JPH0815634A - ホログラムディスク - Google Patents
ホログラムディスクInfo
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- JPH0815634A JPH0815634A JP14744794A JP14744794A JPH0815634A JP H0815634 A JPH0815634 A JP H0815634A JP 14744794 A JP14744794 A JP 14744794A JP 14744794 A JP14744794 A JP 14744794A JP H0815634 A JPH0815634 A JP H0815634A
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- JP
- Japan
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- incident position
- hologram
- scanning
- incident
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ホログラムを用いた光走査装置において、レ
ーザ光の入射位置を最適位置に容易に調整することがで
きるホログラムディスクおよびそれを用いた光走査装置
の調整方法を提供する。 【構成】 所定のレーザ光18を入射位置調整領域14
に照射する。入射位置調整領域14のホログラムパター
ンは走査領域12の中央部と同一であるため、回折光2
7は走査線中央方向に回折される。そこで、走査線中央
に対応する位置にピンホール30とフォトダイオード等
の光検出器31を設置し、回折光27がピンホール30
を通して光検出器31で検出されるように入射位置の調
整を行う。
ーザ光の入射位置を最適位置に容易に調整することがで
きるホログラムディスクおよびそれを用いた光走査装置
の調整方法を提供する。 【構成】 所定のレーザ光18を入射位置調整領域14
に照射する。入射位置調整領域14のホログラムパター
ンは走査領域12の中央部と同一であるため、回折光2
7は走査線中央方向に回折される。そこで、走査線中央
に対応する位置にピンホール30とフォトダイオード等
の光検出器31を設置し、回折光27がピンホール30
を通して光検出器31で検出されるように入射位置の調
整を行う。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光走査装置に用いられ
る光を偏向させる手段としてのホログラムディスクに関
するものである。
る光を偏向させる手段としてのホログラムディスクに関
するものである。
【0002】
【従来の技術】一般的に、ホログラムを用いた光走査装
置は図10に示すように、半導体レーザ101と、集光
レンズ102と、ホログラムディスク103とから構成
されており、半導体レーザ101からの出射光は、集光
レンズ102によって例えば発散光とされた後、ホログ
ラムディスク103の走査領域112で回折され、感光
体ドラム120に照射される。ホログラムディスク10
3はモータ122の回転軸に取り付けられており、その
回転駆動に伴ってホログラムディスク103が回転する
ことにより、ホログラムディスク103の走査領域11
2にて回折されたレーザ光の一次回折光が、感光体ドラ
ム120上をその長手方向に直線走査する。すなわち、
ホログラムディスク103においてレーザ光の偏向およ
び収束が行われる。
置は図10に示すように、半導体レーザ101と、集光
レンズ102と、ホログラムディスク103とから構成
されており、半導体レーザ101からの出射光は、集光
レンズ102によって例えば発散光とされた後、ホログ
ラムディスク103の走査領域112で回折され、感光
体ドラム120に照射される。ホログラムディスク10
3はモータ122の回転軸に取り付けられており、その
回転駆動に伴ってホログラムディスク103が回転する
ことにより、ホログラムディスク103の走査領域11
2にて回折されたレーザ光の一次回折光が、感光体ドラ
ム120上をその長手方向に直線走査する。すなわち、
ホログラムディスク103においてレーザ光の偏向およ
び収束が行われる。
【0003】このホログラムディスク103には図11
に示すように、走査領域112としてホログラムファセ
ットが形成され、円周方向に沿って複数個、例えばこの
図では6個が配置されている。従って、このホログラム
ディスク103が1回転することにより、レーザ光が感
光体ドラム120を6回走査する。
に示すように、走査領域112としてホログラムファセ
ットが形成され、円周方向に沿って複数個、例えばこの
図では6個が配置されている。従って、このホログラム
