JPH0864872A - 半導体発光素子、およびその製造方法 - Google Patents
半導体発光素子、およびその製造方法Info
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Abstract
ワイヤボンディングの個数を削減して、その結線作業を
簡便に行えるようにするとともに、半導体発光素子にお
ける実質的発光領域を可及的に増大させる。 【構成】 透明の絶縁性基板3の表面上に各半導体層
4,5,6を形成しかつ各層の所定箇所にN側電極9お
よびP側電極10を形成して構成される素子本体2と、導
電性基板12の表面に対して絶縁状態となるように形成さ
れた補助N側電極層15および導通状態となるように形成
された補助P側電極層14を有するサブマウント部材11
と、を備え、上記サブマウント部材11と上記素子本体2
との双方の表面側を相互に対向させて配置し、かつ上記
補助N側電極層15と上記N側電極9との間、および上記
補助P側電極層14と上記P側電極10との間がそれぞれ導
通状態となるように、上記サブマウント部材11と上記素
子本体2とを一体化させる。
Description
びその製造方法に関し、特に発光作用を行わせるための
素子本体に対してサブマウント部材を付加的に取り付け
て構成される半導体発光素子およびその製造方法に関す
る。
法(以下、MOCVD法という)を利用して、サファイ
ア基板上に窒化ガリウム系化合物半導体の結晶を成長さ
せることなどにより、高輝度特性を備えた青色発光用の
半導体発光素子が開発されるに至っている。
は、図9に示すように、透明のサファイア基板70上に
GaNのバッファ層71を成長させ、このバッファ層7
1の表面上に、N型半導体層72(GaN層、AlGa
N層)、発光層73(InGaN層)、およびP型半導
体層74(AlGaN層、GaN層)を積層状に成長さ
せたものである。そして、上記N型半導体層72におけ
るGaN層と、P型半導体層74におけるGaN層と
に、N側電極75およびP側電極76がそれぞれ形成さ
れる。
ドフレーム77に対する上記半導体発光素子の取り付け
構造は、上記N側電極75およびP側電極76を双方共
に、ワイヤ78,79を用いてリードフレーム77のN
側端子部77aとP側端子部77bとにそれぞれボンデ
ィングされた状態にある。そして、このように取り付け
られた半導体発光素子は、同図に矢印で示すように、上
記電極76の配設側の面から光を発するように構成され
ている。
半導体発光素子は、リードフレーム等の被マウント部材
における2箇所に対してワイヤボンディングを施す必要
があり、その搭載作業あるいは結線作業の工程数が増加
するなどして、作業の煩雑化ならびに複雑化を余儀なく
されているのが実情であった。
配設面側から光から発せられる構成であることから、図
10に示すように、発光領域A内に電極76が存在して
おり、この電極76の配設箇所は非発光部となる。した
がって、実質的発光領域は上記電極76に相当する分だ
け狭くなり、図示例のものでは、素子全体中に占める実
質的発光領域は全表面積の1/2以下になる。この結
果、上述のように高輝度特性を備えているにも拘らず、
十分な発光量を得ることができず、各種表示ボード等へ
の使用時における高い明度の要請に応じることが困難に
なるという問題を有している。
れたものであって、半導体発光素子の被マウント部材に
対するワイヤボンディングの個数を削減して、その結線
作業を簡便に行えるようにするとともに、半導体発光素
子における実質的発光領域を可及的に増大させて十分な
発光量の確保および明度の向上を図ることをその課題と
する。
め、本願発明では、次の技術的手段を講じている。
は、透明の絶縁性基板の表面上にN型半導体層、発光
層、およびP型半導体層を形成しかつ上記N型半導体層
およびP型半導体層のそれぞれの露出表面部にN側電極
およびP側電極を形成して構成される素子本体と、導電
性基板の表面に対して絶縁状態となるように形成された
補助N側電極層および導通状態となるように形成された
補助P側電極層とを有するサブマウント部材と、を備え
るとともに、上記サブマウント部材と上記素子本体との
双方の表面側を相互に対向させて配置し、かつ、上記補
助N側電極層と上記N側電極との間、および上記補助P
側電極層と上記P側電極との間がそれぞれ導通状態とな
るように、上記サブマウント部材と上記素子本体とを一
体化させたことを特徴としている。
上記サブマウント部材の補助N側電極層および補助P側
電極層の表面部分は絶縁層で覆われており、この絶縁層
には上記双方の補助電極層にそれぞれ独立して通じる各
貫通孔が穿設され、かつ上記絶縁層の表面側には各貫通
孔を介して上記双方の補助電極層にそれぞれ導通状態と
