JPH05225616A - フォトレジスト層を現像する方法 - Google Patents
フォトレジスト層を現像する方法Info
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- JPH05225616A JPH05225616A JP3026662A JP2666291A JPH05225616A JP H05225616 A JPH05225616 A JP H05225616A JP 3026662 A JP3026662 A JP 3026662A JP 2666291 A JP2666291 A JP 2666291A JP H05225616 A JPH05225616 A JP H05225616A
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、光・ディスク・マスタにある所定
の均一な厚さの露光フォトレジスト層を良好に現像する
方法を提供することを目的とする。 【構成】 光・ディスク・マスタを第１の所定速度で回
転させ、所定の規定度を有するフォトレジスト現像剤溶
液を選定し、回転している光・ディスク・マスタのフォ
トレジスト層に水を分配してそれを予湿潤し、次に水と
前記現像剤溶液の両方をフォトレジスト層に分配し、次
に現像剤溶液のみをフォトレジスト層に分配してこの層
を完全に現像し、この現像したフォトレジスト層を水で
洗って残余の現像剤溶液を除き、光・ディスク・マスタ
を第２の所定速度で回転させて現像済のフォトレジスト
層を乾燥させる。
の均一な厚さの露光フォトレジスト層を良好に現像する
方法を提供することを目的とする。 【構成】 光・ディスク・マスタを第１の所定速度で回
転させ、所定の規定度を有するフォトレジスト現像剤溶
液を選定し、回転している光・ディスク・マスタのフォ
トレジスト層に水を分配してそれを予湿潤し、次に水と
前記現像剤溶液の両方をフォトレジスト層に分配し、次
に現像剤溶液のみをフォトレジスト層に分配してこの層
を完全に現像し、この現像したフォトレジスト層を水で
洗って残余の現像剤溶液を除き、光・ディスク・マスタ
を第２の所定速度で回転させて現像済のフォトレジスト
層を乾燥させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光・ディスク・マスタ
にある所定の均一な厚さの露光フォトレジスト層を良好
に現像する方法に関する。
にある所定の均一な厚さの露光フォトレジスト層を良好
に現像する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学読取式ビデオ・ディスク・レプリカ
は、通常、周波数変調した搬送信号の形態で記録密度も
高く膨大な量の情報を記憶させるのに有用である。周波
数変調信号は、一続きのほぼ円形で同心の記録トラック
の形態で配置した一連の間隔を置いたピットまたはバン
プとして記録したものが代表的である。
は、通常、周波数変調した搬送信号の形態で記録密度も
高く膨大な量の情報を記憶させるのに有用である。周波
数変調信号は、一続きのほぼ円形で同心の記録トラック
の形態で配置した一連の間隔を置いたピットまたはバン
プとして記録したものが代表的である。
【０００３】代表的には、ディスク・レプリカは記録マ
スタから得たディスク状のスタンパを用いた射出成形装
置で成形する。記録マスタの代表的なものは、ディスク
状の平らな表面を有するガラス基体を包含し、この表面
に薄い記録層、たとえば金属膜が重ねてある。通常は、
マスタを所定の速度で回転させながら半径方向移動式の
対物レンズを用いて記録層に輝度変調した書込光線を焦
点合わせすることによって、情報が記録層に記録され
る。この光線の輝度は周波数変調信号によって変調され
て金属膜の溶ける所定の限界よりも交互に大きくなった
り小さくなったりし、それによって一連の間隔を置いた
ピットが金属膜に形成される。これらのピットおよび間
隔は、好ましくは、公称衝撃係数が５０／５０であり、
それによって、信号を最低の第二調波ひずみ（Second h
armonic distortion）で記録することができる。
スタから得たディスク状のスタンパを用いた射出成形装
置で成形する。記録マスタの代表的なものは、ディスク
状の平らな表面を有するガラス基体を包含し、この表面
に薄い記録層、たとえば金属膜が重ねてある。通常は、
マスタを所定の速度で回転させながら半径方向移動式の
対物レンズを用いて記録層に輝度変調した書込光線を焦
点合わせすることによって、情報が記録層に記録され
る。この光線の輝度は周波数変調信号によって変調され
て金属膜の溶ける所定の限界よりも交互に大きくなった
り小さくなったりし、それによって一連の間隔を置いた
ピットが金属膜に形成される。これらのピットおよび間
隔は、好ましくは、公称衝撃係数が５０／５０であり、
それによって、信号を最低の第二調波ひずみ（Second h
armonic distortion）で記録することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明はフォトレジス
ト記録層を有する形式のビデオ・ディスク・マスタの製
作に用いる方法およびこのようなマスタからスタンパを
製造する方法にある。マスタは滑らかで平らな表面を持
ったガラス基体を包含し、この表面に薄くて均一なフォ
トレジストの記録層が付着させてある。周波数変調した
情報信号は輝度変調した書込光線を用いてフォトレジス
ト記録層に記録され、一続きのほぼ円形で同心の記録ト
ラックの形状で配置した一連の間隔を置いた露光区域を
生じさせる。
