JPH08224473A - 脱水環化脱水素用触媒、及びそれを用いたピラジン類の製造法 - Google Patents
脱水環化脱水素用触媒、及びそれを用いたピラジン類の製造法Info
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- JPH08224473A JPH08224473A JP21985695A JP21985695A JPH08224473A JP H08224473 A JPH08224473 A JP H08224473A JP 21985695 A JP21985695 A JP 21985695A JP 21985695 A JP21985695 A JP 21985695A JP H08224473 A JPH08224473 A JP H08224473A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 新規な脱水環化脱水素用触媒、及びそれを用
いたピラジン類の製造法を提供する。 【解決手段】 銀を含有し、付加構成元素としてアルカ
リ金属、アルカリ土類金属、亜鉛及びランタン系元素よ
りなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を含有して
もよい脱水環化脱水素用触媒触媒、及び当該触媒の存在
下、一般式（１）： 【化１】 （Ｒ1及びＲ2は水素原子又は低級アルキル基）のジアミ
ン類を一般式（２）： 【化２】 （Ｒ3及びＲ4は水素原子又は低級アルキル基）のジオー
ル類と気相接触反応せしめて一般式（３）： 【化３】 （Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は前記と同じ）のピラジン類を
製造する。
いたピラジン類の製造法を提供する。 【解決手段】 銀を含有し、付加構成元素としてアルカ
リ金属、アルカリ土類金属、亜鉛及びランタン系元素よ
りなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を含有して
もよい脱水環化脱水素用触媒触媒、及び当該触媒の存在
下、一般式（１）： 【化１】 （Ｒ1及びＲ2は水素原子又は低級アルキル基）のジアミ
ン類を一般式（２）： 【化２】 （Ｒ3及びＲ4は水素原子又は低級アルキル基）のジオー
ル類と気相接触反応せしめて一般式（３）： 【化３】 （Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は前記と同じ）のピラジン類を
製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な脱水環化脱
水素用触媒、及びその使用方法に関する。脱水環化脱水
素用触媒は、例えば、ジアミン類とジオール類とからの
気相接触反応（すなわち、脱水環化脱水素反応）によっ
て、香料、医薬、農薬の中間体として有用なピラジン類
を製造するのに用いることができる。
水素用触媒、及びその使用方法に関する。脱水環化脱水
素用触媒は、例えば、ジアミン類とジオール類とからの
気相接触反応（すなわち、脱水環化脱水素反応）によっ
て、香料、医薬、農薬の中間体として有用なピラジン類
を製造するのに用いることができる。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、新規な脱水
環化脱水素用触媒を提供することを目的とする。本発明
の他の目的はその触媒を用いたピラジン類の製造法を提
供することにある。
環化脱水素用触媒を提供することを目的とする。本発明
の他の目的はその触媒を用いたピラジン類の製造法を提
供することにある。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討を
重ねた結果、銀を含有する触媒が脱水環化脱水素能に優
れていること、及び当該触媒の存在下、ジアミン類をジ
オール類と気相接触反応せしめると好収率でピラジン類
を製造できることを見出し本発明を完成するに至った。
重ねた結果、銀を含有する触媒が脱水環化脱水素能に優
れていること、及び当該触媒の存在下、ジアミン類をジ
オール類と気相接触反応せしめると好収率でピラジン類
を製造できることを見出し本発明を完成するに至った。
【０００４】即ち本発明は、銀を含有することを特徴と
する脱水環化脱水素用触媒、及び一般式（１）：
する脱水環化脱水素用触媒、及び一般式（１）：
【化４】 （式中、Ｒ1及びＲ2は、同じか或は互いに異なって、そ