ディスク103が1回転することにより、レーザ光が感
光体ドラム120を6回走査する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、通常用
いられるホログラムディスク103の走査領域112に
設けられているホログラムパターンは半径方向、円周方
向共に場所により異なっており、当然ながら各々の場所
に応じて回折されたレーザ光の回折方向も異なることに
なる。よって、レーザ光の入射位置や入射角が回折の最
適条件からずれると、走査線の曲がりの増大、回折効率
の低下、走査スポット径の増大等が生じるため、走査特
性が著しく劣化し、感光体ドラム120上に形成される
画像の品質に悪影響が生じていた。
いられるホログラムディスク103の走査領域112に
設けられているホログラムパターンは半径方向、円周方
向共に場所により異なっており、当然ながら各々の場所
に応じて回折されたレーザ光の回折方向も異なることに
なる。よって、レーザ光の入射位置や入射角が回折の最
適条件からずれると、走査線の曲がりの増大、回折効率
の低下、走査スポット径の増大等が生じるため、走査特
性が著しく劣化し、感光体ドラム120上に形成される
画像の品質に悪影響が生じていた。
【0005】そのため、ホログラムディスク103への
レーザ光の最適な入射位置を決定する必要があったが、
ホログラムディスク103自体には、入射位置の良否を
判断するための手段は存在しなかった。また、ホログラ
ムディスク103の走査領域112は肉眼では干渉色が
認められるのみであり、最適なレーザ光の入射位置を目
視により検出することは不可能であった。従って、個々
の光走査装置についての走査特性を測定しながら回折方
向を決定し、その方向にて回折光を検出しながら最適な
レーザ光の入射位置を決定することは多大な時間を要
し、光走査装置の生産性の低下を招くという問題があっ
た。
レーザ光の最適な入射位置を決定する必要があったが、
ホログラムディスク103自体には、入射位置の良否を
判断するための手段は存在しなかった。また、ホログラ
ムディスク103の走査領域112は肉眼では干渉色が
認められるのみであり、最適なレーザ光の入射位置を目
視により検出することは不可能であった。従って、個々
の光走査装置についての走査特性を測定しながら回折方
向を決定し、その方向にて回折光を検出しながら最適な
レーザ光の入射位置を決定することは多大な時間を要
し、光走査装置の生産性の低下を招くという問題があっ
た。
【0006】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、ホログラムディスクを用いた光
走査装置におけるレーザ光の入射位置を容易に最適位置
に調整することができるホログラムディスクを提供する
ことを目的とする。
になされたものであり、ホログラムディスクを用いた光
走査装置におけるレーザ光の入射位置を容易に最適位置
に調整することができるホログラムディスクを提供する
ことを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明のホログラムディスクは、レーザ光源から発せ
られるレーザ光を回折し、その回折されたレーザ光によ
り感光体を走査する光走査装置に用いられ、前記回折に
作用するホログラムディスクであって、所定間隔をおい
て複数個形成され、回折により前記レーザ光を偏向する
走査領域と、その各走査領域間の前記所定間隔に相当す
る部分に形成され、前記レーザ光のホログラムディスク
への入射位置及び入射角度を調整するための入射位置調
整領域とを有する。
に本発明のホログラムディスクは、レーザ光源から発せ
られるレーザ光を回折し、その回折されたレーザ光によ
り感光体を走査する光走査装置に用いられ、前記回折に
作用するホログラムディスクであって、所定間隔をおい
て複数個形成され、回折により前記レーザ光を偏向する
走査領域と、その各走査領域間の前記所定間隔に相当す
る部分に形成され、前記レーザ光のホログラムディスク
への入射位置及び入射角度を調整するための入射位置調
整領域とを有する。
【0008】また、このホログラムディスクは、前記入
射位置調整領域が前記走査領域における前記レーザ光の
入射する位置と同一円周上に配置されてもよい。
射位置調整領域が前記走査領域における前記レーザ光の
入射する位置と同一円周上に配置されてもよい。
【0009】また、このホログラムディスクは、前記入
射位置調整領域の大きさが前記レーザ光源から発せられ
るレーザ光のスポットよりも小さくてもよい。
射位置調整領域の大きさが前記レーザ光源から発せられ
るレーザ光のスポットよりも小さくてもよい。
【0010】また、このホログラムディスクは、前記入
射位置調整領域は前記走査領域の一部と同一のホログラ
ムパターンを有してもよい。