ト記録層を有する形式のビデオ・ディスク・マスタの製
作に用いる方法およびこのようなマスタからスタンパを
製造する方法にある。マスタは滑らかで平らな表面を持
ったガラス基体を包含し、この表面に薄くて均一なフォ
トレジストの記録層が付着させてある。周波数変調した
情報信号は輝度変調した書込光線を用いてフォトレジス
ト記録層に記録され、一続きのほぼ円形で同心の記録ト
ラックの形状で配置した一連の間隔を置いた露光区域を
生じさせる。
【０００５】
【課題を解決するための手段】光・ディスク・マスタに
ある所定の均一な厚さの露光フォトレジスト層を現像す
る方法であって、光・ディスク・マスタを第１の所定速
度で回転させ、所定の規定度を有するフォトレジスト現
像剤溶液を選定し、回転している光・ディスク・マスタ
のフォトレジスト層に水を分配してそれを予湿潤し、次
に水と前期現像剤溶液の両方をフォトレジスト層に分配
し、次に現像剤溶液のみをフォトレジスト層に分配して
この層を完全に現像し、この現像したフォトレジスト層
を水で洗って残余の現像剤溶液を除き、光・ディスク・
マスタを第２の所定速度で回転させて現像済のフォトレ
ジスト層を乾燥させる段階を包含するようにしたもので
ある。
ある所定の均一な厚さの露光フォトレジスト層を現像す
る方法であって、光・ディスク・マスタを第１の所定速
度で回転させ、所定の規定度を有するフォトレジスト現
像剤溶液を選定し、回転している光・ディスク・マスタ
のフォトレジスト層に水を分配してそれを予湿潤し、次
に水と前期現像剤溶液の両方をフォトレジスト層に分配
し、次に現像剤溶液のみをフォトレジスト層に分配して
この層を完全に現像し、この現像したフォトレジスト層
を水で洗って残余の現像剤溶液を除き、光・ディスク・
マスタを第２の所定速度で回転させて現像済のフォトレ
ジスト層を乾燥させる段階を包含するようにしたもので
ある。
【０００６】
【作用】本発明の１つの特徴では、ガラス基体を比較的
低い速度、たとえば、約７５乃至１００rpm で回転させ
ながら基体表面に塩化第一錫のような定着剤を計量分配
することによってまず下ごしらえをする。次に、なお同
じ速度で回転させながら表面を水で洗い、残余の定着剤
を除去し、その後、比較的高い速度で、たとえば、約７
５０乃至１０００rpm で回転させることによって洗浄済
の表面を乾燥させる。
低い速度、たとえば、約７５乃至１００rpm で回転させ
ながら基体表面に塩化第一錫のような定着剤を計量分配
することによってまず下ごしらえをする。次に、なお同
じ速度で回転させながら表面を水で洗い、残余の定着剤
を除去し、その後、比較的高い速度で、たとえば、約７
５０乃至１０００rpm で回転させることによって洗浄済
の表面を乾燥させる。
【０００７】基体を下ごしらえするこの方法には、超微
分子サイズの艶出剤を用いて基体表面を磨き、磨いた表
面を清掃する予備段階を加えてもよい。清掃段階には、
まず表面を洗剤溶液で洗浄し、次に水で洗浄し、基体を
比較的高い速度で回転させることによって乾燥させ、表
面をアセトンでふいてダストや油の痕跡を取り除くとい
う段階を含んでもよい。
分子サイズの艶出剤を用いて基体表面を磨き、磨いた表
面を清掃する予備段階を加えてもよい。清掃段階には、
まず表面を洗剤溶液で洗浄し、次に水で洗浄し、基体を
比較的高い速度で回転させることによって乾燥させ、表
面をアセトンでふいてダストや油の痕跡を取り除くとい
う段階を含んでもよい。
【０００８】本発明の別の特徴では、フォトレジスト記
録層をガラス基体の下ごしらえした表面に塗布するの
に、基体を比較的低い速度で回転させながらその表面に
フォトレジスト溶液を計量分配し、次に基体を比較的高
い速度で回転させてフォトレジスト溶液を部分的に乾燥
させ、ほぼ均一な厚さの層を形成し、最後にフォトレジ
ストで被覆した基体を所定の要領で焼いてフォトレジス
ト層を完全に乾燥させる。フォトレジスト溶液は約1.3
センチポアズの粘度を有するＳｈｉｐｌｅｙ ＡＺ１３
５０フォトレジストであると好ましく、焼成段階では、
マスタを約８０°Ｃで約２０分間焼くのが好ましい。
録層をガラス基体の下ごしらえした表面に塗布するの
に、基体を比較的低い速度で回転させながらその表面に
フォトレジスト溶液を計量分配し、次に基体を比較的高
い速度で回転させてフォトレジスト溶液を部分的に乾燥
させ、ほぼ均一な厚さの層を形成し、最後にフォトレジ
ストで被覆した基体を所定の要領で焼いてフォトレジス
ト層を完全に乾燥させる。フォトレジスト溶液は約1.3
センチポアズの粘度を有するＳｈｉｐｌｅｙ ＡＺ１３
５０フォトレジストであると好ましく、焼成段階では、
マスタを約８０°Ｃで約２０分間焼くのが好ましい。
【０００９】本発明の別の特徴では、感光性記録層の塗
布に先立って薄い金属層をガラス基体に形成する。また
別の特徴はフォトレジスト記録層に周波数変調信号を記
録するのに用いる輝度変調書込光線の最適なピーク輝度
を選定する方法にある。この場合、所定のテスト信号
を、まず、一続きの狭い組の記録トラックの形態でディ
スクに記録する。各組のトラックは異なったピーク輝度
の書込光線を用いて記録する。光線の強さが所定の限界
を越えたときはいつでもフォトレジスト層が露光される
ので、より高いピーク輝度がより長い長さの露光区域を
生じさせることになる。こうして、各組の記録トラック
が異なった衝撃係数を持つ。
布に先立って薄い金属層をガラス基体に形成する。また
別の特徴はフォトレジスト記録層に周波数変調信号を記
録するのに用いる輝度変調書込光線の最適なピーク輝度
を選定する方法にある。この場合、所定のテスト信号
を、まず、一続きの狭い組の記録トラックの形態でディ
