JPH0784202A

JPH0784202A - 光走査装置

Info

Publication number: JPH0784202A
Application number: JP23045393A
Authority: JP
Inventors: Akihisa Itabashi; 彰久板橋
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1993-09-16
Filing date: 1993-09-16
Publication date: 1995-03-31

Abstract

(57)【要約】【目的】光スポット径を容易に調整・変化でき、光スポ
ット径の変化に拘らず光走査の光エネルギーを一定に保
ち得る光走査装置を実現する。【構成】光源装置１０からのレーザー光束をシリンダレ
ンズ系１２により副走査対応方向へ収束させ、主走査対
応方向に長い線像ＬＩに結像させ、線像ＬＩの結像位置
近傍に偏向反射面１６Ａを有する光偏向器１６による偏
向光束を走査結像光学系１８により被走査面上に光スポ
ットとして集光させて光走査を行う光走査装置におい
て、開口絞り１１０，１４０による光束規制量を変化さ
せることにより光スポット径を変化させる。その際、光
スポット径変化に伴う光エネルギー変化を補正するよう
に光源装置１０のレーザー出力を変化させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は光走査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】レーザー光源を光源とする光源装置から
のレーザー光束を偏向反射面により反射して偏向光束と
し、走査結像光学系により被走査面上に光スポットとし
て集光させて光走査を行う光走査方式は光プリンター等
に関連して広く知られている。

【０００３】高密度記録等の高精度の光走査を実現する
には「光スポット径」が所定の大きさで安定している必
要がある。光スポット径は光源から被走査面に到る光路
上に配備される光学素子により決定され、各光学素子は
所望の光スポット径を実現できるように設計・配備され
るのであるが、光学素子の加工誤差や組み付け誤差は不
可避的であり、これら誤差は光スポット径にも影響する
ため、設計通りの光スポット径を得るには光スポット径
を調整する手段が必要である。

【０００４】また、光走査密度を複数段階に切り換え可
能な光走査装置も意図されており、このような光走査密
度の切り換えも、上記調整手段を利用して光スポット径
を切り換えることで実現できる。従来、調整手段として
ズーム光学系が提案されているが（特開平２−１９６２
０９号公報）、調整機構としてはコストが高く付くし、
実用性に乏しい。

【０００５】また、偏向反射面を有する光偏向器は回転
多面鏡やガルバノミラー或いは回転２面鏡や回転単面鏡
等であるが、偏向反射面に所謂「面倒れ」があると光ス
ポットによる主走査ラインが副走査方向へ変動し、書き
込まれる画像に「ジッター」と呼ばれる画像異常が発生
する。

【０００６】このような「面倒れ」の影響を補正するた
め、レーザー光束をシリンダレンズ系により、副走査対
応方向（光源から被走査面に到る光路を光軸に沿って直
線的に展開した仮想的な光路上で、副走査方向と平行的
に対応する方向を言う。また上記仮想的な光路上で、主
走査方向と平行的に対応する方向を主走査対応方向と言
う。）に収束せしめ、偏向反射面近傍に主走査対応方向
に長い「線像」として結像せしめるとともに、走査結像
光学系が副走査対応方向にして偏向反射面位置と被走査
面位置とを「幾何光学的に共役な関係」とすることが行
われている。

【０００７】光走査装置をこのように構成すると、走査
結像光学系は必然的に主走査対応方向と副走査対応方向
とでパワーが異なる「アナモフィック」な光学系とな
り、主・副走査対応方向の像面湾曲を同時に良好に補正
することが難しい。走査結像光学系に像面湾曲がある
と、光スポット径が光スポットの像高とともに変動する
ので精密な高密度光走査の実現が難しい。主走査方向に
おける光スポット径変動は書込み信号の電気的な操作で
も補正可能であるが、副走査方向の光スポット径変動は
このような方法で補正できない。

