JPH07256189A - 押出し塗布ヘッド - Google Patents
押出し塗布ヘッドInfo
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- JPH07256189A JPH07256189A JP6077773A JP7777394A JPH07256189A JP H07256189 A JPH07256189 A JP H07256189A JP 6077773 A JP6077773 A JP 6077773A JP 7777394 A JP7777394 A JP 7777394A JP H07256189 A JPH07256189 A JP H07256189A
- Authority
- JP
- Japan
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- coating
- slit
- coating liquid
- extrusion coating
- straightness
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/848—Coating a support with a magnetic layer by extrusion
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 塗膜面の品質の向上、特に、塗布ムラや幅方
向の塗膜厚さの不均一性を改善し、塗布ロールとして捲
いた時に、テープ自体のシワ、片伸びの発生を防止し、
生産性を向上させ、さらには製品品質の向上を図ること
にある。 【構成】 支持体上に塗布液を塗布するための押出し塗
布ヘッドであって、該押出し塗布ヘッドは、塗布ヘッド
内に供給される塗布液を均一に押出すために一旦液溜め
させるためのポケットと、このポケットに連接され塗布
液を押出す吐出口となるスリットとを備え、前記スリッ
トの内面の中心線平均粗さ(Ra)が、5.0μm以下
となるように構成する。
向の塗膜厚さの不均一性を改善し、塗布ロールとして捲
いた時に、テープ自体のシワ、片伸びの発生を防止し、
生産性を向上させ、さらには製品品質の向上を図ること
にある。 【構成】 支持体上に塗布液を塗布するための押出し塗
布ヘッドであって、該押出し塗布ヘッドは、塗布ヘッド
内に供給される塗布液を均一に押出すために一旦液溜め
させるためのポケットと、このポケットに連接され塗布
液を押出す吐出口となるスリットとを備え、前記スリッ
トの内面の中心線平均粗さ(Ra)が、5.0μm以下
となるように構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、支持体の上に、例えば
磁性塗料等の塗布液を塗布するために用いられる押出し
塗布ヘッドに関するものである。
磁性塗料等の塗布液を塗布するために用いられる押出し
塗布ヘッドに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば磁性塗料等の塗布液を非磁
性支持体の上に塗布して磁気記録媒体を製造する場合、
グラビア塗布方式、リバース塗布方式、押出し塗布方
式、ドクターブレード塗布方式等、種々の塗布方式が採
択されている。
性支持体の上に塗布して磁気記録媒体を製造する場合、
グラビア塗布方式、リバース塗布方式、押出し塗布方
式、ドクターブレード塗布方式等、種々の塗布方式が採
択されている。
【0003】これらの中でも、特に、押出し塗布方式
は、ウエット状態での膜厚が10μm以下の薄膜塗布時
であっても、極めて均一な塗膜が得られ、精密薄膜塗布
に適するという特徴を備えている。そのため、この押出
し塗布方式は、高密度記録化のために薄膜塗布が要求さ
れる磁気記録媒体の製法に極めて適した塗布方式として
注目されてきており、塗布方法はもとより使用される押
出し塗布ヘッドに関して従来から種々の提案がなされて
いる。
は、ウエット状態での膜厚が10μm以下の薄膜塗布時
であっても、極めて均一な塗膜が得られ、精密薄膜塗布
に適するという特徴を備えている。そのため、この押出
し塗布方式は、高密度記録化のために薄膜塗布が要求さ
れる磁気記録媒体の製法に極めて適した塗布方式として
注目されてきており、塗布方法はもとより使用される押
出し塗布ヘッドに関して従来から種々の提案がなされて
いる。
【0004】特に、均一塗布を可能とし、塗布面上のス
ジの発生や塗布ムラ等の塗布欠陥の発生を防止するため
の塗布方法ないしは塗布装置としては、特開平2−20
7865号公報、特開平2−207866号公報、特公
昭55−35990号公報、特公昭49−1459号公
報に提案されているものがある。
ジの発生や塗布ムラ等の塗布欠陥の発生を防止するため
の塗布方法ないしは塗布装置としては、特開平2−20
7865号公報、特開平2−207866号公報、特公
昭55−35990号公報、特公昭49−1459号公
報に提案されているものがある。
【0005】特開平2−207865号公報および特開
平2−207866号公報には、塗布液吐出口から塗布
液を吐出して被塗布体に塗布液を塗布する装置におい
て、バックエッジ面の中心線平均粗さを規定したり、あ
るいはフロントエッジ面および/又はバックエッジ面の
うねり成分の真直度を規定したりして、スジ状の塗布ム
ラの発生やスジ状の塗布欠陥を防止する旨の提案がなさ
れている。
