JPH08227836A

JPH08227836A - ガス供給集積ユニット及びそのシステム

Info

Publication number: JPH08227836A
Application number: JP5814895A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Bandou; 寛板藤
Original assignee: CKD Corp
Current assignee: CKD Corp
Priority date: 1995-02-21
Filing date: 1995-02-21
Publication date: 1996-09-03
Anticipated expiration: 2014-03-08
Also published as: JP2865585B2

Abstract

(57)【要約】【目的】マスフローコントローラ、手動弁、レギュレ
ータ、圧力計、フィルタを含むガス供給装置を複数台有
するガス供給ユニットであって、狭いフロアスペースで
配設可能に集積されたガス供給集積ユニットを提供する
こと。【構成】腐食性ガスＦの搬送管路上にあって腐食性ガ
スＦの流れを遮断する入口開閉弁１４及び出口開閉弁１
２と、入口開閉弁１４及び出口開閉弁１２の中間にあっ
て腐食性ガスＦの流量を制御するマスフローコントロー
ラ１１とが一体的に構成されたマスフローユニットを有
するガス供給集積ユニットであって、腐食性ガスＦの供
給または遮断を手動で行うための手動弁１８と、腐食性
ガスＦのガス圧を調整するレギュレータ１７と、腐食性
ガスＦの圧力をモニターするための圧力計１６と、腐食
性ガスＦの混入不純物を除去するためのフィルタ１５と
が、マスフローユニットと並列に配設されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置等の
産業用製造装置で使用されるガス供給装置に関し、さら
に詳細には、複数種類のガスを供給する複数のガス供給
装置を集積させてコンパクト化可能なガス供給集積ユニ
ットに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、半導体製造工程において、ホ
トレジスト加工のエッチング等に腐食性ガスが使用され
ている。ホトレジスト加工（ホトレジスト塗布、露光、
現像、エッチング）は、半導体製造工程において腐食性
ガスの種類を変えて複数回繰り返されるため、実際の半
導体製造工程では、複数種類の腐食ガスを必要に応じて
供給するガス供給装置が使用されている。ここで、ガス
を供給するガス供給装置には、流量を正確に計測するた
めのマスフローコントローラと、マスフローコントロー
ラ内に腐食性ガス等の供給ガスを残留させないためにマ
スフローコントローラの前後に設けられる入口開閉弁、
出口開閉弁、及びパージ弁と、供給ガスの供給または遮
断を手動で行うための手動弁と、供給ガスのガス圧を調
整するレギュレータと、供給ガスの圧力をモニターする
ための圧力計と、供給ガスの混入不純物を除去するため
のフィルタとが構成要素として必要である。従って、従
来のガス供給装置は、それらが直列に接続されて構成さ
れている。

【０００３】図１０に従来のガス供給装置を示す。図１
０の右から、手動弁ブロック１０４の出力ポートが、継
手１０１、パイプ、継手１０１を介して、レギュレータ
ブロック１０３の入力ポートに接続している。手動弁ブ
ロック１０４の上部には、手動弁１８が取り付けられて
いる。また、レギュレータブロック１０３の上部には、
レギュレータ１７が取り付けられている。レギュレータ
ブロック１０３の出力ポートは、継手１０１、三又パイ
プ１０２、継手１０１を介して、フィルタ１５の入力ポ
ートに接続している。三又パイプ１０２の上部には、圧
力計１６が取り付けられている。また、フィルタ１５は
長手方向の一方から入って他方に出るタイプであり、フ
ィルタ１５の出力ポートは、継手１０１、パイプ、継手
１０１を介して、入力ブロック２４の入力ポートに接続
している。

【０００４】入口開閉弁１４、パージ弁１３、及びマス
フローコントローラ１１は、入力ブロック２４、流路方
向変換ブロック２２、マスフローコントローラブロック
２３、流路方向変換ブロック２２、出力ブロック２１に
より一体的にマスフローユニットを構成している。この
マスフローユニットについては、本出願人らが特開平６
−２４１４００号で提案し説明しているので、詳細な説
明を省略する。入力ブロック２４の上部には、入口開閉
弁１４及びパージ弁１３が取り付けられている。また、
入力ブロック２４の出力ポートは、流路方向変換ブロッ
ク２２の入力ポートに接続している。また、流路方向変
換ブロック２２の出力ポートは、マスフローコントロー
ラブロック２３の入力ポートに接続している。また、マ
スフローコントローラブロック２３の上部には、マスフ
ローコントローラ１１が取り付けられている。