れぞれ水素原子又は低級アルキル基を表す。）で示され
るジアミン類（以下、ジアミン類（１）という。）を一
般式（２）：
れぞれ水素原子又は低級アルキル基を表す。）で示され
るジアミン類（以下、ジアミン類（１）という。）を一
般式（２）：
【化５】 （式中、Ｒ3及びＲ4は、同じか或は互いに異なって、そ
れぞれ水素原子又は低級アルキル基を表す。）で示され
るジオール類（以下、ジオール類（２）という。）と気
相接触反応せしめて一般式（３）：
れぞれ水素原子又は低級アルキル基を表す。）で示され
るジオール類（以下、ジオール類（２）という。）と気
相接触反応せしめて一般式（３）：
【化６】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、前記と同じ。）で示
されるピラジン類（以下、ピラジン類（３）という。）
を製造するにあたり、銀を含有する脱水環化脱水素用触
媒の存在下、気相接触反応せしめることを特徴とするピ
ラジン類の製造方法に関する。
されるピラジン類（以下、ピラジン類（３）という。）
を製造するにあたり、銀を含有する脱水環化脱水素用触
媒の存在下、気相接触反応せしめることを特徴とするピ
ラジン類の製造方法に関する。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下に本発明について詳細に説明
する。本発明の脱水環化脱水素用触媒としては、活性成
分として銀を含有するものであれば特に制限はなく、通
常、銀を担体に担持したものが用いられる。担体として
は、アルミナ、ジルコニア及び炭化ケイ素等よりなる群
から選ばれる少なくとも１種が挙げられ、好ましくはア
ルミナ、ジルコニアである。本発明の脱水環化脱水素用
触媒が、銀を担体に担持したものである場合、銀の担持
量は特に限定されないが、通常、脱水環化脱水素用触媒
の１〜５０重量％、好ましくは２〜３０重量％である。
する。本発明の脱水環化脱水素用触媒としては、活性成
分として銀を含有するものであれば特に制限はなく、通
常、銀を担体に担持したものが用いられる。担体として
は、アルミナ、ジルコニア及び炭化ケイ素等よりなる群
から選ばれる少なくとも１種が挙げられ、好ましくはア
ルミナ、ジルコニアである。本発明の脱水環化脱水素用
触媒が、銀を担体に担持したものである場合、銀の担持
量は特に限定されないが、通常、脱水環化脱水素用触媒
の１〜５０重量％、好ましくは２〜３０重量％である。
【０００６】本発明の脱水環化脱水素用触媒は、銀だけ
でも充分脱水環化脱水素能があるが、付加構成元素とし
てアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛及びランタン
系元素よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を
含有すると脱水環化脱水素能がより向上し、また、銀と
共に当該付加構成元素が、担体、好ましくはアルミナ、
ジルコニアに担持されたものは脱水環化脱水素能がさら
に向上する。本発明の脱水環化脱水素用触媒が、上記付
加構成元素を含有するものであるとき、付加構成元素は
酸化物として含有させるのが好ましい。
でも充分脱水環化脱水素能があるが、付加構成元素とし
てアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛及びランタン
系元素よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を
含有すると脱水環化脱水素能がより向上し、また、銀と
共に当該付加構成元素が、担体、好ましくはアルミナ、
ジルコニアに担持されたものは脱水環化脱水素能がさら
に向上する。本発明の脱水環化脱水素用触媒が、上記付
加構成元素を含有するものであるとき、付加構成元素は
酸化物として含有させるのが好ましい。
【０００７】本発明の脱水環化脱水素用触媒が、銀と共
に付加構成元素が担体に担持されたものであるとき、付
加構成元素の担持量は特に制限はないが、付加構成元素
がアルカリ金属、アルカリ土類金属及びランタン系元素
の場合は、脱水環化脱水素用触媒の通常０．０１〜１０
重量％、好ましくは０．１〜５重量％、付加構成元素が
亜鉛の場合は脱水環化脱水素用触媒の通常０．５〜２０
重量％、好ましくは１〜１５重量％である。
に付加構成元素が担体に担持されたものであるとき、付
加構成元素の担持量は特に制限はないが、付加構成元素
がアルカリ金属、アルカリ土類金属及びランタン系元素