平2−207866号公報には、塗布液吐出口から塗布
液を吐出して被塗布体に塗布液を塗布する装置におい
て、バックエッジ面の中心線平均粗さを規定したり、あ
るいはフロントエッジ面および/又はバックエッジ面の
うねり成分の真直度を規定したりして、スジ状の塗布ム
ラの発生やスジ状の塗布欠陥を防止する旨の提案がなさ
れている。
【0006】しかしながら、これらの装置を用いて塗布
を行ったものは、塗設されるベースフィルム長手方向の
塗膜厚さは均一になるものの、幅方向の塗膜厚さが不均
一になりやすいという傾向があり、塗布ロールとして捲
いた時に塗膜厚変動により、テープ自体のシワ、片伸び
が発生しやすい。このことは生産性(歩留り)を著しく
低下させることのみならず、製品品質、特に、出力レベ
ル変動、スキュー等の低下の原因となりやすく、塗膜面
品質のよりいっそうの改善も望まれている。
を行ったものは、塗設されるベースフィルム長手方向の
塗膜厚さは均一になるものの、幅方向の塗膜厚さが不均
一になりやすいという傾向があり、塗布ロールとして捲
いた時に塗膜厚変動により、テープ自体のシワ、片伸び
が発生しやすい。このことは生産性(歩留り)を著しく
低下させることのみならず、製品品質、特に、出力レベ
ル変動、スキュー等の低下の原因となりやすく、塗膜面
品質のよりいっそうの改善も望まれている。
【0007】また、特公昭55−35990号公報に
は、塗被液のための供給ギャップを備えるカスケード式
塗被装置が開示されており、また、特公昭49−145
9号公報にはチューブ状の塗布装置、特に、特殊な形状
にされた細長い開口を備える塗布装置が開示されてお
り、これらはいずれも一様な塗布厚さを得ることを目的
に提案されたものである。
は、塗被液のための供給ギャップを備えるカスケード式
塗被装置が開示されており、また、特公昭49−145
9号公報にはチューブ状の塗布装置、特に、特殊な形状
にされた細長い開口を備える塗布装置が開示されてお
り、これらはいずれも一様な塗布厚さを得ることを目的
に提案されたものである。
【0008】しかしながら、これらの装置においてもや
はり、前記の場合と同様に塗膜厚さの均一性を含めた塗
膜面の品質は十分とは言えず、特に、塗布ムラや幅方向
の塗膜厚さの不均一性に対するさらなる改善が要望され
ている。
はり、前記の場合と同様に塗膜厚さの均一性を含めた塗
膜面の品質は十分とは言えず、特に、塗布ムラや幅方向
の塗膜厚さの不均一性に対するさらなる改善が要望され
ている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような実
情のもとに創案されたものであって、その目的は塗膜面
の品質の向上、特に、塗布ムラや幅方向の塗膜厚さの不
均一性を改善し、塗布ロールとして捲いた時に、テープ
自体のシワ、片伸びの発生を防止し、生産性を向上させ
るとともに製品品質に対する悪影響(例えば、出力レベ
ル変動、スキューの低下等)を軽減することにある。
情のもとに創案されたものであって、その目的は塗膜面
の品質の向上、特に、塗布ムラや幅方向の塗膜厚さの不
均一性を改善し、塗布ロールとして捲いた時に、テープ
自体のシワ、片伸びの発生を防止し、生産性を向上させ
るとともに製品品質に対する悪影響(例えば、出力レベ
ル変動、スキューの低下等)を軽減することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】このような目的を解決す
るために、本出願に係る発明者らが、押出し塗布ヘッド
のスリットの内面の中心線平均粗さ(Ra)の値や、前
記スリットの内面における塗布液の吐出方向の真直度
(W1)の値、吐出方向対して直交方向の真直度(W
2)の値、に注目して鋭意研究した結果、これらの値
が、塗膜面の品質の向上に大きく寄与することを見いだ
し、本発明に至ったのである。
るために、本出願に係る発明者らが、押出し塗布ヘッド
のスリットの内面の中心線平均粗さ(Ra)の値や、前
記スリットの内面における塗布液の吐出方向の真直度
(W1)の値、吐出方向対して直交方向の真直度(W
2)の値、に注目して鋭意研究した結果、これらの値
が、塗膜面の品質の向上に大きく寄与することを見いだ
し、本発明に至ったのである。
【0011】すなわち、本発明は、支持体上に塗布液を
塗布するための押出し塗布ヘッドであって、該押出し塗
布ヘッドは、押出し塗布ヘッド内に供給される塗布液を
均一に押出すために一旦液溜めさせるためのポケット
と、このポケットに連接され塗布液を押出す吐出口とな
るスリットとを備え、前記スリットの内面の中心線平均
粗さ(Ra)が、5.0μm以下であるように構成し
た。
塗布するための押出し塗布ヘッドであって、該押出し塗
布ヘッドは、押出し塗布ヘッド内に供給される塗布液を
均一に押出すために一旦液溜めさせるためのポケット
と、このポケットに連接され塗布液を押出す吐出口とな
るスリットとを備え、前記スリットの内面の中心線平均
粗さ(Ra)が、5.0μm以下であるように構成し
た。
【0012】また、前記スリットの内面における塗布液
の吐出方向の真直度(W1)が、5μm/10mm以
下、かつ吐出方向対して直交方向の真直度(W2)が、
50μm/m以下であるように構成した。
の吐出方向の真直度(W1)が、5μm/10mm以
下、かつ吐出方向対して直交方向の真直度(W2)が、
50μm/m以下であるように構成した。
【0013】
【作用】ポンプ等の塗布液供給手段から送られてきた塗