射位置調整領域は前記走査領域の一部と同一のホログラ
ムパターンを有してもよい。
【0011】また、このホログラムディスクは、前記入
射位置調整領域は前記走査領域の複数の部分と同一のホ
ログラムパターンの組合せから構成されてもよい。
射位置調整領域は前記走査領域の複数の部分と同一のホ
ログラムパターンの組合せから構成されてもよい。
【0012】
【作用】上記の構成を有する本発明のホログラムディス
クは、入射するレーザ光の入射位置及び入射角度を調整
する際に使用する入射位置調整領域と、入射されたレー
ザ光を偏向する走査領域とから構成されているので、入
射位置調整領域に入射されたレーザ光の回折方向を検出
することによりレーザ光の入射位置及び入射角度が可能
となる。回折方向の検出は、例えば所定の位置に設けた
ピンホール等を通して回折光を検出することにより行わ
れる。
クは、入射するレーザ光の入射位置及び入射角度を調整
する際に使用する入射位置調整領域と、入射されたレー
ザ光を偏向する走査領域とから構成されているので、入
射位置調整領域に入射されたレーザ光の回折方向を検出
することによりレーザ光の入射位置及び入射角度が可能
となる。回折方向の検出は、例えば所定の位置に設けた
ピンホール等を通して回折光を検出することにより行わ
れる。
【0013】なお、入射位置調整領域が走査領域と同一
円周上にあるようにすれば、実際の走査時の状態と同じ
状態で入射するレーザ光の調整を行うことができる。
円周上にあるようにすれば、実際の走査時の状態と同じ
状態で入射するレーザ光の調整を行うことができる。
【0014】また、入射位置調整領域を入射するレーザ
光のスポットよりも小さくすることにより、回折光強度
が最大となるように調整すれば入射位置の平行ずれの調
整も行うことができる。
光のスポットよりも小さくすることにより、回折光強度
が最大となるように調整すれば入射位置の平行ずれの調
整も行うことができる。
【0015】また、入射位置調整領域のホログラムパタ
ーンが走査領域の一部と同一となるようにすると、実際
の走査条件と同一の条件で調整することが可能となる。
ーンが走査領域の一部と同一となるようにすると、実際
の走査条件と同一の条件で調整することが可能となる。
【0016】また、入射位置調整領域を走査領域のなか
の複数の部分と同一のホログラムパターンの組合せから
構成することにより、複数の入射位置調整領域において
同時測定が可能となり、より精度の高い調整が可能とな
る。
の複数の部分と同一のホログラムパターンの組合せから
構成することにより、複数の入射位置調整領域において
同時測定が可能となり、より精度の高い調整が可能とな
る。
【0017】
【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図面を
参照して説明する。
参照して説明する。
【0018】本発明を好適に適用したホログラムディス
ク10では図1の平面図に示すように、ホログラムファ
セットから成る走査領域12が円周方向に複数個、本実
施例では6個配置され、それら各走査領域12の間に図
3(a)に示すごとく円形の入射位置調整領域14が形
成されている。この入射位置調整領域14は、走査領域
12において、レーザ光18が入射すべき位置21(図
1に破線で示す)と同一円周上に配置され、例えば走査
領域12の中央部と同一のホログラムパターンが形成さ
れている。また、入射位置調整領域14の大きさは入射
するレーザ光18のスポット径よりも小さくされてい
る。
ク10では図1の平面図に示すように、ホログラムファ
セットから成る走査領域12が円周方向に複数個、本実
施例では6個配置され、それら各走査領域12の間に図
3(a)に示すごとく円形の入射位置調整領域14が形
成されている。この入射位置調整領域14は、走査領域
12において、レーザ光18が入射すべき位置21(図
1に破線で示す)と同一円周上に配置され、例えば走査
領域12の中央部と同一のホログラムパターンが形成さ
れている。また、入射位置調整領域14の大きさは入射
するレーザ光18のスポット径よりも小さくされてい
る。
【0019】次に、このようなホログラムディスク10
を用いた光走査装置の調整方法について図2を用いて説
明する。この調整に際しては、図10に示す装置と同様
のものを使用するが、ホログラムディスク10にて回折
されたレーザ光をピンホール30に入射させる点が異な
っている。
を用いた光走査装置の調整方法について図2を用いて説
明する。この調整に際しては、図10に示す装置と同様
のものを使用するが、ホログラムディスク10にて回折
されたレーザ光をピンホール30に入射させる点が異な
っている。
【0020】まず、図2に示すように、半導体レーザ2
5から出射したレーザ光を集光レンズ26により所定の
スポット径のレーザ光18とした後、入射位置調整領域
