JPH08224473A - 脱水環化脱水素用触媒、及びそれを用いたピラジン類の製造法 - Google Patents
脱水環化脱水素用触媒、及びそれを用いたピラジン類の製造法Info
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- JPH08224473A JPH08224473A JP21985695A JP21985695A JPH08224473A JP H08224473 A JPH08224473 A JP H08224473A JP 21985695 A JP21985695 A JP 21985695A JP 21985695 A JP21985695 A JP 21985695A JP H08224473 A JPH08224473 A JP H08224473A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 新規な脱水環化脱水素用触媒、及びそれを用
いたピラジン類の製造法を提供する。 【解決手段】 銀を含有し、付加構成元素としてアルカ
リ金属、アルカリ土類金属、亜鉛及びランタン系元素よ
りなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を含有して
もよい脱水環化脱水素用触媒触媒、及び当該触媒の存在
下、一般式(1): 【化1】 (R1及びR2は水素原子又は低級アルキル基)のジアミ
ン類を一般式(2): 【化2】 (R3及びR4は水素原子又は低級アルキル基)のジオー
ル類と気相接触反応せしめて一般式(3): 【化3】 (R1、R2、R3及びR4は前記と同じ)のピラジン類を
製造する。
いたピラジン類の製造法を提供する。 【解決手段】 銀を含有し、付加構成元素としてアルカ
リ金属、アルカリ土類金属、亜鉛及びランタン系元素よ
りなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を含有して
もよい脱水環化脱水素用触媒触媒、及び当該触媒の存在
下、一般式(1): 【化1】 (R1及びR2は水素原子又は低級アルキル基)のジアミ
ン類を一般式(2): 【化2】 (R3及びR4は水素原子又は低級アルキル基)のジオー
ル類と気相接触反応せしめて一般式(3): 【化3】 (R1、R2、R3及びR4は前記と同じ)のピラジン類を
製造する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な脱水環化脱
水素用触媒、及びその使用方法に関する。脱水環化脱水
素用触媒は、例えば、ジアミン類とジオール類とからの
気相接触反応(すなわち、脱水環化脱水素反応)によっ
て、香料、医薬、農薬の中間体として有用なピラジン類
を製造するのに用いることができる。
水素用触媒、及びその使用方法に関する。脱水環化脱水
素用触媒は、例えば、ジアミン類とジオール類とからの
気相接触反応(すなわち、脱水環化脱水素反応)によっ
て、香料、医薬、農薬の中間体として有用なピラジン類
を製造するのに用いることができる。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、新規な脱水
環化脱水素用触媒を提供することを目的とする。本発明
の他の目的はその触媒を用いたピラジン類の製造法を提
供することにある。
環化脱水素用触媒を提供することを目的とする。本発明
の他の目的はその触媒を用いたピラジン類の製造法を提
供することにある。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討を
重ねた結果、銀を含有する触媒が脱水環化脱水素能に優
れていること、及び当該触媒の存在下、ジアミン類をジ
オール類と気相接触反応せしめると好収率でピラジン類
を製造できることを見出し本発明を完成するに至った。
重ねた結果、銀を含有する触媒が脱水環化脱水素能に優
れていること、及び当該触媒の存在下、ジアミン類をジ
オール類と気相接触反応せしめると好収率でピラジン類
を製造できることを見出し本発明を完成するに至った。
【0004】即ち本発明は、銀を含有することを特徴と
する脱水環化脱水素用触媒、及び一般式(1):
する脱水環化脱水素用触媒、及び一般式(1):
