、前記活
性化処理されたハードコート層の上に、反射防止膜を形
成する第４の工程とを有することを特徴とする被膜を備
えた光学物品の製造方法が提供される。Therefore, in order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided a method of manufacturing an optical article having a coating film on a substrate, wherein an organic compound gas containing Si and Forming a modified layer in which the refractive index changes in the thickness direction by a chemical vapor deposition method using plasma using at least one of organic compound gases containing Ti
And a step of forming a hard coat layer on the modified layer by a chemical vapor deposition method using plasma using a mixed gas of an organic compound gas containing Si and oxygen gas.
And a third step of activating the surface of the hard coat layer with plasma of a gas containing at least oxygen gas or an ion beam of oxygen gas, and on the activated hard coat layer. And a fourth step of forming an antireflection film, there is provided a method for producing an optical article having a coating film.
【００２４】[0024]
【発明の実施の形態】本発明の発明の実施の形態につい
て説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described.
【００２５】本発明においては、減圧容器内にアルコキ
シ基含有有機チタン化合物及びアルコキシ基含有有機珪
素化合物の各モノマーを気体状態にし、プラズマ雰囲気
中各モノマーガスを導入し、基材上にそれらのモノマー
とプラズマ反応で生成される形成化合物を各々のモノマ
ーの流量比を加減させながら薄膜堆積させていくとによ
り、基材とハードコートとの間に、中間的な密着性の良
好な有機または無機化合物屈折率変性層を形成する。In the present invention, each monomer of the alkoxy group-containing organotitanium compound and the alkoxy group-containing organosilicon compound is made into a gas state in a vacuum vessel, each monomer gas is introduced in a plasma atmosphere, and the monomer is placed on the substrate. By forming a thin film of the compound formed by the plasma reaction while adjusting the flow rate ratio of each monomer, an organic or inorganic compound having good intermediate adhesion between the base material and the hard coat. A refractive index modified layer is formed.
【００２６】その上に、本来のハードコート層なるアル
コキシ基含有有機及び／または無機珪素化合物薄膜を形
成する。このとき変性層との界面付近のハードコード層
が疑似不定形のアモルファス状の構造となるように形成
する。これにより、プラスチック基材とハードコート層
との強固な密着強度与え、またさらには、干渉縞を抑制
させることができる。An alkoxy group-containing organic and / or inorganic silicon compound thin film, which is the original hard coat layer, is formed thereon. At this time, the hard code layer near the interface with the modified layer is formed so as to have a pseudo-amorphous amorphous structure. As a result, a strong adhesion strength between the plastic base material and the hard coat layer can be provided, and furthermore, interference fringes can be suppressed.
【００２７】こうして形成したハードコート層表面を少
なくとも酸素ガスからなる混合ガスプラズマ雰囲気ある
いは前記混合ガスイオンビーム照射により、表面の活性
化処理後、その表面のシラノール基（ＳｉーＯＨ）の濃
度を増加させることにより、ハードコート層表面付近の
架橋密度を増加させる。この架橋密度の増加に影響さ
れ、その界面の酸化速度も増加するものと考えられる。
従って、このハードコート層の上に形成される反射防止
層の第１層である二酸化珪素と界面の密着強度が上がる
ものと考えられる。The surface of the thus-formed hard coat layer is activated by irradiating the mixed gas plasma atmosphere containing at least oxygen gas or the mixed gas ion beam, and then the concentration of silanol groups (Si-OH) on the surface is increased. By doing so, the crosslink density near the surface of the hard coat layer is increased. It is considered that the increase in the crosslink density increases the oxidation rate at the interface.
Therefore, it is considered that the adhesion strength at the interface with silicon dioxide, which is the first layer of the antireflection layer formed on this hard coat layer, increases.
【００２８】本発明では、基材として、ポリカーボネイ
ト、ポリメチルメタクリレートおよびその共重合体、ジ
エチレングリコールビスアリルカーボネイト（ピッツバ
ークプレート ガラス社製 ＣＲ−３９）の重合体、ポ
リエステル、不飽和ポリエステル、アクリロニトリルー
スチレン共重合体、塩化ビニル、ポリウレタン、エポキ
シ樹脂、ハロゲン（但し、フッ素を除く）および水酸基
を含有するモノまたはジ（メタ）アクリレートとイソシ
アネート化合物との重合体またはその共重合体等から任
意に選択された材料からなる基材を用いることができ
る。ポリエステルのなかでは、特にポリエチレンテレフ
タレートが好ましく使用される。In the present invention, as the base material, polycarbonate, polymethyl methacrylate and its copolymer, a polymer of diethylene glycol bisallyl carbonate (CR-39 manufactured by Pittsburgh Plate Glass Co., Ltd.), polyester, unsaturated polyester, acrylonitrile-styrene copolymer are used. Arbitrarily selected from polymers, vinyl chloride, polyurethane, epoxy resins, halogens (excluding fluorine), polymers of mono- or di (meth) acrylates containing hydroxyl groups and isocyanate compounds, or copolymers thereof. A base material made of a material can be used. Among the polyesters, polyethylene terephthalate is particularly preferably used.
【００２９】また、これらの中で特に好ましくは、ジエ
チレングリコールビスアリルカーボネイトの重合体、ポ
リウレタン、および、ハロゲン（但し、フッ素を除く）
および水酸基を含有するモノまたはジ（メタ）アクリレ
ートとイソシアネート化合物と重合体またはその共重合
体のうちのいずれかからなる基材が使用できる。Of these, particularly preferred are polymers of diethylene glycol bisallyl carbonate, polyurethane, and halogens (excluding fluorine).
Further, a substrate composed of a mono- or di- (meth) acrylate having a hydroxyl group, an isocyanate compound, a polymer or a copolymer thereof can be used.
【００３０】基材は、低屈折率のものから、１．７０以
上の高屈折率のものを用いることができる。As the base material, a base material having a low refractive index to a high refractive index of 1.70 or more can be used.
【００３１】本発明の製造方法において、第１および第
２の工程において用いられるＳｉを含む有機化合物とし
ては、テトラエトキシシラン Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ5)4、ジメ
トキシジメチルシラン (ＣＨ3)2Ｓｉ(ＯＣＨ3)2、メチ
ルトリメトキシシラン ＣＨ3Ｓｉ(ＯＣＨ3)3、テトラ
メトキシシラン Ｓｉ(ＯＣＨ3)4、エチルトリメトキシ
シラン Ｃ2Ｈ5Ｓｉ(ＯＣＨ3)3、ジエトキシジメチルシ
ラン (Ｃ2Ｈ5Ｏ)2Ｓｉ(ＣＨ3)2、メチルトリエトキシ
シラン ＣＨ3Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ5)3等が好適に用いられる。In the production method of the present invention, the organic compounds containing Si used in the first and second steps include tetraethoxysilane Si (OC 2 H 5) 4 and dimethoxydimethylsilane (CH 3 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 , methyltrimethoxysilane CH 3 Si (OCH 3 ) 3 , tetramethoxysilane Si (OCH 3 ) 4 , ethyltrimethoxysilane C 2 H 5 Si (OCH 3 ) 3 , diethoxydimethylsilane (C 2 H 5 O) 2 Si (CH 3 ) 2 and methyltriethoxysilane CH 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 are preferably used.
【００３２】また、本発明の製造方法において、第１の
工程において用いられるＴｉを含む有機化合物として
は、テトラメトキシチタン Ｔｉ(ＯＣＨ3)4、テトラエ
トキシチタン Ｔｉ(ＯＣ2Ｈ5)4、テトラ-i-プロポキシ
チタン Ｔｉ(Ｏ-i-Ｃ3Ｈ7)4、テトラ-n-プロポキシチ
タン Ｔｉ(Ｏ-n-Ｃ3Ｈ7)4、テトラ-n-ブトキシチタン
Ｔｉ(Ｏ-n-Ｃ4Ｈ9)4、テトラ-i-ブトキシチタン Ｔｉ
(Ｏ-i-Ｃ4Ｈ9)4、テトラ-sec-ブトキシチタン Ｔｉ(Ｏ
-sec-Ｃ4Ｈ9)4、テトラ-t-ブトキシチタン Ｔｉ(Ｏ-t-
Ｃ4Ｈ9)4、テトラジエチルアミノチタン Ｔｉ(Ｎ(Ｃ2
Ｈ5)2)4等が好適に用いられる。In the manufacturing method of the present invention, the organic compounds containing Ti used in the first step include tetramethoxy titanium Ti (OCH 3 ) 4 , tetraethoxy titanium Ti (OC 2 H 5 ) 4 , tetra -i- propoxytitanium Ti (O-i-C 3 H 7) 4, tetra -n- propoxytitanium Ti (O-n-C 3 H 7) 4, tetra -n- butoxy Ti (O-n-C 4 H 9 ) 4 , tetra-i-butoxytitanium Ti
(O-i-C 4 H 9 ) 4 , tetra-sec-butoxytitanium Ti (O
-sec-C 4 H 9) 4 , tetra -t- butoxy Ti (O-t-
C 4 H 9 ) 4 , tetradiethylaminotitanium Ti (N (C 2
H 5 ) 2 ) 4 and the like are preferably used.