14に照射する。入射位置調整領域14のホログラムパ
ターンは走査領域12の中央部と同一であるため、入射
位置調整領域14にて回折された回折光27は走査線の
中央部方向に回折される。そこで、走査線中央に対応す
る位置にピンホール30とフォトダイオード等の光検出
器31を設置し、回折光27がピンホール30を通して
光検出器31で検出されるように入射位置の調整を行
う。すなわち、図2に示すように、入射角θを変化させ
ると回折光27はピンホール30の周辺をy方向に移動
する。入射角φを変化させると回折光27はピンホール
30の周辺をx方向に移動する。従って回折光27がピ
ンホール30を通過し、光検出器31から出力が得られ
るように調整することにより、そのときレーザ光18の
入射角度が最適な入射角度であるとすることができる。
5から出射したレーザ光を集光レンズ26により所定の
スポット径のレーザ光18とした後、入射位置調整領域
14に照射する。入射位置調整領域14のホログラムパ
ターンは走査領域12の中央部と同一であるため、入射
位置調整領域14にて回折された回折光27は走査線の
中央部方向に回折される。そこで、走査線中央に対応す
る位置にピンホール30とフォトダイオード等の光検出
器31を設置し、回折光27がピンホール30を通して
光検出器31で検出されるように入射位置の調整を行
う。すなわち、図2に示すように、入射角θを変化させ
ると回折光27はピンホール30の周辺をy方向に移動
する。入射角φを変化させると回折光27はピンホール
30の周辺をx方向に移動する。従って回折光27がピ
ンホール30を通過し、光検出器31から出力が得られ
るように調整することにより、そのときレーザ光18の
入射角度が最適な入射角度であるとすることができる。
【0021】ところで、レーザ光18の強度分布はガウ
ス分布をしており、レーザ光18の中央ほど光強度が強
くなっている。また、入射位置調整領域14はレーザ光
18のスポット径より小さいため、レーザ光18の入射
位置調整領域14への入射角度を一定に保ち、レーザ光
18の入射位置を平行移動させると、レーザ光18の強
度分布に応じて光検出器31にて検出される回折光27
の強度が変化する。そこで、回折光27の強度が最大と
なるように入射位置を調整して、入射位置調整領域14
の中心とレーザ光18の中心とを一致させることにより
最適なレーザ光18の入射位置を決定できるので、その
調整は極めて容易となる。
ス分布をしており、レーザ光18の中央ほど光強度が強
くなっている。また、入射位置調整領域14はレーザ光
18のスポット径より小さいため、レーザ光18の入射
位置調整領域14への入射角度を一定に保ち、レーザ光
18の入射位置を平行移動させると、レーザ光18の強
度分布に応じて光検出器31にて検出される回折光27
の強度が変化する。そこで、回折光27の強度が最大と
なるように入射位置を調整して、入射位置調整領域14
の中心とレーザ光18の中心とを一致させることにより
最適なレーザ光18の入射位置を決定できるので、その
調整は極めて容易となる。
【0022】以上説明したように、ピンホール30と光
検出器31等の簡単な素子を用いて入射位置調整領域1
4における回折光27を検出することによりレーザ光1
8の位置決めを容易に精度良く行うことができる。ま
た、入射位置調整領域14と、レーザ光18が入射すべ
き入射位置21とが同一円周上となるように構成されて
いるので、実際の走査時と同様の動作で入射位置の調整
が可能となる。
検出器31等の簡単な素子を用いて入射位置調整領域1
4における回折光27を検出することによりレーザ光1
8の位置決めを容易に精度良く行うことができる。ま
た、入射位置調整領域14と、レーザ光18が入射すべ
き入射位置21とが同一円周上となるように構成されて
いるので、実際の走査時と同様の動作で入射位置の調整
が可能となる。
【0023】以上、本発明の一実施例を図1および図2
を用いて詳細に説明したが、本発明は以上詳述した実施
例に限定されるものではなく、その主旨を逸脱しない範
囲で種々の変更を加えることができる。
を用いて詳細に説明したが、本発明は以上詳述した実施
例に限定されるものではなく、その主旨を逸脱しない範
囲で種々の変更を加えることができる。
【0024】入射位置調整領域14の形状は、図3
(a)に示すような円形に限定されるわけではない。例
えば、同図(b)に示す楕円状、(c)に示す矩形状、
(d)に示す台形状、(e)に示す扇型状、円弧状等で
もよい。
(a)に示すような円形に限定されるわけではない。例
えば、同図(b)に示す楕円状、(c)に示す矩形状、
(d)に示す台形状、(e)に示す扇型状、円弧状等で
もよい。
【0025】また、入射位置調整領域14の大きさは必
ずしもレーザ光のスポット径よりも小さい必要はない。
