JPH07155673A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPH07155673A JPH07155673A JP33915793A JP33915793A JPH07155673A JP H07155673 A JPH07155673 A JP H07155673A JP 33915793 A JP33915793 A JP 33915793A JP 33915793 A JP33915793 A JP 33915793A JP H07155673 A JPH07155673 A JP H07155673A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- humidity
- temperature
- gas
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Spray Control Apparatus (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 温度、湿度、静電気などの塗布環境を迅速に
整えることによって塗布対象物に塗布剤を不具合なく塗
布でき、かつ安価な塗布装置を提供することである。 【構成】 塗布装置は、塗布室13内で駆動モータ3に
より回転される回転テーブル2と、所定量の塗布剤を回
転テーブル2に載置された塗布対象物23に滴下するた
めの塗布剤滴下装置22と、塗布室13内を所定の塗布
環境に保つための温度湿度調整装置24から構成され
る。
整えることによって塗布対象物に塗布剤を不具合なく塗
布でき、かつ安価な塗布装置を提供することである。 【構成】 塗布装置は、塗布室13内で駆動モータ3に
より回転される回転テーブル2と、所定量の塗布剤を回
転テーブル2に載置された塗布対象物23に滴下するた
めの塗布剤滴下装置22と、塗布室13内を所定の塗布
環境に保つための温度湿度調整装置24から構成され
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、塗布装置、特に、レ
ジスト剤等の塗布剤を適切な環境下で塗布できる回転塗
布装置に関する。
ジスト剤等の塗布剤を適切な環境下で塗布できる回転塗
布装置に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置のガラス基板の一面に透明
電極をフォトリソグラフィー法によって形成する場合、
まず、ガラス基板の一面全体にITO等から成る透明電
極形成用の膜を形成する。次に、この膜の上にレジスト
を塗布し、レジストをパターニングする。パターンニン
グされたレジストパンターンをマスクとして透明電極形
成用膜をエッチングして、所望の透明電極を形成してい
る。
電極をフォトリソグラフィー法によって形成する場合、
まず、ガラス基板の一面全体にITO等から成る透明電
極形成用の膜を形成する。次に、この膜の上にレジスト
を塗布し、レジストをパターニングする。パターンニン
グされたレジストパンターンをマスクとして透明電極形
成用膜をエッチングして、所望の透明電極を形成してい
る。
【0003】図2は、このような場合に使用される回転
レジスト塗布装置の一例を示す。図2において、回転ス
テージ101は、塗布対象物であるガラス基板102を
載置するものであり、ハウジング103の上部内に形成
された塗布室104内に設置されている。回転ステージ
101はその中心軸に固定された駆動モータ105によ
って回転される。駆動モータ105は制御部106によ
り回転速度、回転時間等が制御される。
レジスト塗布装置の一例を示す。図2において、回転ス
テージ101は、塗布対象物であるガラス基板102を
載置するものであり、ハウジング103の上部内に形成
された塗布室104内に設置されている。回転ステージ
101はその中心軸に固定された駆動モータ105によ
って回転される。駆動モータ105は制御部106によ
り回転速度、回転時間等が制御される。