【００３３】これらのＳｉを含む有機化合物およびＴｉ
を含む有機化合物は、その一種類を単独で用いても良
く、また、二種類以上を併用してもよい。Organic compounds containing these Si and Ti
As the organic compound containing, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.
【００３４】また、本発明において変性層およびハード
コート層を形成する際に使用されるプラズマを用いた化
学気相成長（ＣＶＤ）法は、原料ガスに熱エネルギー及
び電気的エネルギーを与えることにより放電させ、その
プラズマ雰囲気中の非熱平衡状態において反応を促進さ
せ、基材上に薄膜を堆積させる方法であり、通常使われ
てるものには平行平板電極型、容量結合型または誘導結
合型等がある。特に本発明においては、基材の主平面に
平行に電界と磁界とをかけるプラズマ促進ＣＶＤ（ＰＥ
ＣＶＤ）法により形成することが好適である。Further, in the chemical vapor deposition (CVD) method using plasma, which is used for forming the modified layer and the hard coat layer in the present invention, discharge is performed by applying heat energy and electric energy to the source gas. This is a method of accelerating the reaction in a non-thermal equilibrium state in the plasma atmosphere and depositing a thin film on the substrate. Commonly used methods include a parallel plate electrode type, a capacitive coupling type or an inductive coupling type. . Particularly in the present invention, plasma-enhanced CVD (PE) in which an electric field and a magnetic field are applied in parallel to the main plane of the substrate.
The CVD method is preferable.
【００３５】というのは、電界と平行に磁界を印加する
ことにより、対向する電極の間には磁界による電場が起
こり、プラズマ中のイオンは基板ホルダー側に加速され
る。また、この磁界による電場により、プラズマ密度が
均一化され、基板へのイオン損傷および温度上昇などが
抑制できる。従って、特にプラスチックレンズのような
透明な基材材料に薄膜を形成させる場合や、イオン損傷
により側鎖基が破断されやすい材料や耐熱性の低い材料
からなる基材を用いる場合、基材の損傷が少ないため、
磁界をかけるプラズマ促進ＣＶＤが非常に有効である。By applying a magnetic field parallel to the electric field, an electric field due to the magnetic field occurs between the opposing electrodes, and the ions in the plasma are accelerated toward the substrate holder. Further, the electric field due to this magnetic field makes the plasma density uniform, and it is possible to suppress ion damage to the substrate and temperature rise. Therefore, especially when forming a thin film on a transparent substrate material such as a plastic lens, or when using a substrate made of a material whose side chain group is easily broken by ion damage or a material with low heat resistance, damage to the substrate Because there are few
Plasma-enhanced CVD that applies a magnetic field is very effective.
【００３６】透明樹脂基材に屈折率変性層及びハードコ
ート層を形成する場合、それらの形成材料として、Ｔｉ
系及び／またはＳｉ系アルコキシ基含有有機化合物から
なるモノマー及び／または酸素ガスを真空室へ導入し、
プラズマ雰囲気中で反応させ、透明樹脂基材に屈折率変
性層及びハードコート層を堆積させる。特に、屈折率変
性層を形成させる場合は、特に、屈折率変性層とその上
のハードコート層との界面付近が疑似不定形アモルファ
ス状に形成させることが、透明樹脂基材との密着性，耐
擦傷性，耐衝撃性，干渉縞の抑制などの点から好まし
い。さらに、ハードコート層表面を活性化処理する場合
の前段階の処理としては、ハードコート層形成終了直前
にＴｉ系及び／またはＳｉ系アルコキシ基含有有機化合
物からなるモノマーガスを、所定膜厚形成終了前から約
５００秒前から徐々に減少させながら所定膜厚になった
時に、これらのモノマーガスの供給を停止し、酸素ガス
のみをプラズマ中に１００秒間流しながら、ハードコー
ト層表面の活性化処理を行うのが好ましい。When the refractive index modifying layer and the hard coat layer are formed on the transparent resin substrate, Ti and
Introducing a monomer and / or oxygen gas composed of a system-based and / or Si-based alkoxy group-containing organic compound into a vacuum chamber,
The reaction is performed in a plasma atmosphere to deposit the refractive index modification layer and the hard coat layer on the transparent resin substrate. In particular, in the case of forming a refractive index modified layer, in particular, it is preferable to form a pseudo amorphous amorphous shape in the vicinity of the interface between the refractive index modified layer and the hard coat layer on the refractive index modified layer, It is preferable in terms of scratch resistance, impact resistance, suppression of interference fringes, and the like. Further, as a pre-treatment when the surface of the hard coat layer is activated, a monomer gas consisting of a Ti-based and / or Si-based alkoxy group-containing organic compound is added immediately before the formation of the hard coat layer to a predetermined thickness. About 500 seconds from the beginning, when the predetermined film thickness is reached while gradually decreasing, the supply of these monomer gases is stopped, and only the oxygen gas is allowed to flow into the plasma for 100 seconds to activate the hard coat layer surface. Is preferably performed.
【００３７】本発明におけるプラズマ中における活性化
処理とは、少なくとも酸素ガスを含む混合ガスを真空中
に導入し、そこで形成された前記ハードコート層の表面
を酸素ガスを含む混合ガスにより生成されたプラズマ雰
囲気中に、一定の時間晒すことを、意味するものであ
る。混合可能なガスとしては窒素，水素，炭酸ガス，ヘ
リウム，ネオン，アルゴン，アンモニア，一酸化炭素，
塩素，一酸化窒素，二酸化窒素等からなる無機物が使用
可能である。これらは、一種のみならず、二種以上混合
して酸素ガスと共に混合させても良い。The activation treatment in plasma in the present invention means that a mixed gas containing at least oxygen gas is introduced into a vacuum, and the surface of the hard coat layer formed therein is generated by the mixed gas containing oxygen gas. This means exposing in a plasma atmosphere for a certain period of time. Gases that can be mixed are nitrogen, hydrogen, carbon dioxide, helium, neon, argon, ammonia, carbon monoxide,
Inorganic substances such as chlorine, nitric oxide, and nitrogen dioxide can be used. These may be mixed not only with one kind but also with two or more kinds together with the oxygen gas.
【００３８】本発明において反射防止膜の形成は、前記
活性化処理後行われるが、その形成方法は特に限定され
ものではない。即ち、化学的気相成長法（ＣＶＤ），物
理的気相成長法が適宜に利用できる。具体的形成方法
は、真空蒸着法、スパッタリング法，イオンプレーティ
ング法，プラズマＣＶＤ法等で適宜に選択すれば良い。In the present invention, the antireflection film is formed after the activation treatment, but the forming method is not particularly limited. That is, a chemical vapor deposition method (CVD) and a physical vapor deposition method can be appropriately used. A specific forming method may be appropriately selected from a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a plasma CVD method and the like.
【００３９】また、本発明において必要に応じて、水ヤ
ケ防止コートを前記反射防止膜の上に設けても良い。な
お、水ヤケ防止コートに用いられる有機シラザン化合物
として下記単位式で示す ＣpＦ2p+1ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＮＨ）1.5 （ただし、ｐは正の整数） のものが好適に用いられる。Further, in the present invention, a water stain prevention coat may be provided on the antireflection film, if necessary. As the organic silazane compound used in the water scorching preventing coating shown by the following unit formula C p F 2p + 1 CH 2 CH 2 Si (NH) 1.5 ( Here, p is a positive integer) are those preferably used.
【００４０】水ヤケ防止コートの形成方法は、浸漬法等
の湿式法または真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ法等
の乾式法で形成することが可能である。As the method for forming the water stain prevention coat, a wet method such as an immersion method or a dry method such as vacuum deposition, sputtering, or CVD can be used.
