JPH08161770A - 光カード状記録媒体 - Google Patents
光カード状記録媒体Info
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- JPH08161770A JPH08161770A JP6303492A JP30349294A JPH08161770A JP H08161770 A JPH08161770 A JP H08161770A JP 6303492 A JP6303492 A JP 6303492A JP 30349294 A JP30349294 A JP 30349294A JP H08161770 A JPH08161770 A JP H08161770A
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- protective
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 光カード状記録媒体において、接着層を介し
て記録層上に積層される保護基材が、少くともA,Bお
よびCの3層からなり、これらの層が内側から外側に向
けてこの順に形成され、AおよびCの層が同一材料で形
成されている光カード状記録媒体を提供する。Aおよび
Cの層の厚みを変えて、上記保護基材の熱成形後の「そ
り」量を軽減することができる。 【効果】 本発明の光カード記録媒体は、保護基材のそ
り量が少なくなることによって、保護基材と光記録形成
基板の位置ずれが少なくなり、不良品を少なくして生産
性が向上するとともに、保護基材表面に磁気ストライブ
が形成されている場合に、光記録層と磁気記録層の形成
位置ずれが互いに小さくなる結果、光記録層と磁気記録
層の記録再生の信頼性が向上する。
て記録層上に積層される保護基材が、少くともA,Bお
よびCの3層からなり、これらの層が内側から外側に向
けてこの順に形成され、AおよびCの層が同一材料で形
成されている光カード状記録媒体を提供する。Aおよび
Cの層の厚みを変えて、上記保護基材の熱成形後の「そ
り」量を軽減することができる。 【効果】 本発明の光カード記録媒体は、保護基材のそ
り量が少なくなることによって、保護基材と光記録形成
基板の位置ずれが少なくなり、不良品を少なくして生産
性が向上するとともに、保護基材表面に磁気ストライブ
が形成されている場合に、光記録層と磁気記録層の形成
位置ずれが互いに小さくなる結果、光記録層と磁気記録
層の記録再生の信頼性が向上する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は安価な、かつ、保存時耐
久性の変形が少ない光カード媒体を提供する。
久性の変形が少ない光カード媒体を提供する。
【0002】
【従来の技術】近年、カード状の光学的記録媒体が光カ
ードとして商品化されつつある。光カードは、従来のク
レジットカード、銀行カードなどと同様に、使用する際
個人のデータベースが記録されることが必須である。こ
の場合、個人にしか分らない暗号等でその記録を再生す
ることになるが、使用者は光カードの所有者だけとは限
らないで、例えば、医師、各種金融機関の職員等も使用
する場合がある。そこで、カード所有者の個人情報又は
光カードシステム発行者の注意書き等を含む共通な情報
を、カードに可視情報として記載されることが望まれ
る。一般的に個人情報は、熱転写プリンターを用い光カ
ードに個別に印字される。共通情報はスクリーン、オフ
セット、グラビア印刷等でカード面状に設けられる。
ードとして商品化されつつある。光カードは、従来のク
レジットカード、銀行カードなどと同様に、使用する際
個人のデータベースが記録されることが必須である。こ
の場合、個人にしか分らない暗号等でその記録を再生す
ることになるが、使用者は光カードの所有者だけとは限
らないで、例えば、医師、各種金融機関の職員等も使用
する場合がある。そこで、カード所有者の個人情報又は
光カードシステム発行者の注意書き等を含む共通な情報
を、カードに可視情報として記載されることが望まれ
る。一般的に個人情報は、熱転写プリンターを用い光カ
ードに個別に印字される。共通情報はスクリーン、オフ
セット、グラビア印刷等でカード面状に設けられる。
【0003】図4は従来の光カードの断面を模式的に示
したものである。図4−(a)において、印刷された共
通情報8を保護するためにオーバーコート層5を設けて
ある。オーバーコート層は、個人情報10の印刷受容層
も兼ねている場合が多い。オーバーコート層の表面は、
熱転写される個人情報の印字精度を高くするために十分
平滑でなければならず、通常平均粗さRa=0.2μm
以下の精度になるように鏡面熱プレス等で鏡面状態に加
工されている。又は、鏡面を有するオーバーコートは鏡
面加工ずみのシートをはり合せることで得られる。
したものである。図4−(a)において、印刷された共
通情報8を保護するためにオーバーコート層5を設けて
ある。オーバーコート層は、個人情報10の印刷受容層
も兼ねている場合が多い。オーバーコート層の表面は、