【化4】 (式中、R1及びR2は、同じか或は互いに異なって、そ
れぞれ水素原子又は低級アルキル基を表す。)で示され
るジアミン類(以下、ジアミン類(1)という。)を一
般式(2):
れぞれ水素原子又は低級アルキル基を表す。)で示され
るジアミン類(以下、ジアミン類(1)という。)を一
般式(2):
【化5】 (式中、R3及びR4は、同じか或は互いに異なって、そ
れぞれ水素原子又は低級アルキル基を表す。)で示され
るジオール類(以下、ジオール類(2)という。)と気
相接触反応せしめて一般式(3):
れぞれ水素原子又は低級アルキル基を表す。)で示され
るジオール類(以下、ジオール類(2)という。)と気
相接触反応せしめて一般式(3):
【化6】 (式中、R1、R2、R3及びR4は、前記と同じ。)で示
されるピラジン類(以下、ピラジン類(3)という。)
を製造するにあたり、銀を含有する脱水環化脱水素用触
媒の存在下、気相接触反応せしめることを特徴とするピ
ラジン類の製造方法に関する。
されるピラジン類(以下、ピラジン類(3)という。)
を製造するにあたり、銀を含有する脱水環化脱水素用触
媒の存在下、気相接触反応せしめることを特徴とするピ
ラジン類の製造方法に関する。
【0005】
【発明の実施の形態】以下に本発明について詳細に説明
する。本発明の脱水環化脱水素用触媒としては、活性成
分として銀を含有するものであれば特に制限はなく、通
常、銀を担体に担持したものが用いられる。担体として
は、アルミナ、ジルコニア及び炭化ケイ素等よりなる群
から選ばれる少なくとも1種が挙げられ、好ましくはア
ルミナ、ジルコニアである。本発明の脱水環化脱水素用
触媒が、銀を担体に担持したものである場合、銀の担持
量は特に限定されないが、通常、脱水環化脱水素用触媒
の1〜50重量%、好ましくは2〜30重量%である。
する。本発明の脱水環化脱水素用触媒としては、活性成
分として銀を含有するものであれば特に制限はなく、通
常、銀を担体に担持したものが用いられる。担体として
は、アルミナ、ジルコニア及び炭化ケイ素等よりなる群
から選ばれる少なくとも1種が挙げられ、好ましくはア
ルミナ、ジルコニアである。本発明の脱水環化脱水素用
触媒が、銀を担体に担持したものである場合、銀の担持
量は特に限定されないが、通常、脱水環化脱水素用触媒
の1〜50重量%、好ましくは2〜30重量%である。
【0006】本発明の脱水環化脱水素用触媒は、銀だけ
でも充分脱水環化脱水素能があるが、付加構成元素とし
てアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛及びランタン
系元素よりなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を
含有すると脱水環化脱水素能がより向上し、また、銀と
共に当該付加構成元素が、担体、好ましくはアルミナ、
ジルコニアに担持されたものは脱水環化脱水素能がさら
に向上する。本発明の脱水環化脱水素用触媒が、上記付
加構成元素を含有するものであるとき、付加構成元素は
酸化物として含有させるのが好ましい。
でも充分脱水環化脱水素能があるが、付加構成元素とし
てアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛及びランタン
系元素よりなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を
含有すると脱水環化脱水素能がより向上し、また、銀と
共に当該付加構成元素が、担体、好ましくはアルミナ、
ジルコニアに担持されたものは脱水環化脱水素能がさら
に向上する。本発明の脱水環化脱水素用触媒が、上記付
加構成元素を含有するものであるとき、付加構成元素は
酸化物として含有させるのが好ましい。
【0007】本発明の脱水環化脱水素用触媒が、銀と共
に付加構成元素が担体に担持されたものであるとき、付
加構成元素の担持量は特に制限はないが、付加構成元素
がアルカリ金属、アルカリ土類金属及びランタン系元素
の場合は、脱水環化脱水素用触媒の通常0.01〜10
重量%、好ましくは0.1〜5重量%、付加構成元素が
亜鉛の場合は脱水環化脱水素用触媒の通常0.5〜20
重量%、好ましくは1〜15重量%である。