スクに記録する。各組のトラックは異なったピーク輝度
の書込光線を用いて記録する。光線の強さが所定の限界
を越えたときはいつでもフォトレジスト層が露光される
ので、より高いピーク輝度がより長い長さの露光区域を
生じさせることになる。こうして、各組の記録トラック
が異なった衝撃係数を持つ。
【００１０】好ましい方法では、約５パーセントの段階
で異なるピーク輝度を持った３組または４組のトラック
を記録する。各トラックを形成している露光区域を一続
きの間隔を置いたピットに変換する現像の後、ディスク
を検査して、最適な値に最も近い衝撃係数のピットを有
する特定組のトラックを決定する。この決定に従って光
線のピーク輝度を調節し、その後、フォトレジスト層の
残っている未露光部分に最適な衝撃係数を持った周波数
変調信号を記録することができる。
で異なるピーク輝度を持った３組または４組のトラック
を記録する。各トラックを形成している露光区域を一続
きの間隔を置いたピットに変換する現像の後、ディスク
を検査して、最適な値に最も近い衝撃係数のピットを有
する特定組のトラックを決定する。この決定に従って光
線のピーク輝度を調節し、その後、フォトレジスト層の
残っている未露光部分に最適な衝撃係数を持った周波数
変調信号を記録することができる。
【００１１】テスト信号は、好ましくは、一定の周波数
を有し、各組の記録トラックは、好ましくは、フォトレ
ジスト層の周縁付近にある。また、好ましくは、各組が
数百のトラックを包含し、狭い未露光バンドをはさんで
隣接の組から隔たっている。好ましくは、現像したフォ
トレジスト層を検査するには、各組のトラックを読取光
線で走査して間隔を置いたピットの記録パターンに従っ
て輝度の変調した反射光線を生じさせ、この変調した輝
度を検出し、スペクトル分析器を用いて監視する。
を有し、各組の記録トラックは、好ましくは、フォトレ
ジスト層の周縁付近にある。また、好ましくは、各組が
数百のトラックを包含し、狭い未露光バンドをはさんで
隣接の組から隔たっている。好ましくは、現像したフォ
トレジスト層を検査するには、各組のトラックを読取光
線で走査して間隔を置いたピットの記録パターンに従っ
て輝度の変調した反射光線を生じさせ、この変調した輝
度を検出し、スペクトル分析器を用いて監視する。
【００１２】本発明のまた別の特徴では、露光したフォ
トレジスト層を現像するために、基体を比較的低い速度
（たとえば、７５乃至１００rpm ）で回転させながらま
ず層に水を与えて予湿潤させ、次に水と所定規定度の現
像剤溶液とを与えて層を部分的に現像し、最後に現像剤
溶液のみを与えて完全な現像を行う。現像したフォトレ
ジスト層を次に水で洗って残余の現像剤溶液を除き、最
後に比較的高い速度（好ましくは、７５０乃至１０００
rpm ）で回転させて現像層を乾燥させる。フォトレジス
ト層は、好ましくは、Ｓｈｉｐｌｅｙ ＡＺ１３５０フ
ォトレジストから得、現像剤溶液は、好ましくは、約
０．２３０乃至０．２４０の規定度を持った水酸化カリ
ウムまたは水酸化ナトリウムのいずれかである。本発明
のさらにまた別の特徴では、水と現像剤溶液の両方を与
える段階は約５乃至１０秒であり、現像剤のみを与える
段階は約２０秒であり、洗浄段階は約３０乃至６０秒で
ある。
トレジスト層を現像するために、基体を比較的低い速度
（たとえば、７５乃至１００rpm ）で回転させながらま
ず層に水を与えて予湿潤させ、次に水と所定規定度の現
像剤溶液とを与えて層を部分的に現像し、最後に現像剤
溶液のみを与えて完全な現像を行う。現像したフォトレ
ジスト層を次に水で洗って残余の現像剤溶液を除き、最
後に比較的高い速度（好ましくは、７５０乃至１０００
rpm ）で回転させて現像層を乾燥させる。フォトレジス
ト層は、好ましくは、Ｓｈｉｐｌｅｙ ＡＺ１３５０フ
ォトレジストから得、現像剤溶液は、好ましくは、約
０．２３０乃至０．２４０の規定度を持った水酸化カリ
ウムまたは水酸化ナトリウムのいずれかである。本発明
のさらにまた別の特徴では、水と現像剤溶液の両方を与
える段階は約５乃至１０秒であり、現像剤のみを与える
段階は約２０秒であり、洗浄段階は約３０乃至６０秒で
ある。
【００１３】本発明のまた別の特徴はビデオ・ディスク
・レプリカを成形するのに用いるためのスタンパを現像
した記録マスタから製造する技術にある。この特徴で
は、現像済の記録層に第１の薄くて均一な金属膜を蒸着
させ、その後、第１の金属膜に第２の薄くて均一な金属
膜を電気めっきし、これらの膜で一体の金属層を形成す
る。次に、この一体金属層をマスタから分離し、適当な
溶剤を用いて残留フォトレジスト材を金属層の下面から
除き、スタンパとする。第１金属膜の厚さは約５００乃
至６００Ａ°、第２金属膜の厚さは約１５ミルであると
好ましい。両金属膜ともニッケルで形成すると好まし
い。
・レプリカを成形するのに用いるためのスタンパを現像
した記録マスタから製造する技術にある。この特徴で
は、現像済の記録層に第１の薄くて均一な金属膜を蒸着
させ、その後、第１の金属膜に第２の薄くて均一な金属
膜を電気めっきし、これらの膜で一体の金属層を形成す
る。次に、この一体金属層をマスタから分離し、適当な
溶剤を用いて残留フォトレジスト材を金属層の下面から
除き、スタンパとする。第１金属膜の厚さは約５００乃
至６００Ａ°、第２金属膜の厚さは約１５ミルであると
好ましい。両金属膜ともニッケルで形成すると好まし
い。
【００１４】
【実施例】本発明の多くの他の特徴および利点は添付図
面に関連した以下の詳細な説明から明らかになろう。図
面、特に図１を参照して、記録マスタ１１に周波数変調