なる各付着用金属層が相互に独立して形成されていると
ともに、この各付着用金属層は、上記素子本体の双方の
電極に対して接合付着された状態となるように構成され
ていることを特徴としている。
上記請求項1または2に記載した半導体発光素子の製造
方法であって、上記素子本体と上記サブマウント部材と
を別々に製作した後に、上記素子本体の表面側と上記サ
ブマウント部材の表面側とを対向させた状態の下で、上
記補助N側電極層と上記N側電極、および上記補助P側
電極層と上記P側電極とをそれぞれ直接的に接着させる
ようにしたことを特徴としている。
上記請求項3に記載した半導体発光素子の製造方法であ
って、上記素子本体を作製する第1の工程と、上記サブ
マウント部材を作製した後に、その表面部分に対して上
記絶縁層を形成し、この後、その絶縁層に上記各貫通孔
を穿設し、しかる後、その絶縁層の表面側に上記各付着
用金属層を形成する第2の工程とを別々に実行し、その
後、上記素子本体の表面側と上記サブマウント部材の表
面側とを対向させた状態の下で、上記P側電極およびN
側電極と上記各付着金属層とを直接的に接着させるよう
にしたことを特徴としている。
によれば、リードフレーム等のP側端子部に対して、上
記半導体発光素子のサブマウント部材をボンディングす
ることにより、素子本体のP側電極は、サブマウント部
材の補助P側電極層から導電性基板を介して上記リード
フレーム等のP側端子部に導通した状態となる。したが
って、素子本体のP側電極に対するワイヤボンディング
が不要になり、この種の半導体発光素子のマウント作業
あるいは結線作業が簡便化されるという利点が得られ
る。
極の配設面とは反対側の面であるサファイア基板の裏面
からなされることになり、従来のようにP側電極が発光
を阻害することはなくなる。これにより、サファイア基
板の裏面の大半が実質的発光領域となり、十分な発光量
を確保できるとともに、この種の半導体発光素子の使用
時における高い明度の要請に応じることが可能になる。
ント部材側に発せられた光は、サブマウント部材の表面
の補助電極層等で反射することになるので、上記素子本
体におけるサファイア基板の裏面からのトータル発光量
は、上記の反射光をも含んでさらに増大し、より高い明
度を得ることが可能になる。
ば、上記サブマウント部材の両電極の表面部分を覆って
いる絶縁層のさらに表面側に独立して形成されている各
付着用金属層を、上記素子本体の両電極に接合付着させ
るだけで、上記サブマウント部材の両補助電極を上記素
子本体の両電極に対して導通状態にできるようになる。
したがって、上記サブマウント部材と上記素子本体との
電気的接続作業が簡単に行えるとともに、その相対的位
置誤差についても厳格な制約が緩和され、位置決めある
いは位置合わせの自由度が増大する。
ば、素子本体とサブマウント部材とを別々に製作した後
に、この両者を表面側どうしを対向させて両補助電極と
両電極とを接着させることにより、上述の請求項1また
は2に記載した半導体発光素子が得られる。このような
手法によれば、上記両者を別々に製作する段階において
量産化が促進されるとともに、この種の半導体発光素子
に新たな構成要素であるサブマウント部材を付加したに
も拘らず、製作作業の複雑化が効果的に回避される。
ても、同様にして、量産化の促進が図られるとともに、
製作作業の複雑化が回避される。
図面を参照しつつ具体的に説明する。
発光素子の構成要素である素子本体を示す概略縦断正面
図、図2はその概略平面図、図3は上記半導体発光素子
の構成要素であるサブマウント部材を示す概略縦断正面
図、図4はその概略平面図、図5は上記半導体発光素子
の全体構成ならびにリードフレームへの取り付け状態を
示す概略縦断面図である。
体発光素子1の素子本体2は、基本的には、絶縁基板で
あるサファイア基板3上に、N型半導体層4と、発光層
5と、P型半導体層6とを備えて構成される積層部7を
形成したものである。詳細には、上記積層部7は、透明
または半透明のサファイア基板3の表面上に窒化ガリウ
ム(GaN)のバッファ層8を成長させ、その表面側
に、下層部分から順に、N型GaNの層41と、N型A
l0.2 Ga0.8 Nの層42と、発光層としてのIn0.15
Ga0.85Nの層5と、P型Al0.2 Ga0.8 Nの層61
と、P型GaNの層62と、を形成したものである。そ
して、上記発光層5からは、青色に対応した波長(好ま
しくは470nm)の光が発せられるようになってい
る。
型Al0.2 Ga0.8 Nの層42には、Siが添加され、
P型Al0.2 Ga0.8 Nの層61およびP型GaNの層
62には、Mgが添加されているとともに、上記In
0.15Ga0.85Nの層5にはZnが添加されている。そし