【0004】塗布を行う場合、外部の真空装置(図示せ
ず)により、真空チャック用真空ライン107及び真空
チャック弁108を介してガラス基板102を回転ステ
ージ101の上面に吸着する。次に、塗布室104の上
蓋109を閉じ、上蓋109の中央の穴からガラス基板
102上に液状塗布剤を滴下する。その後、排気ダクト
111から排気を行いながら回転ステージ101を回転
させ、塗布剤をその遠心力によりガラス基板102上に
均等な厚さになるように広げて、塗布する。
ず)により、真空チャック用真空ライン107及び真空
チャック弁108を介してガラス基板102を回転ステ
ージ101の上面に吸着する。次に、塗布室104の上
蓋109を閉じ、上蓋109の中央の穴からガラス基板
102上に液状塗布剤を滴下する。その後、排気ダクト
111から排気を行いながら回転ステージ101を回転
させ、塗布剤をその遠心力によりガラス基板102上に
均等な厚さになるように広げて、塗布する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】塗布装置内の温度、湿
度、静電気等の塗布環境に影響され易い塗布剤、例え
ば、ポリイミド、低沸点溶媒を含む金属アルコキシド等
を使用した場合、従来の塗布装置では、塗布剤と塗布環
境がマッチせず、形成膜の膜厚のムラ、クラック(割れ
目)、白濁等が生じてしまう場合がある。
度、静電気等の塗布環境に影響され易い塗布剤、例え
ば、ポリイミド、低沸点溶媒を含む金属アルコキシド等
を使用した場合、従来の塗布装置では、塗布剤と塗布環
境がマッチせず、形成膜の膜厚のムラ、クラック(割れ
目)、白濁等が生じてしまう場合がある。
【0006】このため、湿度に関しては、装置全体にド
ライブースを取り付け、塗布装置内の湿度を制御するこ
とも提案されている。しかし、ドライブースによる湿度
制御では、所定の湿度を得るために(特に、湿度を下げ
る場合には)時間がかかってしまう。従って、効率のよ
い除湿を行うためには、ドライブースを常時作動しなけ
ればならず、ランニングコストが高くなってしまうとい
う問題があった。
ライブースを取り付け、塗布装置内の湿度を制御するこ
とも提案されている。しかし、ドライブースによる湿度
制御では、所定の湿度を得るために(特に、湿度を下げ
る場合には)時間がかかってしまう。従って、効率のよ
い除湿を行うためには、ドライブースを常時作動しなけ
ればならず、ランニングコストが高くなってしまうとい
う問題があった。
【0007】この発明は、上記実状を鑑みてなされたも
ので、湿度、温度、静電気などの塗布環境を整えること
によって塗布対象物に塗布剤を不具合なく塗布でき、か
つ、安価な塗布装置を提供することを目的とする。
ので、湿度、温度、静電気などの塗布環境を整えること
によって塗布対象物に塗布剤を不具合なく塗布でき、か
つ、安価な塗布装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明にかかる塗布装置は、塗布室と、前記塗布
室内で塗布対象物を載置する回転テーブルと、前記回転
テーブルを回転する駆動部と、前記回転テーブル上の塗
布対象物に塗布剤を滴下する塗布剤滴下部と、前記塗布
室に接続され、前記塗布室内に湿度を調整した気体を送
出することにより前記塗布室内の湿度を調整する湿度制
御部と、前記塗布室に接続され、前記塗布室内に温度を
調整した気体を送出することにより前記塗布室内の温度
を調整する温度制御部とを含むことを特徴とする。さら
に、前記塗布室内の静電気を抑制する除電部を含むこと
もできる。
め、この発明にかかる塗布装置は、塗布室と、前記塗布
室内で塗布対象物を載置する回転テーブルと、前記回転
テーブルを回転する駆動部と、前記回転テーブル上の塗
布対象物に塗布剤を滴下する塗布剤滴下部と、前記塗布
室に接続され、前記塗布室内に湿度を調整した気体を送
出することにより前記塗布室内の湿度を調整する湿度制
御部と、前記塗布室に接続され、前記塗布室内に温度を
調整した気体を送出することにより前記塗布室内の温度