【０００８】従来、副走査方向における光スポット径変
動を補正する方法として「レーザー光源からの平行レー
ザー光束を主走査対応方向に長い線像に結像させるシリ
ンダレンズ系」を、副走査対応方向の像面湾曲に応じて
光軸方向へ変位させる方法が知られている（特開平４−
５０１９３号公報）。しかしこの方法はシリンダレンズ
の質量が必ずしも小さくないため、高速光走査になると
シリンダレンズを高速移動させることが容易ではない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】この発明は上述した事
情に鑑みてなされたもので、簡単な構成で容易且つ確実
に光スポット径の調整・切り換えができ、像高による光
スポット径の変動を高速光走査においても確実に軽減も
しくは防止でき、しかも光スポット径を変化させても、
光スポット径変化に伴う光エネルギー変化を有効に補正
できる新規な光走査装置の提供を目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】この発明の光走査装置
は、光源装置と、線像結像素子と、光偏向器と、走査結
像光学系と、開口絞りと、開口可変手段と、光源制御手
段とを有する。「光源装置」は、レーザー光源を光源と
するものであり、「レーザー出力が可変」な装置であ
る。レーザー光源としては例えば半導体レーザーを用い
ることが出来るが、レーザー出力を調整できるものであ
れば、ガスレーザー固体レーザーでも使用可能である。
なお、光源装置から放射されるレーザー光束は、平行光
束とすることも出来るし、収束光束もしくは発散光束と
することもできる。

【００１１】「線像結像素子」は、光源装置からのレー
ザー光束を副走査対応方向へ収束させ、主走査対応方向
に長い線像として結像させる光学素子で、１枚もしくは
２枚以上のシリンダレンズを好適に利用できる。

【００１２】「光偏向器」は、線像結像素子により結像
される線像の結像位置近傍に偏向反射面を有し、反射光
束を偏向させる。光偏向器としては、回転多面鏡や、ガ
ルバノミラー、回転単面鏡や回転２面鏡を用いることが
できる。

【００１３】「走査結像光学系」は、光偏向器による偏
向光束を被走査面上に光スポットとして集光させる光学
系である。従って走査結像光学系は、副走査対応方向に
関して、偏向反射面位置（上記線像の結像位置）と被走
査面位置とを幾何光学的な共役関係とする。走査結像光
学系は、主走査対応方向に関して主走査を等速化する機
能を有している。即ち、光偏向器がガルバノミラーの場
合は走査結像光学系をｆ・ｓｉｎθレンズとすることが
でき、光偏向器が回転多面鏡や回転２面鏡、回転単面鏡
の場合には走査結像光学系を「ｆθレンズ」とすること
ができる。

【００１４】「開口絞り」は、光源装置と光偏向器との
間に配備され、少なくとも副走査対応方向においてレー
ザー光束を規制する。「開口可変手段」は、開口絞りに
よる光束規制量を変化させる手段である。「光源制御手
段」は、開口可変手段による開口絞りの光束規制量変化
に応じ、光束規制量変化に伴う光走査の光量変化を補正
するように、光源装置におけるレーザー出力を制御する
手段である。

【００１５】開口可変手段による光束規制量の変化は、
「光スポット径調整」のために行ってもよいし（請求項
２）、「光走査密度の切り換え」のために行ってもよく
（請求項３）、「走査結像光学系の像面湾曲による光ス
ポット径の変動を補正する」ために行っても良い（請求
項４）。また、これら「光スポット径の調整」、「光走
査密度の切り換え」および「像面湾曲による光スポット
径変動補正」は、互いに組み合わせて行っても良い。

【００１６】上記請求項１〜４記載の光走査装置は、従
来の光走査装置と同様に、「光偏向器により偏向され、
被走査面の走査開始位置へと向かう偏向光束を検出し、
光走査開始用の同期信号を発生する光センサー手段」を
有することができるが、この光センサー手段により検出
される偏向光束の光強度に基づき、光源装置におけるレ
ーザー出力制御の基準値設定を行うことが出来る（請求
項５）。この場合、光センサー手段が、受光手段として
フォトセンサーを有し、フォトセンサーの前方に、少な
くとも主走査対応方向にパワーを持つ、凸レンズおよび
／または凹レンズを有するように構成することが出来
る。

【００１７】上記請求項１〜６記載の光走査装置におい
て、「開口絞り」は、主走査対応方向のレーザー光束規
制を行う主走査対応方向開口絞りと、副走査対応方向の
レーザー光束規制を行う副走査対応方向開口絞りが、互
いに別個に設けられたものとすることができる（請求項
７）。