に付加構成元素が担体に担持されたものであるとき、付
加構成元素の担持量は特に制限はないが、付加構成元素
がアルカリ金属、アルカリ土類金属及びランタン系元素
の場合は、脱水環化脱水素用触媒の通常0.01〜10
重量%、好ましくは0.1〜5重量%、付加構成元素が
亜鉛の場合は脱水環化脱水素用触媒の通常0.5〜20
重量%、好ましくは1〜15重量%である。
【0008】本発明の脱水環化脱水素用触媒を調製する
にあたり使用する銀及び付加構成元素の原料としては、
金属及び化合物が挙げられ、化合物としては特に限定は
なく、触媒の調製において通常用いられる化合物であれ
ばいずれも使用できる。
にあたり使用する銀及び付加構成元素の原料としては、
金属及び化合物が挙げられ、化合物としては特に限定は
なく、触媒の調製において通常用いられる化合物であれ
ばいずれも使用できる。
【0009】例えば、銀化合物としては硝酸銀、塩化銀
等が挙げられ、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の化
合物としてはリチウム、ナトリウム、カリウム、セシウ
ム、ルビジウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム
等の塩化物、水酸化物、硝酸塩、硫酸塩等が、亜鉛化合
物としては酸化亜鉛、硝酸亜鉛、硫酸亜鉛等が、またラ
ンタン系元素の化合物としてはランタン、セリウム、ネ
オジム、サマリウム等の塩化物、水酸化物、硝酸塩、硫
酸塩等が挙げられる。
等が挙げられ、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の化
合物としてはリチウム、ナトリウム、カリウム、セシウ
ム、ルビジウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム
等の塩化物、水酸化物、硝酸塩、硫酸塩等が、亜鉛化合
物としては酸化亜鉛、硝酸亜鉛、硫酸亜鉛等が、またラ
ンタン系元素の化合物としてはランタン、セリウム、ネ
オジム、サマリウム等の塩化物、水酸化物、硝酸塩、硫
酸塩等が挙げられる。
【0010】本発明の脱水環化脱水素用触媒は、一般に
知られている触媒の調製法に従って得ることができる。
例えば、上記原料化合物を含有する液中に担体粉末を加
えて濃縮し、乾燥、焼成する方法や、当該液中に担体を
浸して担体に含浸担持し、乾燥、焼成する方法等によっ
て本発明の脱水環化脱水素用触媒を調製できる。
知られている触媒の調製法に従って得ることができる。
例えば、上記原料化合物を含有する液中に担体粉末を加
えて濃縮し、乾燥、焼成する方法や、当該液中に担体を
浸して担体に含浸担持し、乾燥、焼成する方法等によっ
て本発明の脱水環化脱水素用触媒を調製できる。
【0011】本発明の脱水環化脱水素用触媒の存在下、
ジアミン類(1)をジオール類(2)と気相接触反応せ
しめるとピラジン類(3)を好収率で製造することがで
きる。
ジアミン類(1)をジオール類(2)と気相接触反応せ
しめるとピラジン類(3)を好収率で製造することがで
きる。
【0012】ジアミン類(1)において、置換基のR1
及びR2は、同じか或は互いに異なって、それぞれ水素
原子又は低級アルキル基を表す。低級アルキル基として
は炭素数1乃至4のアルキル基が挙げられ、具体的には
メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、
tert−ブチル基が挙げられる。ジアミン類(1)の
具体例としては、例えばエチレンジアミン、1,2−ジ
アミノプロパン、1,2−ジアミノブタン、2,3−ジ
アミノブタン等が挙げられるが、これらに制限されるも
のではない。
及びR2は、同じか或は互いに異なって、それぞれ水素
原子又は低級アルキル基を表す。低級アルキル基として
は炭素数1乃至4のアルキル基が挙げられ、具体的には
メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、
tert−ブチル基が挙げられる。ジアミン類(1)の
具体例としては、例えばエチレンジアミン、1,2−ジ
アミノプロパン、1,2−ジアミノブタン、2,3−ジ
アミノブタン等が挙げられるが、これらに制限されるも
のではない。