【０００５】またマスフローコントローラブロック２３
の出力ポートは、流路方向変換ブロック２２を介して出
力ブロック２１の入力ポートに接続している。出力ブロ
ック２１には、出口開閉弁１２が取り付けられている。
図１０の流路を、図４に空圧回路図で示す。パージ弁１
３は、マスフローコントローラ１１と入口開閉弁１４と
の間の流路と、パージ用の窒素ガス供給管１９とに接続
する。出口開閉弁１２は、エッチングの行われる真空チ
ャンバーへ連通する供給ガス管路２０に接続している。

【０００６】１つの真空チャンバーにおいて、複数種類
の腐食性ガスを切り替えて使用することにより、複雑な
工程のエッチングを行っている。従って、１つの真空チ
ャンバー毎に複数種類のガスを供給する必要がある。１
つの真空チャンバーに７種類の腐食性ガス等を供給する
回路図を図８に示す。また、図８の回路図を具体化した
ガス供給ユニットを図１１に平面図として示す。すなわ
ち、図１０のガス供給装置を、図１１では、７連並列に
配設している。図１０に示すガス供給装置は、設置する
方向は特に規制がなく自由であるが、できるだけコンパ
クトにまとめるため、図１１に示すように７連並列に配
設してガス供給ユニットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆ，Ｇを
構成させているのである。

【０００７】一方、図１２に４つの真空チャンバーが配
設されたエッチング装置の配置図を示す。中央に設置さ
れたロボット２７を中心にして、４つの真空チャンバー
２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃ，２６Ｄが配設されている。ま
た、真空チャンバー２６に未エッチングのウエハ等を供
給し、加工済みウエハを回収するための２台の搬送装置
２８が配設されている。ここで、一つ一つの真空チャン
バー２６に対して、図１１で示したガス供給ユニットが
必要となるので、図１２で示すように、壁際に４つのガ
スボックス２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃ，２５Ｄを設け、各
々を真空チャンバー２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃ，２６Ｄに
接続している。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
装置には次のような問題点があった。（１）ガス供給ユニットは、図１１に示すように、長さ
が５２０ｍｍ、幅が約３００ｍｍと広いフロアスペース
を占めるため、真空チャンバー２６の近くに配設する
と、作業等の邪魔になる。しかし、図１２に示すよう
に、複数の真空チャンバー２６にガスを供給するガス供
給装置を壁際にガスボックスとしてまとめると、ガス供
給装置から真空チャンバー２６までの配管が長くなり、
マスフローコントローラ１１で流量を正確に計測して
も、長い配管のため、実際に真空チャンバー２６に供給
されるガス流量が不正確となる問題があった。また、供
給するガスの種類によっては、常温で液化するものもあ
り、保温等が必要な場合がある。その場合に、ガスボッ
クス２５から真空チャンバー２６までの配管が長いと、
保温された配管全体がスペースをとり、作業スペースを
狭くする問題がある。また、十分に保温されずにエッチ
ングに悪影響を与える恐れもある。

【０００９】本発明は、上記した問題点を解決するもの
であり、マスフローコントローラ、手動弁、レギュレー
タ、圧力計、フィルタを含むガス供給装置を複数台有す
るガス供給ユニットであって、狭いフロアスペースで配
設可能に集積されたガス供給集積ユニットを提供するこ
とを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明のガス供給集積ユニットは、以下の様な構成
を有している。（１）供給ガスの搬送管路上にあって該供給ガスの流れ
を遮断する第一開閉弁及び第二開閉弁と、該第一及び第
二開閉弁の中間にあって該供給ガスの流量を制御するマ
スフローコントローラとが一体的に構成されたマスフロ
ーユニットを有するガス供給集積ユニットであって、供
給ガスの供給または遮断を手動で行うための手動弁と、
供給ガスのガス圧を調整するレギュレータと、供給ガス
の圧力をモニターするための圧力計と、供給ガスの混入
不純物を除去するためのフィルタとが、マスフローユニ
ットと並列に配設されることを特徴とする。（２）（１）に記載するものにおいて、前記手動弁と、
前記レギュレータと、前記圧力計と、前記フィルタと
が、前記第一開閉弁、前記第二開閉弁、及び前記マスフ
ローコントローラの取り付けボルトと同じ方向からボル
トで取り付けられていることを特徴とする。