【００１８】

【作用】後述するように、レーザー光束を収束させる場
合、所謂ビームウエストの大きさは、収束されるレーザ
ー光束の光束径と反比例の関係にある。このため、レー
ザー光束を、開口絞りにより主走査対応方向および／ま
たは副走査対応方向に規制し、光束規制量を変化させる
ことにより、被走査面上の光スポット径を主走査方向お
よび／または副走査方向に変化させることができる。

【００１９】このとき、レーザー光源から放射されるレ
ーザー光束の強度が一定であると、光束規制量を変化さ
せた場合に、被走査面に到達する光エネルギーが変化す
ることになる。

【００２０】そこで、この発明では、開口絞りによる光
束規制量の変化に応じ、光源制御手段により光源装置に
おけるレーザー出力を変化させ、上記光エネルギーの変
化を補正する。

【００２１】

【実施例】以下、具体的な実施例を説明する。図１
（ａ）は請求項１，３，４，５，６，７記載の光走査装
置の１実施例を要部のみ略示している。符号１０で示す
「光源装置」は、半導体レーザーと、この半導体レーザ
ーからの発散性の光束を平行光束化するカップリングレ
ンズとにより構成され、平行レーザー光束を放射する。

【００２２】光源装置１０から放射された平行光束は
「線像結像素子」としてのシリンダレンズ１２により副
走査対応方向にのみ集光され、「光偏向器」である回転
多面鏡１６の偏向反射面１６Ａの位置に、主走査対応方
向に長い線像ＬＩとして結像する。偏向反射面１６Ａに
よる反射光束は回転多面鏡１６の矢印方向への回転に伴
い周期的な「偏向光束」となって「走査結像光学系」で
あるｆθレンズ１８に入射し、同レンズ１８の作用によ
り感光体２０上に光スポットとして集光し、感光体２０
を等速的に走査する。図中、符号Ｌは光スポットの移動
軌跡、即ち「主走査ライン」を示す。主走査ラインＬを
含む感光体２０の接平面が「被走査面」である。

【００２３】光源装置１０とシリンダレンズ１２との間
には、「主走査対応方向開口絞り」である第１アパーチ
ャ手段１１０が配備され、シリンダレンズ１２と回転多
面鏡１６との間には、「副走査対応方向開口絞り」であ
る第２アパーチャ手段１４０が配備されており、レーザ
ー光束の周辺光束部分を主・副走査対応方向において遮
断する。

【００２４】第１アパーチュア手段１１０は短冊型の遮
光板１１１，１１２を、副走査対応方向に平行に配備
し、両者の間隔を調整機構２４により調整可能としたも
のである。第２アパーチュア手段は短冊型の遮光板１４
１，１４２を、主走査対応方向に平行に配備し、両者の
間隔を調整機構２３により調整可能としたものである。

【００２５】これら、互いに別体の第１及び第２アパー
チャ手段１１０，１４０は、「開口絞り」を構成してい
る。また調整機構２３および２４と、これらを制御する
制御手段は「開口可変手段」を構成する。調整機構２
３，２４としては、公知の適宜の平行移動機構を利用で
きる。

【００２６】図１（ｂ）は、（ａ）の光学配置における
「シリンダレンズ１２と偏向反射面１６Ａの間の光路」
を、副走査対応方向が上下方向となるように描いたもの
である。第２アパーチャ手段１４０の遮光板１４１，１
４２が図に実線で示す位置にあると、第２アパーチャ手
段１４０よりも偏向反射面１６Ａ側に配備された光学系
にとって、レーザー光束は、シリンダレンズ１２へ入射
する以前において副走査対応方向に光束径：２ω_0Sを持
つことになる。

【００２７】このときシリンダレンズ１２により結像さ
れる線像位置（偏向反射面１６Ａの位置）における副走
査対応方向の光束径：２ω_1Sは、シリンダレンズ１２の
副走査対応方向における焦点距離：ｆ_cy、レーザー光束
の波長：λを用いて２ω_1S＝４Ｋ・λ・ｆ_cy／（π・２ω_0S）で与えられる。Ｋは定数である。被走査面上における副
走査対応方向における光スポット径を２ω_2Sとすると、
この光スポット径：２ω_2Sは、ｆθレンズ１８における
副走査対応方向における横倍率をβとして、２ω_2S＝β・２ω_1S＝４Ｋ・β・λ・ｆ_cy／（π・２ω
_0S）で表される。即ち、被走査面上における副走査対応方向
における光スポット径：２ω_2Sは、光束径：２ω_0Sと反
比例の関係にあるから、光束径：２ω_0Sを調整すること
により、副走査対応方向における光スポット径：２ω_2S
を変化させることができる。

