JPH07199481A - Exposure device - Google Patents
Exposure deviceInfo
- Publication number
- JPH07199481A JPH07199481A JP6000830A JP83094A JPH07199481A JP H07199481 A JPH07199481 A JP H07199481A JP 6000830 A JP6000830 A JP 6000830A JP 83094 A JP83094 A JP 83094A JP H07199481 A JPH07199481 A JP H07199481A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposed
- laser light
- exposure
- plate
- objective lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、露光装置に関し、例え
ば光ディスクを大量生産する際に用いられるガラス原盤
等を露光する露光装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus, for example, an exposure apparatus for exposing a glass master used for mass production of optical disks.
【０００２】[0002]
【従来の技術】フォトレジストを塗布した原板にレーザ
光を走査して露光を行う露光装置、例えば光ディスクを
大量生産する際に用いられるガラス原盤を露光する露光
装置では、フォトレジストが塗布されたガラス原盤を回
転してレーザ光のスポットをガラス原盤に対して相対的
に走査し、記録データに基づいた露光を行うようになっ
ている。このとき、レーザ光を集光してガラス原盤に照
射するための対物レンズとガラス原盤（レジスト面）と
の距離を一定に保つために、実際の露光を行う（以下、
記録用という。）レーザ光とは別のフォトレジストが感
光しないレーザ光が用いられていた。2. Description of the Related Art In an exposure apparatus that exposes a master plate coated with a photoresist with a laser beam, for example, in an exposure apparatus that exposes a glass master used in mass production of optical discs, a glass coated with a photoresist is used. The master disk is rotated to scan the spot of the laser light relative to the glass master disk to perform exposure based on the recording data. At this time, in order to keep the distance between the objective lens for converging the laser beam and irradiating the glass master disk and the glass master disk (resist surface) constant, actual exposure is performed (hereinafter,
For recording. ) A laser light different from the laser light in which the photoresist is not exposed was used.
【０００３】具体的には、波長が４４２ｎｍである記録
用のレーザ光とは別に、フォトレジストが感光しない波
長が６３３ｎｍのレーザ光（以下、フォーカスサーボ用
のレーザ光という。）を用い、例えば所謂非点収差法に
よって対物レンズのフォーカスサーボ制御を行ってい
る。Specifically, in addition to the recording laser beam having a wavelength of 442 nm, a laser beam having a wavelength of 633 nm (hereinafter referred to as a laser beam for focus servo) which the photoresist does not sensitize is used. Focus servo control of the objective lens is performed by the astigmatism method.
【０００４】ところで、記録密度を高くするために、記
録用のレーザ光の波長を短くすると、対物レンズの色補
正が困難となり、記録用のレーザ光に対する焦点距離と
フォーカスサーボ用のレーザ光に対する焦点距離が異な
るという問題があった。一方、フォーカスサーボ用のレ
ーザ光の波長を記録用のレーザ光の波長に近づけること
が考えられるが、今度はフォーカスサーボ用のレーザ光
によってフォトレジストが感光してしまうという問題が
生じる。When the wavelength of the laser light for recording is shortened to increase the recording density, color correction of the objective lens becomes difficult, and the focal length for the laser light for recording and the focus for the laser light for focus servo are reduced. There was the problem of different distances. On the other hand, it is conceivable to bring the wavelength of the laser light for focus servo closer to the wavelength of the laser light for recording, but this time, there arises a problem that the photoresist is exposed by the laser light for focus servo.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】そこで、露光用（記録
用）のレーザ光を用いてフォーカスサーボをかけること
（以下、自己フォーカス法という。）が考えられるが、
露光しない部分、すなわち例えば所謂ミラー部を形成す
るときは、レーザ光の照射を停止するためにフォーカス
サーボがかからなくなるという問題が生じる。具体的に
は、例えばミラー部の後に続けてデータを記録するため
の露光を行うと、レーザ光を照射しないミラー部ではフ
ォーカスサーボがかかっていなく、データの記録を開始
したときに引込みが上手くいかずにフォーカスサーボが
不安定になったり、引込みまでに時間がかかるという問
題が生じる。Therefore, it is conceivable to apply focus servo by using a laser beam for exposure (recording) (hereinafter referred to as a self-focus method).