このとき、入射位置調整領域14の中央ほど回折効率が
高くなるようにすることにより先の実施例と同様の入射
位置のずれに対する回折光強度の変化が得られる。ま
た、図4に示すように、入射位置調整領域14をホログ
ラムパターンが形成された回折部36とホログラムパタ
ーンは形成されていない透過部35とから構成してもよ
い。これにより、入射位置調整領域14の中心とレーザ
光18の中心とが一致したときに回折光強度が最小とな
るため、光検出器31の出力が最小となるように入射位
置を調整すれば、最適な入射位置を決定することができ
る。
ずしもレーザ光のスポット径よりも小さい必要はない。
このとき、入射位置調整領域14の中央ほど回折効率が
高くなるようにすることにより先の実施例と同様の入射
位置のずれに対する回折光強度の変化が得られる。ま
た、図4に示すように、入射位置調整領域14をホログ
ラムパターンが形成された回折部36とホログラムパタ
ーンは形成されていない透過部35とから構成してもよ
い。これにより、入射位置調整領域14の中心とレーザ
光18の中心とが一致したときに回折光強度が最小とな
るため、光検出器31の出力が最小となるように入射位
置を調整すれば、最適な入射位置を決定することができ
る。
【0026】また、入射位置調整領域14のホログラム
パターンは走査領域12の中央部と同一のパターンであ
る必要はない。走査領域12内におけるレーザ光の入射
位置21と走査線上の位置とは対応しているため、入射
位置調整領域14として用いたホログラムパターンを有
する走査領域12の入射位置21に対応した走査位置に
光検出器31を設ければ先の実施例と同様に調整を行う
ことができる。
パターンは走査領域12の中央部と同一のパターンであ
る必要はない。走査領域12内におけるレーザ光の入射
位置21と走査線上の位置とは対応しているため、入射
位置調整領域14として用いたホログラムパターンを有
する走査領域12の入射位置21に対応した走査位置に
光検出器31を設ければ先の実施例と同様に調整を行う
ことができる。
【0027】また、入射位置調整領域14のホログラム
パターンは走査領域12の単一の部分と同一である必要
はない。例えば、図5のように複数の部分のパターンを
形成してもよい。すなわち、図5(a)のように走査線
の右端、左端に対応するパターン51,52を入射位置
調整領域14に形成してもよい。この入射位置調整領域
14にレーザ光18を照射することにより図6(a)の
ように走査線の右端、左端の位置に同時に回折光が得ら
れるため、走査線の傾きや走査長の評価も同時に行うこ
ともでき調整精度が向上する。また、図5(b)のよう
に走査線中央に対応するパターン53も形成してもよ
い。これにより、図6(b)のように走査線の右端、中
央、左端、の位置に同時に回折光が得られ、よりいっそ
う調整精度が向上する。また、図5(a)、(b)にお
いて、右端と中央のパターンの組合せ等、上記の例以外
のその他の組合せも可能である。組み合わせる個数も特
に限定されず3個以上でもよい。このときの入射位置調
整領域14の形状も特に限定されず、例えば図5(c)
のような扇型状、あるいは矩形状等でもよい。
パターンは走査領域12の単一の部分と同一である必要
はない。例えば、図5のように複数の部分のパターンを
形成してもよい。すなわち、図5(a)のように走査線
の右端、左端に対応するパターン51,52を入射位置
調整領域14に形成してもよい。この入射位置調整領域
14にレーザ光18を照射することにより図6(a)の
ように走査線の右端、左端の位置に同時に回折光が得ら
れるため、走査線の傾きや走査長の評価も同時に行うこ
ともでき調整精度が向上する。また、図5(b)のよう
に走査線中央に対応するパターン53も形成してもよ
い。これにより、図6(b)のように走査線の右端、中
央、左端、の位置に同時に回折光が得られ、よりいっそ
う調整精度が向上する。また、図5(a)、(b)にお
いて、右端と中央のパターンの組合せ等、上記の例以外
のその他の組合せも可能である。組み合わせる個数も特
に限定されず3個以上でもよい。このときの入射位置調
整領域14の形状も特に限定されず、例えば図5(c)
のような扇型状、あるいは矩形状等でもよい。
【0028】また、図5(d)のように各パターンを微
小領域とし、パターン51,52,53に対応するパタ
ーンを複数個ずつ入射位置調整領域14に設けてもよ
い。また、各パターン51,52,53を重ねて露光を
行い、多重ホログラムとしてもよい。これにより図6
(c)のように得られる複数の回折光のビーム形状が実
際の走査ビームに近いものとなり調整精度が向上する。
つまり、走査領域12の複数の部分に対応するホログラ
ムパターンを入射位置調整領域14として形成すること
により、その入射位置調整領域14にレーザ光18を照
射したときに複数の位置の同時に回折光が得られるの