布液は、押出し塗布ヘッドに到達すると、押出し塗布ヘ
ッド内部のポケットに貯留され、このポケットに連通す
るスリット(ギャップ)部を通過して押出し塗布ヘッド
外部へと押出される。この押出された塗布液は、支持体
上に塗設される。本発明では、スリットの内面の中心線
平均粗さ(Ra)を所定の範囲に定めており、さらに好
ましくは、スリットの内面における塗布液の吐出方向の
真直度(W1)および吐出方向対して直交方向の真直度
(W2)を所定の範囲に定めているので、塗膜面の品質
の向上、特に、塗布ムラや幅方向の塗膜厚さの不均一性
を改善することができる。
布液は、押出し塗布ヘッドに到達すると、押出し塗布ヘ
ッド内部のポケットに貯留され、このポケットに連通す
るスリット(ギャップ)部を通過して押出し塗布ヘッド
外部へと押出される。この押出された塗布液は、支持体
上に塗設される。本発明では、スリットの内面の中心線
平均粗さ(Ra)を所定の範囲に定めており、さらに好
ましくは、スリットの内面における塗布液の吐出方向の
真直度(W1)および吐出方向対して直交方向の真直度
(W2)を所定の範囲に定めているので、塗膜面の品質
の向上、特に、塗布ムラや幅方向の塗膜厚さの不均一性
を改善することができる。
【0014】
【実施例】以下、本発明の実施例を図1〜図8に基づい
て詳細に説明にする。まず最初に、本発明の押出し塗布
ヘッドの一例として、最もシンプルな形状である、いわ
ゆる単層押出し塗布ヘッドを例にとって説明する(図1
〜図4)。
て詳細に説明にする。まず最初に、本発明の押出し塗布
ヘッドの一例として、最もシンプルな形状である、いわ
ゆる単層押出し塗布ヘッドを例にとって説明する(図1
〜図4)。
【0015】図1には、単層押出し塗布ヘッドの斜視図
が示される。この図に示されるように、単層押出し塗布
ヘッド10は、フロントエッジ11とバックエッジ13
とを、組み合わせ、しかる後、フロントエッジ11とバ
ックエッジ13の両側面部を側板14,14で封止して
形成される。図2には、図1のA−A断面矢視図であっ
て、塗布の状態までを具体的に示した断面図が示され
る。図3には図1の側板14,14を取り除き、フロン
トエッジ11とバックエッジ13との組み合わせのみを
示した斜視図が示される。図4には、フロントエッジ1
1の内面、特にスリットの内面を強調するための斜視図
が示される。
が示される。この図に示されるように、単層押出し塗布
ヘッド10は、フロントエッジ11とバックエッジ13
とを、組み合わせ、しかる後、フロントエッジ11とバ
ックエッジ13の両側面部を側板14,14で封止して
形成される。図2には、図1のA−A断面矢視図であっ
て、塗布の状態までを具体的に示した断面図が示され
る。図3には図1の側板14,14を取り除き、フロン
トエッジ11とバックエッジ13との組み合わせのみを
示した斜視図が示される。図4には、フロントエッジ1
1の内面、特にスリットの内面を強調するための斜視図
が示される。
【0016】図2および図3に示されるように、バック
エッジ13には、フロントエッジ11との接合面13a
と、液溜めであるポケット17を形成するための凹部1
7aと、スリット18を形成するため、通常研削加工に
より形成されるスリット面18aとが、塗布ヘッドの幅
方向両端まで形成されている。
エッジ13には、フロントエッジ11との接合面13a
と、液溜めであるポケット17を形成するための凹部1
7aと、スリット18を形成するため、通常研削加工に
より形成されるスリット面18aとが、塗布ヘッドの幅
方向両端まで形成されている。
【0017】一方、フロントエッジ11も同様に、バッ
クエッジ13との接合面11aと、液溜めであるポケッ
ト17を形成するための凹部17bと、スリット18を
形成するため、通常研削加工により形成されるスリット
面18bとが、塗布ヘッドの幅方向両端まで形成されて
いる。
クエッジ13との接合面11aと、液溜めであるポケッ
ト17を形成するための凹部17bと、スリット18を
形成するため、通常研削加工により形成されるスリット
面18bとが、塗布ヘッドの幅方向両端まで形成されて
いる。
【0018】そして、フロントエッジ11の接合面11
aとバックエッジ13の接合面13aとを接合して組み
合わせることによって、ポケット17とスリット18と
が形成されるようになっている。
aとバックエッジ13の接合面13aとを接合して組み
合わせることによって、ポケット17とスリット18と
が形成されるようになっている。
【0019】また、ポケット17には、図2に示される
ように接続口19を介して塗布液供給ラインSが外部か
ら接続され、ポンプP等の塗布液供給手段から押出され
た塗布液は、塗布液供給ラインSを経てポケット17の
中に導入される。ポケット17に導入された塗布液は、
スリット18内を矢印(イ)のごとく押出され(図
2)、押し出された塗布液は、矢印(ロ)方向に搬送さ
れている支持体2の片面上に塗設される。
ように接続口19を介して塗布液供給ラインSが外部か
ら接続され、ポンプP等の塗布液供給手段から押出され
た塗布液は、塗布液供給ラインSを経てポケット17の
中に導入される。ポケット17に導入された塗布液は、
スリット18内を矢印(イ)のごとく押出され(図
2)、押し出された塗布液は、矢印(ロ)方向に搬送さ
れている支持体2の片面上に塗設される。
【0020】このように支持体2上に塗布液を塗布する
ための本発明の押出し塗布ヘッド10は、押出し塗布ヘ