を調整する温度制御部とを含むことを特徴とする。さら
に、前記塗布室内の静電気を抑制する除電部を含むこと
もできる。
【0009】前記湿度制御部は、例えば、所望の湿度の
気体を供給する気体供給手段と前記気体供給手段により
供給された気体をフィルタリングして前記塗布室に供給
するフィルタ手段を含み、前記温度制御部は、例えば、
前記気体供給手段が供給する気体を加熱又は冷却してそ
の温度を制御する手段から構成され、前記除電部は、例
えば、前記フィルタ手段を通過した気体中の静電気を除
去する手段から構成される。
気体を供給する気体供給手段と前記気体供給手段により
供給された気体をフィルタリングして前記塗布室に供給
するフィルタ手段を含み、前記温度制御部は、例えば、
前記気体供給手段が供給する気体を加熱又は冷却してそ
の温度を制御する手段から構成され、前記除電部は、例
えば、前記フィルタ手段を通過した気体中の静電気を除
去する手段から構成される。
【0010】
【作用】上記構成によれば、例えば、温度と湿度の調整
された気体を塗布室内に送出することにより、塗布室内
の温度及び湿度を制御する。従って、装置外部の温度・
湿度に影響されず、高速に塗布室内の温度及び湿度の制
御が可能となる。また、低湿度の場合、静電気が発生し
やすくなるが、除電部により静電気対策を施すことがで
きる。従って、塗布室内の環境が塗布に好適な状態に維
持され、膜厚のムラ、クラック、白濁等のない膜を塗布
できる。
された気体を塗布室内に送出することにより、塗布室内
の温度及び湿度を制御する。従って、装置外部の温度・
湿度に影響されず、高速に塗布室内の温度及び湿度の制
御が可能となる。また、低湿度の場合、静電気が発生し
やすくなるが、除電部により静電気対策を施すことがで
きる。従って、塗布室内の環境が塗布に好適な状態に維
持され、膜厚のムラ、クラック、白濁等のない膜を塗布
できる。
【0011】
【実施例】以下に、図面を参照してこの発明の塗布装置
の一実施例を説明する。本実施例においては、塗布対象
物を液晶表示装置のガラス基板とし、塗布剤をレジスト
とする。
の一実施例を説明する。本実施例においては、塗布対象
物を液晶表示装置のガラス基板とし、塗布剤をレジスト
とする。
【0012】図1はこの実施例にかかる塗布装置の構成
を示す。図1において、ハウジング1の内の中央部に回
転テーブル2が設けられている。回転テーブル2はその
中心軸に固定された駆動モータ3により回転駆動され
る。駆動モータ3は、回転速度、回転時間等が制御盤5
の設定に応じて制御される。駆動モータ3はハウジング
1内に固定されたケース4上に配置されている。ケース
4内に、制御盤5によって開閉される真空チャック電磁
弁6が設けられている。真空チャック電磁弁6の入口ポ
ート7に、塗布装置の外側に設けられて常時稼働してい
る真空装置(図示せず)に接続される真空パイプ8、及
び、ハウジング内に先端が開口しているパイプ33が固
定されている。また、真空パイプ9が、真空チャック電
磁弁6の出口ポート10からケース4と駆動モータ3を
通って回転テーブル2の複数の孔を有する上面11の下
に形成された吸着室12に延びており、真空チャック電
磁弁6を介して真空パイプ8およびパイプ33に接続さ
れている。
を示す。図1において、ハウジング1の内の中央部に回
転テーブル2が設けられている。回転テーブル2はその
中心軸に固定された駆動モータ3により回転駆動され
る。駆動モータ3は、回転速度、回転時間等が制御盤5
の設定に応じて制御される。駆動モータ3はハウジング
1内に固定されたケース4上に配置されている。ケース
4内に、制御盤5によって開閉される真空チャック電磁
弁6が設けられている。真空チャック電磁弁6の入口ポ
ート7に、塗布装置の外側に設けられて常時稼働してい
る真空装置(図示せず)に接続される真空パイプ8、及
び、ハウジング内に先端が開口しているパイプ33が固
定されている。また、真空パイプ9が、真空チャック電
磁弁6の出口ポート10からケース4と駆動モータ3を
通って回転テーブル2の複数の孔を有する上面11の下
