JPH0534613A - 複数ビーム走査光学装置 - Google Patents
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Abstract
各ビームが被走査面上に良好にピントを結び高密度、高
精度な走査が可能な複数ビーム走査光学装置を得るこ
と。 【構成】 複数の光ビームを第1光学系で平行光束とし
て絞りを介して光偏向器で偏向させた後、第2光学系に
より被走査面上に導光し、該複数の光ビームで同時に光
走査する際、該複数の発光部は主走査方向と斜め方向に
配列しており、該複数の発光部の数をn、ピッチをd、
該光偏向器の偏向面の基準位置から該絞りまでの距離を
L、該第1光学系の焦点距離をfとしたとき 【数1】 なる条件を満足すること。
Description
に関し、特に複数個の発光部を有する光源手段を用い、
該光源手段から放射された複数の光ビームを回転多面鏡
等の光偏向器を介して被走査面である感光媒体面上に導
光して、複数の光ビームで同時に光走査し、例えば画像
情報の形成を行うようにしたレーザービームプリンタ
(LBP)等の装置に好適な複数ビーム走査光学装置に
関するものである。
ビームで被走査面である感光媒体面を一括走査するよう
にした所謂複数ビーム走査光学系が、例えば特開昭51
−158251号公報で提案されている。
像を形成する際、高解像力でしかも良好なる画質を得る
為には被走査面上における光ビームのスポット径を小さ
くし、かつ副走査方向の光ビームのスポットを密に形成
させる必要がある。
副走査方向のスポットを密にする為多くの場合、半導体
レーザアレイを主走査方向に対して斜め方向に傾けて配
置した光源手段を用いている。
部概略図である。
等の光源手段である。光源手段11に設けた複数の発光
部11a,11bからは各々集光レンズ12の光軸gに
対して平行に中心光線ha ,hb が出射している。これ
らの中心光線ha ,hb は集光レンズ12の焦点Fを通
り、副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズ
13を通過した後、光偏向器14の偏向面14a上に入
射する。
各発光部11a,11bから出射して集光レンズ12を
通過した各光束を偏向面4aの近傍の主走査断面内に線
像として形成している。このとき、各発光部11a,1
1bからの中心光線ha ,hb は偏向面14a上にて、
偏向面による光束の偏向方向に互いに離れた位置に入射
し反射している。
ック系より成る走査レンズ系15によって例えば感光体
のごとき被走査媒体の被走査面16上に結像している。
6に至る副走査断面内の光路を示した概略図である。同
図の実線で示すように走査レンズ系15は副走査断面内
において偏向面14aと被走査面16とが略共役関係と
なるように構成している。
走査光学装置においては、光源手段11の各発光部11
aと11bから出射した中心光線ha ,hb は前述のよ
うに偏向面14a上にて互いに離れた位置に入射する。
形成される偏向面14a上の複数の線像の中心位置は、
複数の発光部のうちどれかひとつに対応した線像だけ
は、その中心位置を所望の位置に、例えば偏向面上に設
置可能となる。しかしながら、それ以外の線像の中心位
置は所望の位置から離れてくる。
線像は偏向面14aからずれた位置14bに結像する。
このときのずれた線像の中心位置Paは走査レンズ系1
5によって被走査面16上には結像しなく被走査面16
から離れた点Pbに結像する。即ち、被走査面16上で
はディフォーカスしてくる。このときのディフォーカス
量は光偏向器14が回転すると更に大きくなってくる。
ット径が増大し、高精度な光走査が出来なくなってくる
という問題点が生じてくる。
部11a,11bから出射した光束が偏向面14a上に
て互いに離れた位置に入射し、反射偏向する為、単一の
光ビームを用いた走査光学装置に比べて偏向面を大きく
しなければならなく光偏向器が大型化し、高精度で高速
の走査が難しくなるという問題点があった。
手段を用いて被走査面上を複数の光ビームで同時に走査
する際、各光ビームが各々被走査面上で良好にピントを
結び、高密度で高精度な走査が可能で、かつ単一の光ビ
ームを使用したときと略同一の大きさの光偏向器で良
く、高速走査が可能な複数ビーム走査光学装置の提供を
目的とする。
光学装置は、独立に光変調が可能な複数の発光部を有す
る光源手段から放射した複数の光ビームを第1光学系で
平行光束として絞りを介して光偏向器に導光し、該光偏
向器で偏向させた光ビームを第2光学系により被走査面
上に導光し、該複数の光ビームで該被走査面上を同時に
光走査する際、該複数の発光部は該被走査面上の光ビー
ムの主走査方向と斜め方向に配列しており、該複数の発
光部の数をn、ピッチをd、該光偏向器の偏向面の基準
位置から該絞りまでの距離をL、該第1光学系の焦点距
離をfとしたとき
器との間の光路中に副走査方向に屈折力を有するアナモ
フィックレンズを配置し、副走査断面内において該第1
光学系からの光ビームが該光偏向器の偏向面に集光する
ようにし、又前記第2光学系をアナモフィック系より構
成し、副走査断面内において該偏向面と前記被走査面と
が略共役関係となり、主走査断面内においてf−θ特性