ッド内に供給される塗布液を均一に押出すために一旦液
溜めさせるためのポケット17と、このポケット17に
連接され塗布液を押出す吐出口となるスリット18とを
備えており、本発明では、前記スリット18の内面(ス
リット面18a,18b)の中心線平均粗さ(Ra)
が、5.0μm以下、好ましくは、3.0μm以下とな
るように設定される。
ための本発明の押出し塗布ヘッド10は、押出し塗布ヘ
ッド内に供給される塗布液を均一に押出すために一旦液
溜めさせるためのポケット17と、このポケット17に
連接され塗布液を押出す吐出口となるスリット18とを
備えており、本発明では、前記スリット18の内面(ス
リット面18a,18b)の中心線平均粗さ(Ra)
が、5.0μm以下、好ましくは、3.0μm以下とな
るように設定される。
【0021】この値が、5.0μmを越えると、塗膜面
の品質、特に、塗布ムラが激しくなり、塗布面の濃淡が
顕著にでてきてしまい、製品として十分な諸特性が得ら
れないという不都合が生じる。なお、中心線平均粗さ
(Ra)の下限値は、特に限定されるべきものではな
く、限りなく零に近い値とすることが好ましい(ただ
し、経済性は考慮すべきである)。現行の最先端の加工
技術をもってすれば、例えば、Ra=0.03μm程度
の下限値とすることが可能である。
の品質、特に、塗布ムラが激しくなり、塗布面の濃淡が
顕著にでてきてしまい、製品として十分な諸特性が得ら
れないという不都合が生じる。なお、中心線平均粗さ
(Ra)の下限値は、特に限定されるべきものではな
く、限りなく零に近い値とすることが好ましい(ただ
し、経済性は考慮すべきである)。現行の最先端の加工
技術をもってすれば、例えば、Ra=0.03μm程度
の下限値とすることが可能である。
【0022】本発明で規定する中心線平均粗さ(Ra)
とは、JIS B 0601(1982)に準拠して測
定される数値である。すなわち、中心線平均粗さ(R
a)は、粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さlの
部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をX軸、縦
倍率の方向をY軸とし、粗さ曲線をy=f(x)で表し
たとき、次の式によって求められる値をマイクロメート
ル(μm)で表したものをいう。
とは、JIS B 0601(1982)に準拠して測
定される数値である。すなわち、中心線平均粗さ(R
a)は、粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さlの
部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をX軸、縦
倍率の方向をY軸とし、粗さ曲線をy=f(x)で表し
たとき、次の式によって求められる値をマイクロメート
ル(μm)で表したものをいう。
【0023】
【式1】 本発明では、上記のスリット18の内面の中心線平均粗
さ(Ra)を規制することに加えて、スリット18の内
面における真直度を規制することが好ましい。すなわ
ち、スリット18の内面における塗布液の吐出方向(図
4における矢印(ハ)方向)の真直度(W1)は、5μ
m/10mm以下とされる。さらにスリット18の内面
における塗布液の吐出方向対して直交方向(図4におけ
る矢印(ニ)方向(幅方向))の真直度(W2)は、5
0μm/m以下、好ましくは、30μm/m以下とされ
る。
さ(Ra)を規制することに加えて、スリット18の内
面における真直度を規制することが好ましい。すなわ
ち、スリット18の内面における塗布液の吐出方向(図
4における矢印(ハ)方向)の真直度(W1)は、5μ
m/10mm以下とされる。さらにスリット18の内面
における塗布液の吐出方向対して直交方向(図4におけ
る矢印(ニ)方向(幅方向))の真直度(W2)は、5
0μm/m以下、好ましくは、30μm/m以下とされ
る。
【0024】真直度(W1)の値が5μm/10mmを
越え、かつ真直度(W2)の値が50μm/mを越える
と、支持体幅方向の塗膜の膜厚変動が大きくなり、塗設
後の支持体(テープ)をロール状に巻き取った時に、テ
ープにシワないしは片伸が発生し、製品歩留が著しく低
下するという不都合が生じる。
越え、かつ真直度(W2)の値が50μm/mを越える
と、支持体幅方向の塗膜の膜厚変動が大きくなり、塗設
後の支持体(テープ)をロール状に巻き取った時に、テ
ープにシワないしは片伸が発生し、製品歩留が著しく低
下するという不都合が生じる。
【0025】ここで、真直度(W1,W2)の数値は、
JIS B 0610(1987)に準拠して測定され
る最大うねりの数値で表される。すなわち、ろ波うねり
曲線又は転がり円うねり曲線から基準長さだけ抜きとっ
た部分(以下、抜取り部分という)の平均線に平行な2
直線で抜取り部分を挟んだとき、この2直線の間隔をろ
波うねり曲線又は転がり円うねり曲線の縦倍率の方向に
測定して、この値をマイクロメートル単位(μm)で表
したものをいう。
JIS B 0610(1987)に準拠して測定され
る最大うねりの数値で表される。すなわち、ろ波うねり
曲線又は転がり円うねり曲線から基準長さだけ抜きとっ
た部分(以下、抜取り部分という)の平均線に平行な2
直線で抜取り部分を挟んだとき、この2直線の間隔をろ
波うねり曲線又は転がり円うねり曲線の縦倍率の方向に
測定して、この値をマイクロメートル単位(μm)で表