【００４１】次に本発明による具体的な製造方法につい
て示す。Ｔｉアルコキシ基含有有機化合物が入ったモノ
マー容器が真空室に接続器を外部から加熱することによ
り、気化させて真空室へ導入すると同時に酸素ガスも導
入する。その時の各々のガスの流量はそれぞれの目的に
あったものを適宜に選択すればよいが、好ましくは、Ｓ
ｉ系アルコキシ基含有有機化合物のガスの場合は８０〜
２００ＳＣＣＭ、Ｔｉ系アルコキシ基含有有機化合物の
ガスの場合は３０〜２００ＳＣＣＭ、また、酸素ガスは
５０〜２００ＳＣＣＭをそれぞれ単独若しくは併用させ
て真空室へ流す。Next, a specific manufacturing method according to the present invention will be described. The monomer container containing the Ti-alkoxy group-containing organic compound heats the connector to the vacuum chamber from the outside to vaporize it and introduce it into the vacuum chamber, and at the same time introduce oxygen gas. The flow rate of each gas at that time may be appropriately selected according to each purpose, but preferably S
In the case of i-type alkoxy group-containing organic compound gas,
200 SCCM, 30 to 200 SCCM in the case of a Ti-based alkoxy group-containing organic compound gas, and 50 to 200 SCCM of oxygen gas are used individually or in combination and flow into the vacuum chamber.
【００４２】その際の真空室内の圧力を０．５〜１２Ｐ
ａの範囲で安定させ、カソード側に高周波２〜３．５Ｋ
Ｗを印加する。それと同時に、真空室外部に設置されて
いる電磁石コイルに電流を流し、プラズマ雰囲気中に磁
界がかかるようにして低気圧アーク放電を安定化させ
る。このような磁界のかけ方により、対向する電極の間
には電場が起こり、プラズマ中のイオンは基材ホルダー
側に加速される。また、この電場により、プラズマ密度
が均一化され、基材へのイオン損傷および温度上昇など
が抑制できる。従って、特にプラスチックレンズのよう
な基材材料に薄膜を形成させる場合、イオン損傷により
側鎖基が破断されやすい材料や耐熱性の低い材料などを
扱う場合、非常に有効な薄膜形成が可能となる。The pressure in the vacuum chamber at that time is 0.5 to 12 P.
Stabilized in the range of a, high frequency 2 to 3.5K on the cathode side
Apply W. At the same time, a current is applied to an electromagnet coil installed outside the vacuum chamber to stabilize the low pressure arc discharge by applying a magnetic field to the plasma atmosphere. Due to such a method of applying a magnetic field, an electric field is generated between opposing electrodes, and ions in plasma are accelerated toward the substrate holder side. In addition, this electric field makes the plasma density uniform and suppresses ion damage to the substrate and temperature rise. Therefore, when a thin film is formed on a base material such as a plastic lens, a very effective thin film can be formed when a material whose side chain group is easily broken by ion damage or a material having low heat resistance is used. .
【００４３】以上このような手法により、プラスチック
レンズ上に直接Ｔｉ系及び／あるいはＳｉ系アルコキシ
基含有有機化合物薄膜からなる屈折率変性層、及び、ハ
ードコート層を形成することができる。活性化処理する
場合の前段階の処理としては、ハードコート層形成終了
直前にＴｉ系及び／またはＳｉ系アルコキシ基含有有機
化合物からなるモノマー及び酸素混合ガスを、所定膜厚
形成終了前から約５００秒前からＴｉ系及び／またはＳ
ｉ系アルコキシ基含有有機化合物からなるモノマーの
み、徐々に１１ＳＣＣＭ／ｍｉｎ割合で減少させなが
ら、所定膜厚になった時に、これらのモノマーガスのみ
供給を停止させる処理を行うことが好ましい。As described above, the refractive index modification layer and the hard coat layer, which are made of a Ti-based and / or Si-based alkoxy group-containing organic compound thin film, can be directly formed on the plastic lens. As a pre-treatment for the activation treatment, a mixture of a Ti-based and / or Si-based organic compound containing an alkoxy group-containing organic compound and an oxygen mixed gas is used immediately before the formation of the hard coat layer, and a mixture of about 500 Ti system and / or S from seconds before
It is preferable to perform a treatment of stopping the supply of only these monomer gases when the predetermined film thickness is reached, while gradually decreasing only the monomer composed of the i-type alkoxy group-containing organic compound at a rate of 11 SCCM / min.
【００４４】次に活性化処理として、前述の前段階処理
に続いて、酸素ガスのみを引き続いて１００〜２００Ｓ
ＣＣＭの範囲でプラズマ中に継続して１００秒間流しな
がら、ハードコート層を処理を行うのが好ましい。Next, as an activation process, following the above-mentioned pre-stage process, only oxygen gas is continuously supplied for 100 to 200 S.
The hard coat layer is preferably treated while continuously flowing in the plasma for 100 seconds in the CCM range.
【００４５】この後、引き続いて真空蒸着法により、反
射防止膜を形成する。また、このプラズマ中における活
性化処理を行わずに、酸素のイオンビームにより、ハー
ドコート層表面を活性化させる方法をとっても同様な効
果が得られる。After that, an antireflection film is subsequently formed by a vacuum vapor deposition method. Also, the same effect can be obtained by activating the surface of the hard coat layer with an oxygen ion beam without performing the activation treatment in the plasma.
【００４６】また、基材上にウレタン系、ポリビニルア
セタール等からなる衝撃吸収層を設ければ更に密着性、
耐衝撃性の向上した光学物品が得られる。Further, if a shock absorbing layer made of urethane type, polyvinyl acetal or the like is provided on the base material, the adhesion is further improved,
An optical article with improved impact resistance can be obtained.
【００４７】[0047]
【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例により具体
的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるもの
ではない。以下の実施例は、眼鏡用プラスチックレンズ
に被膜を形成する実施例である。EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. The following examples are examples of forming a coating on a plastic lens for eyeglasses.
【００４８】（実施例１）本実施例では、ポリウレタン
系レンズ基材上に、バルツェルス（Ｂａｌｚｅｒｓ）社
製ＰＥＣＶＤ装置と真空蒸着装置とを用いて、屈折率変
性層と、３層構造のハードコート層と、反射防止膜とを
形成する。ＰＥＣＶＤ装置の真空室と真空蒸着装置の真
空室とは、ロードロック室で連結されている。ロードロ
ック室は、基材を、ＰＥＣＶＤ装置の真空室から真空蒸
着室の真空室へ真空を保った状態で移動させるための空
間である。Example 1 In this example, a refractive index modifying layer and a hard coat having a three-layer structure were formed on a polyurethane lens substrate using a PECVD apparatus manufactured by Balzers and a vacuum vapor deposition apparatus. A layer and an antireflection film are formed. The vacuum chamber of the PECVD apparatus and the vacuum chamber of the vacuum vapor deposition apparatus are connected by a load lock chamber. The load lock chamber is a space for moving the base material from the vacuum chamber of the PECVD apparatus to the vacuum chamber of the vacuum deposition chamber while maintaining a vacuum.
【００４９】ＰＥＣＶＤ装置は、真空室外に電磁コイル
を備えている。電磁コイルは、真空室内に配置された一
対の電極の間の空間に、電界と平行な方向に磁界をかけ
るように配置されている。電極間の空間には、カローセ
ルタイプの基材ホルダーが、基材の主平面を電界の向き
と平行に保持するように配置されている。The PECVD apparatus has an electromagnetic coil outside the vacuum chamber. The electromagnetic coil is arranged in the space between the pair of electrodes arranged in the vacuum chamber so as to apply a magnetic field in a direction parallel to the electric field. In the space between the electrodes, a carousel-type base material holder is arranged so as to hold the main plane of the base material parallel to the direction of the electric field.