When forming a portion that is not exposed, that is, a so-called mirror portion, for example, there is a problem that focus servo is not applied because the irradiation of laser light is stopped. Specifically, for example, if exposure is performed to record data continuously after the mirror section, focus servo is not applied to the mirror section that does not emit laser light, and pulling in may be successful when data recording is started. Without this, the focus servo becomes unstable, and it takes time to pull in.
【０００６】本発明は、このような実情に鑑みてなされ
たものであり、露光をしない例えばミラー部において
も、露光用のレーザ光を用いてフォーカスサーボを安定
して動作させることができ、高密度記録を可能とする露
光装置の提供を目的とする。The present invention has been made in view of such a situation, and even in a mirror portion which is not exposed, for example, the focus servo can be stably operated by using the laser light for exposure, which is high. An object is to provide an exposure apparatus that enables density recording.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、本発明に係る第１の露光装置は、露光用のレーザ
光を出射するレーザ光源と、レーザ光源から出射される
レーザ光の強度を可変する強度可変手段と、レーザ光を
記録データに基づいて変調する変調手段と、変調手段に
より変調されたレーザ光を集光してフォトレジストが塗
布された被露光板に照射する対物レンズと、被露光板に
照射されるレーザ光のスポットを走査する走査手段と、
被露光板からの反射光を用いて対物レンズのフォーカス
サーボ制御を行うフォーカスサーボ制御手段とを備え
る。また、レーザ光の強度を露光時には被露光板のフォ
トレジストが露光する強度とし、非露光時にはフォトレ
ジストが露光しない強度であってフォーカスサーボ制御
手段が動作する強度とするように、強度可変手段を制御
する制御手段を備えることを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, a first exposure apparatus according to the present invention provides a laser light source that emits a laser light for exposure and a laser light emitted from the laser light source. Intensity varying means for varying the intensity, modulating means for modulating the laser light based on the recording data, and objective lens for condensing the laser light modulated by the modulating means and irradiating the exposed plate coated with the photoresist. And scanning means for scanning the spot of the laser light with which the exposed plate is irradiated,
Focus servo control means for performing focus servo control of the objective lens using reflected light from the exposed plate. Further, the intensity varying means is set so that the intensity of the laser light is the intensity at which the photoresist of the exposed plate is exposed during exposure, and the intensity at which the photoresist is not exposed at the time of non-exposure and the focus servo control means operates. A control means for controlling is provided.
【０００８】また、本発明に係る第２の露光装置は、第
１の露光装置において、被露光板が円盤状の被露光盤か
らなり、走査手段が被露光盤を回転させる回転手段から
なり、回転手段が被露光盤を回転させてレーザ光のスポ
ットを被露光盤に対して相対的に走査させることを特徴
とする。A second exposure apparatus according to the present invention is the same as the first exposure apparatus, wherein the plate to be exposed is a disk-shaped plate to be exposed, and the scanning means is a rotating means to rotate the plate to be exposed. It is characterized in that the rotating means rotates the plate to be exposed to scan the spot of the laser light relative to the plate to be exposed.
【０００９】[0009]
【作用】本発明に係る露光装置では、レーザ光源から出
射される露光用のレーザ光を対物レンズにより集光して
被露光板に照射し、例えばデータの記録のための露光を
行うと共に、被露光板からの反射光を用いて対物レンズ
のフォーカスサーボをかける際に、露光をしない例えば
ミラー部等の非露光部では、レーザ光の強度をフォトレ
ジストが露光しない強度であってフォーカスサーボをか
けることができる強度まで低下させる。In the exposure apparatus according to the present invention, the laser light for exposure emitted from the laser light source is condensed by the objective lens and irradiated onto the exposure target plate to perform exposure for recording data, for example. When the focus servo of the objective lens is performed using the reflected light from the exposure plate, in the non-exposed portion such as the mirror portion that is not exposed, the intensity of the laser light is the intensity at which the photoresist is not exposed and the focus servo is applied. To the strength that can be reduced.