て、上記In0.15Ga0.85Nの層5におけるInのGa
に対する組成比(混晶比)を増加させた場合には、この
層5から発せられる光の波長が長くなるとともに、上記
Znの添加量を増加させた場合には、上記組成比を増加
させた場合よりもさらに光の波長が長くなるという特性
を備えている。なお、上記各層の厚みは、下層側から各
層41、42、5、61、62のそれぞれの順に、たと
えば3μm、300nm、50nm、300nm、15
0nmに設定されている。
のチップとして得られるたとえば平面視が一辺0.5m
mの正方形状のものであるが、実際の製造に際しては、
MOCVD法により上記図示例の構造のものを所定面積
のウエハとして一括して形成した後、ダイシングにより
上記単一のチップに分割することにより得られる。
N層41のエッチングにより除去した露出表面部にN側
電極9が形成され、P型半導体層6におけるGaN層の
表面部にP側電極10が形成されている。なお、このN
側電極9とP側電極10とは、概略的には、図2に示す
ような平面視形状とされた上で配設されている。
に係る半導体発光素子1のサブマウント部材11は、不
透明の導電性を有するシリコン基板12の表面にSiO
2 でなる絶縁酸化皮膜13を形成し、その中央部をエッ
チングで除去して補助P側電極層14を形成し、かつそ
の外周側における上記酸化皮膜13の表面部に補助N側
電極層15を形成したものである。この双方の補助電極
層14,15は、AuとSnとの合金あるいはインジウ
ム系の合金を使用して蒸着により形成したものであり、
後述するように電極とハンダ用メタルとを兼用するもの
である。
側電極層15とは、概略的には、図4に示すような平面
視形状とされた上で配設されている。加えて、同図に示
すように、シリコン基板12の一側部には、2箇所の補
助N側電極層15に導通される帯状の補助N側電極層1
5aが、上記絶縁酸化皮膜13の表面部に形成されてい
る。
ブマウント部材11とを接合一体化させて半導体発光素
子1を製造する方法、ならびにこれによって得られる半
導体発光素子1の構成について説明する。
11とを別々に製作した後に、この両者の表面側どうし
を対向させて配置し、素子本体2のN側電極9およびP
側電極10に対してそれぞれ、サブマウント部材11の
補助N側電極層15および補助P側電極層14をハンダ
付けする。このはんだ付け作業は、上記サブマウント部
材11の双方の補助電極層15,14がハンダ用メタル
を兼用していることから、これらの補助電極層15,1
4を適宜溶融固化させることにより行われる。
のサファイア基板3の裏面3aから矢印で示すように光
が発せられる状態になる。加えて、上記素子本体の2の
P側電極10はサブマウント部材11のシリコン基板1
2に導通状態となる一方、素子本体2のN側電極9は上
記シリコン基板12に対して絶縁状態となる。なお、図
1に示す素子本体2の積層部7の高さ寸法は、図5に示
す積層部7の高さ寸法と比較して、説明の便宜上、長尺
になっている。
発光素子1をリードフレーム17上に搭載するには、同
図に示すように、リードフレーム16のP側端子部16
aの上面部に上記サブマウント部材11の下面が導通状
態になるようにボンディングされるとともに、サブマウ
ント部材11の上記帯状の補助N側電極層15aとリー
ドフレーム16のN側端子部16bとの間にワイヤボン
ディング17が施される。
0は、導電性シリコン基板12を通じてリードフレーム
16のP側端子部16aに導通状態とされ、かつ上記素
子本体2のN側電極9は、ワイヤ17を通じてリードフ
レーム16のN側端子部16bに導通状態とされる。こ
の後は、上記半導体発光素子1の外周部を樹脂封止する
ことなどによって、青色発光用のLEDランプが得られ
る。
体2の透明サファイア基板3の裏面3aにおけるN側電
極9の形成箇所以外の領域が発光領域となり、上記裏面
3aの全面積の約75%が発光領域として利用される。
したがって、従来のように電極による発光阻害が激減さ
れ、十分な発光量および高い明度を有する発光デバイス
が得られることになる。
方に向かって発せられた光は、不透明のサブマウント部
材11(補助電極層14,15)で反射された後、サフ
ァイア基板3の裏面3aから外方に向かって照射される
ことになるので、光き利用効率が向上するという利点も
得られる。
したことにより、P側電極10に対するワイヤボンディ
ングが不要になり、結線作業の簡便化ならびに製作容易
化が図られることになる。
第2実施例を、図6、7、8を参照しつつ説明する。な
お、以下の第2実施例の説明に際して、上述の第1実施
例と共通の構成要件については同一符号を付してその説
明を省略する。
上述の第1実施例と異なる点は、図6および図7に示す