した情報を記録する装置が示してある。マスタは滑らか
で平らな上面を有するガラス基体１３を包含し、この上
面には所定の均一な厚さのフォトレジスト層１５が付着
させてある。所定の記録限界を越えた輝度を有する光線
を当てることによってフォトレジスト層を露光させる。
面に関連した以下の詳細な説明から明らかになろう。図
面、特に図１を参照して、記録マスタ１１に周波数変調
した情報を記録する装置が示してある。マスタは滑らか
で平らな上面を有するガラス基体１３を包含し、この上
面には所定の均一な厚さのフォトレジスト層１５が付着
させてある。所定の記録限界を越えた輝度を有する光線
を当てることによってフォトレジスト層を露光させる。
【００１５】この記録装置は、所定の輝度を有する書込
光線１９を発生するアルゴンイオンレーザのような書込
レーザ１７と、ライン２３に受けた周波数変調情報信号
に従って書込光線の輝度を変調する輝度変調器２１とを
包含する。さらに、記録装置は、所定角速度で記録マス
タ１１を回転させるスピンドル・モータ２５と、記録マ
スタのフォトレジスト層１５に輝度変調した光線を焦点
合わせする対物レンズ２７とを包含する。対物レンズは
マスタに対して半径方向に動くことのできるキャリッジ
（図示せず）に装着してあり、焦点合わせされた光線が
フォトレジスト層上でらせんパターンを画くことにな
る。
光線１９を発生するアルゴンイオンレーザのような書込
レーザ１７と、ライン２３に受けた周波数変調情報信号
に従って書込光線の輝度を変調する輝度変調器２１とを
包含する。さらに、記録装置は、所定角速度で記録マス
タ１１を回転させるスピンドル・モータ２５と、記録マ
スタのフォトレジスト層１５に輝度変調した光線を焦点
合わせする対物レンズ２７とを包含する。対物レンズは
マスタに対して半径方向に動くことのできるキャリッジ
（図示せず）に装着してあり、焦点合わせされた光線が
フォトレジスト層上でらせんパターンを画くことにな
る。
【００１６】図２，図３，図４に示すように、輝度変調
した光線１９の輝度はフォトレジスト層１５の所定の記
録限界よりも交互に大きくなったり小さくなったりし、
それによって、複数のほぼ円形で同心の記録トラック３
１の形態に配置された一連の間隔を置いた露光区域２９
が層に形成される。各露光区域および隣りとの間隔は周
波数変調した信号の１サイクルに相当する。図５は露光
区域を除いた現像後の記録マスタ１１を示しており、マ
スタはスタンパを製造するのに用いるに適した状態にあ
る。
した光線１９の輝度はフォトレジスト層１５の所定の記
録限界よりも交互に大きくなったり小さくなったりし、
それによって、複数のほぼ円形で同心の記録トラック３
１の形態に配置された一連の間隔を置いた露光区域２９
が層に形成される。各露光区域および隣りとの間隔は周
波数変調した信号の１サイクルに相当する。図５は露光
区域を除いた現像後の記録マスタ１１を示しており、マ
スタはスタンパを製造するのに用いるに適した状態にあ
る。
【００１７】記録マスタ１１は、まず、特殊な工程を経
て図１の記録装置と共に用いられるように下ごしらえさ
れる。この工程では、ガラス基体１３の上面をまず研磨
してから清掃する。次に、この表面にフォトレジスト溶
液を与え、その後、所定の要領で乾燥させ、焼成するこ
とによってフォトレジスト層１５を形成する。焼成後、
記録マスタは記録に適した状態になる。本発明の別の特
徴では、フォトレジスト層を形成するに先立って基体上
に薄い金属層を形成する。
て図１の記録装置と共に用いられるように下ごしらえさ
れる。この工程では、ガラス基体１３の上面をまず研磨
してから清掃する。次に、この表面にフォトレジスト溶
液を与え、その後、所定の要領で乾燥させ、焼成するこ
とによってフォトレジスト層１５を形成する。焼成後、
記録マスタは記録に適した状態になる。本発明の別の特
徴では、フォトレジスト層を形成するに先立って基体上
に薄い金属層を形成する。
【００１８】いっそう詳しく言えば、ガラス基体１３の
平らな表面は、まず、約９ミクロン粒度の酸化アルミニ
ウム・コンパウンドを用いて普通の要領で研削する。次
に、超微分子粒度の酸化ジルコニウムまたは酸化セリウ
ム艶出剤を用いて磨く。酸化セリウムがより迅速に表面
を磨くことができるとわかっているが、一般に清掃がむ
ずかしい。
平らな表面は、まず、約９ミクロン粒度の酸化アルミニ
ウム・コンパウンドを用いて普通の要領で研削する。次
に、超微分子粒度の酸化ジルコニウムまたは酸化セリウ
ム艶出剤を用いて磨く。酸化セリウムがより迅速に表面
を磨くことができるとわかっているが、一般に清掃がむ
ずかしい。
【００１９】ガラス基体１３の研磨表面は特殊な３段階
の工程で清掃する。まず、表面を高純度の脱イオン水で
洗浄して細かいブラシでこすり、艶出剤の大部分を除
く。脱イオン水は、好ましくは、１８メガオーム・セン
チメートルの抵抗を持っている。ガラス基体１３の清掃
面を高輝度の光の下で裸眼で点検する。この光の下で、
スクラッチのような欠陥や顕微鏡的なピットが点状の散
乱光源として現れる。欠陥があった場合、その寸法を測
定するために顕微鏡を用いる。２５ミクロンより大きい
欠陥が検出されたが、あるいは１０ミクロンより小さい
欠陥の数が１平方ミリメートルあたり１つ以上ある場合
には、この基体を不合格とし、磨きと清掃を繰り返す。
次に、表面をアセトンでぬぐい、取扱い中に入り込んだ
ダストや油の痕跡を除く。
の工程で清掃する。まず、表面を高純度の脱イオン水で
洗浄して細かいブラシでこすり、艶出剤の大部分を除
く。脱イオン水は、好ましくは、１８メガオーム・セン
チメートルの抵抗を持っている。ガラス基体１３の清掃