【００１０】[0010]
【実施例】以下、本発明に係る露光装置の一実施例を図
面を参照しながら説明する。この実施例は、光ディスク
を大量生産する際の所謂マスタリングプロセスにおける
ガラス原盤を露光する露光装置に本発明を適用したもの
である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of an exposure apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings. In this embodiment, the present invention is applied to an exposure apparatus that exposes a glass master in a so-called mastering process when mass-producing optical discs.
【００１１】この本発明を適用した露光装置は、例えば
図１に示すように、露光用のレーザ光を出射するレーザ
光源１１と、該レーザ光源１１から出射されるレーザ光
の強度を可変するパワーコントローラ１２と、上記レー
ザ光を記録データに基づいて変調する変調器１３と、該
変調器１３により変調されたレーザ光を集光してフォト
レジストが塗布されたガラス原盤１に照射する対物レン
ズ１４と、上記ガラス原盤１に照射されるレーザ光のス
ポットを走査するためのターンテーブル１５と、上記ガ
ラス原盤１からの反射光を用いて上記対物レンズ１４の
フォーカスサーボ制御を行うフォーカスサーボ制御回路
１６と、レーザ光の強度を露光時には上記ガラス原盤１
に塗布されたフォトレジストが露光する強度とし、非露
光時には上記フォトレジストが露光しない強度であって
上記フォーカスサーボ制御回路１６が動作する強度とす
るように、上記パワーコントローラ１２を制御するコン
トローラ１７とを備える。The exposure apparatus to which the present invention is applied is, for example, as shown in FIG. 1, a laser light source 11 for emitting a laser light for exposure, and a power for varying the intensity of the laser light emitted from the laser light source 11. A controller 12, a modulator 13 that modulates the laser light based on recording data, and an objective lens 14 that condenses the laser light modulated by the modulator 13 and irradiates the glass master 1 coated with a photoresist. A turntable 15 for scanning a spot of a laser beam applied to the glass master disk 1, and a focus servo control circuit 16 for performing focus servo control of the objective lens 14 using reflected light from the glass master disk 1. And when exposing the intensity of the laser light, the above glass master 1
A controller 17 for controlling the power controller 12 so that the photoresist applied to the substrate is exposed and the photoresist is not exposed when not exposed and the focus servo control circuit 16 operates. Equipped with.
【００１２】また、この露光装置は、上述の図１に示す
ように、上記ガラス原盤１で反射された反射光を上記フ
ォーカスサーボ制御回路１６に導く偏光ビームスプリッ
タ（以下、ＰＢＳという。）２１と、レーザ光の偏光面
を回転する１／４波長板２２と、レーザ光の光軸を曲げ
るためのミラー２３、２４、２５と、上記対物レンズ１
４をガラス原盤１の半径方向に移動するための移動定盤
２６と、上記対物レンズ１４のガラス原盤１の半径方向
の位置を検出する半径センサ２７とを備える。Further, as shown in FIG. 1, the exposure apparatus has a polarization beam splitter (hereinafter referred to as PBS) 21 for guiding the reflected light reflected by the glass master 1 to the focus servo control circuit 16. , A quarter-wave plate 22 for rotating the plane of polarization of the laser light, mirrors 23, 24, 25 for bending the optical axis of the laser light, and the objective lens 1
A moving surface plate 26 for moving the glass master disk 4 in the radial direction of the glass master disk 1 and a radius sensor 27 for detecting the position of the objective lens 14 in the radial direction of the glass master disk 1 are provided.
【００１３】レーザ光源１１は、高密度記録を行うため
に波長が短い、例えば３５１ｎｍのアルゴンガスレーザ
からなり、レーザ光源１１から出射されるレーザ光（以
下、出射光という。）は、パワーコントローラ１２に入
射する。The laser light source 11 is composed of an argon gas laser having a short wavelength, for example, 351 nm for high density recording, and the laser light emitted from the laser light source 11 (hereinafter referred to as emitted light) is transmitted to the power controller 12. Incident.