で、調整精度が向上するのである。
小領域とし、パターン51,52,53に対応するパタ
ーンを複数個ずつ入射位置調整領域14に設けてもよ
い。また、各パターン51,52,53を重ねて露光を
行い、多重ホログラムとしてもよい。これにより図6
(c)のように得られる複数の回折光のビーム形状が実
際の走査ビームに近いものとなり調整精度が向上する。
つまり、走査領域12の複数の部分に対応するホログラ
ムパターンを入射位置調整領域14として形成すること
により、その入射位置調整領域14にレーザ光18を照
射したときに複数の位置の同時に回折光が得られるの
で、調整精度が向上するのである。
【0029】また、入射位置調整領域14は走査領域以
外のホログラムパターンでもよい。この場合も走査線に
対応する位置ではなく、形成されたホログラムパターン
から得られるべき回折方向に光検出器を設ければよい。
例えば、図7のように最適入射位置を境界として、回折
方向の異なるホログラムパターン56,57を入射位置
調整領域14として形成しておき、各ホログラムパター
ン56,57における回折光をそれぞれ光検出器58,
59で検出し、それらの光検出器58,59にて検出さ
れる回折光強度が等しくなるよう調整してもよい。
外のホログラムパターンでもよい。この場合も走査線に
対応する位置ではなく、形成されたホログラムパターン
から得られるべき回折方向に光検出器を設ければよい。
例えば、図7のように最適入射位置を境界として、回折
方向の異なるホログラムパターン56,57を入射位置
調整領域14として形成しておき、各ホログラムパター
ン56,57における回折光をそれぞれ光検出器58,
59で検出し、それらの光検出器58,59にて検出さ
れる回折光強度が等しくなるよう調整してもよい。
【0030】また、入射位置調整領域14は各走査領域
12の間すべてに配置されている必要はなく、その一部
あるいは一箇所のみでもよい。さらに、図8に示すよう
に走査領域12の間に複数の入射位置調整領域61,6
2を設け、それぞれ複数の位置で調整を行ってもよい。
また、各走査領域12の間の入射位置調整領域14は同
一形状である必要はない。例えば、図9のように入射位
置調整領域65,66,67の形状を各調整の目的に応
じて変化させてもよい。
12の間すべてに配置されている必要はなく、その一部
あるいは一箇所のみでもよい。さらに、図8に示すよう
に走査領域12の間に複数の入射位置調整領域61,6
2を設け、それぞれ複数の位置で調整を行ってもよい。
また、各走査領域12の間の入射位置調整領域14は同
一形状である必要はない。例えば、図9のように入射位
置調整領域65,66,67の形状を各調整の目的に応
じて変化させてもよい。
【0031】また、入射位置調整領域14を、ホログラ
ムディスク10の走査領域12の入射位置と同一半径位
置に形成する必要はない。入射位置21と入射位置調整
領域14の半径方向の差があらかじめわかっていれば、
入射位置調整領域14にレーザ光18を照射して入射位
置を調整した後、上述した差の分だけ入射位置を移動さ
せればよい。
ムディスク10の走査領域12の入射位置と同一半径位
置に形成する必要はない。入射位置21と入射位置調整
領域14の半径方向の差があらかじめわかっていれば、
入射位置調整領域14にレーザ光18を照射して入射位
置を調整した後、上述した差の分だけ入射位置を移動さ
せればよい。
【0032】回折光の検出方法としては、ピンホール3
0を透過させたレーザ光を光検出器31にて検出する方
法に限定されるわけではない。例えば、光検出器として
2次元位置センサあるいはCCDカメラ等の2次元像検
出手段を用いてもよい。これにより、最適入射位置と回
折光との位置のずれや回折光強度変化を電気的に検出で
きるため調整の自動化が容易となる。また、スリットと
1次元位置センサを組み合わせてもよい。また、4分割
等の複数分割フォトダイオードを用いて位置のずれを検
出してもよい。
0を透過させたレーザ光を光検出器31にて検出する方
法に限定されるわけではない。例えば、光検出器として
2次元位置センサあるいはCCDカメラ等の2次元像検
出手段を用いてもよい。これにより、最適入射位置と回
折光との位置のずれや回折光強度変化を電気的に検出で
きるため調整の自動化が容易となる。また、スリットと
1次元位置センサを組み合わせてもよい。また、4分割
等の複数分割フォトダイオードを用いて位置のずれを検
出してもよい。
【0033】また、入射位置調整時はホログラムディス
ク10を停止させておく必要はなく、ホログラムディス
ク10を回転させながら半導体レーザ25からレーザ光
18を出射してもよい。これにより、各入射位置調整領
域14からの回折光を光検出器31で検出する際の信号
を時系列で検出でき、バランスのとれた調整を行うこと