したものをいう。
【0026】この測定方法を図5および図6に基づいて
より具体的に説明する。図5には、スリット18の内面
の例えば吐出方向の断面曲線を模式的に表したものが示
される。断面曲線は触針法によって求められる。この断
面曲線y1は、うねり成分(低周波成分)と、より細か
い粗さ成分(高周波成分)と、からなっており、このう
ち、うねり成分(低周波成分)のみを抽出し、粗さ成分
(高周波成分)をカットすると図6に示されるような、
うねり曲線y2が得られる。最大うねり(真直度W1,
W2)の数値は、基準長さLのうねり曲線y2を求め、
このうねり曲線y2に接する互いに平行な理想直線K
1,K2を引き、このK1とK2との間隔Hから求めら
れる。本発明では、吐出方向の最大うねり(真直度(W
1))については、基準長さL=10mmとし、吐出方
向対して直交方向の最大うねり(真直度(W2))につ
いては、基準長さL=1mとしている。
より具体的に説明する。図5には、スリット18の内面
の例えば吐出方向の断面曲線を模式的に表したものが示
される。断面曲線は触針法によって求められる。この断
面曲線y1は、うねり成分(低周波成分)と、より細か
い粗さ成分(高周波成分)と、からなっており、このう
ち、うねり成分(低周波成分)のみを抽出し、粗さ成分
(高周波成分)をカットすると図6に示されるような、
うねり曲線y2が得られる。最大うねり(真直度W1,
W2)の数値は、基準長さLのうねり曲線y2を求め、
このうねり曲線y2に接する互いに平行な理想直線K
1,K2を引き、このK1とK2との間隔Hから求めら
れる。本発明では、吐出方向の最大うねり(真直度(W
1))については、基準長さL=10mmとし、吐出方
向対して直交方向の最大うねり(真直度(W2))につ
いては、基準長さL=1mとしている。
【0027】なお、本発明の所定の真直度を得るために
は、スリット面を例えば平面研削盤等により表面研削す
ればよい。
は、スリット面を例えば平面研削盤等により表面研削す
ればよい。
【0028】以上、本発明の押出し塗布ヘッドの一例と
して、最もシンプルな形状である、いわゆる単層押出し
塗布ヘッドを例にとって説明してきたが、本発明は図7
に示されるような、複数のスリットとポケットを備える
多層押出し塗布ヘッド(図7は2層の場合が例示)につ
いても適用される。以下、簡単に説明する。
して、最もシンプルな形状である、いわゆる単層押出し
塗布ヘッドを例にとって説明してきたが、本発明は図7
に示されるような、複数のスリットとポケットを備える
多層押出し塗布ヘッド(図7は2層の場合が例示)につ
いても適用される。以下、簡単に説明する。
【0029】図7に示される2層押出し塗布ヘッド40
は、フロントエッジ41、センターエッジ42、バック
エッジ43の3つのブロックの組み合わせにより形成さ
れおり、これらの組み合わせより、ポケット47,4
7’およびスリット48,48’が形成される。
は、フロントエッジ41、センターエッジ42、バック
エッジ43の3つのブロックの組み合わせにより形成さ
れおり、これらの組み合わせより、ポケット47,4
7’およびスリット48,48’が形成される。
【0030】スリット48,48’の内面の中心線平均
粗さ(Ra)の値は、上記本発明の範囲内とされる。さ
らに、スリット48,48’の真直度(W1,W2)
も、上記範囲内とすることが好ましい。
粗さ(Ra)の値は、上記本発明の範囲内とされる。さ
らに、スリット48,48’の真直度(W1,W2)
も、上記範囲内とすることが好ましい。
【0031】このような本発明の押出し塗布ヘッドに使
用することのできる塗布液の一例としては、磁気記録媒
体の製造に用いられる磁性塗料が挙げられる。磁性塗料
は、磁性粉、バインダ、溶剤等を含有しており、磁性粉
としては、γ−Fe2 O3 、Co含有γ−Fe2 O3 、
Fe3 O4 、Co含有Fe3 O4 、CrO2 、バリウム
フェライト、ストロンチウムフェライト等の酸化物微粉
末、Fe、Co、Ni等の金属あるいはこれらの合金微
粉末、炭化鉄等がいずれも使用可能である。また、バイ
ンダとしては、公知の各種樹脂バインダはいずれも使用
可能である。さらに、溶剤は特に制限はなく、例えば、
シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン等のケトン系、トルエン等の芳香族系等の各
種溶剤を目的に応じて適宜選択することができる。ま
た、磁性塗料には、必要に応じて無機微粒子、潤滑剤等
の各種添加剤を含有させてもよい。
用することのできる塗布液の一例としては、磁気記録媒
体の製造に用いられる磁性塗料が挙げられる。磁性塗料
は、磁性粉、バインダ、溶剤等を含有しており、磁性粉
としては、γ−Fe2 O3 、Co含有γ−Fe2 O3 、
Fe3 O4 、Co含有Fe3 O4 、CrO2 、バリウム
フェライト、ストロンチウムフェライト等の酸化物微粉
末、Fe、Co、Ni等の金属あるいはこれらの合金微
粉末、炭化鉄等がいずれも使用可能である。また、バイ
ンダとしては、公知の各種樹脂バインダはいずれも使用
可能である。さらに、溶剤は特に制限はなく、例えば、
シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン等のケトン系、トルエン等の芳香族系等の各
種溶剤を目的に応じて適宜選択することができる。ま
た、磁性塗料には、必要に応じて無機微粒子、潤滑剤等