【0013】またジオール類(2)において、R3及び
R4は、同じか或は互いに異なって、それぞれ水素原子
又は低級アルキル基を表す。低級アルキル基としては、
前記ジアミン類(1)におけるR1及びR2と同様のもの
が挙げられる。ジオール類(2)の具体例としては、エ
チレングリコール、プロピレングリコール、1,2−ブ
タンジオール、2,3−ブタンジオール、1,2−ペン
タンジオール、2,3−ペンタンジオール、1,2−ヘ
キサンジオール、3,3−ジメチル−1,2−ブタンジ
オール等が挙げられるが、これらに制限されるものでは
ない。
R4は、同じか或は互いに異なって、それぞれ水素原子
又は低級アルキル基を表す。低級アルキル基としては、
前記ジアミン類(1)におけるR1及びR2と同様のもの
が挙げられる。ジオール類(2)の具体例としては、エ
チレングリコール、プロピレングリコール、1,2−ブ
タンジオール、2,3−ブタンジオール、1,2−ペン
タンジオール、2,3−ペンタンジオール、1,2−ヘ
キサンジオール、3,3−ジメチル−1,2−ブタンジ
オール等が挙げられるが、これらに制限されるものでは
ない。
【0014】本発明の方法によりジアミン類(1)をジ
オール類(2)と接触反応せしめて得られるピラジン類
(3)としては、ピラジン、2−メチルピラジン、2−
エチルピラジン、2−プロピルピラジン、2−ブチルピ
ラジン、2,3−ジメチルピラジン、2,5−ジメチル
ピラジン、2,6−ジメチルピラジン、2,3,5−ト
リメチルピラジン、2,3−ジメチル−5−エチルピラ
ジン、2,3,5,6−テトラメチルピラジン等が挙げ
られるが、これらに制限されるものではない。
オール類(2)と接触反応せしめて得られるピラジン類
(3)としては、ピラジン、2−メチルピラジン、2−
エチルピラジン、2−プロピルピラジン、2−ブチルピ
ラジン、2,3−ジメチルピラジン、2,5−ジメチル
ピラジン、2,6−ジメチルピラジン、2,3,5−ト
リメチルピラジン、2,3−ジメチル−5−エチルピラ
ジン、2,3,5,6−テトラメチルピラジン等が挙げ
られるが、これらに制限されるものではない。
【0015】本発明のピラジン類(3)の製造は、通常
ジアミン類(1)及びジオール類(2)の混合ガスを本
発明の脱水環化脱水素用触媒が充填された反応器に供給
することで実施できるが、希釈剤として不活性ガスを使
用することもできる。ジアミン類(1)とジオール類
(2)との使用割合は特に制限はないが、ジアミン類
(1)1モルに対して通常ジオール類(2)0.3〜1
0モル、好ましくは0.5〜3モルである。好ましい希
釈剤としては水蒸気、窒素等が挙げられる。希釈剤を使
用するとき、その使用量は、ジアミン類(1)1モルに
対して通常0.1〜10モルである。
ジアミン類(1)及びジオール類(2)の混合ガスを本
発明の脱水環化脱水素用触媒が充填された反応器に供給
することで実施できるが、希釈剤として不活性ガスを使
用することもできる。ジアミン類(1)とジオール類
(2)との使用割合は特に制限はないが、ジアミン類
(1)1モルに対して通常ジオール類(2)0.3〜1
0モル、好ましくは0.5〜3モルである。好ましい希
釈剤としては水蒸気、窒素等が挙げられる。希釈剤を使
用するとき、その使用量は、ジアミン類(1)1モルに
対して通常0.1〜10モルである。
【0016】本発明のピラジン類(3)の製造法におけ
る反応温度は、通常250〜450℃、好ましくは30
0〜400℃である。反応温度が250℃より低いと原
料のジアミン類(1)及びジオール類(2)の転化率並
びに目的物のピラジン類(3)の収率は低く、450℃
を越えると原料の転化率は高いが、目的物の収率は低く
なる。また、ジアミン類(1)、ジオール類(2)及び
所望により希釈剤からなる混合ガスの反応器への供給
は、空間速度(以下、SVという。)通常100〜50
00Hr-1、好ましくは100〜3000Hr-1で行わ
れる。
る反応温度は、通常250〜450℃、好ましくは30
0〜400℃である。反応温度が250℃より低いと原
料のジアミン類(1)及びジオール類(2)の転化率並
びに目的物のピラジン類(3)の収率は低く、450℃
を越えると原料の転化率は高いが、目的物の収率は低く