【００１４】パワーコントローラ１２は、例えば電気光
学効果（ＥＯ）変調器と偏光板からなり、後述するよう
にコントローラ１７の制御のもとにレーザ光源１１の出
射光を露光をしない例えばミラー部を形成する非露光時
とデータを記録する露光時とで異なるパワーとなるよう
に調整する。そしてパワーが調整された出射光は、ミラ
ー２３で反射され、変調器１３に入射する。The power controller 12 is composed of, for example, an electro-optical effect (EO) modulator and a polarizing plate, and forms a mirror portion which does not expose the light emitted from the laser light source 11 under the control of the controller 17 as described later. The power is adjusted so that it is different during non-exposure and during data exposure. The emitted light whose power has been adjusted is reflected by the mirror 23 and enters the modulator 13.
【００１５】変調器１３は、例えば電気光学効果（Ｅ
Ｏ）変調器や音響光学効果（ＡＯ）変調器等からなり、
コントローラ１７の制御により例えば記録データに基づ
いて駆動され、パワーが調整された出射光をパルス変調
し、このパルス変調されたレーザ光は、ミラー２４で反
射された後、ＰＢＳ２１を透過して１／４波長板２２に
入射する。すなわち、例えばレーザ光源１１からの出射
光をＰ偏光とすると、ＰＢＳ２１は、Ｐ偏光を透過する
ように配設されている。The modulator 13 is, for example, an electro-optic effect (E
O) modulator, acousto-optic effect (AO) modulator, etc.,
The output light, which is driven based on, for example, recording data under the control of the controller 17, is pulse-modulated, and the pulse-modulated laser light is reflected by the mirror 24 and then transmitted through the PBS 21 to be 1 / It is incident on the four-wave plate 22. That is, for example, when the emitted light from the laser light source 11 is P-polarized light, the PBS 21 is arranged so as to transmit P-polarized light.
【００１６】そして、パルス変調されたレーザ光は、１
／４波長板２２で偏光面が４５度回転された後、ミラー
２５で反射され、対物レンズ１４に入射する。対物レン
ズ１４は、移動定盤２６によりガラス原盤１の半径方向
に移動され、パルス変調されたレーザ光を集光してガラ
ス原盤１に照射する。The pulse-modulated laser light is 1
After the polarization plane is rotated by 45 degrees by the / 4 wavelength plate 22, it is reflected by the mirror 25 and enters the objective lens 14. The objective lens 14 is moved in the radial direction of the glass master disk 1 by the moving platen 26, collects the pulse-modulated laser light and irradiates the glass master disk 1.
【００１７】ガラス原盤１は、ターンテーブル１５に搭
載されており、このターンテーブル１５によって回転さ
れる。したがって、レーザ光のスポットがガラス原盤１
に対して相対的に走査する。そして、ガラス原盤１の表
面に塗布されているフォトレジストが、記録データに基
づいて露光される。また、このとき、レーザ光の一部は
反射される。この反射光は、対物レンズ１４及びミラー
２５を介して、１／４波長板２２に入射され、１／４波
長板２２において偏光面が更に４５度回転される。すな
わち、反射光はＳ偏光となり、ＰＢＳ２１によって反射
され、フォーカスサーボ制御回路１６に入射する。The glass master 1 is mounted on a turntable 15 and rotated by the turntable 15. Therefore, the spot of the laser light is the glass master 1
Scan relative to. Then, the photoresist applied to the surface of the glass master 1 is exposed based on the recording data. At this time, part of the laser light is reflected. This reflected light is incident on the quarter-wave plate 22 via the objective lens 14 and the mirror 25, and the plane of polarization of the quarter-wave plate 22 is further rotated by 45 degrees. That is, the reflected light becomes S-polarized light, is reflected by the PBS 21, and enters the focus servo control circuit 16.
【００１８】フォーカスサーボ制御回路１６は、例えば
シリンドリカルレンズ、集光レンズやフォトディテクタ
等からなるディテクタ１６ａと、該ディテクタ１６ａか
らの所謂フォーカスエラー信号に基づいて、例えば上記
対物レンズ１４の所謂２軸デバイスを駆動するサーボ回
路１６ｂとから構成される。The focus servo control circuit 16 detects, for example, a so-called biaxial device of the objective lens 14 based on a so-called focus error signal from the detector 16a including, for example, a cylindrical lens, a condenser lens, a photodetector and the like. It is composed of a driving servo circuit 16b.