の各種添加剤を含有させてもよい。
【0032】上記のような磁性塗料を用いて形成される
磁気記録層は、乾燥厚さが0.1〜6μm程度であり、
この磁気記録層の30〜90重量%を磁性粉が占めるよ
うな構成が好ましい。また、塗布液を湿潤状態で多層化
して塗布層を設けてもよい。この場合、塗布液は磁性液
に限定されるものではなく、非磁性液、樹脂の溶解液
等、上述の通り押出し塗布ヘッドによる塗布に適した塗
布液ならば適用可能であり、塗布層の層構成についても
必要に応じて選択することができる。
磁気記録層は、乾燥厚さが0.1〜6μm程度であり、
この磁気記録層の30〜90重量%を磁性粉が占めるよ
うな構成が好ましい。また、塗布液を湿潤状態で多層化
して塗布層を設けてもよい。この場合、塗布液は磁性液
に限定されるものではなく、非磁性液、樹脂の溶解液
等、上述の通り押出し塗布ヘッドによる塗布に適した塗
布液ならば適用可能であり、塗布層の層構成についても
必要に応じて選択することができる。
【0033】塗布液が塗設される支持体としては、ポリ
エチレンテレフタレートフィルム等のプラスチックフィ
ルム、紙や金属箔等からなる長尺の可撓性支持体を挙げ
ることができ、特に制限はない。支持体には予め種々の
処理層を形成したものであってもよい。
エチレンテレフタレートフィルム等のプラスチックフィ
ルム、紙や金属箔等からなる長尺の可撓性支持体を挙げ
ることができ、特に制限はない。支持体には予め種々の
処理層を形成したものであってもよい。
【0034】支持体上に塗布液を塗設して巻き取る一連
の塗布工程の一例を、図8を参照して説明する。まず、
供給ロール30から繰出された支持体2の上には、押出
し塗布ヘッド10から押出された塗布液が塗設される。
塗布液が塗られた支持体は乾燥器31に導入され、ここ
で塗布液の乾燥が行われ、しかる後、巻き取りロール3
2に巻き取られる。塗布液を磁性塗料とする場合には、
磁場配向工程や、カレンダ工程等が適宜所定の位置に設
けられる。
の塗布工程の一例を、図8を参照して説明する。まず、
供給ロール30から繰出された支持体2の上には、押出
し塗布ヘッド10から押出された塗布液が塗設される。
塗布液が塗られた支持体は乾燥器31に導入され、ここ
で塗布液の乾燥が行われ、しかる後、巻き取りロール3
2に巻き取られる。塗布液を磁性塗料とする場合には、
磁場配向工程や、カレンダ工程等が適宜所定の位置に設
けられる。
【0035】以下、本発明に関する具体的実験例を示
し、本発明をさらに詳細に説明する。 (実験例1)押出し塗布ヘッド10のスリット18の内
面の中心線平均粗さ(Ra)が、塗膜の塗布ムラに及ぼ
す影響を調べる実験を行った。
し、本発明をさらに詳細に説明する。 (実験例1)押出し塗布ヘッド10のスリット18の内
面の中心線平均粗さ(Ra)が、塗膜の塗布ムラに及ぼ
す影響を調べる実験を行った。
【0036】まず、最初に、下記の組成からなる磁性塗
料1の塗布液を準備した。
料1の塗布液を準備した。
【0037】 磁性塗料1 ・Co含有γ−Fe2 O3 …100重量部 (Hc:750 Oe, BET値:43m2 /g) ・アルミナ粉末 … 5重量部 ・塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 (重合度=310、組成比=88:6:6) … 10重量部 ・ポリエステルポリウレタン樹脂 … 10重量部 ・カーボンブラック … 5重量部 ・ステアリン酸 … 2重量部 ・ブチルステアレート … 1重量部 ・メチルエチルケトン …100重量部 ・トルエン …100重量部 ・シクロヘキサノン … 80重量部 上記組成の原材料を混練、分散後、濾過処理を行いポリ
イソシアネート4重量部を添加混合して、塗布液とし
た。
イソシアネート4重量部を添加混合して、塗布液とし
た。
【0038】次いで、図1に示されるような単層用押出
し塗布ヘッド10、すなわち2つのブロック(フロント
エッジ11,バックエッジ13)とこれらの端部を塞ぐ
2枚の側板14,14とからなる単層用押出し塗布ヘッ
ド10を準備し、この塗布ヘッド10内にポンプP(図
2)を用いて上記の塗布液を供給し、図8に示されるご
とく連続的に繰り出されるポリエチレンテレフタレート
ベースフィルムに連続塗布した。
し塗布ヘッド10、すなわち2つのブロック(フロント
エッジ11,バックエッジ13)とこれらの端部を塞ぐ
2枚の側板14,14とからなる単層用押出し塗布ヘッ
ド10を準備し、この塗布ヘッド10内にポンプP(図
2)を用いて上記の塗布液を供給し、図8に示されるご
とく連続的に繰り出されるポリエチレンテレフタレート
ベースフィルムに連続塗布した。
【0039】このようにして得られた各1ロール目の原
反ロールについて、下記の要領で塗布ムラを評価した。
反ロールについて、下記の要領で塗布ムラを評価した。
【0040】塗布ムラ 塗布長さ10000m、塗布幅1000mmに亘って透
過光および反射光を用い、目視で塗布状態を観察した。
具体的判断基準は以下のとおりである。
過光および反射光を用い、目視で塗布状態を観察した。
具体的判断基準は以下のとおりである。
【0041】◎…良好な面でムラなし ○…ムラがあるが生産可能である ×…生産不可 なお、実験に用いた単層用押出し塗布ヘッド10は、下
記表1に示されるようにスリット18の内面の中心線平
均粗さ(Ra)が、1.0μm、3.0μm、5.0μ
m、7.0μm、10.0μmの5種類とした。中心線