なる。また、ジアミン類(1)、ジオール類(2)及び
所望により希釈剤からなる混合ガスの反応器への供給
は、空間速度(以下、SVという。)通常100〜50
00Hr-1、好ましくは100〜3000Hr-1で行わ
れる。
【0017】本発明のピラジン類(3)の製造法の好ま
しい実施態様としては、例えば、ジアミン類(1)、ジ
オール類(2)及び所望により希釈剤からなる混合ガス
を前記SVで、前記反応温度に保持された本発明の脱水
環化脱水素用触媒と接触させてピラジン類(3)を製造
する方法が挙げられる。
しい実施態様としては、例えば、ジアミン類(1)、ジ
オール類(2)及び所望により希釈剤からなる混合ガス
を前記SVで、前記反応温度に保持された本発明の脱水
環化脱水素用触媒と接触させてピラジン類(3)を製造
する方法が挙げられる。
【0018】本発明方法によるピラジン類(3)の製造
は、通常常圧で行なわれるが減圧下或は加圧下において
も実施することができる。本発明の方法により生成した
ピラジン類(3)を含有する反応生成ガスを適当な吸収
剤に導入してピラジン類(3)を捕集し、得られた捕集
液を蒸留すれば、ピラジン類(3)を単離することがで
きる。
は、通常常圧で行なわれるが減圧下或は加圧下において
も実施することができる。本発明の方法により生成した
ピラジン類(3)を含有する反応生成ガスを適当な吸収
剤に導入してピラジン類(3)を捕集し、得られた捕集
液を蒸留すれば、ピラジン類(3)を単離することがで
きる。
【0019】
【実施例】次に実施例により本発明をさらに具体的に説
明するが、本発明を以下の実施例のみに限定するもので
はない。なお、転化率及び収率は次の定義に従って計算
した。 転化率(%)=(反応したジアミン類(1)のモル数/
供給したジアミン類(1)のモル数)×100 収率(%)=(生成物のモル数/供給したジアミン類
(1)のモル数)×100
明するが、本発明を以下の実施例のみに限定するもので
はない。なお、転化率及び収率は次の定義に従って計算
した。 転化率(%)=(反応したジアミン類(1)のモル数/
供給したジアミン類(1)のモル数)×100 収率(%)=(生成物のモル数/供給したジアミン類
(1)のモル数)×100
【0020】実施例1 脱水環化脱水素用触媒の調製 イオン交換水35mlに硝酸銀4.72gを溶かした溶
液に球状アルミナ(住友化学工業(株)製 NKHO−
24)27gを浸して、硝酸銀水溶液を球状アルミナに
含浸させた。硝酸銀水溶液を含浸した球状アルミナを1
30℃で乾燥させた後、450℃で5時間焼成して、銀
を担持した球状アルミナ(以下、触媒1という。)を得
た。銀の含有率は10重量%であった。このようにして
得られた触媒1を用いて、次に示す方法により2−メチ
ルピラジンの製造を行った。 2−メチルピラジンの製造 触媒1の23mlを内径14.8mmφのパイレックス
製反応管に充填し、反応管の触媒充填部を360℃に保
持した。この触媒充填部に、エチレンジアミン、プロピ
レングリコール、水及び窒素からなる混合ガス(これら
の混合比(モル比)は、エチレンジアミン:プロピレン
グリコール:水:窒素=1:1.2:0.93:0.
7)を、SV450Hr-1で通して反応を行った。反応
開始より1時間後、反応生成ガスを水に10分間吸収さ
せて捕集した。このようにして得られた捕集液をガスク
ロマトグラフィ−で分析したところ、転化率94%及び
2−メチルピラジン収率53%であった。
液に球状アルミナ(住友化学工業(株)製 NKHO−
24)27gを浸して、硝酸銀水溶液を球状アルミナに
含浸させた。硝酸銀水溶液を含浸した球状アルミナを1
30℃で乾燥させた後、450℃で5時間焼成して、銀
を担持した球状アルミナ(以下、触媒1という。)を得
た。銀の含有率は10重量%であった。このようにして
得られた触媒1を用いて、次に示す方法により2−メチ
ルピラジンの製造を行った。 2−メチルピラジンの製造 触媒1の23mlを内径14.8mmφのパイレックス
製反応管に充填し、反応管の触媒充填部を360℃に保
持した。この触媒充填部に、エチレンジアミン、プロピ
レングリコール、水及び窒素からなる混合ガス(これら
の混合比(モル比)は、エチレンジアミン:プロピレン
グリコール:水:窒素=1:1.2:0.93:0.