熱転写される個人情報の印字精度を高くするために十分
平滑でなければならず、通常平均粗さRa=0.2μm
以下の精度になるように鏡面熱プレス等で鏡面状態に加
工されている。又は、鏡面を有するオーバーコートは鏡
面加工ずみのシートをはり合せることで得られる。
【0004】さらに、必要に応じてオーバーコート層上
に磁気ストライブ12を設けることも行なわれている。
に磁気ストライブ12を設けることも行なわれている。
【0005】
【発明が解決しようとしている課題】オーバーコート層
を鏡面性を有するように加工するために、又は磁気スト
ライブをオーバーコート層上に付加するためには、熱プ
レス加工を用いる。したがって光カード状態で行なうこ
とは困難である。なぜならば、光カード状態であると熱
プレス時の熱(120〜180℃)で光記録層2および
プリフォーマット付基板1にダメージが生じる。したが
って、通常光カード記録媒体は、保護基板4に共通情報
8を印刷し、オーバーコート5を鏡面熱プレス等で印刷
面上に設けた保護基材9を記録層上に接着層3を介して
積層した後、カードサイズに切断することによって得ら
れている。
を鏡面性を有するように加工するために、又は磁気スト
ライブをオーバーコート層上に付加するためには、熱プ
レス加工を用いる。したがって光カード状態で行なうこ
とは困難である。なぜならば、光カード状態であると熱
プレス時の熱(120〜180℃)で光記録層2および
プリフォーマット付基板1にダメージが生じる。したが
って、通常光カード記録媒体は、保護基板4に共通情報
8を印刷し、オーバーコート5を鏡面熱プレス等で印刷
面上に設けた保護基材9を記録層上に接着層3を介して
積層した後、カードサイズに切断することによって得ら
れている。
【0006】このような従来の光カード製造方法におい
ては、図4−(b)に示されるように保護基材9が非対
称構造になるために、鏡面熱プレス成形後に「そり」が
発生する。保護基材のそりのためにプリグルーブ形成基
板との積層時に位置ずれをおこすと云う問題が生じてい
る。特に保護基材に磁気ストライブ記録層12が形成さ
れている場合に、光記録層又は磁気ストライブの位置の
どちらか一方が規格位置から大きくづれ、使用できなく
なる。
ては、図4−(b)に示されるように保護基材9が非対
称構造になるために、鏡面熱プレス成形後に「そり」が
発生する。保護基材のそりのためにプリグルーブ形成基
板との積層時に位置ずれをおこすと云う問題が生じてい
る。特に保護基材に磁気ストライブ記録層12が形成さ
れている場合に、光記録層又は磁気ストライブの位置の
どちらか一方が規格位置から大きくづれ、使用できなく
なる。
【0007】本発明は、上記問題の根源である保護基板
の「そり」量を軽減する構成を有する光カード媒体を提
供することを目的とする。
の「そり」量を軽減する構成を有する光カード媒体を提
供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、光カード状記
録媒において、接着層を介して記録層上に積層される保
護基材が、少くともA,B及びCの3層からなり、これ
らの層が内側から外側に向けてこの順に形成され、A及
びCの層が同一材料で形成されている光カード状記録媒
を提供する。本発明の光記録媒体は、A及びCの層の厚
みを変えることによって保護基材のそり量を軽減するこ
とができる。本発明においてA,BおよびC層とは、保
護基材において夫々最内層のオーバーコート、保護基板
(コア)および最外層オーバーコートを示すものであ
り、内側から外側に向けてこの順に形成されて保護基材
を構成する。
録媒において、接着層を介して記録層上に積層される保
護基材が、少くともA,B及びCの3層からなり、これ
らの層が内側から外側に向けてこの順に形成され、A及
びCの層が同一材料で形成されている光カード状記録媒
を提供する。本発明の光記録媒体は、A及びCの層の厚
みを変えることによって保護基材のそり量を軽減するこ
とができる。本発明においてA,BおよびC層とは、保
護基材において夫々最内層のオーバーコート、保護基板
(コア)および最外層オーバーコートを示すものであ
り、内側から外側に向けてこの順に形成されて保護基材
を構成する。
【0009】本発明の光カード状記録媒体の保護基材
は、「反り」が少なく光カード製造時に記録層を形成し
たプリグルーブ付基板との積層工程においてプリグルー
ブ付基板と保護基材との位置合せ精度が向上する。
は、「反り」が少なく光カード製造時に記録層を形成し
たプリグルーブ付基板との積層工程においてプリグルー
ブ付基板と保護基材との位置合せ精度が向上する。
【0010】図1は、本発明の光カード状記録媒体の断
面を模式的に示したものである。同図において(a)は
保護基材の構成、(b)は接着層、(c)はプリグルー
ブ形成基板の構成を示し、(d)は(a),(b)及び
(c)を貼り合せた中間体の模式図、(e)は本発明の
光カード記録媒体を示す。基板1としては、ポリカーボ
ネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリオレフィ
ン、その他ポリマーアロイ等光学的に透明なプラスチッ
ク材料を用いることができる。プリフォーマット13
は、インジェクション成形、コンプレション成形、キャ
スティング成形などによって基板1上に設ける。又は紫
外線硬化樹脂層を基板上に設け、いわゆる2P法によっ
て形成しても良い。プリグルーブ形成面の反対の基板表
面には、基板のキズの発生を防止するためにハードコー
ト層6を設けることが好ましい。
面を模式的に示したものである。同図において(a)は
保護基材の構成、(b)は接着層、(c)はプリグルー
ブ形成基板の構成を示し、(d)は(a),(b)及び
(c)を貼り合せた中間体の模式図、(e)は本発明の
光カード記録媒体を示す。基板1としては、ポリカーボ
ネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリオレフィ
ン、その他ポリマーアロイ等光学的に透明なプラスチッ
ク材料を用いることができる。プリフォーマット13
は、インジェクション成形、コンプレション成形、キャ
スティング成形などによって基板1上に設ける。又は紫
外線硬化樹脂層を基板上に設け、いわゆる2P法によっ
て形成しても良い。プリグルーブ形成面の反対の基板表
面には、基板のキズの発生を防止するためにハードコー
ト層6を設けることが好ましい。
【0011】光記録層2は、一般に知られている光記録
材料であればいずれも使用可能である。例えば、Te,
TeOx等の無機材料、アントラキノン誘導体(特にイ
ンダスレン骨格を有するもの)、ジオキサジン化合物及
びその誘導体、トリフェノジチアジン化合物、フェナン
スレン誘導体、シアニン化合物、メロシアニン化合物、
ピリリウム系化合物、キサンテン系化合物、トリフェニ
ルメタン系化合物、クロコニウム系色素、アゾ色素、ク
ロコン類、アジン類、インジゴイド類、ポリメチン系色
素、アズレン系色素、スクアリウム系色素、ポリメチン
鎖を有するシアニン系色素、テトラフェニルシアニン系
色素等の有機色素物質が使用できる。
材料であればいずれも使用可能である。例えば、Te,
TeOx等の無機材料、アントラキノン誘導体(特にイ
ンダスレン骨格を有するもの)、ジオキサジン化合物及
びその誘導体、トリフェノジチアジン化合物、フェナン
スレン誘導体、シアニン化合物、メロシアニン化合物、
ピリリウム系化合物、キサンテン系化合物、トリフェニ
ルメタン系化合物、クロコニウム系色素、アゾ色素、ク
ロコン類、アジン類、インジゴイド類、ポリメチン系色
素、アズレン系色素、スクアリウム系色素、ポリメチン
鎖を有するシアニン系色素、テトラフェニルシアニン系
色素等の有機色素物質が使用できる。
【0012】これらの有機色素を含有する光記録層に
は、耐光性の向上を目的として赤外線吸収剤などのスタ
ビライザー(クエンチャー)を含有していてもよい。
は、耐光性の向上を目的として赤外線吸収剤などのスタ
ビライザー(クエンチャー)を含有していてもよい。
【0013】記録層2の膜厚は、400〜1200 の
範囲が好ましいが、通常、記録層の膜厚と反射率の相関
関係により反射率が最大となる膜厚に設定する。
範囲が好ましいが、通常、記録層の膜厚と反射率の相関
関係により反射率が最大となる膜厚に設定する。
【0014】光安定剤として配合される材料としては、
たとえば、特開昭60−163245号公報および特開
昭60−236131号公報に示されるような物質、ま
たは下記の(1),(2)式
たとえば、特開昭60−163245号公報および特開
昭60−236131号公報に示されるような物質、ま
たは下記の(1),(2)式
【0015】
【化1】 (式中、Rは水素原子、低級アルキル基、Xは酸イオ
ン、Aは
ン、Aは
【0016】
【化2】 を示す。)に示す物質が挙げられる。
【0017】また、上記の(1),(2)式の骨格にお
いて、Nの置換基;Rがメトキシ基、プロペニル基、シ
クロ環基を有する物質を用いることもできる。
いて、Nの置換基;Rがメトキシ基、プロペニル基、シ
クロ環基を有する物質を用いることもできる。
【0018】さらに、下記の(3)〜(7)式に示され
る金属錯体を用いることができる。
る金属錯体を用いることができる。
【0019】
【化3】
【0020】
【化4】 (ただし、R1 ないしR4 は同じかまたは異なっていて
もよく、それぞれは置換もしくは未置換のアルキル基、
アリール基またはアミノ基を表わし、R5 ないしR8 は
同じかまたは異なっていてもよく、それぞれは水素原
子、ハロゲン原子または置換もしくは未置換のアルキル
基またはアミノ基を表わし、MはNi,Co,Mn,C
u,PdおよびPtから選ばれた遷移金属を表わす。) 光記録層2に含有される光安定剤の含有量は、色素の含
有量に対して通常5〜50重量%、好ましくは10〜3
0重量%の範囲が望ましい。
もよく、それぞれは置換もしくは未置換のアルキル基、
アリール基またはアミノ基を表わし、R5 ないしR8 は
同じかまたは異なっていてもよく、それぞれは水素原
子、ハロゲン原子または置換もしくは未置換のアルキル
基またはアミノ基を表わし、MはNi,Co,Mn,C