面を高輝度の光の下で裸眼で点検する。この光の下で、
スクラッチのような欠陥や顕微鏡的なピットが点状の散
乱光源として現れる。欠陥があった場合、その寸法を測
定するために顕微鏡を用いる。２５ミクロンより大きい
欠陥が検出されたが、あるいは１０ミクロンより小さい
欠陥の数が１平方ミリメートルあたり１つ以上ある場合
には、この基体を不合格とし、磨きと清掃を繰り返す。
次に、表面をアセトンでぬぐい、取扱い中に入り込んだ
ダストや油の痕跡を除く。
【００２０】第２に、表面を洗剤溶液で洗浄し、第３
に、約１０乃至２０分間、脱イオン水で再び洗浄する。
清掃後、基体１３を図６に示すようにターンテーブルに
置き、約７５０−１０００rpm の回転速度で回転させて
表面を乾燥させる。図６は清掃済の基体１３にフォトレ
ジスト層１５を形成する際に用いる装置を示している。
この装置は所定の要領で基体を回転させる可変速度モー
タ３３と、所定の順序で脱イオン水，塩化第一錫溶液お
よびフォトレジスト溶液を分配する３本の分配チューブ
３７，３９，４１を装着したピボットアーム３５とを包
含する。
に、約１０乃至２０分間、脱イオン水で再び洗浄する。
清掃後、基体１３を図６に示すようにターンテーブルに
置き、約７５０−１０００rpm の回転速度で回転させて
表面を乾燥させる。図６は清掃済の基体１３にフォトレ
ジスト層１５を形成する際に用いる装置を示している。
この装置は所定の要領で基体を回転させる可変速度モー
タ３３と、所定の順序で脱イオン水，塩化第一錫溶液お
よびフォトレジスト溶液を分配する３本の分配チューブ
３７，３９，４１を装着したピボットアーム３５とを包
含する。
【００２１】基体１３は、まず、約７５乃至１００rpm
に相当する角速度で回転させ、その間分配チューブ３９
を通して清掃済の上面に塩化第一錫を分配する。ピボッ
トアーム３５は手で回転させて表面全体にわたって塩化
第一錫を散布する。塩化第一錫の分子が基体の清掃面に
付着し、引き続いてのフォトレジスト溶液の付着を助け
ると考えられる。
に相当する角速度で回転させ、その間分配チューブ３９
を通して清掃済の上面に塩化第一錫を分配する。ピボッ
トアーム３５は手で回転させて表面全体にわたって塩化
第一錫を散布する。塩化第一錫の分子が基体の清掃面に
付着し、引き続いてのフォトレジスト溶液の付着を助け
ると考えられる。
【００２２】次に、分配チューブ３７を通して表面に水
を与えて残余の塩化第一錫溶液を洗い落し、モータ３３
の回転速度を約７５０−１０００rpm まで高めて洗浄済
の面を乾燥させる。今や、表面はフォトレジスト溶液を
与えた適正状態にある。フォトレジスト溶液は、Ｓｈｉ
ｐｌｅｙ ＡＺ１３５０フォトレジストを、セロソルブ
アセテートを含むと考えられるＳｈｉｐｌｅｙ ＡＺ
シンナーで、約３対１の比率によって希釈することによ
って調製する。この溶液は約1.3 センチポアズの粘度を
有し、約半ミクロンより大きい粒子を除くように濾過す
る。標準技術によって、たとえば、Ｃａｎｏｎ−Ｆｉｎ
ｓｋｅ粘度計によって粘度を測定することはできる。
を与えて残余の塩化第一錫溶液を洗い落し、モータ３３
の回転速度を約７５０−１０００rpm まで高めて洗浄済
の面を乾燥させる。今や、表面はフォトレジスト溶液を
与えた適正状態にある。フォトレジスト溶液は、Ｓｈｉ
ｐｌｅｙ ＡＺ１３５０フォトレジストを、セロソルブ
アセテートを含むと考えられるＳｈｉｐｌｅｙ ＡＺ
シンナーで、約３対１の比率によって希釈することによ
って調製する。この溶液は約1.3 センチポアズの粘度を
有し、約半ミクロンより大きい粒子を除くように濾過す
る。標準技術によって、たとえば、Ｃａｎｏｎ−Ｆｉｎ
ｓｋｅ粘度計によって粘度を測定することはできる。
【００２３】次に、この希釈したフォトレジスト溶液
を、約７５−１００rpm で回転している基体１３の下ご
しらえ済の上面にチューブ４１を通して与える。このと
きもピボットアーム３５を手で回転させて基体の全半径
を横切って溶液を分配する。約７５rpm より下の速度で
は、比較的長い時間をかけるならばほぼ均一な厚さの膜
を得ることができるが、これは層汚染の傾向を高める。
一方、１００rpm より上の速度では、半径方向のすじや
流れ模様が生じ、後の情報記録の質の悪影響を与える可
能性がある。約３５．５６cmの直径を持った基体を完全
に覆うには約３５mlのフォトレジスト溶液を必要とす
る。
を、約７５−１００rpm で回転している基体１３の下ご
しらえ済の上面にチューブ４１を通して与える。このと
きもピボットアーム３５を手で回転させて基体の全半径
を横切って溶液を分配する。約７５rpm より下の速度で
は、比較的長い時間をかけるならばほぼ均一な厚さの膜
を得ることができるが、これは層汚染の傾向を高める。
一方、１００rpm より上の速度では、半径方向のすじや
流れ模様が生じ、後の情報記録の質の悪影響を与える可
能性がある。約３５．５６cmの直径を持った基体を完全
に覆うには約３５mlのフォトレジスト溶液を必要とす
る。
【００２４】基体１３の表面をフォトレジスト溶液で覆
った後、モータ３３の回転速度を乾燥するまで約７５０
−１０００rpm まで高める。これによって、所定の均一
な厚さのフォトレジスト層１５を得ることができる。フ
ォトレジスト層１５の厚さが毎分回転数（rpm)と温度と
に逆比例することがわかったならば、基体を回転させて
フォトレジスト溶液を部分的に乾燥させる特定の回転速
度を調節して所定の厚さを得ることができる。たとえ
ば、Ｔｏｌａｎｓｋｙ干渉計を用いて適当な回転速度を
普通の要領で測定することができる。この技術は層の相
対厚さを表示することができ、回転速度を連続的に調節