【００１９】ディテクタ１６ａは、例えば所謂非点収差
法によりフォーカスエラー信号を生成し、サーボ回路１
６ｂは、フォーカスエラー信号が零となるように２軸デ
バイスの例えばボイスコイルを駆動する。この結果、フ
ォーカスサーボがかかり、対物レンズ１４とガラス原盤
１の距離が一定に保持される。そして、フォーカスサー
ボがかかった状態において記録データに基づいた露光が
行われる。なお、ディテクタ１６ａとしては、例えば所
謂ナイフエッジ法や臨界角法等の種々のフォーカスエラ
ー信号検出回路を用いることができる。The detector 16a generates a focus error signal by, for example, a so-called astigmatism method, and the servo circuit 1
6b drives a biaxial device such as a voice coil so that the focus error signal becomes zero. As a result, focus servo is applied, and the distance between the objective lens 14 and the glass master 1 is kept constant. Then, the exposure based on the recording data is performed in the state where the focus servo is applied. As the detector 16a, various focus error signal detection circuits such as a so-called knife edge method and critical angle method can be used.
【００２０】ここで、露光しない部分、例えばミラー部
の形成について説明する。コントローラ１７には例えば
ミラー部の開始半径と終了半径が予め記憶されており、
このコントローラ１７は、例えば所謂マグネスケールか
らなる半径センサ２７の出力に基づいて、対物レンズ１
４のガラス原盤１に対する半径方向の位置を検出し、移
動定盤２６によって移動される対物レンズ１４がミラー
部の開始半径に位置すると、パワーコントローラ１２を
制御して、レーザ光のパワーをガラス原盤１に塗布され
ているフォトレジストが露光しないパワーであってフォ
ーカスサーボ制御回路１６が動作するパワーに低下させ
る。そして、コントローラ１７は、対物レンズ１４がミ
ラー部の終了半径に位置するまで、そのパワーを維持す
る制御を行う。この結果、開始半径から終了半径までの
領域は露光されず、ミラー部が形成されると共に、この
間もフォーカスサーボを正常に動作させることができ
る。Here, the formation of a portion which is not exposed, for example, a mirror portion will be described. In the controller 17, for example, the start radius and the end radius of the mirror section are stored in advance,
The controller 17 uses the objective lens 1 based on the output of a radius sensor 27, which is a so-called magnescale, for example.
When the objective lens 14 moved by the moving surface plate 26 is positioned at the starting radius of the mirror portion, the position of the laser beam power of the laser light is controlled to the glass master disk 1. The power applied to the photoresist No. 1 is such that it is not exposed and the focus servo control circuit 16 operates. Then, the controller 17 performs control to maintain its power until the objective lens 14 is positioned at the ending radius of the mirror section. As a result, the region from the start radius to the end radius is not exposed, the mirror portion is formed, and the focus servo can be operated normally during this period.
【００２１】次に、コントローラ１７は、ミラー部の終
了半径に対物レンズ１４が到達すると、フォトレジスト
が感光するパワーにレーザ光のパワーを上げる制御を行
うと共に、記録データに基づいて変調器１３を駆動す
る。すなわち、ミラー部（非露光時）でもフォーカスサ
ーボがかかっているので、ミラー部の形成状態からデー
タ記録状態に移行、すなわち非露光状態から露光状態に
移行したときでもフォーカスサーボを安定して動作させ
ることができる。Next, when the objective lens 14 reaches the end radius of the mirror portion, the controller 17 controls the power of the laser light to the power with which the photoresist is exposed, and also controls the modulator 13 based on the recorded data. To drive. That is, since the focus servo is applied even in the mirror portion (at the time of non-exposure), the focus servo is stably operated even when the mirror portion is formed and the data recording state is changed, that is, when the non-exposure state is changed to the exposure state. be able to.