u,PdおよびPtから選ばれた遷移金属を表わす。) 光記録層2に含有される光安定剤の含有量は、色素の含
有量に対して通常5〜50重量%、好ましくは10〜3
0重量%の範囲が望ましい。
【0021】本発明において用いられる接着層3は、記
録層の光学定数(反射率、透過率、スペクトル)を変化
させないものであればいずれでも良い。ただし接着剤の
融点が70℃以下の低いもの、又は軟化点温度が65℃
よりも低いもの、さらにメルトフローレートが10g/
10min以上のものは、記録層の保存耐久性が低下す
るので使用しないほうが好ましい。一般に、ホットメル
ト系の接着剤、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステ
ル共重合体、エチレン−アクリル酸−ポリプロピレン3
元共重合体、エチレン−アクリル酸エステル−無水マレ
イン酸共重合体などを主成分とするホットメルト系接着
剤、又はシリコンを主成分とする熱硬化性、常温硬化性
の物質を用いることができる。
録層の光学定数(反射率、透過率、スペクトル)を変化
させないものであればいずれでも良い。ただし接着剤の
融点が70℃以下の低いもの、又は軟化点温度が65℃
よりも低いもの、さらにメルトフローレートが10g/
10min以上のものは、記録層の保存耐久性が低下す
るので使用しないほうが好ましい。一般に、ホットメル
ト系の接着剤、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステ
ル共重合体、エチレン−アクリル酸−ポリプロピレン3
元共重合体、エチレン−アクリル酸エステル−無水マレ
イン酸共重合体などを主成分とするホットメルト系接着
剤、又はシリコンを主成分とする熱硬化性、常温硬化性
の物質を用いることができる。
【0022】本発明の保護基材9を構成する保護基板の
コア材料(B)4は、ポリメチルメタアクリレート、ポ
リカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリスチレン、ポリスルフォン、その他、ポ
リオレフィン樹脂又はステンレス等の金属を用いること
ができる。
コア材料(B)4は、ポリメチルメタアクリレート、ポ
リカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリスチレン、ポリスルフォン、その他、ポ
リオレフィン樹脂又はステンレス等の金属を用いること
ができる。
【0023】オーバーコート層(A)51およびオーバ
ーコート層(C)52は、同一の材料であり、材質とし
ては透明であることが要求される。AおよびC層の材料
が同一でなければならない理由を以下に説明する。
ーコート層(C)52は、同一の材料であり、材質とし
ては透明であることが要求される。AおよびC層の材料
が同一でなければならない理由を以下に説明する。
【0024】保護基板9は、図3に示される方法で作成
される。図3−(a)において、印刷層7,8をコア材
料4の表面に形成する。次に、図−3(b)において示
される様に、オーバーコート層51,52をコア材料の
両面にそれぞれ積層する。積層する場合、鏡面プレス板
を用いプレス加工をする。たとえば51,52がPMM
A(ポリメチルアクリレート),PVC(ポリ塩化ビニ
ル)などの場合、次の様に保護基板9が造られる。
される。図3−(a)において、印刷層7,8をコア材
料4の表面に形成する。次に、図−3(b)において示
される様に、オーバーコート層51,52をコア材料の
両面にそれぞれ積層する。積層する場合、鏡面プレス板
を用いプレス加工をする。たとえば51,52がPMM
A(ポリメチルアクリレート),PVC(ポリ塩化ビニ
ル)などの場合、次の様に保護基板9が造られる。
【0025】1)2〜10Kg/cm2の圧力でC層5
2,コア材料4,A層51をプレス加工し 2)プレスしたまま130〜150℃に加熱し、30s
ec〜2分間放置する。
2,コア材料4,A層51をプレス加工し 2)プレスしたまま130〜150℃に加熱し、30s
ec〜2分間放置する。
【0026】3)プレスしたまま30〜50℃まで冷却
する。
する。
【0027】4)プレス圧力を低下させて保護基板9が
できあがる。熱プレス加工において、A層51,C層5
2が異種材料の場合、(a)熱プレス加工時の熱変形
(熱収縮)量が異なり、保護基板9にそりが発生する。
その結果、記録層2を形成した基板1とはり合せる時点
で位置ずれが大きくなる。特に磁気ストライプ層が存在
する場合、はり合せ時の位置ずれは大きな問題となる。
できあがる。熱プレス加工において、A層51,C層5
2が異種材料の場合、(a)熱プレス加工時の熱変形
(熱収縮)量が異なり、保護基板9にそりが発生する。
その結果、記録層2を形成した基板1とはり合せる時点
で位置ずれが大きくなる。特に磁気ストライプ層が存在
する場合、はり合せ時の位置ずれは大きな問題となる。
【0028】すなわち、光カードの製造過程において、
図1に示される様に積層された各層を最終的にカードサ
イズに切断してカードを作成する。カードサイズに加工