【００２８】図１（ｂ）に示すように、第１アパーチャ
手段１４０の遮光板１４１，１４２の位置が破線の位置
へ変位すると上記光束径：２ω_0Sは、鎖線で示す光束の
径：２ω_0S’に変化し、偏向反射面１６Ａ上における光
束径は２ω_1Sから２ω_1S’へ変化する。従って、第１ア
パーチャ手段１４０による光束規制量を小さくすると、
光スポット径：２ω_2Sを小さくするように変化させるこ
とができ、被走査面上の副走査方向の光スポット径を小
さくすることができる。

【００２９】図１（ｃ）は、主走査対応方向における偏
向光束（主走査対応方向において実質的な平行光束であ
る）が光学系であるｆθレンズ１８により被走査面上に
集光される状態を示している。このとき、ｆθレンズ１
８に入射するレーザー光束の主走査対応方向の径が２ω
_0M（第１アパーチャ手段１１０の遮光板１１１，１１２
が実線の位置にある）であるとすると、被走査面上にお
ける光スポットの主走査方向の径：２ω_Mは、ｆθレン
ズ１８の主走査対応方向における焦点距離：ｆ、レーザ
ー光束の波長：λを用いて２ω_M＝４Ｋ・λ・ｆ／（π・２ω_0M）で与えられる。また、遮光板１１１，１１２を破線の位
置に移動させてアパーチュア幅を広げれば、レーザー光
束の主走査対応方向の径が２ω_0M’と大きくなることに
伴い、光スポットの手走査方向の径は２ω_M’と小さく
なる。

【００３０】このように、第１，第２アパーチャ手段１
１０，１４０による開口幅を変化させて、光束規制量を
変化させることにより光スポット径を変化させることが
できる。

【００３１】ｆθレンズ１８の像面湾曲により、主・副
走査方向とも光スポット径が像高に応じて変動する場
合、主走査方向および副走査方向の光スポット径の像高
による変動を軽減乃至除去するには、光スポット径が大
きくなる像高位置では、レーザー光束の前記光束径：２
ω_0S，２ω_0Mが大きくなるように、また光スポット径が
小さくなる像高位置では２ω_0S，２ω_0Mが小さくなるよ
うに、第１，第２アパーチュア手段１１０，１４０の開
口幅を制御すれば良い。この場合、調整機構２３，２４
のよる調整動作は極めて高速であるから、ボイスコイル
や圧電素子等、高速駆動の可能なものを使用する。

【００３２】第１および第２アパーチャ手段１１０，１
４０の開口幅を定値に固定した場合、ｆθレンズ１８の
像面湾曲に起因する主・副走査方向の光スポット径変化
を像高：Ｈの関数として、２ω_M（Ｈ），２ω_2S（Ｈ）
とすると、これらは上記像面湾曲に応じて一義的に定ま
る。

【００３３】従って像高：Ｈに応じ、２ω_M（Ｈ），２
ω_2S（Ｈ）が大きくなる像高位置では、前記光束径：２
ω_0S，２ω_0Mが大きくなり、２ω_M（Ｈ），２ω
_2S（Ｈ）が小さくなる像高位置では２ω_0S，２ω_0Mが小
さくなるように、第１，第２アパーチャ手段１１０，１
４０の開口幅を制御することにより、像面湾曲に拘ら
ず、２ω_M（Ｈ），ω_2S（Ｈ）を一定もしくは略一定に
制御することができる。

【００３４】このための、第１，第２アパーチャ手段の
開口幅は、像高：Ｈの関数（像高：Ｈと１：１に対応す
る具体的なアパーチュア幅の集合、もしくはこのアパー
チュア幅の集合を解析関数で近似したもの）として制御
手段２５に記憶されている。