平均粗さの測定は、サーフテスト301A((株)ミツ
トヨ製)を用いて、幅方向5点を測定してその平均値を
求めた。
記表1に示されるようにスリット18の内面の中心線平
均粗さ(Ra)が、1.0μm、3.0μm、5.0μ
m、7.0μm、10.0μmの5種類とした。中心線
平均粗さの測定は、サーフテスト301A((株)ミツ
トヨ製)を用いて、幅方向5点を測定してその平均値を
求めた。
【0042】結果を下記表1に示す。
【0043】
【表1】 (実験例2)単層用押出し塗布ヘッド10の真直度(W
1,W2)が、塗膜の膜厚変動に及ぼす影響を調べる実
験を行った。
1,W2)が、塗膜の膜厚変動に及ぼす影響を調べる実
験を行った。
【0044】すなわち、下記表2に示されるようにスリ
ットの内面における、塗布液の吐出方向の真直度(W
1)および吐出方向対して直交方向(幅方向)の真直度
(W2)を種々変えた単層用押出し塗布ヘッドを準備し
(スリットの内面のRa=3μmでいずれも一定)、上
記実験例1と同様な塗布液を用いるとともに同様な手法
で磁気テープを作製した。なお、真直度は、真直度測定
器PC−ナノウェイ(京セラ(株)製)を使用して測定
した。得られた各磁気テープについて、下記の要領で膜
厚変動を評価した。なお、膜厚の設定は2.8μmとし
た。
ットの内面における、塗布液の吐出方向の真直度(W
1)および吐出方向対して直交方向(幅方向)の真直度
(W2)を種々変えた単層用押出し塗布ヘッドを準備し
(スリットの内面のRa=3μmでいずれも一定)、上
記実験例1と同様な塗布液を用いるとともに同様な手法
で磁気テープを作製した。なお、真直度は、真直度測定
器PC−ナノウェイ(京セラ(株)製)を使用して測定
した。得られた各磁気テープについて、下記の要領で膜
厚変動を評価した。なお、膜厚の設定は2.8μmとし
た。
【0045】膜厚変動 X線膜厚計3710A((株)理学製)を用いて、塗布
幅1000mmに亘って、幅方向の膜厚変動を実測し、
最大変動幅の値をもって膜厚変動の値とした。具体的判
断基準は以下のとおりである。
幅1000mmに亘って、幅方向の膜厚変動を実測し、
最大変動幅の値をもって膜厚変動の値とした。具体的判
断基準は以下のとおりである。
【0046】◎…幅方向膜厚変動0.2μm未満 ○…幅方向膜厚変動0.2μm以上0.4μm未満 ×…幅方向膜厚変動0.4μm以上 結果を下記表2に示す。
【0047】
【表2】
【0048】
【発明の効果】上記の結果より本発明の効果は明らかで
ある。
ある。
【0049】すなわち、本発明では、スリットの内面の
中心線平均粗さ(Ra)を所定の範囲に定めており、さ
らに好ましくは、スリットの内面における塗布液の吐出
方向の真直度(W1)および吐出方向に対して直交方向
の真直度(W2)を所定の範囲に定めているので、塗膜
面の品質の向上、特に、塗布ムラや幅方向の塗膜厚さの
不均一性を改善し、塗布ロールとして捲いた時に、テー
プ自体のシワ、片伸びの発生を防止し、生産性を向上さ
せ、さらには製品品質の向上を図ることができる。
中心線平均粗さ(Ra)を所定の範囲に定めており、さ
らに好ましくは、スリットの内面における塗布液の吐出
方向の真直度(W1)および吐出方向に対して直交方向
の真直度(W2)を所定の範囲に定めているので、塗膜
面の品質の向上、特に、塗布ムラや幅方向の塗膜厚さの
不均一性を改善し、塗布ロールとして捲いた時に、テー
プ自体のシワ、片伸びの発生を防止し、生産性を向上さ
せ、さらには製品品質の向上を図ることができる。
【図1】本発明の単層押出し塗布ヘッドの斜視図であ
る。
る。
【図2】図1のA−A断面矢視図であって、塗布の状態
までを具体的に示した断面図である。
までを具体的に示した断面図である。
【図3】図1の側板14,14を取り除いた後の斜視図
である。
である。
【図4】フロントエッジ11の内面、特にスリットの内
面を強調するための斜視図である。
面を強調するための斜視図である。
【図5】真直度を説明するための線図である。
【図6】真直度を説明するための線図である。
【図7】2層押出し塗布ヘッドの断面図である。
【図8】非磁性支持体上に塗布液を塗設して巻き取る一
連の塗布工程の一例を模式的に示した概略図である。
連の塗布工程の一例を模式的に示した概略図である。
2…支持体 10,40…押出し塗布ヘッド 17,47,47’…ポケット 18,48,48’…スリット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 畠山 明 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 大澤 義比佐 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 田中 英樹 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 飛沢 誠一 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内
Claims (5)
- 【請求項1】 支持体上に塗布液を塗布するための押出
し塗布ヘッドであって、 該押出し塗布ヘッドは、塗布ヘッド内に供給される塗布
液を均一に押出すために一旦液溜めさせるためのポケッ
トと、このポケットに連接され塗布液を押出す吐出口と
なるスリットとを備え、 前記スリットの内面の中心線平均粗さ(Ra)が、5.