する場合プリフォーマットの位置を基準にカードサイズ
に切断される。
図1に示される様に積層された各層を最終的にカードサ
イズに切断してカードを作成する。カードサイズに加工
する場合プリフォーマットの位置を基準にカードサイズ
に切断される。
【0029】磁気ストライプの位置が所定の位置とずれ
ていると、磁気ストライプを基準に切断しないため、磁
気ストライプの位置が規格にマッチングしないカードと
なってしまい、磁気ストライプが使用できなくなる。逆
に磁気ストライプを基準に切断すると、光カードのプリ
フォーマットの位置が規格と大きくずれてしまい、光カ
ードの機能が使用できなくなる。オーバーコート層5
2,51は保護基板4の両側に、図1−(a)に示され
るように熱融着又は接着剤を介して積層される。同図に
示されるような印刷層7が光しゃへい層を兼ねている場
合、印刷層の厚さが比較的厚くなる。したがって、この
ような構成の場合、オーバーコート層52と51の厚み
は異なることが望ましい。オーバーコート層51,52
の厚みは、通常100μm以下、好ましくは30〜10
0μmが用いられる。オーバーコート層および印刷層が
熱収縮する場合、外層が内層より薄いことが好ましい。
オーバーコート層52,51および印刷層が保護基板4
よりものびる場合にも外層の厚さは内層よりも薄い方が
よい。本発明によれば鏡面熱プレス時に保護基板4、オ
ーバーコート51,52および印刷層7の熱収縮量の差
によって保護基材9の「そり」が発生しないように、オ
ーバーコート層52の厚さをオーバーコート層51の厚
さより10〜50μm薄くなるように厚みに差をつけ、
そり量をコントロールすることが可能となる。
ていると、磁気ストライプを基準に切断しないため、磁
気ストライプの位置が規格にマッチングしないカードと
なってしまい、磁気ストライプが使用できなくなる。逆
に磁気ストライプを基準に切断すると、光カードのプリ
フォーマットの位置が規格と大きくずれてしまい、光カ
ードの機能が使用できなくなる。オーバーコート層5
2,51は保護基板4の両側に、図1−(a)に示され
るように熱融着又は接着剤を介して積層される。同図に
示されるような印刷層7が光しゃへい層を兼ねている場
合、印刷層の厚さが比較的厚くなる。したがって、この
ような構成の場合、オーバーコート層52と51の厚み
は異なることが望ましい。オーバーコート層51,52
の厚みは、通常100μm以下、好ましくは30〜10
0μmが用いられる。オーバーコート層および印刷層が
熱収縮する場合、外層が内層より薄いことが好ましい。
オーバーコート層52,51および印刷層が保護基板4
よりものびる場合にも外層の厚さは内層よりも薄い方が
よい。本発明によれば鏡面熱プレス時に保護基板4、オ
ーバーコート51,52および印刷層7の熱収縮量の差
によって保護基材9の「そり」が発生しないように、オ
ーバーコート層52の厚さをオーバーコート層51の厚
さより10〜50μm薄くなるように厚みに差をつけ、
そり量をコントロールすることが可能となる。
【0030】保護基板4に遮光性がある場合、遮光性印
刷層7は必要なくなり、この場合はオーバーコート層5
1及び52の厚さは等しいことが好ましい。
刷層7は必要なくなり、この場合はオーバーコート層5
1及び52の厚さは等しいことが好ましい。
【0031】本発明の保護基材9を形成するオーバーコ
ート層51および52の材料は、透明樹脂フィルムが望
ましい。材質としては、熱転写による個人情報が可能で
あれば特に限定されない。例えば、ポリ塩化ビニル、ポ
リメチルメタアクリレート、ポリカーボネート、ポリ塩
化ビニル−ポリメチルメタアクリレート共重合体、ポリ
プロピレンなどの材料が用いられる。図2は本発明の他
の構成からなる光カード媒体を示す。図において(a)
は第1保護基材の断面図、(b)は第2保護層を有する
光記録層形成基板の断面図、(c)は(a)と(b)か
らなる光カード媒体の断面図を示す。
ート層51および52の材料は、透明樹脂フィルムが望
ましい。材質としては、熱転写による個人情報が可能で
あれば特に限定されない。例えば、ポリ塩化ビニル、ポ
リメチルメタアクリレート、ポリカーボネート、ポリ塩
化ビニル−ポリメチルメタアクリレート共重合体、ポリ
プロピレンなどの材料が用いられる。図2は本発明の他
の構成からなる光カード媒体を示す。図において(a)
は第1保護基材の断面図、(b)は第2保護層を有する
光記録層形成基板の断面図、(c)は(a)と(b)か
らなる光カード媒体の断面図を示す。
【0032】光記録媒体の上層に接着される接着層3
は、光記録層の保存耐久性、記録感度等に著しい影響を
及ぼす。したがって、安易に接着剤を選定することはで
きない。接着剤が記録層にダメージをあたえないが、オ
ーバーコート層51(A)には密着性が悪い場合が十分
存在する。この様な場合、図2のような構成の光カード
が有効となる。すなわち、接着層3に対して密着性のよ
い第2の保護層14を積層し、さらに第2の保護層14
に密着性の良い接着剤層15を介して保護基板9を積層
し、保存耐久性に優れ、かつ、機械的強度が強い光カー