【００５０】まず、ポリウレタン系レンズを超音波洗浄
機に通して洗浄後、Ｂａｌｚｅｒｓ社製ＰＥＣＶＤ装置
の真空室に設置し、２．７×１０ー4Ｐａまで排気した
後、ジメチルジエトキシランのガスを流量１１ＳＣＣＭ
及びテトライソプロポキシチタンのガスを流量９ＳＣＣ
Ｍ流し、真空室の圧力が ２．９Ｐａになるまで導入
し、外部電磁石コイルに２．６Ａの電流を流すと同時
に、カソードに高周波出力０．６ＫＷを４５秒間印加す
る間にテトライソプロポキシチタンのガスを１分間当た
り９ＳＣＣＭの割合で、徐々に減少させ、同時にジメチ
ルジエトキシシランのガスを１分間当たり１１ＳＣＣＭ
の割合で増加させながら、膜厚２６０ｎｍの屈折率変性
層を基材レンズの両面に形成した。First, the polyurethane lens was cleaned by passing it through an ultrasonic cleaning machine, placed in a vacuum chamber of a PECVD apparatus manufactured by Balzers, evacuated to 2.7 × 10 −4 Pa, and then dimethyldiethoxylane gas was discharged. Flow rate 11 SCCM
And tetraisopropoxy titanium gas flow 9SCC
M flow and introduce until the pressure in the vacuum chamber reaches 2.9 Pa, while flowing a current of 2.6 A to the external electromagnet coil, while applying a high frequency output of 0.6 KW to the cathode for 45 seconds, tetraisopropoxy titanium The gas is gradually reduced at a rate of 9 SCCM per minute, while the gas of dimethyldiethoxysilane is simultaneously reduced to 11 SCCM per minute.
The refractive index modification layer having a film thickness of 260 nm was formed on both surfaces of the base lens while increasing the ratio at.
【００５１】さらに、続いて、ジメチルジエトキシシラ
ンのガスを流量１００ＳＣＣＭと酸素ガスを流量３５Ｓ
ＣＣＭ流し、真空室の圧力が２．９Ｐａになって流量が
安定したところで、外部電磁石コイルに２．６Ａの電流
を流すと同時に、カソードに高周波出力０．８ＫＷを２
５分間印加して、屈折率変性層の上にハードコート層を
形成した。さらに、酸素ガスの流量を７０ＳＣＣＭに増
加して、真空室の圧力が２．９Ｐａになるように排気系
のコンダクタンスをバリアブルオリフィスにより調整
し、カソードの高周波出力を１ＫＷに上げて、引き続き
２５分間ハードコート層を形成した。最後に、酸素ガス
の流量を１４０ＳＣＣＭに増加して、さらにまた２５分
間ハードコート層を形成させたが、この後に行う活性化
処理の前段階処理として、ハードコート層形成終了直前
の約５００秒手前からジメチルジエトキシシランのガス
を徐々に１１ＳＣＣＭ／ｍｉｎ割合で減少させながら、
所定膜厚になった時にこれらのモノマーガスのみ供給を
停止させた。Further, subsequently, the flow rate of dimethyldiethoxysilane gas is 100 SCCM and the flow rate of oxygen gas is 35 S.
When the CCM flowed and the pressure in the vacuum chamber became 2.9 Pa and the flow rate became stable, a current of 2.6 A was passed through the external electromagnet coil, and at the same time, a high frequency output of 0.8 kW was applied to the cathode.
By applying for 5 minutes, a hard coat layer was formed on the refractive index modified layer. Furthermore, the flow rate of oxygen gas was increased to 70 SCCM, the conductance of the exhaust system was adjusted by the variable orifice so that the pressure in the vacuum chamber became 2.9 Pa, the high frequency output of the cathode was raised to 1 KW, and the hard time was continued for 25 minutes. A coat layer was formed. Finally, the flow rate of oxygen gas was increased to 140 SCCM and the hard coat layer was formed for another 25 minutes. As a pre-treatment for the activation treatment to be performed thereafter, about 500 seconds before the completion of the hard coat layer formation. While gradually reducing the dimethyldiethoxysilane gas at a rate of 11 SCCM / min,
The supply of only these monomer gases was stopped when the predetermined film thickness was reached.
【００５２】引き続いて酸素ガスのみ１４０ＳＣＣＭ流
しながら、カソードの高周波出力を１．２ＫＷにあげ
て、ハードコート層表面の活性化処理を行った。Subsequently, while activating only 140 SCCM of oxygen gas, the high frequency output of the cathode was raised to 1.2 KW to activate the surface of the hard coat layer.
【００５３】次に、レンズ基材ホルダーをロードロック
室に移動して、このレンズ基材ホルダーを９０°反転さ
せることにより、真空蒸着装置の蒸着源の方にレンズ基
材の一方の面を向かせ、真空蒸着室へ送る。真空蒸着室
を１．３×１０ー3 Ｐａまで排気した後、電子ビーム加
熱蒸着法により、反射防止膜の各層を下記蒸着条件によ
りハードコート層の上に形成した。Next, the lens base material holder is moved to the load lock chamber, and the lens base material holder is inverted by 90 °, so that one surface of the lens base material is directed toward the vapor deposition source of the vacuum vapor deposition apparatus. Skein and send to the vacuum deposition chamber. After the vacuum deposition chamber was evacuated to 1.3 × 10 −3 Pa, each layer of the antireflection film was formed on the hard coat layer by the electron beam heating deposition method under the following deposition conditions.
【００５４】 真空蒸着諸条件 Ａ：オングストローム 第１層目 酸化チタン ４２０Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 ４×１０ー3Ｐａ（Ｏ2雰囲気） 第２層目 二酸化珪素 ４２０Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０ー3Ｐａ 第３層目 酸化チタン ２１６０Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 ５×１０ー3Ｐａ（Ｏ2雰囲気） 第４層目 二酸化珪素 １２００Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０ー3Ｐａ 以上により、レンズの片方の面に反射防止膜を形成させ
た後、今度はレンズ基板ホルダーに付随する両面反転機
構により、基材を反転させて、レンズ基材のもう一方の
面を蒸発源の方向に向かせて、再度、前記と同様の蒸着
条件により、反射防止膜を形成した。Various Conditions of Vacuum Deposition A: First Layer of Angstrom Titanium Oxide 420A (Geometric Film Thickness) Pressure during Deposition 4 × 10 −3 Pa (O 2 Atmosphere) Second Layer of Silicon Dioxide 420A (Geometric Film Thickness) Evaporation pressure 1 × 10 −3 Pa Third layer Titanium oxide 2160A (geometric film thickness) Evaporation pressure 5 × 10 −3 Pa (O 2 atmosphere) Fourth layer Silicon dioxide 1200A (geometric film thickness) Evaporation After forming an antireflection film on one surface of the lens at an hourly pressure of 1 × 10 −3 Pa or more, this time, the double-sided inversion mechanism attached to the lens substrate holder inverts the base material to remove the lens base material. The other surface was directed toward the evaporation source, and the antireflection film was formed again under the same vapor deposition conditions as above.
【００５５】（実施例２）ポリウレタン系レンズを超音
波洗浄機に通して洗浄後、Ｂａｌｚｅｒｓ社製ＰＥＣＶ
Ｄ装置の真空室に設置し、２．７×１０ー4Ｐａまで排気
した後、ジメチルジエトキシランのガスを流量１１ＳＣ
ＣＭ及びテトライソプロポキシチタンのガスを流量９Ｓ
ＣＣＭ流し、真空室の圧力が ２．９Ｐａになるまで導
入し、外部電磁石コイルに２．６Ａの電流を流すと同時
に、カソードに高周波出力０．６ＫＷを４５秒間印加す
る間にテトライソプロポキシチタンのガスを１分間当た
り９ＳＣＣＭの割合で、徐々に減少させ、同時にジメチ
ルジエトキシシランのガスを１分間当たり１１ＳＣＣＭ
の割合で増加させながら膜厚２６０ｎｍの屈折率変性層
を基材レンズの両面に形成した。Example 2 A polyurethane lens was passed through an ultrasonic washing machine to be washed, and then PECV manufactured by Balzers Co., Ltd.
Was placed in a vacuum chamber of the D device was evacuated to 2.7 × 10 over 4 Pa, the flow rate of dimethyl diethoxy-run gas 11SC
CM and tetraisopropoxy titanium gas flow rate 9S
CCM is flown and introduced until the pressure in the vacuum chamber reaches 2.9 Pa, and a current of 2.6 A is flown to the external electromagnet coil, and at the same time, a high frequency output of 0.6 KW is applied to the cathode for 45 seconds while tetraisopropoxy titanium The gas is gradually reduced at a rate of 9 SCCM per minute, while the gas of dimethyldiethoxysilane is simultaneously reduced to 11 SCCM per minute.
The refractive index modification layer having a thickness of 260 nm was formed on both surfaces of the base lens while increasing the ratio.