ように、素子本体2の表面全域をCVD法を用いてSi
O2やSi3 N4 等からなる絶縁層18で覆うととも
に、この絶縁層18にN側電極9およびP側電極10に
それぞれ通じる貫通孔19,20を穿設し、かつ上記絶
縁層18の表面部にAuとSnとの合金あるいはインジ
ウム系の合金等でなる金属層21,22を相互に独立し
て形成した点にある。この場合、上記各貫通孔19,2
0には、上記各金属層21,22が埋設されることにな
るので、上記一方の金属層21は上記N側電極9に導通
した状態になり、他方の金属層22は上記P側電極10
に導通した状態になる。
7に示す各金属層21,22の平面視における形状およ
び配設状態に対応して補助N側電極層15と補助P側電
極層14とが形成されており、その他の部分、たとえば
補助N側電極層15がSiO 2 等の絶縁性皮膜13を介
して形成されている点などについては上述の第1実施例
と同一の構成である。
材11とは、両者の表面側どうしが対向配置された状態
で、図8に示すように各金属層21,22と各補助電極
層15,14とが接合一体化されることにより、半導体
発光素子1が得られる。また、図示の構成によっても、
上記素子本体2のP側電極10はリードフレーム16の
P側端子部16aに導電性シリコン基板12を介して導
通状態とされ、かつ上記素子本体2のN側電極9はリー
ドフレーム16のN側端子部16bにワイヤ17を介し
て導通状態とされる。
2と各補助電極層15,14との位置合わせが容易に行
えることから、これらの両層の接合作業(ハンダ付け作
業)、ひいては素子本体2とサブマウント部材11との
接合作業が極めて簡便に行えることになる。
1実施例と同様に、十分な発光量を確保できることは言
うまでもない。
構成要素である素子本体を示す概略縦断正面図である。
ある。
素であるサブマウント部材の概略縦断正面図である。
平面図である。
成ならびにその被マウント部材への取り付け状態を示す
概略縦断側面図である。
構成要素である素子本体を示す概略縦断正面図である。
ある。
成ならびにその被マウント部材への取り付け状態を示す
概略縦断側面図である。
被マウント部材への取り付け状態を示す概略縦断側面図
である。
Claims (4)
- 【請求項1】 透明の絶縁性基板の表面上にN型半導体
層、発光層、およびP型半導体層を形成しかつ上記N型
半導体層およびP型半導体層のそれぞれの露出表面部に
N側電極およびP側電極を形成して構成される素子本体
と、 導電性基板の表面に対して絶縁状態となるように形成さ
れた補助N側電極層および導通状態となるように形成さ
れた補助P側電極層を有するサブマウント部材と、を備
えるとともに、 上記サブマウント部材と上記素子本体との双方の表面側
を相互に対向させて配置し、かつ、上記補助N側電極層
と上記N側電極との間、および上記補助P側電極層と上
記P側電極との間がそれぞれ導通状態となるように、上
記サブマウント部材と上記素子本体とを一体化させたこ
とを特徴とする、半導体発光素子。 - 【請求項2】 上記サブマウント部材の補助N側電極層
および補助P側電極層の表面部分は絶縁層で覆われてお
り、この絶縁層には上記双方の補助電極層にそれぞれ独
立して通じる各貫通孔が穿設され、かつ上記絶縁層の表
面側には各貫通孔を介して上記双方の補助電極層にそれ
ぞれ導通状態となる各付着用金属層が相互に独立して形
成されているとともに、この各付着用金属層は、上記素
子本体の双方の電極に対して接合付着された状態となる
ように構成されている、請求項1に記載の半導体発光素
子。 - 【請求項3】 上記請求項1に記載した半導体発光素子
の製造方法であって、 上記素子本体と上記サブマウント部材とを別々に製作し
た後に、上記素子本体の表面側と上記サブマウント部材
の表面側とを対向させた状態の下で、上記補助N側電極
層と上記N側電極、および上記補助P側電極層と上記P
側電極とをそれぞれ直接的に接着させるようにしたこと
を特徴とする、半導体発光素子の製造方法。 - 【請求項4】 上記請求項2に記載した半導体発光素子
の製造方法であって、 上記素子本体を作製する第1の工程と、上記サブマウン
ト部材を作製した後に、その表面部分に対して上記絶縁
層を形成し、この後、その絶縁層に上記各貫通孔を穿設
し、しかる後、その絶縁層の表面側に上記各付着用金属
層を形成する第2の工程とを別々に実行し、 その後、上記素子本体の表面側と上記サブマウント部材
の表面側とを対向させた状態の下で、上記P側電極およ
びN側電極と上記各付着金属層とを直接的に接着させる
ようにしたことを特徴とする、半導体発光素子の製造方
法。
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