【００１１】（３）（１）または（２）に記載するもの
において、前記レギュレータに、入力パイプと、出力パ
イプと、前記入力パイプに接続して流路を変換する入力
変換ブロックと、前記出力パイプに接続して流路を変換
する出力変換ブロックとが一体的に固設されていること
を特徴とする。（４）（１）または（２）に記載するものにおいて、前
記フィルタと前記圧力計とが、内部に流路が形成された
一つの流路ブロックに取り付けられていることを特徴と
する。（５）また、本発明のガス供給集積システムは、（１）
または（２）に記載するガス供給集積ユニットを２以上
並列に積み重ねて配設すると共に、前記各ガス供給集積
ユニットの前記第二開閉弁の出力ポートを連通させる共
通出力流路ブロックを有することを特徴とする。

【００１２】

【作用】上記の構成よりなる本発明のガス供給集積ユニ
ットのマスフローユニットは、マスフローコントローラ
と第一開閉弁、第二開閉弁を接続するのに、パイプを使
用せずに、流路が形成された流路ブロックで接続してい
るので、流れ方向の長さをコンパクト化することができ
ている。そして、供給ガスの供給または遮断を手動で行
うための手動弁と、供給ガスのガス圧を調整するレギュ
レータと、供給ガスの圧力をモニターするための圧力計
と、供給ガスの混入不純物を除去するためのフィルタと
が一体化され、かつマスフローユニットとほぼ同じ長さ
のユニットを構成しており、マスフローユニットと並列
に配設されているので、ガス供給集積ユニット全体をコ
ンパクトに一体的化できている。

【００１３】また、手動弁と、レギュレータと、圧力計
と、フィルタとが、第一開閉弁、第二開閉弁、及びマス
フローコントローラからなるマスフローユニットの取り
付けボルトと同じ方向からボルトで取り付けられている
ので、手動弁、レギュレータ、圧力計、またはフィルタ
を交換するときに、容易かつ短時間で交換作業を行うこ
とができる。また、レギュレータに、入力パイプと、出
力パイプと、入力パイプに接続して流路を変換する入力
変換ブロックと、出力パイプに接続して流路を変換する
出力変換ブロックとが一体的に固設されているので、レ
ギュレータを交換するときに、それらを一体的に交換す
ることにより、容易かつ短時間で交換作業を行うことが
できる。

【００１４】また、フィルタと圧力計とが、内部に流路
が形成された一つの流路ブロックに取り付けられている
ので、この流路ブロックとマスフローコントローラの入
力ブロックとを共通化することができる。また、ガス供
給集積システムは、上記ガス供給集積ユニットを２以上
並列に積み重ねて配設すると共に、各ガス供給集積ユニ
ットの第二開閉弁の出力ポートを連通させる共通出力流
路ブロックを有しているので、ガス供給集積システムを
コンパクト化でき、真空チャンバーの近傍に配設して
も、作業の邪魔になることがない。

【００１５】

【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例であるガ
ス供給集積ユニットについて、図面を参照して説明す
る。図４は、ガス供給集積ユニットの構成を示す回路図
である。この回路図は、後述する発明の効果を明らかに
するために、従来と同じ回路を使用している。供給ガス
である腐食性ガスＦの配管は、供給または遮断を行うた
めの手動弁１８に接続している。また、手動弁１８は、
腐食性ガスＦのガス圧を調整するためのレギュレータ１
７に接続している。また、レギュレータ１７は、腐食性
ガスＦの混入不純物を除去するためのフィルタ１５に接
続している。一方、レギュレータ１７とフィルタ１５と
の間には、腐食性ガスＦの圧力をモニターするための圧
力計１６が接続されている。

【００１６】また、フィルタ１５は、第一開閉弁である
入口開閉弁１４に接続している。入口開閉弁１４は、腐
食性ガスＦの流量を計測して一定量の腐食性ガスＦを供
給するためのマスフローコントローラ１１に接続してい
る。マスフローコントローラ１１は、通常使用されてい
るものを利用しているので、詳細な説明を省略する。ま
た、マスフローコントローラ１１は、第二開閉弁である
出口開閉弁１２に接続している。一方、入口開閉弁１４
とマスフローコントローラ１１の間には、残留する腐食
性ガスＦを窒素ガスに置換するためのパージ弁１３の入
力ポートが接続している。また、パージ弁１３の出力ポ
ートは、パージ切換弁４７、窒素ガス配管４６を介して
窒素ガスの供給タンクに接続している。