する反復過程を経て、最適の回転速度を決定することが
できる。フォトレジスト溶液の粘度および温度をほぼ均
一に保てるならば、この回転速度調節はほんのたまに行
えばよい。現在のところ、層の厚さが約１１５０乃至１
３５０Ａ°であることが好ましく、これで作ったディス
ク・レプリカはそれに相当した高さの情報担持バンプま
たはピットを持つことになる。
った後、モータ３３の回転速度を乾燥するまで約７５０
−１０００rpm まで高める。これによって、所定の均一
な厚さのフォトレジスト層１５を得ることができる。フ
ォトレジスト層１５の厚さが毎分回転数（rpm)と温度と
に逆比例することがわかったならば、基体を回転させて
フォトレジスト溶液を部分的に乾燥させる特定の回転速
度を調節して所定の厚さを得ることができる。たとえ
ば、Ｔｏｌａｎｓｋｙ干渉計を用いて適当な回転速度を
普通の要領で測定することができる。この技術は層の相
対厚さを表示することができ、回転速度を連続的に調節
する反復過程を経て、最適の回転速度を決定することが
できる。フォトレジスト溶液の粘度および温度をほぼ均
一に保てるならば、この回転速度調節はほんのたまに行
えばよい。現在のところ、層の厚さが約１１５０乃至１
３５０Ａ°であることが好ましく、これで作ったディス
ク・レプリカはそれに相当した高さの情報担持バンプま
たはピットを持つことになる。
【００２５】乾燥したフォトレジスト層１５がなんらか
の欠陥（たとえば、半径方向すじ、外部粒子）を持って
いることがわかったならば、Ｓｈｉｐｌｅｙ ＡＺ シ
ンナーのような適当な溶剤を用いて層を除去することが
できる。それから、上述した要領で新しい層を塗布する
ことができる。図６のターンテーブルから除去した後、
記録マスタ１１を焼いてフォトレジスト層１５を完全に
乾燥させ、露光許容差を最大にする。マスタは、好まし
くは、約８０°Ｃで約２０分間焼く。これらのパラメー
タは、多数の記録マスタに情報を連続的に記録する場合
に露光許容差の変動を最小限に抑えるために狭い許容差
に保たねばならない。
の欠陥（たとえば、半径方向すじ、外部粒子）を持って
いることがわかったならば、Ｓｈｉｐｌｅｙ ＡＺ シ
ンナーのような適当な溶剤を用いて層を除去することが
できる。それから、上述した要領で新しい層を塗布する
ことができる。図６のターンテーブルから除去した後、
記録マスタ１１を焼いてフォトレジスト層１５を完全に
乾燥させ、露光許容差を最大にする。マスタは、好まし
くは、約８０°Ｃで約２０分間焼く。これらのパラメー
タは、多数の記録マスタに情報を連続的に記録する場合
に露光許容差の変動を最小限に抑えるために狭い許容差
に保たねばならない。
【００２６】各記録マスタの露光感度は他のものと少し
ずつ異なりがちなので、各マスタに対する輝度変調光線
１９（図１）のピーク輝度を最適なものとすることが望
ましく、そうすれば、最適な５０／５０衝撃係数で周波
数変調情報信号を記録することができる。本発明の別の
特徴によれば、複数の組の隣合った記録トラックの形態
で所定のテスト信号を各マスタ１１に記録し、各組は異
なったピーク輝度で記録してある。以下に詳しく説明す
る現像技術を用いてテスト信号を現像した後、記録マス
タを点検して所望の５０／５０値に最も近い衝撃係数を
持つ特定組のトラックを決定する。こうして最適のピー
ク輝度を決定した後、周波数変調情報信号を記録マスタ
の残った未露光部分に最適衝撃係数で記録することがで
きる。
ずつ異なりがちなので、各マスタに対する輝度変調光線
１９（図１）のピーク輝度を最適なものとすることが望
ましく、そうすれば、最適な５０／５０衝撃係数で周波
数変調情報信号を記録することができる。本発明の別の
特徴によれば、複数の組の隣合った記録トラックの形態
で所定のテスト信号を各マスタ１１に記録し、各組は異
なったピーク輝度で記録してある。以下に詳しく説明す
る現像技術を用いてテスト信号を現像した後、記録マス
タを点検して所望の５０／５０値に最も近い衝撃係数を
持つ特定組のトラックを決定する。こうして最適のピー
ク輝度を決定した後、周波数変調情報信号を記録マスタ
の残った未露光部分に最適衝撃係数で記録することがで
きる。
【００２７】テスト信号は約７−８ＭＨｚの一定周波数
を持っていると好ましく、この信号が３組または４組の
トラックに記録され、各組が約５パーセントだけ変動す
るピーク輝度で記録されるのが好ましい。各組は数百の
記録トラックに相当する約１０秒間記録される。また、
これらの組がフォトレジスト層１５の未露光部分の狭い
バンドをはさんで互いに隔たっており、層の内周付近の
狭い区域に位置していると好ましい。
を持っていると好ましく、この信号が３組または４組の
トラックに記録され、各組が約５パーセントだけ変動す
るピーク輝度で記録されるのが好ましい。各組は数百の
記録トラックに相当する約１０秒間記録される。また、
これらの組がフォトレジスト層１５の未露光部分の狭い
バンドをはさんで互いに隔たっており、層の内周付近の
狭い区域に位置していると好ましい。
【００２８】これらの組の現像した記録トラックは、読
取光線（図示せず）を用いて各組を走査し、記録したテ
スト信号に従って変調した輝度を持った反射光線を生じ
させて検査することができる。この反射光線は輝度変調
される。なぜならば、フォトレジスト層１５の未露光部
分の反射率が約４パーセントであり、別の部分の反射率
がほぼゼロであるからである。変調した光線は普通のス
ペクトル分析器で適当に検出し、監視して第２調波ひず
みの存在を知る。このひずみは、テスト信号が最適な５
０／５０衝撃係数で記録されたときに最小となる。