の場合は、脱水環化脱水素用触媒の通常０．０１〜１０
重量％、好ましくは０．１〜５重量％、付加構成元素が
亜鉛の場合は脱水環化脱水素用触媒の通常０．５〜２０
重量％、好ましくは１〜１５重量％である。
【０００８】本発明の脱水環化脱水素用触媒を調製する
にあたり使用する銀及び付加構成元素の原料としては、
金属及び化合物が挙げられ、化合物としては特に限定は
なく、触媒の調製において通常用いられる化合物であれ
ばいずれも使用できる。
にあたり使用する銀及び付加構成元素の原料としては、
金属及び化合物が挙げられ、化合物としては特に限定は
なく、触媒の調製において通常用いられる化合物であれ
ばいずれも使用できる。
【０００９】例えば、銀化合物としては硝酸銀、塩化銀
等が挙げられ、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の化
合物としてはリチウム、ナトリウム、カリウム、セシウ
ム、ルビジウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム
等の塩化物、水酸化物、硝酸塩、硫酸塩等が、亜鉛化合
物としては酸化亜鉛、硝酸亜鉛、硫酸亜鉛等が、またラ
ンタン系元素の化合物としてはランタン、セリウム、ネ
オジム、サマリウム等の塩化物、水酸化物、硝酸塩、硫
酸塩等が挙げられる。
等が挙げられ、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の化
合物としてはリチウム、ナトリウム、カリウム、セシウ
ム、ルビジウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム
等の塩化物、水酸化物、硝酸塩、硫酸塩等が、亜鉛化合
物としては酸化亜鉛、硝酸亜鉛、硫酸亜鉛等が、またラ
ンタン系元素の化合物としてはランタン、セリウム、ネ
オジム、サマリウム等の塩化物、水酸化物、硝酸塩、硫
酸塩等が挙げられる。
【００１０】本発明の脱水環化脱水素用触媒は、一般に
知られている触媒の調製法に従って得ることができる。
例えば、上記原料化合物を含有する液中に担体粉末を加
えて濃縮し、乾燥、焼成する方法や、当該液中に担体を
浸して担体に含浸担持し、乾燥、焼成する方法等によっ
て本発明の脱水環化脱水素用触媒を調製できる。
知られている触媒の調製法に従って得ることができる。
例えば、上記原料化合物を含有する液中に担体粉末を加
えて濃縮し、乾燥、焼成する方法や、当該液中に担体を
浸して担体に含浸担持し、乾燥、焼成する方法等によっ
て本発明の脱水環化脱水素用触媒を調製できる。
【００１１】本発明の脱水環化脱水素用触媒の存在下、
ジアミン類（１）をジオール類（２）と気相接触反応せ
しめるとピラジン類（３）を好収率で製造することがで
きる。
ジアミン類（１）をジオール類（２）と気相接触反応せ
しめるとピラジン類（３）を好収率で製造することがで
きる。
【００１２】ジアミン類（１）において、置換基のＲ1
及びＲ2は、同じか或は互いに異なって、それぞれ水素
原子又は低級アルキル基を表す。低級アルキル基として
は炭素数１乃至４のアルキル基が挙げられ、具体的には
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル
基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、
ｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられる。ジアミン類（１）の
具体例としては、例えばエチレンジアミン、１，２−ジ
アミノプロパン、１，２−ジアミノブタン、２，３−ジ
アミノブタン等が挙げられるが、これらに制限されるも
のではない。
及びＲ2は、同じか或は互いに異なって、それぞれ水素
原子又は低級アルキル基を表す。低級アルキル基として
は炭素数１乃至４のアルキル基が挙げられ、具体的には
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル
基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、
ｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられる。ジアミン類（１）の
具体例としては、例えばエチレンジアミン、１，２−ジ
アミノプロパン、１，２−ジアミノブタン、２，３−ジ
アミノブタン等が挙げられるが、これらに制限されるも
のではない。