ができる。
ク10を停止させておく必要はなく、ホログラムディス
ク10を回転させながら半導体レーザ25からレーザ光
18を出射してもよい。これにより、各入射位置調整領
域14からの回折光を光検出器31で検出する際の信号
を時系列で検出でき、バランスのとれた調整を行うこと
ができる。
【0034】なお、光走査装置の構成もホログラムディ
スク10を用いたものであれば特に限定されない。例え
ば、レーザ光18をホログラムディスク10に入射させ
る前に、ホログラムレンズあるいは前置ホログラム等の
光学素子を介し、その後にホログラムディスク10に入
射するように構成してもよい。また、ホログラムディス
クにて回折されたレーザ光18を後置ホログラム等の光
学素子を通した後で感光体ドラムへ到達するようにして
もよい。また、ホログラムディスク10に形成された走
査領域12のホログラムパターンもレーザ光18の回
折、走査を行うものであれば、そのパターンについては
特に限定されない。
スク10を用いたものであれば特に限定されない。例え
ば、レーザ光18をホログラムディスク10に入射させ
る前に、ホログラムレンズあるいは前置ホログラム等の
光学素子を介し、その後にホログラムディスク10に入
射するように構成してもよい。また、ホログラムディス
クにて回折されたレーザ光18を後置ホログラム等の光
学素子を通した後で感光体ドラムへ到達するようにして
もよい。また、ホログラムディスク10に形成された走
査領域12のホログラムパターンもレーザ光18の回
折、走査を行うものであれば、そのパターンについては
特に限定されない。
【0035】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
請求項1のホログラムディスクによれば、ホログラムデ
ィスク自体にレーザ光の回折に使用する走査領域とレー
ザ光の入射位置を調整するための入射位置調整領域とを
有しているので、ホログラムディスクに入射させるレー
ザ光の最適な入射位置を容易に且つ短時間で調整でき
る。
請求項1のホログラムディスクによれば、ホログラムデ
ィスク自体にレーザ光の回折に使用する走査領域とレー
ザ光の入射位置を調整するための入射位置調整領域とを
有しているので、ホログラムディスクに入射させるレー
ザ光の最適な入射位置を容易に且つ短時間で調整でき
る。
【0036】また、請求項2のホログラムディスクで
は、走査領域におけるレーザ光の入射位置と同一円周上
に入射位置調整領域を形成しているので、さらに最適な
レーザ光の入射位置を特定できる。
は、走査領域におけるレーザ光の入射位置と同一円周上
に入射位置調整領域を形成しているので、さらに最適な
レーザ光の入射位置を特定できる。
【0037】また、請求項3のホログラムディスクで
は、入射位置調整領域の大きさをレーザ光のスポット径
よりも小さくしているため、入射レーザ光の強度分布に
応じて回折光の強度が変化するので、入射位置を最適に
するためには回折光の強度が最大となるように調整すれ
ばよく、調整がきわめて容易になる。
は、入射位置調整領域の大きさをレーザ光のスポット径
よりも小さくしているため、入射レーザ光の強度分布に
応じて回折光の強度が変化するので、入射位置を最適に
するためには回折光の強度が最大となるように調整すれ
ばよく、調整がきわめて容易になる。
【0038】また、請求項4のホログラムディスクで
は、入射位置調整領域は走査領域の一部と同一のホログ
ラムパターンを有しているので、入射位置調整領域にて
回折されるレーザ光の回折方向を予め予測することがで
き、その方向にて回折光の検出を行うことにより、最適
な入射位置を容易に精度良く決定できる。
は、入射位置調整領域は走査領域の一部と同一のホログ
ラムパターンを有しているので、入射位置調整領域にて
回折されるレーザ光の回折方向を予め予測することがで
き、その方向にて回折光の検出を行うことにより、最適
な入射位置を容易に精度良く決定できる。
【0039】また、請求項5のホログラムディスクで
は、入射位置調整領域は走査領域の複数の部分と同一の
ホログラムパターンの組合せからなるので、レーザ光を
入射位置調整領域に入射させることにより同時に複数の
位置の回折光を生じさせることができるので、各回折光
を検出することによって、より最適な入射位置を求める
ことができる。
は、入射位置調整領域は走査領域の複数の部分と同一の
ホログラムパターンの組合せからなるので、レーザ光を
入射位置調整領域に入射させることにより同時に複数の
位置の回折光を生じさせることができるので、各回折光
を検出することによって、より最適な入射位置を求める
ことができる。
【図1】ホログラムディスクの一実施例を示す要部上面
図である。
図である。
【図2】ホログラムディスクを用いた光走査装置の調整
方法を説明する斜視図である。