【００５６】続いて、ジメチルジエトキシシランのガス
を流量１００ＳＣＣＭと酸素ガスを流量３５ＳＣＣＭ流
し、真空室の圧力が２．９Ｐａになって流量が安定した
ところで、外部電磁石コイルに２．６Ａの電流を流すと
同時に、カソードに高周波出力０．８ＫＷを２５分間印
加して、屈折率変性層の上にハードコート層を形成し
た。さらに、酸素ガスの流量を７０ＳＣＣＭに増加し
て、真空室の圧力が２．９Ｐａになるように排気系のコ
ンダクタンスをバリアブルオリフィスにより調整し、カ
ソードの高周波出力を１ＫＷに上げて、引き続き２５分
間ハードコート層を形成した。最後に、酸素ガスの流量
を１４０ＳＣＣＭに増加して、さらにまた２５分間ハー
ドコート層を形成させるが、この後に行う活性化処理の
前段階処理として、ハードコート層形成終了直前の約５
００秒手前からジメチルジエトキシシランのガスを徐々
に１１ＳＣＣＭ／ｍｉｎ割合で減少させながら、所定膜
厚になった時に、これらのモノマーガスのみ供給を停止
させた。Subsequently, a dimethyldiethoxysilane gas flow rate of 100 SCCM and an oxygen gas flow rate of 35 SCCM were flowed, and when the pressure in the vacuum chamber became 2.9 Pa and the flow rate became stable, a current of 2.6 A was applied to the external electromagnet coil. Simultaneously with the flow, a high frequency output of 0.8 KW was applied to the cathode for 25 minutes to form a hard coat layer on the refractive index modification layer. Furthermore, the flow rate of oxygen gas was increased to 70 SCCM, the conductance of the exhaust system was adjusted by the variable orifice so that the pressure in the vacuum chamber became 2.9 Pa, the high frequency output of the cathode was raised to 1 KW, and the hard time was continued for 25 minutes. A coat layer was formed. Finally, the flow rate of oxygen gas was increased to 140 SCCM and the hard coat layer was formed for another 25 minutes.
The gas of dimethyldiethoxysilane was gradually reduced at a rate of 11 SCCM / min from 00 seconds before, and when the predetermined film thickness was reached, the supply of only these monomer gases was stopped.
【００５７】引き続いて酸素ガスのみ１４０ＳＣＣＭ流
しながら、新規に真空室にアルゴンガスを２８ＳＣＣＭ
流し、カソードの高周波出力を１．２ＫＷにあげて、ハ
ードコート層表面の活性化処理を行った。Subsequently, while flowing only 140 SCCM of oxygen gas, 28 SCCM of argon gas is newly added to the vacuum chamber.
Then, the high frequency output of the cathode was raised to 1.2 kW to activate the surface of the hard coat layer.
【００５８】次に、レンズ基材ホルダーをロードロック
室に移動して、このレンズ基材ホルダーを９０°反転さ
せて、基材レンズの一方の面を蒸着源に向かせて、真空
蒸着室へ送り、１．３×１０ー3 Ｐａまで排気した後、
電子ビーム加熱蒸着法により、反射防止膜の各層を下記
蒸着条件により各ハードコート層の上に形成した。Next, the lens base material holder is moved to the load lock chamber, the lens base material holder is turned over by 90 °, one surface of the base material lens is directed toward the vapor deposition source, and then the vacuum vapor deposition chamber is entered. After sending and exhausting to 1.3 × 10 −3 Pa,
Each layer of the antireflection film was formed on each hard coat layer by the electron beam heating vapor deposition method under the following vapor deposition conditions.
【００５９】 真空蒸着諸条件 第１層目 酸化チタン ４２０Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 ４×１０ー3Ｐａ（Ｏ2雰囲気） 第２層目 二酸化珪素 ４２０Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０ー3Ｐａ 第３層目 酸化チタン ２１６０Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 ５×１０ー3Ｐａ（Ｏ2雰囲気） 第４層目 二酸化珪素 １２００Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０ー3Ｐａ 以上により、レンズの片方の面に反射防止膜を形成させ
た後、今度はレンズ基板ホルダーに付随する両面反転機
構によりレンズ基材を反転させ、もう一方の面を蒸発源
の方向に向かせて、再度、前記と同様の蒸着条件によ
り、反射防止膜を形成した。 （実施例３）ポリウレタン系レンズを超音波洗浄機に通
して洗浄後、Ｂａｌｚｅｒｓ社製ＰＥＣＶＤ装置の真空
室に設置し、２．７×１０ー4Ｐａまで排気した後、ジメ
チルジエトキシランのガスを流量１１ＳＣＣＭ及びテト
ライソプロポキシチタンのガスを流量９ＳＣＣＭ流し、
真空室の圧力が ２．９Ｐａになるまで導入し、外部電
磁石コイルに２．６Ａの電流を流すと同時に、カソード
に高周波出力０．６ＫＷを４５秒間印加する間にテトラ
イソプロポキシチタンのガスを１分間当たり９ＳＣＣＭ
の割合で、徐々に減少させ、同時にジメチルジエトキシ
シランのガスを１分間当たり１１ＳＣＣＭの割合で増加
させながら、膜厚２６０ｎｍの屈折率変性層をレンズ基
材の両面に形成した。Various conditions of vacuum vapor deposition First layer Titanium oxide 420A (geometric film thickness) Pressure during vapor deposition 4 × 10 −3 Pa (O 2 atmosphere) Second layer Silicon dioxide 420A (geometric film thickness) Pressure during vapor deposition 1 × 10 −3 Pa Third layer Titanium oxide 2160A (geometric film thickness) Pressure during vapor deposition 5 × 10 −3 Pa (O 2 atmosphere) Fourth layer Silicon dioxide 1200A (geometric film thickness) Pressure during vapor deposition 1 After forming an antireflection film on one surface of the lens at a pressure of × 10 -3 Pa or more, this time, the lens base material is inverted by the double-sided inversion mechanism attached to the lens substrate holder, and the other surface is used as an evaporation source. Again, the antireflection film was formed under the same vapor deposition conditions as above. (Example 3) After cleaning a polyurethane lens through an ultrasonic cleaner, the polyurethane lens was installed in a vacuum chamber of a PECVD apparatus manufactured by Balzers, exhausted to 2.7 x 10-4 Pa, and then dimethyldiethoxylane gas was discharged. At a flow rate of 11 SCCM and a gas of tetraisopropoxytitanium at a flow rate of 9 SCCM,
It is introduced until the pressure in the vacuum chamber reaches 2.9 Pa, a current of 2.6 A is passed through the external electromagnet coil, and at the same time, a high frequency output of 0.6 KW is applied to the cathode for 45 seconds, and tetraisopropoxytitanium gas of 1 9 SCCM per minute
The refractive index modifying layer having a film thickness of 260 nm was formed on both surfaces of the lens substrate while gradually decreasing the rate of dimethyldiethoxysilane and increasing the gas of dimethyldiethoxysilane at a rate of 11 SCCM per minute.
【００６０】上記で形成した各々の屈折率変性層の上
に、さらに、続いて、ジメチルジエトキシシランのガス
を流量１００ＳＣＣＭと酸素ガスを流量３５ＳＣＣＭ流
し、真空室の圧力が２．９Ｐａになって流量が安定した
ところで、外部電磁石コイルに２．６Ａの電流を流すと
同時に、カソードに高周波出力０．８ＫＷを２５分間印
加してハードコート層を形成した。さらに、酸素ガスの
流量を７０ＳＣＣＭに増加して、真空室の圧力が２．９
Ｐａになるように排気系のコンダクタンスをバリアブル
オリフィスにより調整し、カソードの高周波出力を１Ｋ
Ｗに上げて、引き続き２５分間ハードコート層を形成し
た。最後に、酸素ガスの流量を１４０ＳＣＣＭに増加し
て、さらにまた２５分間ハードコート層を形成させた
が、この後に行う活性化処理の前段階処理として、ハー
ドコート層形成終了直前の約５００秒手前からジメチル
ジエトキシシランのガスを徐々に１１ＳＣＣＭ／ｍｉｎ
割合で減少させながら、所定膜厚になった時に、これら
のモノマーガスのみ供給を停止させる。On each of the refractive index modifying layers formed above, a flow rate of dimethyldiethoxysilane of 100 SCCM and a flow rate of oxygen gas of 35 SCCM were further flowed, and the pressure in the vacuum chamber became 2.9 Pa. When the flow rate was stable, a current of 2.6 A was passed through the external electromagnet coil, and at the same time, a high frequency output of 0.8 KW was applied to the cathode for 25 minutes to form a hard coat layer. Furthermore, the flow rate of oxygen gas was increased to 70 SCCM and the pressure in the vacuum chamber was increased to 2.9.
The conductance of the exhaust system is adjusted to be Pa by the variable orifice, and the high frequency output of the cathode is 1K.