【００３５】光走査時には、光走査部へ向かう偏向光束
が図２（ａ）に示すフォトセンサー２６により検出さ
れ、フォトセンサー２６の出力に位相同期されたクロッ
クにより光走査の各画素の書き込みタイミング（画素ク
ロック）が決定される。

【００３６】画素クロックは光スポットの像高：Ｈと対
応するので、制御手段２５は画素クロックに対応する像
高：Ｈに応じた第１アパーチャ手段１１０の開口幅を調
整機構２４に、また像高：Ｈに応じた第２アパーチュア
手段１４０のアパーチュア幅を調整機構２３に出力し、
調整機構２４，２３は制御手段２５からの信号に応じて
第１，第２アパーチャ手段の開口幅を実現させる。かく
して、主・副走査対応方向における光スポット径を一定
もしくは略一定に保って光走査を実行することができ
る。

【００３７】上記の如くして光スポット径は、一定もし
くは略一定となるが、光スポット径を一定にするため
に、光束規制量を変化させているので、光源装置のレー
ザー出力が一定であると、被走査面に到達する光エネル
ギーは、光スポットの像高に応じて変化することにな
る。

【００３８】従って、この発明では、光束規制量の変化
に応じ、上記光エネルギーの変動を補正するように、光
源装置におけるレーザー出力を制御するのである。光束
規制量は、第１，第２アパーチャ手段における開口幅に
より一義的に定まるから、基本的には、上記開口幅とレ
ーザー出力との関係を、光エネルギーが一定となるよう
に定め、例えば制御手段からの制御信号で光量補正回路
２９を制御し、光源装置１０におけるレーザー出力を変
化させればよい。

【００３９】ところで、請求項３記載の発明のように、
光スポット径を切り換えることにより、光走査密度を切
り換える場合には、第１，第２アパーチャ手段１１０，
１４０の開口幅の基準幅が光走査密度に応じて異なるこ
とになり、開口幅は、光走査密度に応じて設定される基
準幅を基準として制御されることになる。

【００４０】このような場合に、光源装置１０におけ
る、光走査密度に応じた基準のレーザー出力の設定は、
以下のように行われる。

【００４１】光源装置における基準のレーザー出力は、
基準となる光走査密度（例えば４００ｄｐｉ）に応じて
定められており、光走査装置が作動させられるときは、
常に上記基準のレーザー出力に設定される。

【００４２】光走査密度が例えば２００ｄｐｉに切り換
えられると光スポット径は大きくなるので、それに応じ
て、第１，第２アパーチャ手段１１０，１４０の開口幅
はその基準幅が前記４００ｄｐｉの場合よりも小さく設
定され、それにおうじて、光束規制量は大きくなる。従
って、光エネルギーを大きくする必要がある。

【００４３】このためのレーザー出力の光走査密度に応
じた基準値設定を以下のように行うのである。光走査開
始の同期のためのフォトセンサー２６の出力は、図２
（ａ）で示すようになる。即ち、偏向光束がフォトセン
サー２６の受光面を横切るとき、出力：Ｐは偏向光束が
受光面に入射し始めるときから次第に増加し、偏向光束
が受光面から外れるときに出力：Ｐは最大になる。即
ち、出力：Ｐは、偏向光束が受光面を通過する際に受光
面の受ける光量の積分値したものに比例的に対応してい
る。この出力：Ｐを図１（ａ）に示す微分回路２７によ
り微分すると、微分回路２７の出力：ｄＰ／ｄｔは、図
２（ｂ）に示すごとき山形の信号となる。この山形の信
号のピーク値：Ｐｔは、光源装置１０におけるレーザー
出力と比例的な「対応関係」にあるので、このピーク
値：Ｐｔを光量認識回路２９においてピークホールドに
より検出し、上記対応関係により光源装置１０における
レーザー出力を検出し、その結果に基づき、光量補正回
路３１により光源装置１０におけるレーザー出力を補正
し、光走査密度の切り換えに拘らず、被走査面に到達す
る光エネルギーの基準値が一定となるようにするのであ
る。

【００４４】図１（ａ）に示すように、フォトセンサー
２６の手前にはシリンダレンズ２６１が設けられてい
る。このシリンダレンズ２６１は、回転多面鏡１６によ
る偏向光束の偏向起点とフォトセンサー２６との間の光
路に対し出入自在である。