ドを得ることができる。上記カードにおいて、接着層3
にバリヤー性があれば、第2保護層14を設けないで接
着剤層15を用いて接着層3の上層に保護基板9を積層
することも可能である。
は、光記録層の保存耐久性、記録感度等に著しい影響を
及ぼす。したがって、安易に接着剤を選定することはで
きない。接着剤が記録層にダメージをあたえないが、オ
ーバーコート層51(A)には密着性が悪い場合が十分
存在する。この様な場合、図2のような構成の光カード
が有効となる。すなわち、接着層3に対して密着性のよ
い第2の保護層14を積層し、さらに第2の保護層14
に密着性の良い接着剤層15を介して保護基板9を積層
し、保存耐久性に優れ、かつ、機械的強度が強い光カー
ドを得ることができる。上記カードにおいて、接着層3
にバリヤー性があれば、第2保護層14を設けないで接
着剤層15を用いて接着層3の上層に保護基板9を積層
することも可能である。
【0033】ここで、第2の保護層は、接着剤層15の
成分の一部が拡散して記録層2にダメージをあたえるこ
とを抑制する効果をもつものである。ここで記載した記
録層のダメージとは、具体的には、記録層の反射率の低
下である。図2に示されるような構成においても同様に
そり量をコントロールすることが可能となる。その結
果、保護基材9のそり量が著しく軽減し、記録層形成基
板との積層時の位置ずれが減少する。特に磁気ストライ
ブを形成した保護基材を記録層形成基板に積層した場合
に効果が大きい。なぜならば、カードの切断が最終的に
プリフォーマット13の位置に合せて切断されるので、
そのさいに保護基板上の磁気ストライブの位置がずれて
いると、カード上での磁気ストライブの位置がJISお
よびISOの規格からずれてしまい、磁気情報の読みだ
しが困難となるからである。通常の磁気カードでは磁気
ストライブの位置を基準にカードサイズの切断を行なう
ので、本発明が必要になるような問題は生じない。
成分の一部が拡散して記録層2にダメージをあたえるこ
とを抑制する効果をもつものである。ここで記載した記
録層のダメージとは、具体的には、記録層の反射率の低
下である。図2に示されるような構成においても同様に
そり量をコントロールすることが可能となる。その結
果、保護基材9のそり量が著しく軽減し、記録層形成基
板との積層時の位置ずれが減少する。特に磁気ストライ
ブを形成した保護基材を記録層形成基板に積層した場合
に効果が大きい。なぜならば、カードの切断が最終的に
プリフォーマット13の位置に合せて切断されるので、
そのさいに保護基板上の磁気ストライブの位置がずれて
いると、カード上での磁気ストライブの位置がJISお
よびISOの規格からずれてしまい、磁気情報の読みだ
しが困難となるからである。通常の磁気カードでは磁気
ストライブの位置を基準にカードサイズの切断を行なう
ので、本発明が必要になるような問題は生じない。
【0034】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。 実施例1 キャスティング成形によって一方の表面に幅3μm、ピ
ッチ12μmのストライブ状のプリグルーブを形成し
た、厚さ0.4mm、縦54mm、横85mmのポリメ
チルメタアクリレート製光カード基板1のプリグルーブ
が形成されていない面に、紫外線硬化型樹脂(商品名:
ユニディック 17−824−9、大日本インキ社製)
を塗布した後、紫外線を照射して厚さ3〜4μmのハー
ドコート6を形成した。又基板のプリグルーブを形成し
た側の面に、下記構造式(1−1)で示されるポリメチ
ン色素と下記構造式(1−2)で示されるスタビライザ
ーを重量比で3:1の割合で混合した記録層2を溶媒塗
布法によって膜厚900Åに形成した(図1−(c)参
照)。
する。 実施例1 キャスティング成形によって一方の表面に幅3μm、ピ
ッチ12μmのストライブ状のプリグルーブを形成し
た、厚さ0.4mm、縦54mm、横85mmのポリメ
チルメタアクリレート製光カード基板1のプリグルーブ
が形成されていない面に、紫外線硬化型樹脂(商品名:
ユニディック 17−824−9、大日本インキ社製)
を塗布した後、紫外線を照射して厚さ3〜4μmのハー
ドコート6を形成した。又基板のプリグルーブを形成し
た側の面に、下記構造式(1−1)で示されるポリメチ
ン色素と下記構造式(1−2)で示されるスタビライザ
ーを重量比で3:1の割合で混合した記録層2を溶媒塗
布法によって膜厚900Åに形成した(図1−(c)参
照)。
【0035】次に、該有機色素記録層上に、縦54m
m、横85mm、厚さ50μmのエチレン−メチルメタ
アクリレート共重合体100wt%から成る接着シート
3(住友化学製、商品名WD201;MMA(メタクリ
ル酸メチル)含有量10wt%、メルトフローレート2
g/10分、ビカット軟化温度75℃)を介して、厚さ
0.3mmの保護基材9(図1−(a)参照)を積層
し、表面温度130℃の加熱ロールで圧着して貼り合せ
て光カードを作製した(図1−(d)参照)。
m、横85mm、厚さ50μmのエチレン−メチルメタ