7)を、SV450Hr-1で通して反応を行った。反応
開始より1時間後、反応生成ガスを水に10分間吸収さ
せて捕集した。このようにして得られた捕集液をガスク
ロマトグラフィ−で分析したところ、転化率94%及び
2−メチルピラジン収率53%であった。
【0021】実施例2 脱水環化脱水素用触媒の調製 硝酸銀の他に硝酸ランタン六水和物0.94gをイオン
交換水に添加して溶解し、球状アルミナの量を26.7
gに代えた以外は、実施例1と同様にして触媒の調製を
行い、銀及び酸化ランタンを担持した球状アルミナ(以
下、触媒2という。)を得た。銀及びランタンの含有率
はそれぞれ10重量%及び1重量%であった。 2−メチルピラジンの製造 触媒1を触媒2に代えた以外は、実施例1と同様にして
2−メチルピラジンの製造を行った。転化率は100%
及び2−メチルピラジン収率は65%であった。
交換水に添加して溶解し、球状アルミナの量を26.7
gに代えた以外は、実施例1と同様にして触媒の調製を
行い、銀及び酸化ランタンを担持した球状アルミナ(以
下、触媒2という。)を得た。銀及びランタンの含有率
はそれぞれ10重量%及び1重量%であった。 2−メチルピラジンの製造 触媒1を触媒2に代えた以外は、実施例1と同様にして
2−メチルピラジンの製造を行った。転化率は100%
及び2−メチルピラジン収率は65%であった。
【0022】実施例3 脱水環化脱水素用触媒の調製 硝酸銀の他に硝酸亜鉛六水和物6.81gをイオン交換
水に添加して溶解し、球状アルミナの量を25.5gに
代えた以外は、実施例1と同様にして触媒の調製を行
い、銀及び酸化亜鉛を担持した球状アルミナ(以下、触
媒3という。)を得た。銀及び亜鉛の含有率はそれぞれ
10重量%及び5重量%であった。 2−メチルピラジンの製造 触媒1を触媒3に代えた以外は、実施例1と同様にして
2−メチルピラジンの製造を行った。転化率は100%
及び2−メチルピラジン収率は67%であった。
水に添加して溶解し、球状アルミナの量を25.5gに
代えた以外は、実施例1と同様にして触媒の調製を行
い、銀及び酸化亜鉛を担持した球状アルミナ(以下、触
媒3という。)を得た。銀及び亜鉛の含有率はそれぞれ
10重量%及び5重量%であった。 2−メチルピラジンの製造 触媒1を触媒3に代えた以外は、実施例1と同様にして
2−メチルピラジンの製造を行った。転化率は100%
及び2−メチルピラジン収率は67%であった。
【0023】実施例4 脱水環化脱水素用触媒の調製 硝酸銀の他に硝酸ランタン六水和物0.94g及び硝酸
亜鉛六水和物6.81gをイオン交換水に添加して溶解
し、球状アルミナの量を25.2gに代えた以外は、実
施例1と同様にして触媒の調製を行い、銀、酸化ランタ
ン及び酸化亜鉛を担持した球状アルミナ(以下、触媒4
という。)を得た。銀、ランタン及び亜鉛の含有率はそ
れぞれ10重量%、1重量%及び5重量%であった。 2−メチルピラジンの製造 触媒1を触媒4に代えた以外は、実施例1と同様にして
2−メチルピラジンの製造を行った。転化率は100%
及び2−メチルピラジン収率は73%であった。
亜鉛六水和物6.81gをイオン交換水に添加して溶解
し、球状アルミナの量を25.2gに代えた以外は、実
施例1と同様にして触媒の調製を行い、銀、酸化ランタ
ン及び酸化亜鉛を担持した球状アルミナ(以下、触媒4
という。)を得た。銀、ランタン及び亜鉛の含有率はそ
れぞれ10重量%、1重量%及び5重量%であった。 2−メチルピラジンの製造 触媒1を触媒4に代えた以外は、実施例1と同様にして
2−メチルピラジンの製造を行った。転化率は100%
及び2−メチルピラジン収率は73%であった。