【００１３】またジオール類（２）において、Ｒ3及び
Ｒ4は、同じか或は互いに異なって、それぞれ水素原子
又は低級アルキル基を表す。低級アルキル基としては、
前記ジアミン類（１）におけるＲ1及びＲ2と同様のもの
が挙げられる。ジオール類（２）の具体例としては、エ
チレングリコール、プロピレングリコール、１，２−ブ
タンジオール、２，３−ブタンジオール、１，２−ペン
タンジオール、２，３−ペンタンジオール、１，２−ヘ
キサンジオール、３，３−ジメチル−１，２−ブタンジ
オール等が挙げられるが、これらに制限されるものでは
ない。
Ｒ4は、同じか或は互いに異なって、それぞれ水素原子
又は低級アルキル基を表す。低級アルキル基としては、
前記ジアミン類（１）におけるＲ1及びＲ2と同様のもの
が挙げられる。ジオール類（２）の具体例としては、エ
チレングリコール、プロピレングリコール、１，２−ブ
タンジオール、２，３−ブタンジオール、１，２−ペン
タンジオール、２，３−ペンタンジオール、１，２−ヘ
キサンジオール、３，３−ジメチル−１，２−ブタンジ
オール等が挙げられるが、これらに制限されるものでは
ない。
【００１４】本発明の方法によりジアミン類（１）をジ
オール類（２）と接触反応せしめて得られるピラジン類
（３）としては、ピラジン、２−メチルピラジン、２−
エチルピラジン、２−プロピルピラジン、２−ブチルピ
ラジン、２，３−ジメチルピラジン、２，５−ジメチル
ピラジン、２，６−ジメチルピラジン、２，３，５−ト
リメチルピラジン、２，３−ジメチル−５−エチルピラ
ジン、２，３，５，６−テトラメチルピラジン等が挙げ
られるが、これらに制限されるものではない。
オール類（２）と接触反応せしめて得られるピラジン類
（３）としては、ピラジン、２−メチルピラジン、２−
エチルピラジン、２−プロピルピラジン、２−ブチルピ
ラジン、２，３−ジメチルピラジン、２，５−ジメチル
ピラジン、２，６−ジメチルピラジン、２，３，５−ト
リメチルピラジン、２，３−ジメチル−５−エチルピラ
ジン、２，３，５，６−テトラメチルピラジン等が挙げ
られるが、これらに制限されるものではない。
【００１５】本発明のピラジン類（３）の製造は、通常
ジアミン類（１）及びジオール類（２）の混合ガスを本
発明の脱水環化脱水素用触媒が充填された反応器に供給
することで実施できるが、希釈剤として不活性ガスを使
用することもできる。ジアミン類（１）とジオール類
（２）との使用割合は特に制限はないが、ジアミン類
（１）１モルに対して通常ジオール類（２）０．３〜１
０モル、好ましくは０．５〜３モルである。好ましい希
釈剤としては水蒸気、窒素等が挙げられる。希釈剤を使
用するとき、その使用量は、ジアミン類（１）１モルに
対して通常０．１〜１０モルである。
ジアミン類（１）及びジオール類（２）の混合ガスを本
発明の脱水環化脱水素用触媒が充填された反応器に供給
することで実施できるが、希釈剤として不活性ガスを使
用することもできる。ジアミン類（１）とジオール類
（２）との使用割合は特に制限はないが、ジアミン類
（１）１モルに対して通常ジオール類（２）０．３〜１
０モル、好ましくは０．５〜３モルである。好ましい希
釈剤としては水蒸気、窒素等が挙げられる。希釈剤を使
用するとき、その使用量は、ジアミン類（１）１モルに
対して通常０．１〜１０モルである。
【００１６】本発明のピラジン類（３）の製造法におけ
る反応温度は、通常２５０〜４５０℃、好ましくは３０
０〜４００℃である。反応温度が２５０℃より低いと原
料のジアミン類（１）及びジオール類（２）の転化率並
びに目的物のピラジン類（３）の収率は低く、４５０℃
を越えると原料の転化率は高いが、目的物の収率は低く
なる。また、ジアミン類（１）、ジオール類（２）及び
所望により希釈剤からなる混合ガスの反応器への供給
は、空間速度（以下、ＳＶという。）通常１００〜５０
００Ｈｒ-1、好ましくは１００〜３０００Ｈｒ-1で行わ
れる。
る反応温度は、通常２５０〜４５０℃、好ましくは３０
０〜４００℃である。反応温度が２５０℃より低いと原
料のジアミン類（１）及びジオール類（２）の転化率並
びに目的物のピラジン類（３）の収率は低く、４５０℃
を越えると原料の転化率は高いが、目的物の収率は低く
なる。また、ジアミン類（１）、ジオール類（２）及び
所望により希釈剤からなる混合ガスの反応器への供給
は、空間速度（以下、ＳＶという。）通常１００〜５０
００Ｈｒ-1、好ましくは１００〜３０００Ｈｒ-1で行わ
れる。
【００１７】本発明のピラジン類（３）の製造法の好ま
