JPH08161770A

JPH08161770A - 光カード状記録媒体

Info

Publication number: JPH08161770A
Application number: JP6303492A
Authority: JP
Inventors: Yoshihiro Ogawa; 善広小川
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1994-12-07
Filing date: 1994-12-07
Publication date: 1996-06-21

Abstract

(57)【要約】【構成】光カード状記録媒体において、接着層を介し
て記録層上に積層される保護基材が、少くともＡ，Ｂお
よびＣの３層からなり、これらの層が内側から外側に向
けてこの順に形成され、ＡおよびＣの層が同一材料で形
成されている光カード状記録媒体を提供する。Ａおよび
Ｃの層の厚みを変えて、上記保護基材の熱成形後の「そ
り」量を軽減することができる。【効果】本発明の光カード記録媒体は、保護基材のそ
り量が少なくなることによって、保護基材と光記録形成
基板の位置ずれが少なくなり、不良品を少なくして生産
性が向上するとともに、保護基材表面に磁気ストライブ
が形成されている場合に、光記録層と磁気記録層の形成
位置ずれが互いに小さくなる結果、光記録層と磁気記録
層の記録再生の信頼性が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は安価な、かつ、保存時耐
久性の変形が少ない光カード媒体を提供する。

【０００２】

【従来の技術】近年、カード状の光学的記録媒体が光カ
ードとして商品化されつつある。光カードは、従来のク
レジットカード、銀行カードなどと同様に、使用する際
個人のデータベースが記録されることが必須である。こ
の場合、個人にしか分らない暗号等でその記録を再生す
ることになるが、使用者は光カードの所有者だけとは限
らないで、例えば、医師、各種金融機関の職員等も使用
する場合がある。そこで、カード所有者の個人情報又は
光カードシステム発行者の注意書き等を含む共通な情報
を、カードに可視情報として記載されることが望まれ
る。一般的に個人情報は、熱転写プリンターを用い光カ
ードに個別に印字される。共通情報はスクリーン、オフ
セット、グラビア印刷等でカード面状に設けられる。

【０００３】図４は従来の光カードの断面を模式的に示
したものである。図４−（ａ）において、印刷された共
通情報８を保護するためにオーバーコート層５を設けて
ある。オーバーコート層は、個人情報１０の印刷受容層
も兼ねている場合が多い。オーバーコート層の表面は、
熱転写される個人情報の印字精度を高くするために十分
平滑でなければならず、通常平均粗さＲａ＝０．２μｍ
以下の精度になるように鏡面熱プレス等で鏡面状態に加
工されている。又は、鏡面を有するオーバーコートは鏡
面加工ずみのシートをはり合せることで得られる。

【０００４】さらに、必要に応じてオーバーコート層上
に磁気ストライブ１２を設けることも行なわれている。

【０００５】

【発明が解決しようとしている課題】オーバーコート層
を鏡面性を有するように加工するために、又は磁気スト
ライブをオーバーコート層上に付加するためには、熱プ
レス加工を用いる。したがって光カード状態で行なうこ
とは困難である。なぜならば、光カード状態であると熱
プレス時の熱（１２０〜１８０℃）で光記録層２および
プリフォーマット付基板１にダメージが生じる。したが
って、通常光カード記録媒体は、保護基板４に共通情報
８を印刷し、オーバーコート５を鏡面熱プレス等で印刷
面上に設けた保護基材９を記録層上に接着層３を介して
積層した後、カードサイズに切断することによって得ら
れている。

【０００６】このような従来の光カード製造方法におい
ては、図４−（ｂ）に示されるように保護基材９が非対
称構造になるために、鏡面熱プレス成形後に「そり」が
発生する。保護基材のそりのためにプリグルーブ形成基
板との積層時に位置ずれをおこすと云う問題が生じてい
る。特に保護基材に磁気ストライブ記録層１２が形成さ
れている場合に、光記録層又は磁気ストライブの位置の
どちらか一方が規格位置から大きくづれ、使用できなく
なる。

【０００７】本発明は、上記問題の根源である保護基板
の「そり」量を軽減する構成を有する光カード媒体を提
供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、光カード状記
録媒において、接着層を介して記録層上に積層される保
護基材が、少くともＡ，Ｂ及びＣの３層からなり、これ
らの層が内側から外側に向けてこの順に形成され、Ａ及
びＣの層が同一材料で形成されている光カード状記録媒
を提供する。本発明の光記録媒体は、Ａ及びＣの層の厚
みを変えることによって保護基材のそり量を軽減するこ
とができる。本発明においてＡ，ＢおよびＣ層とは、保
護基材において夫々最内層のオーバーコート、保護基板
（コア）および最外層オーバーコートを示すものであ
り、内側から外側に向けてこの順に形成されて保護基材
を構成する。