The temperature was raised to W and a hard coat layer was continuously formed for 25 minutes. Finally, the flow rate of oxygen gas was increased to 140 SCCM and the hard coat layer was formed for another 25 minutes. As a pre-treatment for the activation treatment to be performed thereafter, about 500 seconds before the completion of the hard coat layer formation. Dimethyldiethoxysilane gas gradually from 11 SCCM / min
The supply of these monomer gases alone is stopped when the film thickness reaches a predetermined value while decreasing the ratio.
【００６１】その際引き続いて酸素ガスのみ１４０ＳＣ
ＣＭ流しながら、新規に真空室に窒素ガスを２０ＳＣＣ
Ｍ流し、カソードの高周波出力を１．２ＫＷにあげて、
ハードコート層表面の活性化処理を行った。At that time, only oxygen gas 140 SC
Nitrogen gas is newly added to the vacuum chamber while flowing CM
M flow, raise the high frequency output of the cathode to 1.2 kW,
The surface of the hard coat layer was activated.
【００６２】次に、レンズ基材ホルダーをロードロック
室に移動して、このレンズ基材ホルダーを９０°反転さ
せて、基材の一方の面を蒸着源に向かせて、真空蒸着室
へ送り、１．３×１０ー３ Ｐａまで排気した後、電子
ビーム加熱蒸着法により、反射防止膜の各層を下記蒸着
条件により各ハードコート層の上に形成した。Next, the lens base material holder is moved to the load lock chamber, the lens base material holder is turned over by 90 °, one surface of the base material is turned to the vapor deposition source, and sent to the vacuum vapor deposition chamber. After evacuating to 1.3 × 10 −3 Pa, each layer of the antireflection film was formed on each hard coat layer by the electron beam heating vapor deposition method under the following vapor deposition conditions.
【００６３】 真空蒸着諸条件 第１層目 酸化チタン ４２０Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 ４×１０ー3Ｐａ（Ｏ2雰囲気） 第２層目 二酸化珪素 ４２０Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０ー3Ｐａ 第３層目 酸化チタン ２１６０Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 ５×１０ー3Ｐａ（Ｏ2雰囲気） 第４層目 二酸化珪素 １２００Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０ー3Ｐａ 以上により、レンズの片方の面に反射防止膜を形成させ
た後、今度はレンズ基板ホルダーに付随する両面反転機
構により、もう一方の面を蒸発源の方向に向かせて、再
度、前記と同様の蒸着条件により、反射防止膜を形成し
た。 （比較例１）ポリウレタン系レンズを超音波洗浄機に通
して洗浄後、Ｂａｌｚｅｒｓ社製ＰＥＣＶＤ装置の真空
室に設置し、２．７×１０ー4Ｐａまで排気した後、ジメ
チルジエトキシランのガスを流量１１ＳＣＣＭ及びテト
ライソプロポキシチタンのガスを流量９ＳＣＣＭ流し、
真空室の圧力が ２．９Ｐａになるまで導入し、外部電
磁石コイルに２．６Ａの電流を流すと同時に、カソード
に高周波出力０．６ＫＷを４５秒間印加する間にテトラ
イソプロポキシチタンのガスを１分間当たり９ＳＣＣＭ
の割合で、徐々に減少させ、同時にジメチルジエトキシ
シランのガスを１分間当たり１１ＳＣＣＭの割合で、増
加させながら膜厚２６０ｎｍの屈折率変性層をレンズ基
材の両面に形成した。Various conditions of vacuum vapor deposition First layer Titanium oxide 420A (geometric film thickness) Pressure during vapor deposition 4 × 10 −3 Pa (O 2 atmosphere) Second layer Silicon dioxide 420A (geometric film thickness) Pressure during vapor deposition 1 × 10 −3 Pa Third layer Titanium oxide 2160A (geometric film thickness) Pressure during vapor deposition 5 × 10 −3 Pa (O 2 atmosphere) Fourth layer Silicon dioxide 1200A (geometric film thickness) Pressure during vapor deposition 1 After forming an anti-reflection film on one surface of the lens by × 10 -3 Pa or more, this time, by the double-sided reversing mechanism attached to the lens substrate holder, the other surface is directed toward the evaporation source, Again, an antireflection film was formed under the same vapor deposition conditions as above. (Comparative Example 1) After cleaning a polyurethane lens through an ultrasonic cleaner, the polyurethane lens was placed in a vacuum chamber of a PECVD apparatus manufactured by Balzers, exhausted to 2.7 x 10 -4 Pa, and then dimethyldiethoxysilane gas. At a flow rate of 11 SCCM and a gas of tetraisopropoxytitanium at a flow rate of 9 SCCM,
It is introduced until the pressure in the vacuum chamber reaches 2.9 Pa, a current of 2.6 A is passed through the external electromagnet coil, and at the same time, a high frequency output of 0.6 KW is applied to the cathode for 45 seconds, and tetraisopropoxytitanium gas of 1 9 SCCM per minute
The refractive index-modified layer having a thickness of 260 nm was formed on both surfaces of the lens substrate while gradually decreasing the rate and increasing the gas of dimethyldiethoxysilane at a rate of 11 SCCM per minute.
【００６４】上記で形成した各々の屈折率変性層の上
に、さらに、続いて、ジメチルジエトキシシランのガス
を流量１００ＳＣＣＭと酸素ガスを流量３５ＳＣＣＭ流
し、真空室の圧力が２．９Ｐａになって流量が安定した
ところで、外部電磁石コイルに２．６Ａの電流を流すと
同時に、カソードに高周波出力０．８ＫＷを２５分間印
加してハードコート層を形成した。さらに、酸素ガスの
流量を７０ＳＣＣＭに増加して、真空室の圧力が２．９
Ｐａになるように排気系のコンダクタンスをバリアブル
オリフィスにより調整し、カソードの高周波出力を１Ｋ
Ｗに上げて、引き続き２５分間ハードコート層を形成し
た。最後に、酸素ガスの流量を１４０ＳＣＣＭに増加し
て、さらにまた２５分間ハードコート層を形成させた。On each refractive index modification layer formed above, a flow rate of dimethyldiethoxysilane of 100 SCCM and a flow rate of oxygen gas of 35 SCCM were further flowed, and the pressure in the vacuum chamber became 2.9 Pa. When the flow rate was stable, a current of 2.6 A was passed through the external electromagnet coil, and at the same time, a high frequency output of 0.8 KW was applied to the cathode for 25 minutes to form a hard coat layer. Furthermore, the flow rate of oxygen gas was increased to 70 SCCM and the pressure in the vacuum chamber was increased to 2.9.
The conductance of the exhaust system is adjusted to be Pa by the variable orifice, and the high frequency output of the cathode is 1K.
The temperature was raised to W and a hard coat layer was continuously formed for 25 minutes. Finally, the flow rate of oxygen gas was increased to 140 SCCM to form the hard coat layer for 25 minutes.
【００６５】次に、レンズ基材ホルダーをロードロック
室に移動して、このレンズ基材ホルダーを９０°反転さ
せて真空蒸着室へ送り、１．３×１０ー3 Ｐａまで排気
した後、電子ビーム加熱蒸着法により、反射防止膜の各
層を下記蒸着条件により各ハードコート層の上に形成し
た。Next, the lens base material holder is moved to the load lock chamber, the lens base material holder is inverted by 90 ° and sent to the vacuum deposition chamber, and after exhausting to 1.3 × 10 −3 Pa, the electron Each layer of the antireflection film was formed on each hard coat layer by the beam heating vapor deposition method under the following vapor deposition conditions.
【００６６】 真空蒸着諸条件 第１層目 酸化チタン ４２０Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 ４×１０ー3Ｐａ（Ｏ2雰囲気） 第２層目 二酸化珪素 ４２０Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０ー3Ｐａ 第３層目 酸化チタン ２１６０Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 ５×１０ー3Ｐａ（Ｏ2雰囲気） 第４層目 二酸化珪素 １２００Ａ（幾何的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０ー3Ｐａ 以上により、レンズの片方の面に反射防止膜を形成させ
た後、今度はレンズ基板ホルダーに付随する両面反転機
構により、もう一方の面を蒸発源の方向に向かせて、再
度、前記と同様の蒸着条件により、反射防止膜を形成し
た。つぎに、上述の実施例および比較例で得られた眼鏡
用プラスチックレンズの試料について、機械的耐久性を
評価した。下記に評価内容を示す。Various conditions of vacuum vapor deposition Titanium oxide 420A (geometric film thickness) Pressure during vapor deposition 4 × 10 −3 Pa (O 2 atmosphere) Second layer Silicon dioxide 420A (geometric film thickness) Pressure during vapor deposition 1 × 10 −3 Pa Third layer Titanium oxide 2160A (geometric film thickness) Pressure during vapor deposition 5 × 10 −3 Pa (O 2 atmosphere) Fourth layer Silicon dioxide 1200A (geometric film thickness) Pressure during vapor deposition 1 After forming an anti-reflection film on one surface of the lens by × 10 -3 Pa or more, this time, by the double-sided reversing mechanism attached to the lens substrate holder, the other surface is directed toward the evaporation source, Again, an antireflection film was formed under the same vapor deposition conditions as above. Next, the mechanical durability of the plastic lens samples for eyeglasses obtained in the above Examples and Comparative Examples was evaluated. The evaluation details are shown below.