取光線（図示せず）を用いて各組を走査し、記録したテ
スト信号に従って変調した輝度を持った反射光線を生じ
させて検査することができる。この反射光線は輝度変調
される。なぜならば、フォトレジスト層１５の未露光部
分の反射率が約４パーセントであり、別の部分の反射率
がほぼゼロであるからである。変調した光線は普通のス
ペクトル分析器で適当に検出し、監視して第２調波ひず
みの存在を知る。このひずみは、テスト信号が最適な５
０／５０衝撃係数で記録されたときに最小となる。
【００２９】読取光線が各組のトラックの個々の記録ト
ラックをたどる必要はない。同じテスト信号が隣接のト
ラックに記録されているからである。しかしながら、記
録マスタ１１の偏心率が読取光線をして一度に複数組の
トラックを走査させることがないことが確実であること
に注目されたい。読取光線は好ましくはヘリウム・ネオ
ンレーザで生じさせる。その波長がフォトレジスト層１
５を露光することがないからである。
ラックをたどる必要はない。同じテスト信号が隣接のト
ラックに記録されているからである。しかしながら、記
録マスタ１１の偏心率が読取光線をして一度に複数組の
トラックを走査させることがないことが確実であること
に注目されたい。読取光線は好ましくはヘリウム・ネオ
ンレーザで生じさせる。その波長がフォトレジスト層１
５を露光することがないからである。
【００３０】図１の記録装置を用い、最適値に調節した
書込光線１９のピーク輝度でもって、フォトレジスト層
１５の残った未露光部分に周波数変調した情報信号を記
録する。次に、この記録済のマスタ１１を現像して各記
録トラックを均一な深さ，幅で連続的に変化する長さを
持った一連の間隔を置いたピットに変換する。本発明の
またさらに別の特徴では、露光した記録マスタ１１を特
殊な工程で現像する。この工程では、マスタを図６に示
す形式のターンテーブルによって約７５−１００rpm の
速度で回転させながら一連の流体を分配する。この工程
では、まず水が分配されて層を予湿潤させ、次に、水と
所定の規定度の現像剤溶液とを分配して層を部分的に現
像し、最後に現像剤溶液のみを分配して完全な現像を行
う。現像したフォトレジスト層を次に水で洗って残留現
像剤溶液を除去し、その後、マスタの回転速度を約７５
０−１０００rpm まで高めて現像層を乾燥させる。
書込光線１９のピーク輝度でもって、フォトレジスト層
１５の残った未露光部分に周波数変調した情報信号を記
録する。次に、この記録済のマスタ１１を現像して各記
録トラックを均一な深さ，幅で連続的に変化する長さを
持った一連の間隔を置いたピットに変換する。本発明の
またさらに別の特徴では、露光した記録マスタ１１を特
殊な工程で現像する。この工程では、マスタを図６に示
す形式のターンテーブルによって約７５−１００rpm の
速度で回転させながら一連の流体を分配する。この工程
では、まず水が分配されて層を予湿潤させ、次に、水と
所定の規定度の現像剤溶液とを分配して層を部分的に現
像し、最後に現像剤溶液のみを分配して完全な現像を行
う。現像したフォトレジスト層を次に水で洗って残留現
像剤溶液を除去し、その後、マスタの回転速度を約７５
０−１０００rpm まで高めて現像層を乾燥させる。
【００３１】好ましい現像剤溶液は水酸化カリウム，水
酸化ナトリウムを含むグループから選定したものであ
り、規定度が約０．２３０乃至０．２４０である。好ま
しくは、水と現像剤溶液とを分配する段階は約５乃至１
０秒であり、現像剤溶液のみを分配する段階は約２０秒
であり、洗浄段階は約３０乃至６０秒である。ビデオ・
ディスク・レプリカを成形するのに用いるに適したスタ
ンパは現像した記録マスタ１１から作る。本発明の別の
特徴では、スタンパを作るのに、まず、フォトレジスト
記録層１５に約５００−６００Ａ°厚さの均一な金属膜
を蒸着し、次に、この第１の金属膜に約１５ミル厚さの
第２の均一な金属膜を電気めっきする。第１の膜の下面
はフォトレジスト層に形成されている間隔を置いたピッ
トのパターンに正確に一致し、２つの膜は一体の金属層
となる。この一体の金属層を記録マスタから分離し、適
当なフォトレジストシンナーを用いて残留フォトレジス
ト材を除去し、スタンパを形成する。好ましい実施例で
は、金属膜は共にニッケルで作る。
酸化ナトリウムを含むグループから選定したものであ
り、規定度が約０．２３０乃至０．２４０である。好ま
しくは、水と現像剤溶液とを分配する段階は約５乃至１
０秒であり、現像剤溶液のみを分配する段階は約２０秒
であり、洗浄段階は約３０乃至６０秒である。ビデオ・
ディスク・レプリカを成形するのに用いるに適したスタ
ンパは現像した記録マスタ１１から作る。本発明の別の
特徴では、スタンパを作るのに、まず、フォトレジスト
記録層１５に約５００−６００Ａ°厚さの均一な金属膜
を蒸着し、次に、この第１の金属膜に約１５ミル厚さの
第２の均一な金属膜を電気めっきする。第１の膜の下面
はフォトレジスト層に形成されている間隔を置いたピッ
トのパターンに正確に一致し、２つの膜は一体の金属層
となる。この一体の金属層を記録マスタから分離し、適
当なフォトレジストシンナーを用いて残留フォトレジス
ト材を除去し、スタンパを形成する。好ましい実施例で
は、金属膜は共にニッケルで作る。
【００３２】本発明を今のところ好ましい実施例によっ
て説明してきたが、発明の精神、範囲から逸脱すること
なく種々の変更を行いうることは当業者であればわかる
であろう。したがって、本発明を特許請求の範囲による
以外に限定する意図はない。
て説明してきたが、発明の精神、範囲から逸脱すること
なく種々の変更を行いうることは当業者であればわかる