方法を説明する斜視図である。
【図3】ホログラムディスクの入射位置調整領域の他の
実施例を示す上面図である。
実施例を示す上面図である。
【図4】ホログラムディスクの入射位置調整領域の他の
実施例を示す上面図である。
実施例を示す上面図である。
【図5】ホログラムディスクの入射位置調整領域の他の
実施例を示す上面図である。
実施例を示す上面図である。
【図6】ホログラムディスクを用いたの光走査装置の調
整方法の他の実施例を示す説明図である。
整方法の他の実施例を示す説明図である。
【図7】ホログラムディスクを用いた光走査装置の調整
方法の他の実施例を示す説明図である。
方法の他の実施例を示す説明図である。
【図8】ホログラムディスクの他の実施例を示す部分上
面図である。
面図である。
【図9】ホログラムディスクの他の実施例を示す部分上
面図である。
面図である。
【図10】従来の光走査装置の構成を示す要部側面図で
ある。
ある。
【図11】従来のホログラムディスクを示す要部上面図
である。
である。
10 ホログラムディスク 12 走査領域 14 入射位置調整領域 18 レーザ光
Claims (5)
- 【請求項1】 レーザ光源から発せられるレーザ光を回
折し、その回折されたレーザ光により感光体を走査する
光走査装置に用いられ、前記回折に作用するホログラム
ディスクであって、 所定間隔をおいて複数個形成され、回折により前記レー
ザ光を偏向する走査領域と、 その各走査領域間の前記所定間隔に相当する部分に形成
され、前記レーザ光のホログラムディスクへの入射位置
及び入射角度を調整するための入射位置調整領域とを有
することを特徴とするホログラムディスク。 - 【請求項2】 請求項1記載のホログラムディスクにお
いて、前記入射位置調整領域が前記走査領域における前
記レーザ光の入射する位置と同一円周上に配置されてい
ることを特徴とするホログラムディスク。 - 【請求項3】 請求項1記載のホログラムディスクにお
いて、前記入射位置調整領域の大きさが前記レーザ光源
から発せられるレーザ光のスポットよりも小さいことを
特徴とするホログラムディスク。 - 【請求項4】 請求項1記載のホログラムディスクにお
いて、前記入射位置調整領域は前記走査領域の一部と同
一のホログラムパターンを有していることを特徴とする
ホログラムディスク。 - 【請求項5】 請求項1記載のホログラムディスクにお
いて、前記入射位置調整領域は前記走査領域の複数の部
分と同一のホログラムパターンの組合せからなることを
特徴とするホログラムディスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14744794A JPH0815634A (ja) | 1994-06-29 | 1994-06-29 | ホログラムディスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14744794A JPH0815634A (ja) | 1994-06-29 | 1994-06-29 | ホログラムディスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0815634A true JPH0815634A (ja) | 1996-01-19 |
Family
ID=15430562
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14744794A Pending JPH0815634A (ja) | 1994-06-29 | 1994-06-29 | ホログラムディスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0815634A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7342700B2 (en) | 2005-02-04 | 2008-03-11 | Ricoh Printing Systems, Ltd. | Optical scanning apparatus and image forming apparatus |
-
1994
- 1994-06-29 JP JP14744794A patent/JPH0815634A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7342700B2 (en) | 2005-02-04 | 2008-03-11 | Ricoh Printing Systems, Ltd. | Optical scanning apparatus and image forming apparatus |
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