【００４５】前述したように、この実施例において、光
源装置のレーザー出力は、光走査密度４００ｄｐｉを基
準として設定されており、光走査密度が２００ｄｐｉに
切り換えられると、開口絞りが絞られるため、フォトセ
ンサー２６が検出する光量も減少する。しかもその上
に、光走査密度が２００ｄｐｉに設定されると、光束の
偏向も高速となり、偏向光束がフォトセンサー２６の受
光面を横切る時間も短くなる。

【００４６】このため、光走査密度は２００ｄｐｉに切
り換えられたとき、フォトセンサー２６の出力：Ｐが小
さくなり、微分回路２７の出力におけるピーク値Ｐｔも
小さくなって、光源装置１０におけるレーザー出力検出
に誤差を生む虞れがある。

【００４７】そこで、この実施例においては、光走査密
度が２００ｄｐｉに切り換えられたとき、主走査対応方
向に正のパワーを持つシリンダレンズ２６１をフォトセ
ンサー２６の手前に配備し、図２（ｃ）に示すように、
偏向光束ＤＦがシリンダレンズ２６１のレンズ面を横切
る間、光がフォトセンサー２６に入射するようにしてフ
ォトセンサー２６の出力を増大させ、レーザー出力の正
確な検出を可能にしている。

【００４８】上記とは逆に、レーザー出力の基準を光走
査密度２００ｄｐｉに合わせて設定することも可能であ
る。その場合には、フォトセンサー２６が受光する光量
は、光走査密度が４００ｄｐｉに切り換えられたとき、
フォトセンサー２６の受光能力に対して大きくなりす
ぎ、偏向光束が、フォトセンサー２６の受光面を横ぎり
終らないうちに、フォトセンサー２６の出力が飽和して
しまう虞れがあり、そのような場合には４００ｄｐｉで
のレーザー出力調整が困難になる。そのような場合に
は、図２（ｄ）に示すように、主走査対応方向に負のパ
ワーをもつシリンダレンズ２６２をフォトセンサー２６
の手前に配備し、偏向光束ＤＦがフォトセンサー２６に
入射する光量を低減化させれば良い。

【００４９】上には、光源装置１０におけるレーザー出
力をｆθレンズ１８の主・副走査方向の像面湾曲に応じ
て変化させる場合を説明したが、主走査方向における光
スポット径の変動は、書込み信号を電気的に変化させる
ことによっても補正できるので、像面湾曲に応じた光ス
ポット変動の補正は、副走査方向の光スポット径に就い
てのみ行うようにしても良い。この場合は、第１アパー
チャ手段１１０による光束規制量の調整は、光走査密度
切り換えおよび／または光スポット径の設計値からのず
れの調整用に行うのみでよい。

【００５０】また、勿論、主・副走査方向とも、像面湾
曲に伴う光スポット径の変動に対する調整は行わず、開
口絞りを構成する第１，第２アパーチャ手段１１０，１
４０による光量規制量変化を、専ら光走査密度の切り換
えおよび／または上記光スポット径の設計値からのずれ
の調整用に行っても良い。この場合は、第１，第２アパ
ーチャ手段１１０，１４０は、開口幅を調整的に変化さ
せるか、光走査密度に応じて切り換えれば良い。何れの
場合にも、開口幅変化に伴うレーザー出力の調整には、
上記図１，２に即して説明した方法で行うことができ
る。

【００５１】開口絞りは、上記の如き第１，第２アパー
チュア手段１１０，１４０に限らず、図３に示すよう
に、第１アパーチュア手段１１０により主走査対応方向
の光束規制を行い、副走査対応方向の光束規制は、副走
査対応方向に所定の開口幅を持った開口を有するアパー
チャ板１４を移動機構２２２によりシリンダレンズ１２
の光軸方向へ移動させて行うようにしても良い。副走査
対応方向においては、レーザー光束は、シリンダレンズ
１２と偏向反射面１６Ａとの間で収束傾向を持っている
ので、アパーチャ板１４を上記の如く変位させることに
より、光束規制量を変化させることができる。