【００１７】図４の回路図を具体化した実施例を図１及
び図２に示す。図１は、腐食性ガスＦを供給するための
ガス供給集積ユニットの１単位ユニットの構成を示す平
面図であり、図２は、その側面図である。また、図３
は、図１の一部外観図を含むＡＡ断面図であり、ガス供
給集積ユニットの流路を示す断面図である。また、図５
は、図１の一部外観図を含むＢＢ断面図であり、ガス供
給集積ユニットの流路を示す断面図である。始めに、腐
食性ガスＦは、手動弁ブロック３４の入力ポートに入力
する。手動弁ブロック３４の出力ポートは、方向変換ブ
ロック３２の入力ポートに接続している。方向変換ブロ
ック３２は、左方向から入力した流路を上向きに変換し
て、ブロックの上面から出力する。方向変換ブロック３
２の出力ポートは、入力変換ブロック３１の入力ポート
に接続している。入力変換ブロック３１は、下方向から
入力した流路を右向きに変換する。

【００１８】入力変換ブロック３１の出力ポートは、入
力パイプ３０を介して、レギュレータブロック２９の入
力ポートに接続している。レギュレータブロック２９の
出力ポートは、出力パイプ４０を介して、出力変換ブロ
ック４１の入力ポートに接続している。出力変換ブロッ
ク４１の出力ポートは、方向変換ブロック３２を介し
て、流路ブロック３３の入力ポート３３ａに接続してい
る。流路ブロック３３には、入力ポート３３ａからフィ
ルタ１５の入力ポートへの流路３３ｂと、圧力計パイプ
３９を介して圧力計１６に接続する流路３３ｄと、フィ
ルタ１５の出力ポートから連通する出力流路３３とが形
成されている。出力流路３３は、方向変換ブロック３８
に接続している。方向変換ブロック３８は、流路ブロッ
ク３３と入力ブロック２４との両方の下面に固設されて
おり、フィルタ１５の出力ポートと入口開閉弁１４の入
力ポートとを接続している。

【００１９】ここで、本実施例では、手動弁１８は、手
動弁ブロック３４に対して上方向から４本のボルトで取
り付けられており、手動弁１８は、上方向から取り外し
及び取り付け可能である。また、レギュレータ１７は、
入力パイプ３０、入力変換ブロック３１、出力パイプ４
０、及び出力変換ブロック４１と一体的に組み立てられ
ており、ユニットとして、一対の方向変換ブロック３２
に対して、上方向から４本のボルトで取り付けられてお
り、レギュレータ１７は、ユニットとして、上方向から
取り外し及び取り付け可能である。また、圧力計１６
は、圧力計パイプ３９を介して圧力計取付ブロック５１
により、流路ブロック３３に対して上方向から４本のボ
ルトで取り付けられており、圧力計１６は、ユニットと
して、上方向から取り外し及び取り付け可能である。

【００２０】ここで、従来の圧力計１６は、交換可能と
するため、継手によりパイプに連結されていたので、継
手部においてシール材によるパーティクルの発生が問題
となっていたが、本実施例の圧力計１６ユニットによれ
ば、継手部がないため、パーティクルの発生を減少させ
ることができる。また、フィルタ１５は、流路ブロック
３３に対して上方向から４本のボルトで取り付けられて
おり、フィルタ１５は、上方向から取り外し及び取り付
け可能である。また、フィルタ１５及び圧力計パイプ３
９は、入口開閉弁１４、パージ弁１３と同じ寸法の取付
孔を有しているので、流路ブロック３３と入力ブロック
２４とは、同じブロックを共通して使用することができ
る。

【００２１】図５に入口開閉弁１４、パージ弁１３、及
び出口開閉弁１２の流路を断面図で示す。ここで、マス
フローコントローラ１１のみ外観で示している。マスフ
ローコントローラ１１の左右には、流路を方向変換する
ためのブロックであり、ユニットに対して上方向からボ
ルトによりボルト止めするためのマスフローブロック４
４，４５が横方向からボルトで締結されている。マスフ
ローブロック４４の下には、流路を方向変換するための
流路方向変換ブロック２２が出力ブロック２１に右方向
からボルト止めされている。出力ブロック２１には、上
方向から出口開閉弁１２がボルト止めされている。ま
た、出力ブロック２１の下面には出力マニホールド４３
が取り付けられている。

【００２２】また、マスフローブロック４５の下には、
流路を方向変換するための流路方向変換ブロック２２が
入力ブロック２４に左方向からボルト止めされている。
入力ブロック２４には、上方向からパージ弁１３及び入
口開閉弁１４が各々ボルト止めされている。また、入力
ブロック２４は、図２に示すように、ベースプレート４
９に下方向からボルト止めされているエゼクタマニホー
ルド４２に、上方向から各々２本のボルトで締結されて
いる。また、エゼクタマニホールド４２の一端部にエゼ
クタ配管を介して図示しないエゼクタが接続している。