【００６７】評価項目 １）密着性 ＪＩＳ Ｄ−２０２に準じて、試料表面に、１ｍｍ間隔
の切り込みを縦横にいれ、セロハンテープ（ニチバン製
商品名 セロテープ）をこの切り込みの上に貼り付
け、４ｋｇの力でこのテープをはがし、膜はがれが生じ
るかどうかを調べる。Evaluation items 1) Adhesion According to JIS D-202, cuts with 1 mm intervals are vertically and horizontally placed on the surface of the sample, and cellophane tape (Nichiban product name Sellotape) is pasted on the cuts and 4 kg Peel off the tape with force to see if film peeling occurs.
【００６８】２）耐擦傷性 （ａ）粗さ＃００００のスチールウールを荷重６００ｇ
で試料に押しつけ、１５秒間に３０回往復させた後、試
料表面の傷の有無を調べる。2) Scratch resistance (a) Steel wool having a roughness of # 0000 is loaded under a load of 600 g.
The sample is pressed against the sample and reciprocated 30 times in 15 seconds, and then the sample surface is checked for scratches.
【００６９】（ｂ）砂消しゴム（ライオン製 商品名
砂消しゴムＥＲ−５０２）を荷重５００ｇで試料に押し
つけ、１５秒間に３０往復させた後、試料表面の傷の有
無を調べる。(B) Sand eraser (Lion product name
A sand eraser ER-502) is pressed against the sample with a load of 500 g, and reciprocates 30 times for 15 seconds, and then the sample surface is checked for scratches.
【００７０】３）耐温水 恒温槽の８０℃の市水に１０分間浸漬した後、試料表面
の膜に変化があるかどうかを調べる。3) Hot water resistance After immersing in constant temperature water of 80 ° C. for 10 minutes, it is examined whether or not the film on the surface of the sample is changed.
【００７１】４）耐熱性 エアー・オーブンの１００℃の大気中に５分間放置した
後、試料表面の膜に変化があるかどうかを調べる。4) Heat resistance After being left in an air oven at 100 ° C. for 5 minutes, it is examined whether or not the film on the sample surface is changed.
【００７２】５）耐アルカリ性 水酸化ナトリウム水溶液（ＰＨ１１）に６時間浸漬した
後、試料表面の膜に変化があるかどうかを調べる。5) Alkali resistance After immersing in an aqueous solution of sodium hydroxide (PH11) for 6 hours, it is examined whether or not the film on the surface of the sample is changed.
【００７３】６）耐酸性 硝酸水溶液（ＰＨ１）に６時間浸漬した後、試料表面の
膜に変化があるかどうかを調べる。6) Acid resistance After dipping in an aqueous nitric acid solution (PH1) for 6 hours, it is examined whether or not the film on the surface of the sample is changed.
【００７４】７）耐衝撃性 上述の各実施例および比較例において、基材レンズとし
て、中心厚１．２ｍｍのレンズを使用したものを試料と
する。そして、米国のＦＤＡ規格に基づき、１２７ｃｍ
の高さから試料レンズの中心部に、１６．４ｇの鋼球を
落下させて、割れないものを合格とした。7) Impact resistance In each of the above-mentioned examples and comparative examples, a sample using a lens having a center thickness of 1.2 mm as a base lens is used as a sample. And 127 cm based on US FDA standards
A steel ball weighing 16.4 g was dropped from the height to the center of the sample lens, and one that did not crack was passed.
【００７５】８）干渉縞 自然光を照射した場合に、干渉縞がほとんど見えないも
のを良好、干渉縞が目視で見えるものを不良とする。8) Interference fringes When natural light is irradiated, those in which the interference fringes are hardly visible are regarded as good, and those in which the interference fringes are visible are regarded as defective.
【００７６】上述の評価項目について、実施例および比
較例の評価結果を、表１にまとめて示す。With respect to the above-mentioned evaluation items, Table 1 collectively shows the evaluation results of Examples and Comparative Examples.
【００７７】[0077]
【表１】 [Table 1]
【００７８】表１からわかるように、上述の実施例１、
２、３の全ての試料は、密着性、耐擦傷性（スチールウ
ール）、耐薬品性（酸）において、比較例の試料よりも
優れている。また、他の項目は、比較例と同等の耐久性
を示す。As can be seen from Table 1, above-mentioned Example 1,
All of the two or three samples are superior to the samples of Comparative Examples in adhesion, scratch resistance (steel wool), and chemical resistance (acid). The other items show durability equivalent to that of the comparative example.
【００７９】これは、つぎのようなことに起因すると考
えられる。It is considered that this is due to the following reasons.
【００８０】本実施例では、ハードコート層と基材との
間に変性層を配置している。このとき、変性層を、１０
０ｎｍより厚く、９００ｎｍよりも薄くすることによ
り、基材と被膜全体の密着性が高められている。また、
このような厚さの変性層が、ハードコート層に加わる衝
撃を吸収していると考えられ、比較例よりも衝撃に強い
資料が得られている思われる。In this embodiment, the modified layer is arranged between the hard coat layer and the base material. At this time, the modified layer is 10
By making the thickness thicker than 0 nm and thinner than 900 nm, the adhesion between the base material and the entire coating is enhanced. Also,
It is considered that the modified layer having such a thickness absorbs the impact applied to the hard coat layer, and it is considered that the material more resistant to impact than the comparative example is obtained.
【００８１】また、本実施例のハードコート層は、ＰＥ
ＣＶＤによって形成する際の混合ガス圧を、０．５〜１
２Ｐａの範囲に制御している。これにより、本実施例の
ハードコート層は、組成と組織そのものが、耐久性に優
れたものになっている。また、これに加え、本実施例の
ハードコート層は、高屈折率材料を含まないため、酸素
量の調節により容易に透明にできるため、膜厚を厚く形
成することができ、この厚さにより、さらに機械的耐久
性と耐薬品性とが得られる。従って、ハードコート層
は、機械的耐久性、耐薬品性に優れ、ハードコート層と
して作用している。Further, the hard coat layer of this embodiment is made of PE.
The mixed gas pressure when forming by CVD is 0.5 to 1
It is controlled within the range of 2 Pa. As a result, the composition and structure of the hard coat layer of this example are excellent in durability. In addition, in addition to this, the hard coat layer of the present embodiment does not contain a high refractive index material, so that it can be easily made transparent by adjusting the amount of oxygen, so that it can be formed in a large film thickness. Furthermore, mechanical durability and chemical resistance can be obtained. Therefore, the hard coat layer has excellent mechanical durability and chemical resistance and acts as a hard coat layer.
【００８２】このような変性層とハードコート層の作用
によって、本実施例の被膜を備えたプラスチックレンズ
は、高い耐環境性が得られている。Due to the effects of the modified layer and the hard coat layer, the plastic lens provided with the coating of this embodiment has high environmental resistance.
【００８３】また、本実施例では、ハードコート層表面
を少なくとも酸素ガスからなる混合ガスプラズマ雰囲気
あるいは前記混合ガスイオンビーム照射により、表面の
活性化処理した後、反射防止膜を形成している。これに
より、硬化層と反射防止層との密着性を良好になり、か
つ、耐擦傷性の向上を図られている。さらには光学素子
自体の耐衝撃性及び干渉縞を防止する効果がある。Further, in this embodiment, the surface of the hard coat layer is activated by the mixed gas plasma atmosphere containing at least oxygen gas or the mixed gas ion beam irradiation, and then the antireflection film is formed. Thereby, the adhesiveness between the cured layer and the antireflection layer is improved, and the scratch resistance is improved. Further, the optical element itself has the effect of preventing impact and preventing interference fringes.