を有するようにしたことを特徴としている。
は図1の実施例1の主走査断面内の要部概略図である。
a,1bを有しており、例えば半導体レーザアレイ等か
ら成っている。発光部1a,1bは主走査方向と斜め方
向に配置されており、その間隔dはd=100μmであ
る。又、複数の発光部1a,1bからは各々発散光束が
出射している。
1光学系としての集光レンズ2(焦点距離f=10.2
mm)の光軸gに対して平行に出射した中心光線であ
る。これらの中心光線ha ,hb を中心とした各光束は
集光レンズ2を通り(このうち中心光線ha ,hb は集
光レンズ2の焦点Fを通り)、副走査方向に屈折力を有
するシリンドリカルレンズ3を通過した後、主に主走査
方向の光束を制限する絞り7を通って光偏向器4の偏向
面4a上に入射する。このとき絞り7がないと、各光束
の中心光線ha ,hb は偏向面4a上で互いに離れた位
置Pa,Pbに入射し反射する。
に偏向面4aより所定の位置に設けることにより偏向面
4aに入射する光束の中心光線を変えて、中心光線が偏
向面4aの略同一位置に入射し、反射するようにしてい
る。
面内で光束を制限し、中心光線を絞り7への入射前のh
a ,hb より絞り7を通過後の絞り7の中心を通過する
光線ja ,jb としている。
a上で位置Qa,Qbのように互いに接近し、しかも集
光レンズ2の光軸g上の光線の入射位置近傍に入射し、
反射するようにしている。
1a,11bから出射した光束より偏向面4aの近傍の
主走査断面内に線像を形成している。
してのアナモフィック系より成る走査レンズ系5によっ
て感光ドラム8等の表面(被走査面)6に結像してい
る。走査レンズ系5は球面レンズ5aと主走査断面と副
走査断面で屈折力が異なるトーリック面を有するトーリ
ックレンズ5bの2つのレンズから成っており、主走査
断面内ではf−θ特性を有している。
で回転させることにより感光ドラム8から成る被走査面
6を2つのスポット6a,6bで光走査している。それ
と共に感光ドラム8を矢印8a方向に回転させることに
より、これにより被走査面6を副走査方向に2つの光ス
ポット6a,6bで等速に光走査している。
4aと被走査面6とが略共役関係となり、主走査断面内
では光出力部11a,11bと被走査面6とが略共役関
係となるようにしている。
する。
フォーカス量Δは光軸gと垂直方向における偏向面4a
上での反射点までの距離をa、走査レンズ系5の副走査
方向の倍率をβとすると Δ≒2a×β2 なる関係がある。
をd、絞り7から光偏向器4の偏向面の基準位置(主走
査断面内において光ビームが被走査面の走査範囲の中心
部に入射するときに位置している偏向面に光軸g上の光
線が入射する位置)までの距離をL、集光レンズ2の焦
点距離をfとしたとき距離aは
0.1mmとなっている。この距離aは絞り7を設けな
いときに比べて約1/4となっている。
定し、これにより被走査面上での光ビームの結像スポッ
ト径を走査レンズ系5の焦点深度内におくことができ、
高密度、高精度な走査を可能としている。また光偏向器
も単一の光ビームを使用する場合とほぼ同じ大きさとな
っている。これによりモータ等への負荷を増すことがな
く高速走査を可能としている。
条件式(1)を満足するように各要素を設定すれば2つ
以上の発光部を有していても良く、前述と同様の効果が
得られる。
定することにより半導体レーザアレイのような光源手段
を用いて被走査面上を複数の光ビームで同時に走査する
際、各光ビームが各々被走査面上で良好にピントを結び
高密度で高精度な走査が可能で、かつ単一の光ビームを
使用したときと略同一の大きさの光偏向器で良く、高速
走査が可能な複数ビーム走査光学装置を達成することが
できる。
の要部概略図
Claims (2)
- 【請求項1】 独立に光変調が可能な複数の発光部を有
する光源手段から放射した複数の光ビームを第1光学系
で平行光束として絞りを介して光偏向器に導光し、該光
偏向器で偏向させた光ビームを第2光学系により被走査
面上に導光し、該複数の光ビームで該被走査面上を同時
に光走査する際、該複数の発光部は該被走査面上の光ビ
ームの主走査方向と斜め方向に配列しており、該複数の
発光部の数をn、ピッチをd、該光偏向器の偏向面の基
準位置から該絞りまでの距離をL、該第1光学系の焦点
距離をfとしたとき 【数1】 なる条件を満足することを特徴とする複数ビーム走査光
学装置。 - 【請求項2】 前記第1光学系と前記光偏向器との間の
光路中に副走査方向に屈折力を有するアナモフィックレ
ンズを配置し、副走査断面内において該第1光学系から
の光ビームが該光偏向器の偏向面に集光するようにし、
又前記第2光学系をアナモフィック系より構成し、副走
査断面内において該偏向面と前記被走査面とが略共役関
係となり、主走査断面内においてf−θ特性を有するよ
うにしたことを特徴とする請求項1の複数ビーム走査光
学装置。
Priority Applications (4)
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Family Applications (1)
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