に形成された吸着室12に延びており、真空チャック電
磁弁6を介して真空パイプ8およびパイプ33に接続さ
れている。
【0013】回転テーブル2は、内部に塗布室13を形
成する塗布ケース14によって覆われている。塗布室1
3は、上端に複数の孔を有する蓋15が設けられると共
に、下端は回転テーブル2を囲む受け皿16を有してい
る。回転テーブル2の回転によって生じる塗布室13内
の気体の乱流を避けるための整流板17が設けられてい
る。塗布室13の内部はダクト19とこの中に設けられ
た逆止弁20を介して塗布装置外に設置された排気装置
(図示せず)に接続されている。
成する塗布ケース14によって覆われている。塗布室1
3は、上端に複数の孔を有する蓋15が設けられると共
に、下端は回転テーブル2を囲む受け皿16を有してい
る。回転テーブル2の回転によって生じる塗布室13内
の気体の乱流を避けるための整流板17が設けられてい
る。塗布室13の内部はダクト19とこの中に設けられ
た逆止弁20を介して塗布装置外に設置された排気装置
(図示せず)に接続されている。
【0014】塗布室13の蓋15の下面に滴下ノズル2
1を有する塗布剤滴下装置22が設けられ、滴下ノズル
21から回転テーブル1上に載置されたガラス基板23
の表面中央部に所定量の塗布剤を滴下するようになって
いる。
1を有する塗布剤滴下装置22が設けられ、滴下ノズル
21から回転テーブル1上に載置されたガラス基板23
の表面中央部に所定量の塗布剤を滴下するようになって
いる。
【0015】塗布室13の蓋15の上方に温度湿度調整
装置24が設置されている。この温度湿度調整装置24
は、底が気体を通過させるヘパフィルタ25で形成され
た箱体26内に除湿用パイプ27と加湿用パイプ28を
設けて構成されている。除湿用パイプ27は、乾燥気体
供給装置27aに接続され、ドライエア、或いは、不活
性ガス等からなる乾燥気体を箱体26内に供給する。加
湿用パイプ28は、加湿気体供給装置28aに接続さ
れ、箱体26内に加湿気体を供給する。加湿気体として
は空気に水蒸気を混合したもの、外気等を使用できる。
乾燥気体供給装置27aと加湿気体供給装置28aは、
それぞれ、供給する気体を加熱又は冷却する温度調整部
を内蔵する。
装置24が設置されている。この温度湿度調整装置24
は、底が気体を通過させるヘパフィルタ25で形成され
た箱体26内に除湿用パイプ27と加湿用パイプ28を
設けて構成されている。除湿用パイプ27は、乾燥気体
供給装置27aに接続され、ドライエア、或いは、不活
性ガス等からなる乾燥気体を箱体26内に供給する。加
湿用パイプ28は、加湿気体供給装置28aに接続さ
れ、箱体26内に加湿気体を供給する。加湿気体として
は空気に水蒸気を混合したもの、外気等を使用できる。
乾燥気体供給装置27aと加湿気体供給装置28aは、
それぞれ、供給する気体を加熱又は冷却する温度調整部
を内蔵する。
【0016】塗布室13内に温度及び湿度を検出するセ
ンサ29が設けられ、センサ29は制御装置30に温度
信号及び湿度信号を供給する。制御装置30は、供給さ
れた信号に基づいて、乾燥気体供給装置27A及び加湿
気体供給装置28Aを制御し、各気体の供給量、温度等
を制御する。
ンサ29が設けられ、センサ29は制御装置30に温度
信号及び湿度信号を供給する。制御装置30は、供給さ
れた信号に基づいて、乾燥気体供給装置27A及び加湿
気体供給装置28Aを制御し、各気体の供給量、温度等
を制御する。
【0017】温度湿度調整装置24のヘパフィルタ25
と塗布室13の蓋15の間に水平な除電バー31が設け
られ、これがイオン発生装置32に接続されている。そ
して、これら除電バー31とイオン発生装置32とは除
電器を構成する。
と塗布室13の蓋15の間に水平な除電バー31が設け
られ、これがイオン発生装置32に接続されている。そ
して、これら除電バー31とイオン発生装置32とは除
電器を構成する。
【0018】次に、この実施例の塗布装置の動作を説明
する。まず、回転テーブル2上に塗布対象物であるガラ