しい実施態様としては、例えば、ジアミン類（１）、ジ
オール類（２）及び所望により希釈剤からなる混合ガス
を前記ＳＶで、前記反応温度に保持された本発明の脱水
環化脱水素用触媒と接触させてピラジン類（３）を製造
する方法が挙げられる。
しい実施態様としては、例えば、ジアミン類（１）、ジ
オール類（２）及び所望により希釈剤からなる混合ガス
を前記ＳＶで、前記反応温度に保持された本発明の脱水
環化脱水素用触媒と接触させてピラジン類（３）を製造
する方法が挙げられる。
【００１８】本発明方法によるピラジン類（３）の製造
は、通常常圧で行なわれるが減圧下或は加圧下において
も実施することができる。本発明の方法により生成した
ピラジン類（３）を含有する反応生成ガスを適当な吸収
剤に導入してピラジン類（３）を捕集し、得られた捕集
液を蒸留すれば、ピラジン類（３）を単離することがで
きる。
は、通常常圧で行なわれるが減圧下或は加圧下において
も実施することができる。本発明の方法により生成した
ピラジン類（３）を含有する反応生成ガスを適当な吸収
剤に導入してピラジン類（３）を捕集し、得られた捕集
液を蒸留すれば、ピラジン類（３）を単離することがで
きる。
【００１９】
【実施例】次に実施例により本発明をさらに具体的に説
明するが、本発明を以下の実施例のみに限定するもので
はない。なお、転化率及び収率は次の定義に従って計算
した。 転化率（％）＝（反応したジアミン類（１）のモル数／
供給したジアミン類（１）のモル数）×１００ 収率（％）＝（生成物のモル数／供給したジアミン類
（１）のモル数）×１００
明するが、本発明を以下の実施例のみに限定するもので
はない。なお、転化率及び収率は次の定義に従って計算
した。 転化率（％）＝（反応したジアミン類（１）のモル数／
供給したジアミン類（１）のモル数）×１００ 収率（％）＝（生成物のモル数／供給したジアミン類
（１）のモル数）×１００
【００２０】実施例１ 脱水環化脱水素用触媒の調製 イオン交換水３５ｍｌに硝酸銀４．７２ｇを溶かした溶
液に球状アルミナ（住友化学工業（株）製 ＮＫＨＯ−
２４）２７ｇを浸して、硝酸銀水溶液を球状アルミナに
含浸させた。硝酸銀水溶液を含浸した球状アルミナを１
３０℃で乾燥させた後、４５０℃で５時間焼成して、銀
を担持した球状アルミナ（以下、触媒１という。）を得
た。銀の含有率は１０重量％であった。このようにして
得られた触媒１を用いて、次に示す方法により２−メチ
ルピラジンの製造を行った。 ２−メチルピラジンの製造 触媒１の２３ｍｌを内径１４．８ｍｍφのパイレックス
製反応管に充填し、反応管の触媒充填部を３６０℃に保
持した。この触媒充填部に、エチレンジアミン、プロピ
レングリコール、水及び窒素からなる混合ガス（これら
の混合比（モル比）は、エチレンジアミン：プロピレン
グリコール：水：窒素＝１：１．２：０．９３：０．
７）を、ＳＶ４５０Ｈｒ-1で通して反応を行った。反応
開始より１時間後、反応生成ガスを水に１０分間吸収さ
せて捕集した。このようにして得られた捕集液をガスク
ロマトグラフィ−で分析したところ、転化率９４％及び
２−メチルピラジン収率５３％であった。
液に球状アルミナ（住友化学工業（株）製 ＮＫＨＯ−
２４）２７ｇを浸して、硝酸銀水溶液を球状アルミナに
含浸させた。硝酸銀水溶液を含浸した球状アルミナを１
３０℃で乾燥させた後、４５０℃で５時間焼成して、銀
を担持した球状アルミナ（以下、触媒１という。）を得
た。銀の含有率は１０重量％であった。このようにして
得られた触媒１を用いて、次に示す方法により２−メチ
ルピラジンの製造を行った。 ２−メチルピラジンの製造 触媒１の２３ｍｌを内径１４．８ｍｍφのパイレックス
製反応管に充填し、反応管の触媒充填部を３６０℃に保
持した。この触媒充填部に、エチレンジアミン、プロピ
レングリコール、水及び窒素からなる混合ガス（これら
の混合比（モル比）は、エチレンジアミン：プロピレン
グリコール：水：窒素＝１：１．２：０．９３：０．
７）を、ＳＶ４５０Ｈｒ-1で通して反応を行った。反応
開始より１時間後、反応生成ガスを水に１０分間吸収さ
せて捕集した。このようにして得られた捕集液をガスク
ロマトグラフィ−で分析したところ、転化率９４％及び
２−メチルピラジン収率５３％であった。
【００２１】実施例２ 脱水環化脱水素用触媒の調製 硝酸銀の他に硝酸ランタン六水和物０．９４ｇをイオン
交換水に添加して溶解し、球状アルミナの量を２６．７
ｇに代えた以外は、実施例１と同様にして触媒の調製を