【００２２】以上のように、本発明を適用した露光装置
では、露光用のレーザ光源１１を用いてフォーカスサー
ボを、ミラー部（非露光部）を含め安定して動作させる
ことができる。換言すると、露光用のレーザ光を用いて
フォーカスサーボを常にかけることができ、従来の装置
で問題されていた対物レンズの色補正の問題がなくな
り、露光用のレーザ光の波長を短くすることができ、高
密度記録を行うことができる。また、レーザ光源を１つ
とすることができ、従来の装置に比して、コストを安く
することができる。As described above, in the exposure apparatus to which the present invention is applied, the focus servo can be stably operated including the mirror section (non-exposed section) by using the exposure laser light source 11. In other words, the focus servo can always be applied using the laser light for exposure, the problem of color correction of the objective lens, which has been a problem in conventional devices, can be eliminated, and the wavelength of the laser light for exposure can be shortened. Therefore, high density recording can be performed. Moreover, the number of laser light sources can be one, and the cost can be reduced as compared with the conventional device.
【００２３】なお、本発明は、上述の実施例に限定され
るものではなく、自己フォーカス法を採用した各種の露
光装置に適用することができる。例えばフォトレジスト
を塗布した原板に、レーザ光のスポットを２次元的に走
査して、露光を行う２次元画像描画装置等に適用するこ
とができる。The present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, but can be applied to various exposure apparatuses adopting the self-focusing method. For example, it can be applied to a two-dimensional image drawing device that performs two-dimensional scanning with a laser beam spot on a master plate coated with a photoresist to perform exposure.
【００２４】[0024]
【発明の効果】以上の説明で明かなように、本発明に係
る露光装置では、レーザ光源から出射される露光用のレ
ーザ光を対物レンズにより集光して被露光板に照射し、
データの記録のための露光を行うと共に、被露光板から
の反射光を用いて対物レンズのフォーカスサーボをかけ
る際に、露光をしない例えばミラー部等の非露光部で
は、レーザ光の強度をフォトレジストが露光しない強度
であってフォーカスサーボをかけることができる強度ま
で低下させることにより、従来の装置で問題とされてい
た対物レンズの色補正の問題がなくなり、露光用のレー
ザ光の波長を短くすることができ、高密度記録を行うこ
とができる。また、レーザ光源を１つとすることがで
き、従来の装置に比して、コストを安くすることができ
る。As is apparent from the above description, in the exposure apparatus according to the present invention, the exposure laser light emitted from the laser light source is condensed by the objective lens and irradiated onto the exposed plate,
The exposure for recording data is performed, and when the focus servo of the objective lens is performed by using the reflected light from the exposed plate, the intensity of the laser light is measured in the non-exposed part such as the mirror part which is not exposed. By reducing the intensity at which the resist does not expose to a level at which focus servo can be applied, the problem of color correction of the objective lens, which was a problem with conventional equipment, is eliminated, and the wavelength of the laser light for exposure is shortened. Therefore, high density recording can be performed. Moreover, the number of laser light sources can be one, and the cost can be reduced as compared with the conventional device.
【図１】本発明を適用した露光装置の具体的な構成を示
すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing a specific configuration of an exposure apparatus to which the present invention has been applied.
１ ガラス原盤 １１ レーザ光源 １２ パワーコントローラ １３ 変調器 １４ 対物レンズ １５ ターンテーブル １６ フォーカスサーボ制御回路 １７ コントローラ 1 Glass Master 11 Laser Light Source 12 Power Controller 13 Modulator 14 Objective Lens 15 Turntable 16 Focus Servo Control Circuit 17 Controller
Claims (2)
と、 該レーザ光源から出射されるレーザ光の強度を可変する
強度可変手段と、 上記レーザ光を記録データに基づいて変調する変調手段
と、 該変調手段により変調されたレーザ光を集光してフォト
レジストが塗布された被露光板に照射する対物レンズ
と、 上記被露光板に照射されるレーザ光のスポットを走査す
る走査手段と、 上記被露光板からの反射光を用いて上記対物レンズのフ
ォーカスサーボ制御を行うフォーカスサーボ制御手段
と、 レーザ光の強度を露光時には上記被露光板に塗布された
フォトレジストが露光する強度とし、非露光時には上記
フォトレジストが露光しない強度であって上記フォーカ
スサーボ制御手段が動作する強度とするように、上記強
度可変手段を制御する制御手段とを備えることを特徴と
する露光装置。1. A laser light source that emits laser light for exposure, an intensity varying means that varies the intensity of the laser light emitted from the laser light source, and a modulating means that modulates the laser light based on recording data. An objective lens for converging the laser light modulated by the modulating means and irradiating the exposed plate coated with a photoresist, and a scanning means for scanning a spot of the laser beam irradiated on the exposed plate, Focus servo control means for performing focus servo control of the objective lens using the reflected light from the exposed plate, and the intensity of the laser light is the intensity with which the photoresist applied to the exposed plate is exposed during exposure, A control for controlling the intensity varying means so that the photoresist is not exposed during the exposure and the focus servo control means operates. An exposure apparatus comprising: a control unit.