【００２３】次に、本発明のガス供給集積ユニットを、
複数台集積して配設する場合について説明する。図８に
必要とするガス供給装置の回路図を示す。真空チャンバ
ーへ供給するガスとしては、Ｆａ，Ｆｂ，Ｆｃ，Ｆｄ，
Ｆｅ，Ｆｆ，Ｆｇの７つの種類の腐食性ガスが用意され
ている。各腐食性ガスの供給ラインに上記説明したガス
供給集積ユニットが使用される。すなわち、各腐食性ガ
スの供給ラインに取り付けられるガス供給集積ユニット
は、手動弁１８、レギュレータ１７、圧力計１６、フィ
ルタ１５、入口開閉弁１４、パージ弁１３、マスフロー
コントローラ１１及び出口開閉弁１２を有している。ま
た、パージ弁１３の出力ポートは、パージ切換弁４７を
介して窒素ガス配管４６へ接続している。窒素ガス配管
４６は、図示しない窒素ガスの供給タンクに接続してい
る。また、出口開閉弁１２Ａ〜Ｆの出力ポートは、ガス
供給配管５０に統合されて真空チャンバーへ接続してい
る。また、ガス供給配管５０と窒素ガス配管４６とを接
続する配管上には、ガス供給配管５０に残留する腐食性
ガスを置換するための供給配管パージ弁４８が取り付け
られている。

【００２４】次に、図８の回路図を具体化した本発明の
ガス供給集積システムを説明する。図６に側面図を示
し、図７に図６を上方向から見たときの平面図を示す。
図６に示すように、７つのガス供給集積ユニットＡ，
Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆ，Ｇが、密着して重ねられてベース
プレート４９に取り付けられている。そして、一番上に
供給配管パージ弁４８とパージ切換弁４７とが取り付け
られている。ガス供給集積システムは、図６に示すよう
に複数台のガス供給集積ユニットを横置きに密着させて
積み重ねることにより、集積度を向上させている。これ
によれば、図７に示すように、占有する床面積がＬ１＝
２８０ｍｍ，Ｌ２＝２４０ｍｍと従来と比較して面積が
１／２以下であり、大幅に縮小することができる。ここ
で、図６に示すように、高さＨ＝６５０ｍｍである。占
有面積を縮小できたので、図９に示すように、ガスボッ
クス５１Ａ，５１Ｂ，５１Ｃ，５１Ｄを、各真空チャン
バー２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃ，２６Ｄのすぐ近くに配設
しても、作業の邪魔になることがない。

【００２５】以上詳細に説明したように、本実施例のガ
ス供給集積ユニットによれば、腐食性ガスＦの搬送管路
上にあって腐食性ガスＦの流れを遮断する入口開閉弁１
４及び出口開閉弁１２と、入口開閉弁１４及び出口開閉
弁１２の中間にあって腐食性ガスＦの流量を制御するマ
スフローコントローラ１１とが一体的に構成されたマス
フローユニットを有するガス供給集積ユニットであっ
て、腐食性ガスＦの供給または遮断を手動で行うための
手動弁１８と、腐食性ガスＦのガス圧を調整するレギュ
レータ１７と、腐食性ガスＦの圧力をモニターするため
の圧力計１６と、腐食性ガスＦの混入不純物を除去する
ためのフィルタ１５とが、マスフローユニットと並列に
配設されているので、ガス供給装置全体をコンパクト化
することができ、床の占有面積を大幅に縮小することが
できるため、ガス供給集積システムを真空チャンバー２
６のすぐ近くに配設することが可能となった。

【００２６】また、本実施例のガス供給集積ユニットに
よれば、手動弁１８と、レギュレータ１７と、圧力計１
６と、フィルタ１５とが、入口開閉弁１４、出口開閉弁
１２、及びマスフローコントローラ１１の取り付けボル
トと同じ方向からボルトで取り付けられているので、ガ
ス供給集積システムを構成する要素部品を交換するとき
に、取り外し及び取付けが容易である。また、本実施例
のガス供給集積ユニットによれば、レギュレータ１７
に、入力パイプ３０と、出力パイプ４０と、入力パイプ
３０に接続して流路を変換する入力変換ブロック３１
と、出力パイプ４０に接続して流路を変換する出力変換
ブロック４１とが一体的にユニット化されているので、
レギュレータ１７を交換するときに、一体的に取り外
し、取り付けができるため、交換作業を容易かつ短時間
で行うことができる。