【0024】実施例5 脱水環化脱水素用触媒の調製 硝酸亜鉛六水和物の量を20.43gに代え、球状アル
ミナの量を22.2gに代えた以外は、実施例4と同様
にして触媒の調製を行い、銀、酸化ランタン及び酸化亜
鉛を担持した球状アルミナ(以下、触媒5という。)を
得た。銀、ランタン及び亜鉛の含有率はそれぞれ10重
量%、1重量%及び15重量%であった。 2−メチルピラジンの製造 触媒1を触媒5に代えた以外は、実施例1と同様にして
2−メチルピラジンの製造を行った。転化率は100%
及び2−メチルピラジン収率は72%であった。
ミナの量を22.2gに代えた以外は、実施例4と同様
にして触媒の調製を行い、銀、酸化ランタン及び酸化亜
鉛を担持した球状アルミナ(以下、触媒5という。)を
得た。銀、ランタン及び亜鉛の含有率はそれぞれ10重
量%、1重量%及び15重量%であった。 2−メチルピラジンの製造 触媒1を触媒5に代えた以外は、実施例1と同様にして
2−メチルピラジンの製造を行った。転化率は100%
及び2−メチルピラジン収率は72%であった。
【0025】実施例6 脱水環化脱水素用触媒の調製 硝酸ランタン六水和物0.94gを硝酸カリウム0.7
8gに代えた以外は、実施例2と同様にして触媒の調製
を行い、銀及び酸化カリウムを担持した球状アルミナ
(以下、触媒6という。)を得た。銀及びカリウムの含
有率はそれぞれ10重量%及び1重量%であった。 2−メチルピラジンの製造 触媒1を触媒6に代えた以外は、実施例1と同様にして
2−メチルピラジンの製造を行った。転化率は100%
及び2−メチルピラジン収率は63%であった。
8gに代えた以外は、実施例2と同様にして触媒の調製
を行い、銀及び酸化カリウムを担持した球状アルミナ
(以下、触媒6という。)を得た。銀及びカリウムの含
有率はそれぞれ10重量%及び1重量%であった。 2−メチルピラジンの製造 触媒1を触媒6に代えた以外は、実施例1と同様にして
2−メチルピラジンの製造を行った。転化率は100%
及び2−メチルピラジン収率は63%であった。
【0026】実施例7 脱水環化脱水素用触媒の調製 硝酸ランタン六水和物0.94gを硝酸マグネシウム六
水和物3.16gに代えた以外は、実施例2と同様にし
て触媒の調製を行い、銀及び酸化マグネシウムを担持し
た球状アルミナ(以下、触媒7という。)を得た。銀及
びマグネシウムの含有率はそれぞれ10重量%及び1重
量%であった。 2−メチルピラジンの製造 触媒1を触媒7に代えた以外は、実施例1と同様にして
2−メチルピラジンの製造を行った。転化率は100%
及び2−メチルピラジン収率は65%であった。
水和物3.16gに代えた以外は、実施例2と同様にし
て触媒の調製を行い、銀及び酸化マグネシウムを担持し
た球状アルミナ(以下、触媒7という。)を得た。銀及
びマグネシウムの含有率はそれぞれ10重量%及び1重
量%であった。 2−メチルピラジンの製造 触媒1を触媒7に代えた以外は、実施例1と同様にして
2−メチルピラジンの製造を行った。転化率は100%
及び2−メチルピラジン収率は65%であった。
【0027】実施例8 2−エチルピラジンの製造 エチレンジアミンを1,2−ジアミノブタンに代え、プ
ロピレングリコールをエチレングリコールに代え、水を
使用しないで混合ガスの混合比(モル比)を1,2−ジ
アミノブタン:エチレングリコール:窒素=1:1.
2:0.7に代えた以外は、実施例2と同様にして2−
エチルピラジンの製造を行った。転化率は100%及び
2−エチルピラジン収率は54%であった。
ロピレングリコールをエチレングリコールに代え、水を
使用しないで混合ガスの混合比(モル比)を1,2−ジ
アミノブタン:エチレングリコール:窒素=1:1.