アクリレート共重合体100wt%から成る接着シート
3(住友化学製、商品名WD201;MMA(メタクリ
ル酸メチル)含有量10wt%、メルトフローレート2
g/10分、ビカット軟化温度75℃)を介して、厚さ
0.3mmの保護基材9(図1−(a)参照)を積層
し、表面温度130℃の加熱ロールで圧着して貼り合せ
て光カードを作製した(図1−(d)参照)。
【0036】
【化5】 保護基材9は、図3に示されるような手順で作成され
る。厚さ0.2mmのPMMA板4の一方の面にロゴ印
刷、固定情報印刷8を行ない、しゃ光塗料7をスクリー
ン印刷で形成して図3−(a)のものを得る。次に厚さ
30μmのポリ塩化ビニルフィルム52および厚さ50
μmのポリ塩化ビニルフィルム51を、積層し(図3−
(b)参照)、温度150〜145℃、圧力15kg/
cm2 で30sec間鏡面プレス板でプレス成形し、図
3−(c)に示されるような保護基材9を得た。この保
護基材9は「そり」がほとんど認められなかった。
る。厚さ0.2mmのPMMA板4の一方の面にロゴ印
刷、固定情報印刷8を行ない、しゃ光塗料7をスクリー
ン印刷で形成して図3−(a)のものを得る。次に厚さ
30μmのポリ塩化ビニルフィルム52および厚さ50
μmのポリ塩化ビニルフィルム51を、積層し(図3−
(b)参照)、温度150〜145℃、圧力15kg/
cm2 で30sec間鏡面プレス板でプレス成形し、図
3−(c)に示されるような保護基材9を得た。この保
護基材9は「そり」がほとんど認められなかった。
【0037】したがって、図1に示されるように、接着
層3を介して記録層を形成した基板1に保護基材9を積
層した場合に、基板1と保護基材9の位置ずれは極く僅
かになり、光記録層と磁気記録層をともに有効に利用す
ることが可能となった。 実施例2 実施例1で用いたオーバーコートフィルム52を厚さ2
5μmのアクリプレンフィルムに変更し、かつ、オーバ
ーコートフィルム51を厚さ50μmのアクリプレンフ
ィルムに変更しても実施例1と同様にそりのない保護基
材9を得ることができた。保護基材9を実施例1と同様
な方法で記録層形成基板に積層することで光カード記録
媒体を得た。この光カードの「そり量」は、カードの厚
みを含めて1mm以内であり、かつ、保護基材と記録層
形成基板の位置ずれは十分小さいものであり、実用上問
題にならなくなった。 実施例3 実施例1で用いたPMMA基板1をローラーグルーブン
グ法で形成した厚さ0.4mmのポリカーボネート基板
に変更し、かつ、保護基材のコア材料4を0.2mm厚
のポリカーボネートに変更しても実施例1と同等な光カ
ード記録媒体を得ることができた。 比較例1 実施例1のポリ塩化ビニルフィルム52を厚さ50μm
のアクリプレンフィルムに変更して、実施例1と同じ方
法で光カードを作成したところ、保護基板9の「そり」
が大きく、光カードのプリグループの位置に対する保護
基材上に形成された磁気テープの位置ずれが大きく、光
カードのプリグルーブに合せて切断すると、磁気テープ
に情報を記録再生できなかった。
層3を介して記録層を形成した基板1に保護基材9を積
層した場合に、基板1と保護基材9の位置ずれは極く僅
かになり、光記録層と磁気記録層をともに有効に利用す
ることが可能となった。 実施例2 実施例1で用いたオーバーコートフィルム52を厚さ2
5μmのアクリプレンフィルムに変更し、かつ、オーバ
ーコートフィルム51を厚さ50μmのアクリプレンフ
ィルムに変更しても実施例1と同様にそりのない保護基
材9を得ることができた。保護基材9を実施例1と同様
な方法で記録層形成基板に積層することで光カード記録
媒体を得た。この光カードの「そり量」は、カードの厚
みを含めて1mm以内であり、かつ、保護基材と記録層
形成基板の位置ずれは十分小さいものであり、実用上問
題にならなくなった。 実施例3 実施例1で用いたPMMA基板1をローラーグルーブン
グ法で形成した厚さ0.4mmのポリカーボネート基板
に変更し、かつ、保護基材のコア材料4を0.2mm厚
のポリカーボネートに変更しても実施例1と同等な光カ
ード記録媒体を得ることができた。 比較例1 実施例1のポリ塩化ビニルフィルム52を厚さ50μm
のアクリプレンフィルムに変更して、実施例1と同じ方
法で光カードを作成したところ、保護基板9の「そり」
が大きく、光カードのプリグループの位置に対する保護
基材上に形成された磁気テープの位置ずれが大きく、光
カードのプリグルーブに合せて切断すると、磁気テープ
に情報を記録再生できなかった。
【0038】
【発明の効果】本発明の光カード記録媒体は、保護基材
のそり量が小さくなるために (1)保護基材と光記録層形成基板の位置ずれが少なく
なり生産性が向上する。 (2)保護基材表面に磁気ストライブが形成されている
場合に光記録層と磁気記録層の形成位置ずれが互いに小
さくなり、その結果光記録層と磁気記録層の記録再生の
信頼性が向上する。
のそり量が小さくなるために (1)保護基材と光記録層形成基板の位置ずれが少なく
なり生産性が向上する。 (2)保護基材表面に磁気ストライブが形成されている