行い、銀及び酸化ランタンを担持した球状アルミナ（以
下、触媒２という。）を得た。銀及びランタンの含有率
はそれぞれ１０重量％及び１重量％であった。 ２−メチルピラジンの製造 触媒１を触媒２に代えた以外は、実施例１と同様にして
２−メチルピラジンの製造を行った。転化率は１００％
及び２−メチルピラジン収率は６５％であった。
交換水に添加して溶解し、球状アルミナの量を２６．７
ｇに代えた以外は、実施例１と同様にして触媒の調製を
行い、銀及び酸化ランタンを担持した球状アルミナ（以
下、触媒２という。）を得た。銀及びランタンの含有率
はそれぞれ１０重量％及び１重量％であった。 ２−メチルピラジンの製造 触媒１を触媒２に代えた以外は、実施例１と同様にして
２−メチルピラジンの製造を行った。転化率は１００％
及び２−メチルピラジン収率は６５％であった。
【００２２】実施例３ 脱水環化脱水素用触媒の調製 硝酸銀の他に硝酸亜鉛六水和物６．８１ｇをイオン交換
水に添加して溶解し、球状アルミナの量を２５．５ｇに
代えた以外は、実施例１と同様にして触媒の調製を行
い、銀及び酸化亜鉛を担持した球状アルミナ（以下、触
媒３という。）を得た。銀及び亜鉛の含有率はそれぞれ
１０重量％及び５重量％であった。 ２−メチルピラジンの製造 触媒１を触媒３に代えた以外は、実施例１と同様にして
２−メチルピラジンの製造を行った。転化率は１００％
及び２−メチルピラジン収率は６７％であった。
水に添加して溶解し、球状アルミナの量を２５．５ｇに
代えた以外は、実施例１と同様にして触媒の調製を行
い、銀及び酸化亜鉛を担持した球状アルミナ（以下、触
媒３という。）を得た。銀及び亜鉛の含有率はそれぞれ
１０重量％及び５重量％であった。 ２−メチルピラジンの製造 触媒１を触媒３に代えた以外は、実施例１と同様にして
２−メチルピラジンの製造を行った。転化率は１００％
及び２−メチルピラジン収率は６７％であった。
【００２３】実施例４ 脱水環化脱水素用触媒の調製 硝酸銀の他に硝酸ランタン六水和物０．９４ｇ及び硝酸
亜鉛六水和物６．８１ｇをイオン交換水に添加して溶解
し、球状アルミナの量を２５．２ｇに代えた以外は、実
施例１と同様にして触媒の調製を行い、銀、酸化ランタ
ン及び酸化亜鉛を担持した球状アルミナ（以下、触媒４
という。）を得た。銀、ランタン及び亜鉛の含有率はそ
れぞれ１０重量％、１重量％及び５重量％であった。 ２−メチルピラジンの製造 触媒１を触媒４に代えた以外は、実施例１と同様にして
２−メチルピラジンの製造を行った。転化率は１００％
及び２−メチルピラジン収率は７３％であった。
亜鉛六水和物６．８１ｇをイオン交換水に添加して溶解
し、球状アルミナの量を２５．２ｇに代えた以外は、実
施例１と同様にして触媒の調製を行い、銀、酸化ランタ
ン及び酸化亜鉛を担持した球状アルミナ（以下、触媒４
という。）を得た。銀、ランタン及び亜鉛の含有率はそ
れぞれ１０重量％、１重量％及び５重量％であった。 ２−メチルピラジンの製造 触媒１を触媒４に代えた以外は、実施例１と同様にして
２−メチルピラジンの製造を行った。転化率は１００％
及び２−メチルピラジン収率は７３％であった。
【００２４】実施例５ 脱水環化脱水素用触媒の調製 硝酸亜鉛六水和物の量を２０．４３ｇに代え、球状アル
ミナの量を２２．２ｇに代えた以外は、実施例４と同様
にして触媒の調製を行い、銀、酸化ランタン及び酸化亜
鉛を担持した球状アルミナ（以下、触媒５という。）を
得た。銀、ランタン及び亜鉛の含有率はそれぞれ１０重
量％、１重量％及び１５重量％であった。 ２−メチルピラジンの製造 触媒１を触媒５に代えた以外は、実施例１と同様にして
２−メチルピラジンの製造を行った。転化率は１００％
及び２−メチルピラジン収率は７２％であった。
ミナの量を２２．２ｇに代えた以外は、実施例４と同様
にして触媒の調製を行い、銀、酸化ランタン及び酸化亜
鉛を担持した球状アルミナ（以下、触媒５という。）を
得た。銀、ランタン及び亜鉛の含有率はそれぞれ１０重
量％、１重量％及び１５重量％であった。 ２−メチルピラジンの製造 触媒１を触媒５に代えた以外は、実施例１と同様にして
２−メチルピラジンの製造を行った。転化率は１００％
及び２−メチルピラジン収率は７２％であった。
【００２５】実施例６ 脱水環化脱水素用触媒の調製 硝酸ランタン六水和物０．９４ｇを硝酸カリウム０．７
８ｇに代えた以外は、実施例２と同様にして触媒の調製
を行い、銀及び酸化カリウムを担持した球状アルミナ
（以下、触媒６という。）を得た。銀及びカリウムの含