【０００９】本発明の光カード状記録媒体の保護基材
は、「反り」が少なく光カード製造時に記録層を形成し
たプリグルーブ付基板との積層工程においてプリグルー
ブ付基板と保護基材との位置合せ精度が向上する。

【００１０】図１は、本発明の光カード状記録媒体の断
面を模式的に示したものである。同図において（ａ）は
保護基材の構成、（ｂ）は接着層、（ｃ）はプリグルー
ブ形成基板の構成を示し、（ｄ）は（ａ），（ｂ）及び
（ｃ）を貼り合せた中間体の模式図、（ｅ）は本発明の
光カード記録媒体を示す。基板１としては、ポリカーボ
ネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリオレフィ
ン、その他ポリマーアロイ等光学的に透明なプラスチッ
ク材料を用いることができる。プリフォーマット１３
は、インジェクション成形、コンプレション成形、キャ
スティング成形などによって基板１上に設ける。又は紫
外線硬化樹脂層を基板上に設け、いわゆる２Ｐ法によっ
て形成しても良い。プリグルーブ形成面の反対の基板表
面には、基板のキズの発生を防止するためにハードコー
ト層６を設けることが好ましい。

【００１１】光記録層２は、一般に知られている光記録
材料であればいずれも使用可能である。例えば、Ｔｅ，
ＴｅＯｘ等の無機材料、アントラキノン誘導体（特にイ
ンダスレン骨格を有するもの）、ジオキサジン化合物及
びその誘導体、トリフェノジチアジン化合物、フェナン
スレン誘導体、シアニン化合物、メロシアニン化合物、
ピリリウム系化合物、キサンテン系化合物、トリフェニ
ルメタン系化合物、クロコニウム系色素、アゾ色素、ク
ロコン類、アジン類、インジゴイド類、ポリメチン系色
素、アズレン系色素、スクアリウム系色素、ポリメチン
鎖を有するシアニン系色素、テトラフェニルシアニン系
色素等の有機色素物質が使用できる。

【００１２】これらの有機色素を含有する光記録層に
は、耐光性の向上を目的として赤外線吸収剤などのスタ
ビライザー（クエンチャー）を含有していてもよい。

【００１３】記録層２の膜厚は、４００〜１２００の
範囲が好ましいが、通常、記録層の膜厚と反射率の相関
関係により反射率が最大となる膜厚に設定する。

【００１４】光安定剤として配合される材料としては、
たとえば、特開昭６０−１６３２４５号公報および特開
昭６０−２３６１３１号公報に示されるような物質、ま
たは下記の（１），（２）式

【００１５】

【化１】（式中、Ｒは水素原子、低級アルキル基、Ｘは酸イオ
ン、Ａは

【００１６】

【化２】を示す。）に示す物質が挙げられる。

【００１７】また、上記の（１），（２）式の骨格にお
いて、Ｎの置換基；Ｒがメトキシ基、プロペニル基、シ
クロ環基を有する物質を用いることもできる。

【００１８】さらに、下記の（３）〜（７）式に示され
る金属錯体を用いることができる。

【００１９】

【化３】

【００２０】

【化４】（ただし、Ｒ₁ないしＲ₄は同じかまたは異なっていて
もよく、それぞれは置換もしくは未置換のアルキル基、
アリール基またはアミノ基を表わし、Ｒ₅ないしＲ₈は
同じかまたは異なっていてもよく、それぞれは水素原
子、ハロゲン原子または置換もしくは未置換のアルキル
基またはアミノ基を表わし、ＭはＮｉ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｃ
ｕ，ＰｄおよびＰｔから選ばれた遷移金属を表わす。）光記録層２に含有される光安定剤の含有量は、色素の含
有量に対して通常５〜５０重量％、好ましくは１０〜３
０重量％の範囲が望ましい。