場合に光記録層と磁気記録層の形成位置ずれが互いに小
さくなり、その結果光記録層と磁気記録層の記録再生の
信頼性が向上する。
【図1】本発明の光カード状記録媒体を説明する模式的
断面図である。 (a)保護基材を示す断面図。 (b)接着層を示す断面図。 (c)プリグルーブ形成基板を示す断面図。 (d)(a),(b),(c)をはり合せた中間体の模
式図 (e)光カード状記録媒体全体を示す断面図。
断面図である。 (a)保護基材を示す断面図。 (b)接着層を示す断面図。 (c)プリグルーブ形成基板を示す断面図。 (d)(a),(b),(c)をはり合せた中間体の模
式図 (e)光カード状記録媒体全体を示す断面図。
【図2】本発明の他の光カード状記録媒体を説明する模
式的断面図である。 (a)第1保護基材を示す断面図。 (b)第2保護層を有する光記録層形成基板を示す断面
図。 (c)光カード状記録媒体全体を示す断面図。
式的断面図である。 (a)第1保護基材を示す断面図。 (b)第2保護層を有する光記録層形成基板を示す断面
図。 (c)光カード状記録媒体全体を示す断面図。
【図3】保護基材の作成工程を説明する模式的断面図で
ある。 (a)固定情報印刷を行ったコア基板を示す断面図。 (b)鏡面プレス板によるプレス成形状況を示す断面
図。 (c)保護基材全体を示す断面図。
ある。 (a)固定情報印刷を行ったコア基板を示す断面図。 (b)鏡面プレス板によるプレス成形状況を示す断面
図。 (c)保護基材全体を示す断面図。
【図4】従来の光カード状記録媒体を説明する模式的断
面図である。 (a)記録媒体の全体像を示す断面図。 (b)鏡面熱プレス成形後に保護基材を発生する「そ
り」の状況を示す断面図。
面図である。 (a)記録媒体の全体像を示す断面図。 (b)鏡面熱プレス成形後に保護基材を発生する「そ
り」の状況を示す断面図。
1 プリグルーブ形成基板 2 光記録層 3 接着層 4 保護基板(コア) 51 オーバーコート内層 52 オーバーコート最外層 6 ハードコート 7 印刷層(陰ぺい層) 8 共通情報印刷層 9 保護基材 10 個人情報プリント部 11 記録再生レーザ光 12 磁気ストライブ 13 プリフォーマット 14 第2保護層・透明層 15 接着剤層 21,22 鏡面プレス板
Claims (2)
- 【請求項1】 光カード状記録媒体において、接着層を
介して記録層上に積層される保護基材が、少なくとも
A,BおよびCの3層からなり、これらの層が内側から
外側に向けてこの順に形成され、AおよびCの層が同一
材料で形成されている光カード状記録媒体。 - 【請求項2】 AおよびCの層の厚みを変えて、保護基
材のそり量を軽減する請求項1に記載の光カード状記録
媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6303492A JPH08161770A (ja) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | 光カード状記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6303492A JPH08161770A (ja) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | 光カード状記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08161770A true JPH08161770A (ja) | 1996-06-21 |
Family
ID=17921619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6303492A Pending JPH08161770A (ja) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | 光カード状記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08161770A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004351762A (ja) * | 2003-05-29 | 2004-12-16 | Toppan Forms Co Ltd | 情報記録媒体 |
-
1994
- 1994-12-07 JP JP6303492A patent/JPH08161770A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004351762A (ja) * | 2003-05-29 | 2004-12-16 | Toppan Forms Co Ltd | 情報記録媒体 |
JP4669209B2 (ja) * | 2003-05-29 | 2011-04-13 | トッパン・フォームズ株式会社 | 情報記録媒体 |
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