り、 前記走査手段が上記被露光盤を回転させる回転手段から
なり、 該回転手段が被露光盤を回転させて前記レーザ光のスポ
ットを被露光盤に対して相対的に走査させることを特徴
とする請求項１記載の露光装置。2. The plate to be exposed is a disk-shaped plate to be exposed, the scanning unit is a rotating unit to rotate the plate to be exposed, and the rotating unit rotates the plate to be exposed to emit the laser beam. 2. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the spot is scanned relative to the exposed plate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6000830A JPH07199481A (en) | 1994-01-10 | 1994-01-10 | Exposure device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6000830A JPH07199481A (en) | 1994-01-10 | 1994-01-10 | Exposure device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07199481A true JPH07199481A (en) | 1995-08-04 |
Family
ID=11484556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6000830A Pending JPH07199481A (en) | 1994-01-10 | 1994-01-10 | Exposure device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07199481A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009130846A1 (en) * | 2008-04-22 | 2009-10-29 | 富士フイルム株式会社 | Laser exposure method, photoresist layer working method, and pattern molding manufacturing method |
-
1994
- 1994-01-10 JP JP6000830A patent/JPH07199481A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009130846A1 (en) * | 2008-04-22 | 2009-10-29 | 富士フイルム株式会社 | Laser exposure method, photoresist layer working method, and pattern molding manufacturing method |
| JP2009282497A (en) * | 2008-04-22 | 2009-12-03 | Fujifilm Corp | Laser exposure method, photoresist layer working method, and pattern molding manufacturing method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3707812B2 (en) | Optical recording method, optical recording apparatus, and optical recording medium | |
| JP2007279475A (en) | Hologram recording device and hologram recording method | |
| JP2007304263A (en) | Holographic memory device | |
| JP2001056944A (en) | Optical disk device and focusing control method of optical disk device | |
| JPS6325408B2 (en) | ||
| JPH07199481A (en) | Exposure device | |
| KR100486403B1 (en) | Recorder | |
| WO2001063607A1 (en) | Method for producing recording medium, method for producing stamper of recording medium, apparatus for producing recording medium, and apparatus for producing stamper of recording medium | |
| JP4081702B2 (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
| JPH07199480A (en) | Exposure device | |
| JP2005148243A (en) | Exposure system | |
| JP2002319157A (en) | Signal recording device, signal reproducing device, and method for signal recording and signal reproducing | |
| JPH08124226A (en) | Method and apparatus for producing optical disc | |
| JP2003029420A (en) | Pattern exposure system | |
| JPH11296922A (en) | Device and method for exposure | |
| JPH11296923A (en) | Device and method for exposure | |
| JPH11339329A (en) | Device and method for exposure | |
| JP2005044459A (en) | Exposing device for master disk of optical disk | |
| JP2608544B2 (en) | Optical information recording device | |
| JP2003187467A (en) | Focusing control method and focusing controller for aligner | |
| JPH03296929A (en) | Exposing machine for optical master disk | |
| JPH04248144A (en) | Cutting device | |
| JPH06251428A (en) | Optical disk cutting device | |
| JPH08272110A (en) | Exposing method and device for photoresist | |
| JPS63146259A (en) | Magneto-optical recording system |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020625 |