【００２１】本発明において用いられる接着層３は、記
録層の光学定数（反射率、透過率、スペクトル）を変化
させないものであればいずれでも良い。ただし接着剤の
融点が７０℃以下の低いもの、又は軟化点温度が６５℃
よりも低いもの、さらにメルトフローレートが１０ｇ／
１０ｍｉｎ以上のものは、記録層の保存耐久性が低下す
るので使用しないほうが好ましい。一般に、ホットメル
ト系の接着剤、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステ
ル共重合体、エチレン−アクリル酸−ポリプロピレン３
元共重合体、エチレン−アクリル酸エステル−無水マレ
イン酸共重合体などを主成分とするホットメルト系接着
剤、又はシリコンを主成分とする熱硬化性、常温硬化性
の物質を用いることができる。

【００２２】本発明の保護基材９を構成する保護基板の
コア材料（Ｂ）４は、ポリメチルメタアクリレート、ポ
リカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリスチレン、ポリスルフォン、その他、ポ
リオレフィン樹脂又はステンレス等の金属を用いること
ができる。

【００２３】オーバーコート層（Ａ）５１およびオーバ
ーコート層（Ｃ）５２は、同一の材料であり、材質とし
ては透明であることが要求される。ＡおよびＣ層の材料
が同一でなければならない理由を以下に説明する。

【００２４】保護基板９は、図３に示される方法で作成
される。図３−（ａ）において、印刷層７，８をコア材
料４の表面に形成する。次に、図−３（ｂ）において示
される様に、オーバーコート層５１，５２をコア材料の
両面にそれぞれ積層する。積層する場合、鏡面プレス板
を用いプレス加工をする。たとえば５１，５２がＰＭＭ
Ａ（ポリメチルアクリレート），ＰＶＣ（ポリ塩化ビニ
ル）などの場合、次の様に保護基板９が造られる。

【００２５】１）２〜１０Ｋｇ／ｃｍ²の圧力でＣ層５
２，コア材料４，Ａ層５１をプレス加工し２）プレスしたまま１３０〜１５０℃に加熱し、３０ｓ
ｅｃ〜２分間放置する。

【００２６】３）プレスしたまま３０〜５０℃まで冷却
する。

【００２７】４）プレス圧力を低下させて保護基板９が
できあがる。熱プレス加工において、Ａ層５１，Ｃ層５
２が異種材料の場合、（ａ）熱プレス加工時の熱変形
（熱収縮）量が異なり、保護基板９にそりが発生する。
その結果、記録層２を形成した基板１とはり合せる時点
で位置ずれが大きくなる。特に磁気ストライプ層が存在
する場合、はり合せ時の位置ずれは大きな問題となる。

【００２８】すなわち、光カードの製造過程において、
図１に示される様に積層された各層を最終的にカードサ
イズに切断してカードを作成する。カードサイズに加工
する場合プリフォーマットの位置を基準にカードサイズ
に切断される。

【００２９】磁気ストライプの位置が所定の位置とずれ
ていると、磁気ストライプを基準に切断しないため、磁
気ストライプの位置が規格にマッチングしないカードと
なってしまい、磁気ストライプが使用できなくなる。逆
に磁気ストライプを基準に切断すると、光カードのプリ
フォーマットの位置が規格と大きくずれてしまい、光カ
ードの機能が使用できなくなる。オーバーコート層５
２，５１は保護基板４の両側に、図１−（ａ）に示され
るように熱融着又は接着剤を介して積層される。同図に
示されるような印刷層７が光しゃへい層を兼ねている場
合、印刷層の厚さが比較的厚くなる。したがって、この
ような構成の場合、オーバーコート層５２と５１の厚み
は異なることが望ましい。オーバーコート層５１，５２
の厚みは、通常１００μｍ以下、好ましくは３０〜１０
０μｍが用いられる。オーバーコート層および印刷層が
熱収縮する場合、外層が内層より薄いことが好ましい。
オーバーコート層５２，５１および印刷層が保護基板４
よりものびる場合にも外層の厚さは内層よりも薄い方が
よい。本発明によれば鏡面熱プレス時に保護基板４、オ
ーバーコート５１，５２および印刷層７の熱収縮量の差
によって保護基材９の「そり」が発生しないように、オ
ーバーコート層５２の厚さをオーバーコート層５１の厚
さより１０〜５０μｍ薄くなるように厚みに差をつけ、
そり量をコントロールすることが可能となる。