2:0.7に代えた以外は、実施例2と同様にして2−
エチルピラジンの製造を行った。転化率は100%及び
2−エチルピラジン収率は54%であった。
【0028】実施例9 2,3−ジメチルピラジンの製造 プロピレングリコールを2,3−ブタンジオールに代
え、水を使用しないで混合ガスの混合比(モル比)をエ
チレンジアミン:2,3−ブタンジオール:窒素=1:
1.2:0.7に代えた以外は、実施例2と同様にして
2,3−ジメチルピラジンの製造を行った。転化率は1
00%及び2,3−ジメチルピラジン収率は57%であ
った。
え、水を使用しないで混合ガスの混合比(モル比)をエ
チレンジアミン:2,3−ブタンジオール:窒素=1:
1.2:0.7に代えた以外は、実施例2と同様にして
2,3−ジメチルピラジンの製造を行った。転化率は1
00%及び2,3−ジメチルピラジン収率は57%であ
った。
Claims (4)
- 【請求項1】 銀を含有することを特徴とする脱水環化
脱水素用触媒。 - 【請求項2】 銀が、アルミナ、ジルコニア及び炭化ケ
イ素よりなる群から選ばれる少なくとも1種の担体に担
持されたものである請求項1記載の脱水環化脱水素用触
媒。 - 【請求項3】 付加構成元素としてアルカリ金属、アル
カリ土類金属、亜鉛及びランタン系元素よりなる群から
選ばれる少なくとも1種の元素を含有する請求項1又は
2記載の脱水環化脱水素用触媒。 - 【請求項4】 一般式(1): 【化1】 (式中、R1及びR2は、同じか或は互いに異なって、そ
れぞれ水素原子又は低級アルキル基を表す。)で示され
るジアミン類を一般式(2): 【化2】 (式中、R3及びR4は、同じか或は互いに異なって、そ
れぞれ水素原子又は低級アルキル基を表す。)で示され
るジオール類と気相接触反応せしめて一般式(3): 【化3】 (式中、R1、R2、R3及びR4は、前記と同じ。)で示
されるピラジン類を製造するにあたり、請求項1、2又
は3に記載の脱水環化脱水素用触媒の存在下、気相接触
反応せしめることを特徴とするピラジン類の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21985695A JPH08224473A (ja) | 1994-12-20 | 1995-08-04 | 脱水環化脱水素用触媒、及びそれを用いたピラジン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33585994 | 1994-12-20 | ||
JP6-335859 | 1994-12-20 | ||
JP21985695A JPH08224473A (ja) | 1994-12-20 | 1995-08-04 | 脱水環化脱水素用触媒、及びそれを用いたピラジン類の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08224473A true JPH08224473A (ja) | 1996-09-03 |
Family
ID=26523378
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21985695A Pending JPH08224473A (ja) | 1994-12-20 | 1995-08-04 | 脱水環化脱水素用触媒、及びそれを用いたピラジン類の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08224473A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE1010032A3 (fr) * | 1995-08-04 | 1997-11-04 | Koei Chemical Co | Procede de production de composes de la pyrazine. |
JP2002173486A (ja) * | 2000-12-01 | 2002-06-21 | Koei Chem Co Ltd | 2,6−ジ置換ピラジンの製造方法 |
JP2013119522A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Koei Chem Co Ltd | 1−メチルイミダゾール化合物の製造方法 |
JP2013119524A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Koei Chem Co Ltd | 1−アルキルイミダゾール化合物の製造方法 |
CN113717112A (zh) * | 2021-08-04 | 2021-11-30 | 山东达民化工股份有限公司 | 2,5-二甲基吡嗪的制备方法 |
-
1995
- 1995-08-04 JP JP21985695A patent/JPH08224473A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE1010032A3 (fr) * | 1995-08-04 | 1997-11-04 | Koei Chemical Co | Procede de production de composes de la pyrazine. |
US5693806A (en) * | 1995-08-04 | 1997-12-02 | Koei Chemical Co., Ltd. | Process for producing pyrazine compounds |
JP2002173486A (ja) * | 2000-12-01 | 2002-06-21 | Koei Chem Co Ltd | 2,6−ジ置換ピラジンの製造方法 |
JP2013119522A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Koei Chem Co Ltd | 1−メチルイミダゾール化合物の製造方法 |
JP2013119524A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Koei Chem Co Ltd | 1−アルキルイミダゾール化合物の製造方法 |
CN113717112A (zh) * | 2021-08-04 | 2021-11-30 | 山东达民化工股份有限公司 | 2,5-二甲基吡嗪的制备方法 |
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