有率はそれぞれ１０重量％及び１重量％であった。 ２−メチルピラジンの製造 触媒１を触媒６に代えた以外は、実施例１と同様にして
２−メチルピラジンの製造を行った。転化率は１００％
及び２−メチルピラジン収率は６３％であった。
８ｇに代えた以外は、実施例２と同様にして触媒の調製
を行い、銀及び酸化カリウムを担持した球状アルミナ
（以下、触媒６という。）を得た。銀及びカリウムの含
有率はそれぞれ１０重量％及び１重量％であった。 ２−メチルピラジンの製造 触媒１を触媒６に代えた以外は、実施例１と同様にして
２−メチルピラジンの製造を行った。転化率は１００％
及び２−メチルピラジン収率は６３％であった。
【００２６】実施例７ 脱水環化脱水素用触媒の調製 硝酸ランタン六水和物０．９４ｇを硝酸マグネシウム六
水和物３．１６ｇに代えた以外は、実施例２と同様にし
て触媒の調製を行い、銀及び酸化マグネシウムを担持し
た球状アルミナ（以下、触媒７という。）を得た。銀及
びマグネシウムの含有率はそれぞれ１０重量％及び１重
量％であった。 ２−メチルピラジンの製造 触媒１を触媒７に代えた以外は、実施例１と同様にして
２−メチルピラジンの製造を行った。転化率は１００％
及び２−メチルピラジン収率は６５％であった。
水和物３．１６ｇに代えた以外は、実施例２と同様にし
て触媒の調製を行い、銀及び酸化マグネシウムを担持し
た球状アルミナ（以下、触媒７という。）を得た。銀及
びマグネシウムの含有率はそれぞれ１０重量％及び１重
量％であった。 ２−メチルピラジンの製造 触媒１を触媒７に代えた以外は、実施例１と同様にして
２−メチルピラジンの製造を行った。転化率は１００％
及び２−メチルピラジン収率は６５％であった。
【００２７】実施例８ ２−エチルピラジンの製造 エチレンジアミンを１，２−ジアミノブタンに代え、プ
ロピレングリコールをエチレングリコールに代え、水を
使用しないで混合ガスの混合比（モル比）を１，２−ジ
アミノブタン：エチレングリコール：窒素＝１：１．
２：０．７に代えた以外は、実施例２と同様にして２−
エチルピラジンの製造を行った。転化率は１００％及び
２−エチルピラジン収率は５４％であった。
ロピレングリコールをエチレングリコールに代え、水を
使用しないで混合ガスの混合比（モル比）を１，２−ジ
アミノブタン：エチレングリコール：窒素＝１：１．
２：０．７に代えた以外は、実施例２と同様にして２−
エチルピラジンの製造を行った。転化率は１００％及び
２−エチルピラジン収率は５４％であった。
【００２８】実施例９ ２，３−ジメチルピラジンの製造 プロピレングリコールを２，３−ブタンジオールに代
え、水を使用しないで混合ガスの混合比（モル比）をエ
チレンジアミン：２，３−ブタンジオール：窒素＝１：
１．２：０．７に代えた以外は、実施例２と同様にして
２，３−ジメチルピラジンの製造を行った。転化率は１
００％及び２，３−ジメチルピラジン収率は５７％であ
った。
え、水を使用しないで混合ガスの混合比（モル比）をエ
チレンジアミン：２，３−ブタンジオール：窒素＝１：
１．２：０．７に代えた以外は、実施例２と同様にして
２，３−ジメチルピラジンの製造を行った。転化率は１
００％及び２，３−ジメチルピラジン収率は５７％であ
った。
Claims (4)
- 【請求項１】 銀を含有することを特徴とする脱水環化
脱水素用触媒。 - 【請求項２】 銀が、アルミナ、ジルコニア及び炭化ケ
イ素よりなる群から選ばれる少なくとも１種の担体に担
持されたものである請求項１記載の脱水環化脱水素用触
媒。 - 【請求項３】 付加構成元素としてアルカリ金属、アル
カリ土類金属、亜鉛及びランタン系元素よりなる群から
選ばれる少なくとも１種の元素を含有する請求項１又は
２記載の脱水環化脱水素用触媒。 - 【請求項４】 一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ1及びＲ2は、同じか或は互いに異なって、そ
れぞれ水素原子又は低級アルキル基を表す。）で示され
るジアミン類を一般式（２）： 【化２】 （式中、Ｒ3及びＲ4は、同じか或は互いに異なって、そ
れぞれ水素原子又は低級アルキル基を表す。）で示され
るジオール類と気相接触反応せしめて一般式（３）： 【化３】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、前記と同じ。）で示
されるピラジン類を製造するにあたり、請求項１、２又
は３に記載の脱水環化脱水素用触媒の存在下、気相接触