【００３０】保護基板４に遮光性がある場合、遮光性印
刷層７は必要なくなり、この場合はオーバーコート層５
１及び５２の厚さは等しいことが好ましい。

【００３１】本発明の保護基材９を形成するオーバーコ
ート層５１および５２の材料は、透明樹脂フィルムが望
ましい。材質としては、熱転写による個人情報が可能で
あれば特に限定されない。例えば、ポリ塩化ビニル、ポ
リメチルメタアクリレート、ポリカーボネート、ポリ塩
化ビニル−ポリメチルメタアクリレート共重合体、ポリ
プロピレンなどの材料が用いられる。図２は本発明の他
の構成からなる光カード媒体を示す。図において（ａ）
は第１保護基材の断面図、（ｂ）は第２保護層を有する
光記録層形成基板の断面図、（ｃ）は（ａ）と（ｂ）か
らなる光カード媒体の断面図を示す。

【００３２】光記録媒体の上層に接着される接着層３
は、光記録層の保存耐久性、記録感度等に著しい影響を
及ぼす。したがって、安易に接着剤を選定することはで
きない。接着剤が記録層にダメージをあたえないが、オ
ーバーコート層５１（Ａ）には密着性が悪い場合が十分
存在する。この様な場合、図２のような構成の光カード
が有効となる。すなわち、接着層３に対して密着性のよ
い第２の保護層１４を積層し、さらに第２の保護層１４
に密着性の良い接着剤層１５を介して保護基板９を積層
し、保存耐久性に優れ、かつ、機械的強度が強い光カー
ドを得ることができる。上記カードにおいて、接着層３
にバリヤー性があれば、第２保護層１４を設けないで接
着剤層１５を用いて接着層３の上層に保護基板９を積層
することも可能である。

【００３３】ここで、第２の保護層は、接着剤層１５の
成分の一部が拡散して記録層２にダメージをあたえるこ
とを抑制する効果をもつものである。ここで記載した記
録層のダメージとは、具体的には、記録層の反射率の低
下である。図２に示されるような構成においても同様に
そり量をコントロールすることが可能となる。その結
果、保護基材９のそり量が著しく軽減し、記録層形成基
板との積層時の位置ずれが減少する。特に磁気ストライ
ブを形成した保護基材を記録層形成基板に積層した場合
に効果が大きい。なぜならば、カードの切断が最終的に
プリフォーマット１３の位置に合せて切断されるので、
そのさいに保護基板上の磁気ストライブの位置がずれて
いると、カード上での磁気ストライブの位置がＪＩＳお
よびＩＳＯの規格からずれてしまい、磁気情報の読みだ
しが困難となるからである。通常の磁気カードでは磁気
ストライブの位置を基準にカードサイズの切断を行なう
ので、本発明が必要になるような問題は生じない。

【００３４】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。実施例１キャスティング成形によって一方の表面に幅３μｍ、ピ
ッチ１２μｍのストライブ状のプリグルーブを形成し
た、厚さ０．４ｍｍ、縦５４ｍｍ、横８５ｍｍのポリメ
チルメタアクリレート製光カード基板１のプリグルーブ
が形成されていない面に、紫外線硬化型樹脂（商品名：
ユニディック１７−８２４−９、大日本インキ社製）
を塗布した後、紫外線を照射して厚さ３〜４μｍのハー
ドコート６を形成した。又基板のプリグルーブを形成し
た側の面に、下記構造式（１−１）で示されるポリメチ
ン色素と下記構造式（１−２）で示されるスタビライザ
ーを重量比で３：１の割合で混合した記録層２を溶媒塗
布法によって膜厚９００Åに形成した（図１−（ｃ）参
照）。

【００３５】次に、該有機色素記録層上に、縦５４ｍ
ｍ、横８５ｍｍ、厚さ５０μｍのエチレン−メチルメタ
アクリレート共重合体１００ｗｔ％から成る接着シート
３（住友化学製、商品名ＷＤ２０１；ＭＭＡ（メタクリ
ル酸メチル）含有量１０ｗｔ％、メルトフローレート２
ｇ／１０分、ビカット軟化温度７５℃）を介して、厚さ
０．３ｍｍの保護基材９（図１−（ａ）参照）を積層
し、表面温度１３０℃の加熱ロールで圧着して貼り合せ
て光カードを作製した（図１−（ｄ）参照）。