0μm以下であることを特徴とする押出し塗布ヘッド。 - 【請求項2】 前記スリットの内面の中心線平均粗さ
(Ra)が、3.0μm以下であることを特徴とする請
求項1に記載の押出し塗布ヘッド。 - 【請求項3】 前記スリットの内面における塗布液の吐
出方向の真直度(W1)が、5μm/10mm以下、か
つ吐出方向に対して直交方向の真直度(W2)が、50
μm/m以下であることを特徴とする請求項1または請
求項2に記載の押出し塗布ヘッド。 - 【請求項4】 前記スリットの内面における塗布液の吐
出方向の真直度(W1)が、5μm/10mm以下、か
つ吐出方向に対して直交方向の真直度(W2)が、30
μm/m以下であることを特徴とする請求項1または請
求項2に記載の押出し塗布ヘッド。 - 【請求項5】前記塗布液は、磁性粉とバインダとを含有
する磁性塗料であることを特徴とする請求項1乃至請求
項4のいずれかに記載の押出し塗布ヘッド。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6077773A JPH07256189A (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | 押出し塗布ヘッド |
US08/408,567 US5643363A (en) | 1994-03-25 | 1995-03-22 | Extrusion type coating head |
KR1019950006156A KR0142740B1 (ko) | 1994-03-25 | 1995-03-23 | 압출도포헤드 |
EP95104404A EP0673684B1 (en) | 1994-03-25 | 1995-03-24 | Extrusion type coating head |
DE69519695T DE69519695T2 (de) | 1994-03-25 | 1995-03-24 | Extrusionsbeschichtungskopf |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6077773A JPH07256189A (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | 押出し塗布ヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07256189A true JPH07256189A (ja) | 1995-10-09 |
Family
ID=13643281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6077773A Pending JPH07256189A (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | 押出し塗布ヘッド |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5643363A (ja) |
EP (1) | EP0673684B1 (ja) |
JP (1) | JPH07256189A (ja) |
KR (1) | KR0142740B1 (ja) |
DE (1) | DE69519695T2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004167490A (ja) * | 2003-12-25 | 2004-06-17 | Mitsubishi Materials Corp | 塗布装置 |
WO2018143342A1 (ja) * | 2017-02-03 | 2018-08-09 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 塗工ダイ、塗工装置、塗工方法及び二次電池の製造方法 |
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US6689215B2 (en) | 1998-09-17 | 2004-02-10 | Asml Holdings, N.V. | Method and apparatus for mitigating cross-contamination between liquid dispensing jets in close proximity to a surface |
JP2000140739A (ja) * | 1998-11-10 | 2000-05-23 | Canon Inc | 枚葉塗工装置、及び該装置を用いた塗工方法とカラーフィルタの製造方法 |
JP2000157910A (ja) * | 1998-11-27 | 2000-06-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布装置 |
US6350318B1 (en) | 1998-12-17 | 2002-02-26 | Eastman Kodak Company | Optimized versatile coating hopper |
US6746826B1 (en) | 2000-07-25 | 2004-06-08 | Asml Holding N.V. | Method for an improved developing process in wafer photolithography |
DE10231276B4 (de) * | 2002-07-10 | 2004-11-11 | Mitsubishi Hitec Paper Flensburg Gmbh | Beschichtungskopf |
US20050247264A1 (en) * | 2004-05-06 | 2005-11-10 | Shigetoshi Kawabe | Coating apparatus and die coater manufacturing method |
DE102020127571A1 (de) * | 2020-10-20 | 2022-04-21 | Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft | Breitschlitzdüse sowie Verfahren zum Herstellen eines Bauteils |
CN219150585U (zh) * | 2022-11-15 | 2023-06-09 | 天津市环欧新能源技术有限公司 | 一种粘接用抹胶头、抹胶机构以及粘接机 |
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JPS491459A (ja) * | 1972-04-26 | 1974-01-08 | ||
CH595889A5 (ja) * | 1975-04-03 | 1978-02-28 | Rieter Ag Maschf | |
JPS5535990A (en) * | 1978-09-08 | 1980-03-13 | Sumitomo Metal Ind Ltd | Coating of rust-inhibiting oil |
JPH0829285B2 (ja) * | 1989-06-29 | 1996-03-27 | 松下電器産業株式会社 | 塗布装置 |
JP2684486B2 (ja) * | 1992-02-13 | 1997-12-03 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
US5336322A (en) * | 1992-03-06 | 1994-08-09 | Konica Corporation | Coating apparatus |
JP2942938B2 (ja) * | 1992-10-20 | 1999-08-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
JPH07108207A (ja) * | 1993-10-15 | 1995-04-25 | Konica Corp | 塗布装置 |
-
1994
- 1994-03-25 JP JP6077773A patent/JPH07256189A/ja active Pending
-
1995
- 1995-03-22 US US08/408,567 patent/US5643363A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-03-23 KR KR1019950006156A patent/KR0142740B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1995-03-24 DE DE69519695T patent/DE69519695T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-03-24 EP EP95104404A patent/EP0673684B1/en not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2004167490A (ja) * | 2003-12-25 | 2004-06-17 | Mitsubishi Materials Corp | 塗布装置 |
WO2018143342A1 (ja) * | 2017-02-03 | 2018-08-09 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 塗工ダイ、塗工装置、塗工方法及び二次電池の製造方法 |
US11642692B2 (en) | 2017-02-03 | 2023-05-09 | Vehicle Energy Japan Inc. | Coating die, coating device, coating method, and method for manufacturing secondary cell |
US11850627B2 (en) | 2017-02-03 | 2023-12-26 | Vehicle Energy Japan Inc. | Coating die, coating device, coating method, and method for manufacturing secondary cell |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5643363A (en) | 1997-07-01 |
EP0673684A3 (en) | 1996-08-21 |
EP0673684A2 (en) | 1995-09-27 |
DE69519695T2 (de) | 2001-05-23 |
KR950026562A (ko) | 1995-10-16 |
DE69519695D1 (de) | 2001-02-01 |
EP0673684B1 (en) | 2000-12-27 |
KR0142740B1 (ko) | 1998-07-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20021210 |