ス基板23を載置し、真空チャック電磁弁6がパイプ3
3を閉じ、真空パイプ8を開いて、真空装置が真空パイ
プ8を介して真空引きをすることにより、ガラス基板2
3を回転テーブル2の上面に吸着固定し、逆止弁20を
開いてハウジング1内の気体を引く。また、センサ29
からの温度信号及び湿度信号により、制御部30は乾燥
気体供給装置27a及び加湿気体供給装置28aを制御
し、ハウジング1内の温度及び湿度を所定の値にする。
これに応じて、イオン発生器32及び除電バー31を作
動させる。温度湿度調整装置24から流出する気体はヘ
パフィルタ25でフィルタリングされ、気体内のパーテ
ィクルが塗布室に侵入することが防止される。また、除
電バー31で気体の流動により浮動する静電気を帯電し
たパーティクルを吸着させる。このため、塗布室13内
を、迅速に所定の温度及び所定の湿度で、静電気のない
クリーンな環境にすることができる。
する。まず、回転テーブル2上に塗布対象物であるガラ
ス基板23を載置し、真空チャック電磁弁6がパイプ3
3を閉じ、真空パイプ8を開いて、真空装置が真空パイ
プ8を介して真空引きをすることにより、ガラス基板2
3を回転テーブル2の上面に吸着固定し、逆止弁20を
開いてハウジング1内の気体を引く。また、センサ29
からの温度信号及び湿度信号により、制御部30は乾燥
気体供給装置27a及び加湿気体供給装置28aを制御
し、ハウジング1内の温度及び湿度を所定の値にする。
これに応じて、イオン発生器32及び除電バー31を作
動させる。温度湿度調整装置24から流出する気体はヘ
パフィルタ25でフィルタリングされ、気体内のパーテ
ィクルが塗布室に侵入することが防止される。また、除
電バー31で気体の流動により浮動する静電気を帯電し
たパーティクルを吸着させる。このため、塗布室13内
を、迅速に所定の温度及び所定の湿度で、静電気のない
クリーンな環境にすることができる。
【0019】この状態で、塗布剤滴下装置22の滴下ノ
ズル21から、回転テーブル2上のガラス基板23上面
の中央部に一定量の塗布剤を滴下し、制御盤5の設定に
従って、駆動モータ3により回転テーブル2を所定の速
度で所定時間回転させる。ガラス基板23上の塗布剤は
この回転による遠心力により外側へ放射状に広がってゆ
き、塗布剤からなる均一な厚さの膜をガラス基板23上
全面に形成する。膜の厚さは、ガラス基板23上面の面
積、滴下された塗布剤の量、回転数、回転時間等により
制御される。
ズル21から、回転テーブル2上のガラス基板23上面
の中央部に一定量の塗布剤を滴下し、制御盤5の設定に
従って、駆動モータ3により回転テーブル2を所定の速
度で所定時間回転させる。ガラス基板23上の塗布剤は
この回転による遠心力により外側へ放射状に広がってゆ
き、塗布剤からなる均一な厚さの膜をガラス基板23上
全面に形成する。膜の厚さは、ガラス基板23上面の面
積、滴下された塗布剤の量、回転数、回転時間等により
制御される。
【0020】所定時間が経過すると、回転テーブル2が
停止する。形成された膜が安定すると温度湿度調整装置
24が気体の塗布室13への供給を停止し、逆止弁20
が閉じて塗布室13内からの気体の引きを停止する。つ
いで、真空チャック電磁弁6が真空パイプ8を閉じてか
らパイプ33を開き、ガラス基板23の回転テーブル2
への吸着を解く。最後に、ガラス基板23を回転テーブ
ル2から取り外して、塗布作業の1サイクルが完了す
る。
停止する。形成された膜が安定すると温度湿度調整装置
24が気体の塗布室13への供給を停止し、逆止弁20
が閉じて塗布室13内からの気体の引きを停止する。つ
いで、真空チャック電磁弁6が真空パイプ8を閉じてか
らパイプ33を開き、ガラス基板23の回転テーブル2
への吸着を解く。最後に、ガラス基板23を回転テーブ
ル2から取り外して、塗布作業の1サイクルが完了す
る。
【0021】上記構成によれば、温度と湿度の調整され
た気体を供給することにより、塗布室13内の温度及び
湿度を制御する。従って、装置外部の温度・湿度に影響
されないですばやく温度及び湿度を制御できる。また、