【００５２】また、光源装置から放射されるレーザー光
束が収束性若しくは発散性である場合には、主走査対応
方向の光束規制をも、アパーチャ板で行い、このアパー
チャ板をシリンダレンズ１２の光軸方向へ変位させるこ
とにより光束規制量を変化させることができる。

【００５３】前述したように、主走査方向の光スポット
径に就いては電気的な補正が可能であるから、開口絞り
による主走査対応方向の光束規制は省力しても良く、そ
のような場合には、例えば、図１（ａ），図３における
第１アパーチャ手段１１０を省略することができる。

【００５４】

【発明の効果】以上のように、この発明によれば新規な
光走査装置を提供できる。この発明は上記の如き構成と
なっているから、光走査装置における光スポット径の設
計値からの誤差の補正や、光走査密度の切り換えに伴う
光スポット径の切り換え調整、あるいは走査結像光学系
の像面湾曲による光スポット径変動の補正を容易且つ確
実に補正でき、その際、光スポット径変化に伴う光走査
の光エネルギーの変化を確実に補正できる。

【００５５】また、請求項５〜６記載の発明では、上記
光変化エネルギーの変化を補正するためのレーザー出力
の調整が容易であり、請求項７記載の発明では、レーザ
ー光束の光束規制を主・副走査対応方向に就き独立に行
うことができる。

【００５６】光スポット径を補正するため開口絞りの可
動部は軽量であるから光束移動が可能であり、像面湾曲
に伴う光スポット径を補正する場合に高速光走査にも十
分に対応可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】請求項１，３，４，５，６，７記載の発明の１
実施例を説明するための図である。

【図２】上記実施例におけるレーザー出力の検出を説明
するための図である。

【図３】他の実施例を略示する図である。

【符号の説明】

１０光源装置１２シリンダレンズ（線像結像素子）１１０第１アパーチャ手段１４０第２アパーチャ手段（第１アパーチャ手段と
ともに開口絞りを構成する）１６光偏向器１８走査結像光学系

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザー出力が可変な光源装置と、光源装置からのレーザー光束を副走査対応方向へ収束さ
せ、主走査対応方向に長い線像として結像させる線像結
像素子と、上記線像の結像位置近傍に偏向反射面を有する光偏向器
と、光偏向器による偏向光束を被走査面上に光スポットとし
て集光させる走査結像光学系と、上記光源装置と光偏向器との間に配備され、少なくとも
副走査対応方向においてレーザー光束を規制する開口絞
りと、この開口絞りによる光束規制量を変化させる開口可変手
段と、上記開口可変手段による上記開口絞りの光束規制量変化
に応じ、光束規制量変化に伴う光走査の光量変化を補正
するように、上記光源装置におけるレーザー出力を制御
する光源制御手段とを有することを特徴とする光走査装
置。
【請求項２】請求項１記載の光走査装置において、開口可変手段による光束規制量の変化を、光スポット径
調整のために行うことを特徴とする光走査装置。
【請求項３】請求項１または２記載の光走査装置におい
て、開口可変手段による光束規制量の変化を、光走査密度の
切り換えのために行うことを特徴とする光走査装置。
【請求項４】請求項１または２または３記載の光走査装
置において、開口可変手段による光量規制量の変化を、走査結像光学
系の像面湾曲による光スポット径の変動を補正するため
に行うことを特徴とする光走査装置。
【請求項５】請求項１または２または３または４記載の
光走査装置において、光偏向器により偏向され、被走査面の走査開始位置へと
向かう偏向光束を検出し、光走査開始用の同期信号を発
生する光センサー手段を有し、この光センサー手段により検出される偏向光束の光強度
に基づき、光源装置におけるレーザー出力制御の基準値
設定を行うことを特徴とする光走査装置。
【請求項６】請求項５記載の光走査装置において、光センサー手段は、受光手段としてフォトセンサーを有
し、フォトセンサーの前方に、少なくとも主走査対応方
向にパワーを持つ、凸レンズおよび／または凹レンズを
有することを特徴とする光走査装置。
【請求項７】請求項１または２または３または４または
５または６記載の光走査装置において、開口絞りは、主走査対応方向のレーザー光束規制を行う
主走査対応方向開口絞りと、副走査対応方向のレーザー
光束規制を行う副走査対応方向開口絞りが、互いに別個
に設けられたものであることを特徴とする光走査装置。