【００８４】また、本実施例の製造方法では、一貫した
気相成長による被膜形成の製造工程が確立されている。
これにより、従来の湿式ハードコートで必須である表面
活性化処理等が不要となり、廃液処理の問題ががなくな
るため、環境汚染問題が解決できる。また、従来からの
ディッピングによるハードコートと比べても縮合硬化工
程がなくなり、納期の短縮化が計れる効果がある。Further, in the manufacturing method of this embodiment, a manufacturing process for forming a film by consistent vapor phase growth is established.
This eliminates the need for surface activation treatment or the like, which is essential in conventional wet hard coats, and eliminates the problem of waste liquid treatment, thus solving the environmental pollution problem. Further, the condensation curing process is eliminated as compared with the conventional hard coating by dipping, and the delivery time can be shortened.
【００８５】[0085]
【発明の効果】上述してきたように、本発明によれば、
耐環境性が大きく、気相成長法により一貫した工程で形
成することができる被膜を備えた光学物品を提供するこ
とができる。As described above, according to the present invention,
It is possible to provide an optical article having a high environmental resistance and provided with a coating that can be formed by a vapor phase growth method in a consistent process.
【００８６】本発明の製造方法により製造された光学物
品は、各層の密着性が良く剥離しにくい。また、耐擦傷
性、耐衝撃性、耐温水性、耐熱性、耐薬品性にも優れ、
さらに干渉縞の発生しない光学物品が得られる。The optical article produced by the production method of the present invention has good adhesion of each layer and is difficult to be peeled off. It also has excellent scratch resistance, impact resistance, warm water resistance, heat resistance, and chemical resistance.
Further, an optical article free of interference fringes can be obtained.
【００８７】[0087]
Claims (3)
であって、 前記基材の上に、Ｓｉを含む有機化合物ガスおよびＴｉ
を含む有機化合物ガスの少なくとも一方を用い、プラズ
マを用いた化学気相成長法により、厚さ方向に向かって
屈折率が変化している変性層を形成する第１の工程と、 前記変性層の上に、Ｓｉを含む有機化合物ガスと、酸素
ガスとの混合ガスを用い、プラズマを用いた化学気相成
長法により、ハードコート層を形成する第２の工程と、 前記ハードコート層の表面を、少なくとも酸素ガスを含
むガスのプラズマによって活性化処理する第３の工程
と、 前記活性化処理されたハードコート層の上に、反射防止
膜を形成する第４の工程とを有することを特徴とする被
膜を備えた光学物品の製造方法。1. A method of manufacturing an optical article having a coating film on a substrate, wherein an organic compound gas containing Si and Ti are provided on the substrate.
A first step of forming a modified layer in which the refractive index changes in the thickness direction by a chemical vapor deposition method using plasma using at least one of organic compound gases containing A second step of forming a hard coat layer on the top by a chemical vapor deposition method using plasma using a mixed gas of an organic compound gas containing Si and an oxygen gas; A third step of performing activation treatment by plasma of a gas containing at least oxygen gas, and a fourth step of forming an antireflection film on the activation-treated hard coat layer, Of manufacturing an optical article provided with a coating.
であって、 前記基材の上に、Ｓｉを含む有機化合物ガスおよびＴｉ
を含む有機化合物ガスの少なくとも一方を用い、プラズ
マを用いた化学気相成長法により、厚さ方向に向かって
屈折率が変化している変性層を形成する第１の工程と、 前記変性層の上に、Ｓｉを含む有機化合物ガスと、酸素
ガスとの混合ガスを用い、プラズマを用いた化学気相成
長法により、ハードコート層を形成する第２の工程と、 前記ハードコート層の表面を、少なくとも酸素のイオン
ビームを照射することにより活性化処理する第３の工程
と、 前記活性化処理されたハードコート層の上に、反射防止
膜を形成する第４の工程とを有することを特徴とする被
膜を備えた光学物品の製造方法。2. A method of manufacturing an optical article having a coating film on a substrate, wherein an organic compound gas containing Si and Ti are provided on the substrate.
A first step of forming a modified layer in which the refractive index changes in the thickness direction by a chemical vapor deposition method using plasma using at least one of organic compound gases containing A second step of forming a hard coat layer on the top by a chemical vapor deposition method using plasma using a mixed gas of an organic compound gas containing Si and an oxygen gas; And a third step of performing an activation treatment by irradiating at least an oxygen ion beam, and a fourth step of forming an antireflection film on the activation-treated hard coat layer. A method for manufacturing an optical article having a coating.
程は、プラズマに供給するエネルギーを徐々に増加また
は減少させながら前記変性層を形成することを特徴とす
る被膜を備えた光学物品の製造方法。3. The optical article having a coating according to claim 1, wherein the modified layer is formed in the first step while gradually increasing or decreasing the energy supplied to the plasma. Production method.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8021241A JPH09209154A (en) | 1996-02-07 | 1996-02-07 | Production of optical article having film |
| EP96113919A EP0762151A3 (en) | 1995-08-30 | 1996-08-30 | Optical article with coat and method of making the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8021241A JPH09209154A (en) | 1996-02-07 | 1996-02-07 | Production of optical article having film |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09209154A true JPH09209154A (en) | 1997-08-12 |
Family
ID=12049565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8021241A Pending JPH09209154A (en) | 1995-08-30 | 1996-02-07 | Production of optical article having film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09209154A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000211948A (en) * | 1998-12-21 | 2000-08-02 | Saint Gobain Vitrage | Transparent substrate bearing antireflective coating film |
| CN113684469A (en) * | 2021-08-06 | 2021-11-23 | 宁波摩华科技有限公司 | Organic protective coating for electronic device and preparation method thereof |
-
1996
- 1996-02-07 JP JP8021241A patent/JPH09209154A/en active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000211948A (en) * | 1998-12-21 | 2000-08-02 | Saint Gobain Vitrage | Transparent substrate bearing antireflective coating film |
| JP2011032168A (en) * | 1998-12-21 | 2011-02-17 | Saint-Gobain Glass France | Transparent substrate comprising antireflection coating |
| JP4698786B2 (en) * | 1998-12-21 | 2011-06-08 | サン−ゴバン グラス フランス | Transparent substrate with anti-reflection coating |
| CN113684469A (en) * | 2021-08-06 | 2021-11-23 | 宁波摩华科技有限公司 | Organic protective coating for electronic device and preparation method thereof |
| CN113684469B (en) * | 2021-08-06 | 2023-08-22 | 宁波摩华科技有限公司 | Organic protective coating for electronic device and preparation method thereof |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Kuhr et al. | Coatings on plastics with the PICVD technology | |
| EP0664344B1 (en) | Process for barrier coating of plastic objects | |
| EP0678593B1 (en) | Plasma-enhanced chemical vapour deposition process | |
| US4435476A (en) | Method of making an abrasion resistant coating on a solid substrate and articles produced thereby | |
| US4137365A (en) | Oxygen post-treatment of plastic surfaces coated with plasma polymerized silicon-containing monomers | |
| US7880966B2 (en) | Optical article including a layer siox as main component and manufacturing method of the same | |
| JPS6123219B2 (en) | ||
| JP3038123B2 (en) | Method for attaching a thin layer to the surface of a plastic substrate | |
| Hegemann | 4.09 Plasma Polymer Deposition and Coatings on Polymers | |
| US6613434B1 (en) | Method for treating polymer surface | |
| CN113862616A (en) | One-step coating forming method of anti-reflection anti-UV vehicle-mounted display panel | |
| JPH09209154A (en) | Production of optical article having film | |
| JP2006276568A (en) | Optical member | |
| JPH09113702A (en) | Optical product and its production | |
| JPH0990102A (en) | Optical product with coating film and its production | |
| JPH09211201A (en) | Optical article with coating film and its production | |
| JPH08146358A (en) | Plastic lens for spectacles | |
| JPH09211203A (en) | Optical article with antireflection film and its production | |
| JP3893329B2 (en) | Optical member and organic vapor deposition film for optical member | |
| JPH09105801A (en) | Optical parts having film and its production | |
| JPH0968601A (en) | Optical product having coating film and its production | |
| JP2008062561A (en) | Method of manufacturing article equipped with hydrophilic laminated film, and article equipped with hydrophilic laminated film | |
| JP2007256654A (en) | Product with inorganic antireflection layer and manufacturing method thereof | |
| JPH09222586A (en) | Plastic lens for glasses | |
| JPH0671826A (en) | Glazing material for vehicle |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050224 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050322 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050712 |