低湿度の場合、静電気が発生しやすくなるが、除電部3
1、32により静電気が除去される。従って、塗布室1
3内の環境が塗布に好適な状態に維持され、膜厚のム
ラ、クラック、白濁等のない膜を塗布できる。
た気体を供給することにより、塗布室13内の温度及び
湿度を制御する。従って、装置外部の温度・湿度に影響
されないですばやく温度及び湿度を制御できる。また、
低湿度の場合、静電気が発生しやすくなるが、除電部3
1、32により静電気が除去される。従って、塗布室1
3内の環境が塗布に好適な状態に維持され、膜厚のム
ラ、クラック、白濁等のない膜を塗布できる。
【0022】塗布対象物はガラス基板に限定されず、任
意の対象物でよい。塗布剤も、レジストに限らず、有機
物、樹脂等何でも良い。また上記実施例では、乾燥気体
及び加湿気体の両方をパイプ27、28から温度湿度制
御装置24に供給したが、所望の湿度に設定した1種類
の気体を供給するようにしてもよい。上記実施例では、
除湿気体及び加湿気体を加熱又は冷却することにより塗
布室13内の温度を制御したが、装置内に温度調整器を
配置しても良い。上記実施例では、温度制御、湿度制御
及び除電制御の全てを行っているが、塗布対象物に応じ
て任意の1つまたはこれらの組合せ制御のみを行うよう
にしてもよい。
意の対象物でよい。塗布剤も、レジストに限らず、有機
物、樹脂等何でも良い。また上記実施例では、乾燥気体
及び加湿気体の両方をパイプ27、28から温度湿度制
御装置24に供給したが、所望の湿度に設定した1種類
の気体を供給するようにしてもよい。上記実施例では、
除湿気体及び加湿気体を加熱又は冷却することにより塗
布室13内の温度を制御したが、装置内に温度調整器を
配置しても良い。上記実施例では、温度制御、湿度制御
及び除電制御の全てを行っているが、塗布対象物に応じ
て任意の1つまたはこれらの組合せ制御のみを行うよう
にしてもよい。
【0023】
【発明の効果】この発明によれば、塗布室内の環境を塗
布条件に適した状態に維持できるので、形成される膜の
膜厚のムラ、クラック、白濁化等が発生しない塗布装置
が得られる。また、装置の構造が簡単であり、しかも、
塗装室内の環境設定が確実迅速に行なわれるので、製造
コストも運転コストも安い。
布条件に適した状態に維持できるので、形成される膜の
膜厚のムラ、クラック、白濁化等が発生しない塗布装置
が得られる。また、装置の構造が簡単であり、しかも、
塗装室内の環境設定が確実迅速に行なわれるので、製造
コストも運転コストも安い。
【図1】この発明の一実施例にかかる塗布装置の概略断
面図である。
面図である。
【図2】従来技術の塗布装置の概略断面図である。
1・・・ハウジング、2・・・回転テーブル、3・・・駆動モー
タ、4・・・ケース、5・・・制御盤、6・・・真空チャック電
磁弁、8、9・・・真空パイプ、12・・・吸着室、13・・・
塗布室、17・・・整流板、19・・・ダクト、21・・・滴下
ノズル、22・・・塗布剤滴下装置、23・・・ガラス基板、
24・・・温度湿度調整装置、25・・・ヘパフィルタ、27
・・除湿用パイプ、27A・・・乾燥気体供給装置、28・・・
加湿用パイプ、28A・・・加湿気体供給装置、29・・・セ
ンサ、30・・・制御装置、31・・・除電バー、32・・・イ
オン発生装置、33・・・パイプ
タ、4・・・ケース、5・・・制御盤、6・・・真空チャック電
磁弁、8、9・・・真空パイプ、12・・・吸着室、13・・・
塗布室、17・・・整流板、19・・・ダクト、21・・・滴下
ノズル、22・・・塗布剤滴下装置、23・・・ガラス基板、
24・・・温度湿度調整装置、25・・・ヘパフィルタ、27
・・除湿用パイプ、27A・・・乾燥気体供給装置、28・・・
加湿用パイプ、28A・・・加湿気体供給装置、29・・・セ
ンサ、30・・・制御装置、31・・・除電バー、32・・・イ
オン発生装置、33・・・パイプ
Claims (4)
- 【請求項1】塗布室と、 前記塗布室内で塗布対象物を載置する回転テーブルと、 前記回転テーブルを回転する駆動部と、 前記回転テーブル上の塗布対象物に塗布剤を滴下する塗