【００３６】

【化５】保護基材９は、図３に示されるような手順で作成され
る。厚さ０．２ｍｍのＰＭＭＡ板４の一方の面にロゴ印
刷、固定情報印刷８を行ない、しゃ光塗料７をスクリー
ン印刷で形成して図３−（ａ）のものを得る。次に厚さ
３０μｍのポリ塩化ビニルフィルム５２および厚さ５０
μｍのポリ塩化ビニルフィルム５１を、積層し（図３−
（ｂ）参照）、温度１５０〜１４５℃、圧力１５ｋｇ／
ｃｍ²で３０ｓｅｃ間鏡面プレス板でプレス成形し、図
３−（ｃ）に示されるような保護基材９を得た。この保
護基材９は「そり」がほとんど認められなかった。

【００３７】したがって、図１に示されるように、接着
層３を介して記録層を形成した基板１に保護基材９を積
層した場合に、基板１と保護基材９の位置ずれは極く僅
かになり、光記録層と磁気記録層をともに有効に利用す
ることが可能となった。実施例２実施例１で用いたオーバーコートフィルム５２を厚さ２
５μｍのアクリプレンフィルムに変更し、かつ、オーバ
ーコートフィルム５１を厚さ５０μｍのアクリプレンフ
ィルムに変更しても実施例１と同様にそりのない保護基
材９を得ることができた。保護基材９を実施例１と同様
な方法で記録層形成基板に積層することで光カード記録
媒体を得た。この光カードの「そり量」は、カードの厚
みを含めて１ｍｍ以内であり、かつ、保護基材と記録層
形成基板の位置ずれは十分小さいものであり、実用上問
題にならなくなった。実施例３実施例１で用いたＰＭＭＡ基板１をローラーグルーブン
グ法で形成した厚さ０．４ｍｍのポリカーボネート基板
に変更し、かつ、保護基材のコア材料４を０．２ｍｍ厚
のポリカーボネートに変更しても実施例１と同等な光カ
ード記録媒体を得ることができた。比較例１実施例１のポリ塩化ビニルフィルム５２を厚さ５０μｍ
のアクリプレンフィルムに変更して、実施例１と同じ方
法で光カードを作成したところ、保護基板９の「そり」
が大きく、光カードのプリグループの位置に対する保護
基材上に形成された磁気テープの位置ずれが大きく、光
カードのプリグルーブに合せて切断すると、磁気テープ
に情報を記録再生できなかった。

【００３８】

【発明の効果】本発明の光カード記録媒体は、保護基材
のそり量が小さくなるために（１）保護基材と光記録層形成基板の位置ずれが少なく
なり生産性が向上する。（２）保護基材表面に磁気ストライブが形成されている
場合に光記録層と磁気記録層の形成位置ずれが互いに小
さくなり、その結果光記録層と磁気記録層の記録再生の
信頼性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光カード状記録媒体を説明する模式的
断面図である。（ａ）保護基材を示す断面図。（ｂ）接着層を示す断面図。（ｃ）プリグルーブ形成基板を示す断面図。（ｄ）（ａ），（ｂ），（ｃ）をはり合せた中間体の模
式図（ｅ）光カード状記録媒体全体を示す断面図。

【図２】本発明の他の光カード状記録媒体を説明する模
式的断面図である。（ａ）第１保護基材を示す断面図。（ｂ）第２保護層を有する光記録層形成基板を示す断面
図。（ｃ）光カード状記録媒体全体を示す断面図。

【図３】保護基材の作成工程を説明する模式的断面図で
ある。（ａ）固定情報印刷を行ったコア基板を示す断面図。（ｂ）鏡面プレス板によるプレス成形状況を示す断面
図。（ｃ）保護基材全体を示す断面図。

【図４】従来の光カード状記録媒体を説明する模式的断
面図である。（ａ）記録媒体の全体像を示す断面図。（ｂ）鏡面熱プレス成形後に保護基材を発生する「そ
り」の状況を示す断面図。

【符号の説明】

１プリグルーブ形成基板２光記録層３接着層４保護基板（コア）５１オーバーコート内層５２オーバーコート最外層６ハードコート７印刷層（陰ぺい層）８共通情報印刷層９保護基材１０個人情報プリント部１１記録再生レーザ光１２磁気ストライブ１３プリフォーマット１４第２保護層・透明層１５接着剤層２１，２２鏡面プレス板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光カード状記録媒体において、接着層を
介して記録層上に積層される保護基材が、少なくとも
Ａ，ＢおよびＣの３層からなり、これらの層が内側から
外側に向けてこの順に形成され、ＡおよびＣの層が同一
材料で形成されている光カード状記録媒体。
【請求項２】ＡおよびＣの層の厚みを変えて、保護基
材のそり量を軽減する請求項１に記載の光カード状記録
媒体。