反応せしめることを特徴とするピラジン類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21985695A JPH08224473A (ja) | 1994-12-20 | 1995-08-04 | 脱水環化脱水素用触媒、及びそれを用いたピラジン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33585994 | 1994-12-20 | ||
| JP6-335859 | 1994-12-20 | ||
| JP21985695A JPH08224473A (ja) | 1994-12-20 | 1995-08-04 | 脱水環化脱水素用触媒、及びそれを用いたピラジン類の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08224473A true JPH08224473A (ja) | 1996-09-03 |
Family
ID=26523378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21985695A Pending JPH08224473A (ja) | 1994-12-20 | 1995-08-04 | 脱水環化脱水素用触媒、及びそれを用いたピラジン類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08224473A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE1010032A3 (fr) * | 1995-08-04 | 1997-11-04 | Koei Chemical Co | Procede de production de composes de la pyrazine. |
| JP2002173486A (ja) * | 2000-12-01 | 2002-06-21 | Koei Chem Co Ltd | ２，６−ジ置換ピラジンの製造方法 |
| JP2013119522A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Koei Chem Co Ltd | １−メチルイミダゾール化合物の製造方法 |
| JP2013119524A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Koei Chem Co Ltd | １−アルキルイミダゾール化合物の製造方法 |
| CN113717112A (zh) * | 2021-08-04 | 2021-11-30 | 山东达民化工股份有限公司 | 2,5-二甲基吡嗪的制备方法 |
-
1995
- 1995-08-04 JP JP21985695A patent/JPH08224473A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE1010032A3 (fr) * | 1995-08-04 | 1997-11-04 | Koei Chemical Co | Procede de production de composes de la pyrazine. |
| US5693806A (en) * | 1995-08-04 | 1997-12-02 | Koei Chemical Co., Ltd. | Process for producing pyrazine compounds |
| JP2002173486A (ja) * | 2000-12-01 | 2002-06-21 | Koei Chem Co Ltd | ２，６−ジ置換ピラジンの製造方法 |
| JP2013119522A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Koei Chem Co Ltd | １−メチルイミダゾール化合物の製造方法 |
| JP2013119524A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Koei Chem Co Ltd | １−アルキルイミダゾール化合物の製造方法 |
| CN113717112A (zh) * | 2021-08-04 | 2021-11-30 | 山东达民化工股份有限公司 | 2,5-二甲基吡嗪的制备方法 |
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