布剤滴下部と、 前記塗布室に接続され、前記塗布室内に湿度を調整した
気体を送出することにより前記塗布室内の湿度を調整す
る湿度制御部と、 前記塗布室内の温度を調整する温度制御部とを含むこと
を特徴とする塗布装置。 - 【請求項2】前記塗布室は、その内部の静電気を抑制す
る除電部を含むことを特徴とする請求項1記載の塗布装
置。 - 【請求項3】前記除電部は前記塗布室内の静電気を除去
する手段から構成されることを特徴とする請求項2記載
の塗布装置。 - 【請求項4】前記湿度制御部は、所望の湿度の気体を供
給する気体供給手段と前記気体供給手段により供給され
た気体をフィルタリングして前記塗布室に供給するフィ
ルタ手段を含み、 前記温度制御部は、前記気体供給手段が供給する気体を
加熱又は冷却してその温度を制御する手段から構成され
ることを特徴とする請求項1、2又は3記載の塗布装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33915793A JPH07155673A (ja) | 1993-12-06 | 1993-12-06 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33915793A JPH07155673A (ja) | 1993-12-06 | 1993-12-06 | 塗布装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07155673A true JPH07155673A (ja) | 1995-06-20 |
Family
ID=18324785
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33915793A Pending JPH07155673A (ja) | 1993-12-06 | 1993-12-06 | 塗布装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07155673A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998008620A1 (fr) * | 1996-08-29 | 1998-03-05 | Bigtool Co., Ltd. | Procede d'application de peinture donnant une durete elevee |
JP2015205228A (ja) * | 2014-04-17 | 2015-11-19 | トヨタ車体株式会社 | 塗装ブース装置 |
CN114472090A (zh) * | 2022-02-10 | 2022-05-13 | 华能新能源股份有限公司 | 一种膜层生长设备及膜层生长方法 |
-
1993
- 1993-12-06 JP JP33915793A patent/JPH07155673A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998008620A1 (fr) * | 1996-08-29 | 1998-03-05 | Bigtool Co., Ltd. | Procede d'application de peinture donnant une durete elevee |
JP2015205228A (ja) * | 2014-04-17 | 2015-11-19 | トヨタ車体株式会社 | 塗装ブース装置 |
CN114472090A (zh) * | 2022-02-10 | 2022-05-13 | 华能新能源股份有限公司 | 一种膜层生长设备及膜层生长方法 |
CN114472090B (zh) * | 2022-02-10 | 2023-06-02 | 华能新能源股份有限公司 | 一种膜层生长设备及膜层生长方法 |
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