【００２７】また、本実施例のガス供給集積ユニットに
よれば、フィルタ１５と圧力計１６とが、内部に流路が
形成された一つの流路ブロックである流路ブロック３３
に取り付けられているので、流路ブロック３３と入力ブ
ロック２４とを共通化することができ、全体の大きさが
統一できるため、積み重ねて集積するのに便利である。
また、圧力計１６を圧力計パイプ３９を介して、流路ブ
ロック３３に対して上方向からボルト止めしているの
で、圧力計１６の取り外し、取り付けが容易かつ短時間
でできる。

【００２８】また、本実施例のガス供給集積システムに
よれば、上記したガス供給集積ユニットを２以上並列に
積み重ねて配設すると共に、各ガス供給集積ユニットの
出口開閉弁１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ，１２Ｅ，
１２Ｆ，１２Ｇの出力ポートを連通させる共通出力流路
ブロックである出力マニホールド４３を有しているの
で、複数の腐食性ガスＦを供給する装置全体を小型化す
ることができ、床占有面積を従来と比較して大幅に減少
させることができたため、ガス供給集積システムを真空
チャンバー２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃ，２６Ｄの近傍に配
設することができ、マスフローコントローラ１１のガス
供給精度を向上させることができる。

【００２９】以上、本発明の一実施例について詳細に説
明したが、本発明は、上記実施例に限定されることな
く、色々に変形実施することが可能である。例えば、本
実施例では、各ガス供給集積ユニットをベースプレート
４９に対して固定しているが、ベースプレート４９を用
いずに、各ガス供給集積ユニット同士を連結しても同様
である。また、本実施例では、圧力計１６としてセンサ
ータイプを使用しているが、ブルドン管タイプを使用し
てもよい。また、レギュレータ１７を使用しない場合に
は、レギュレータ１７をバイパスするだけでよい。ま
た、フィルタ１５のエレメントとしては、セラミックタ
イプでもメタルタイプのどちらでもよい。どちらの場合
でも、本実施例によれば、交換が容易である。

【００３０】

【発明の効果】以上説明したことから明かなように、本
発明のガス供給集積ユニットによれば、供給ガスの搬送
管路上にあって供給ガスの流れを遮断する第一開閉弁及
び第二開閉弁と、第一開閉弁及び第二開閉弁の中間にあ
って供給ガスの流量を制御するマスフローコントローラ
とが一体的に構成されたマスフローユニットを有するガ
ス供給集積ユニットであって、供給ガスの供給または遮
断を手動で行うための手動弁と、供給ガスのガス圧を調
整するレギュレータと、供給ガスの圧力をモニターする
ための圧力計と、供給ガスの混入不純物を除去するため
のフィルタとが、マスフローユニットと並列に配設され
ているので、ガス供給装置全体をコンパクト化すること
ができ、床の占有面積を大幅に縮小することができるた
め、ガス供給集積システムを真空チャンバーのすぐ近く
に配設することが可能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例であるガス供給集積ユニット
の具体的な構成を示す平面図である。

【図２】ガス供給集積ユニットの具体的な構成を示す側
面図である。

【図３】ガス供給集積ユニットのガスの流れを示す第１
説明図である。

【図４】ガス供給集積ユニットの構成を示す回路図であ
る。

【図５】ガス供給集積ユニットのガスの流れを示す第２
説明図である。

【図６】本発明のガス供給集積システムの具体的な構成
を示す側面図である。

【図７】ガス供給集積システムの具体的な構成を示す平
面図である。

【図８】ガス供給集積システムの構成を示す回路図であ
る。

【図９】ガス供給集積システムを取り付けたエッチング
装置の全体構成を示す平面図である。

【図１０】従来のガス供給装置の具体的な構成を示す側
面図である。

【図１１】従来のガス供給装置の具体的な構成を示す平
面図である。

【図１２】従来のガス供給装置を取り付けたエッチング
装置の全体構成を示す平面図である。

【符号の説明】

１１マスフローコントローラ１２出口開閉弁１３パージ弁１４入口開閉弁１５フィルタ１６圧力計１７レギュレータ１８手動弁３０入力パイプ３１入力変換ブロック４０出力パイプ４１出力変換ブロック

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成７年５月８日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項５

【補正方法】変更

【補正内容】

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】発明の詳細な説明

【補正方法】追加