であろう。したがって、本発明を特許請求の範囲による
以外に限定する意図はない。
【００３３】
【発明の効果】前記の説明から明らかなように、本発明
は記録マスタを効果的に製造するのに用いる新規な技術
を多数提供する。マスタは、周波数変調情報信号を高い
信号対ノイズ比および密度でもって記録することのでき
るフォトレジスト記録層を包含する。本発明の別の特徴
では、マスタのレプリカを成形するのに用いる金属スタ
ンパはこれらの記録マスタから作る。
は記録マスタを効果的に製造するのに用いる新規な技術
を多数提供する。マスタは、周波数変調情報信号を高い
信号対ノイズ比および密度でもって記録することのでき
るフォトレジスト記録層を包含する。本発明の別の特徴
では、マスタのレプリカを成形するのに用いる金属スタ
ンパはこれらの記録マスタから作る。
【図１】図１は本発明の方法に従って作った記録マスタ
上に周波数変調した情報信号を記録する装置の概略図、
上に周波数変調した情報信号を記録する装置の概略図、
【図２】図２は図１の記録マスタの一部の拡大平面図
で、複数のほぼ円形で同心の記録トラックの形態で配置
した一連の間隔を置いた露光区域を示す図、
で、複数のほぼ円形で同心の記録トラックの形態で配置
した一連の間隔を置いた露光区域を示す図、
【図３】図３は図１の記録装置における書込光線の変調
輝度を示すグラフ、
輝度を示すグラフ、
【図４】図４は記録トラックに沿った、記録マスタの一
部の断面図で、図３の書込光線の輝度が所定の限界を越
えたときにいつでも露光されるフォトレジスト記録層を
示す図、
部の断面図で、図３の書込光線の輝度が所定の限界を越
えたときにいつでも露光されるフォトレジスト記録層を
示す図、
【図５】図５は露光区域を除去した現像後の、図４の記
録マスタの断面図、
録マスタの断面図、
【図６】図６は図１の記録マスタにフォトレジスト記録
層を形成するのに用いるターンテーブルの斜視図であ
る。
層を形成するのに用いるターンテーブルの斜視図であ
る。
１１ 記録マスタ １３ ガラス基体 １５ フォトレジスト層 １７ 書込レーザ ２５ モータ ２７ 対物レンズ ２９ 露光区域 ３１ 記録トラック ３３ モータ ３５ ピボットアーム ３７，３９，４１ 分配チューブ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成３年２月２５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 フォトレジスト層を現像する方法
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光・ディスク・マスタ
にある露光フォトレジスト層を現像する方法に関する。
にある露光フォトレジスト層を現像する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学読取式ディスクは、通常、周波数変
調した搬送信号の形態で記録密度も高く膨大な量の情報
を記憶させるのに有用である。周波数変調信号は、一続
きのほぼ同心円状あるいは渦巻状の記録トラックの形態
で配置した一連の間隔を置いたピットまたはバンプとし
て記録したものが代表的である。
調した搬送信号の形態で記録密度も高く膨大な量の情報
を記憶させるのに有用である。周波数変調信号は、一続
きのほぼ同心円状あるいは渦巻状の記録トラックの形態
で配置した一連の間隔を置いたピットまたはバンプとし
て記録したものが代表的である。
【０００３】代表的には、光ディスクは、記録マスタか
ら得られたディスク状のスタンパを用いて射出成形装置
で成形する。記録マスタの代表的なものは、平らな表面
を有するディスク状のガラス基体を含み、このガラス基
体の表面に薄い記録層、例えば金属膜が重ねてある。通
常は、記録マスタを所定の速度で回転させながら半径方
向移動式の対物レンズを用いて記録層に輝度変調した書
込光線を焦点合わせすることによって、情報が記録層に
記録される。この書込光線の輝度は、周波数変調信号に
よって変調されて金属膜の溶ける所定の限界よりも交互
に大きくなったり小さくなったりし、それによって一連
の間隔を置いたピットが金属膜に形成される。これらの
ピットおよび間隔は、好ましくは、公称衝撃係数(nomin
al dutycycle)が５０／５０であり、それによって、信
号を最低の第二調波ひずみ（Second harmonic distorti
on）で記録することができる。
ら得られたディスク状のスタンパを用いて射出成形装置
で成形する。記録マスタの代表的なものは、平らな表面
を有するディスク状のガラス基体を含み、このガラス基
体の表面に薄い記録層、例えば金属膜が重ねてある。通
常は、記録マスタを所定の速度で回転させながら半径方
向移動式の対物レンズを用いて記録層に輝度変調した書
込光線を焦点合わせすることによって、情報が記録層に
記録される。この書込光線の輝度は、周波数変調信号に
よって変調されて金属膜の溶ける所定の限界よりも交互
に大きくなったり小さくなったりし、それによって一連
の間隔を置いたピットが金属膜に形成される。これらの
ピットおよび間隔は、好ましくは、公称衝撃係数(nomin
al dutycycle)が５０／５０であり、それによって、信
号を最低の第二調波ひずみ（Second harmonic distorti
on）で記録することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】また、記録層としてフ
ォトレジスト記録層を有する形式の記録マスタがある。
この記録マスタは、滑らかで平らな表面を持ったガラス
基体を含み、該ガラス基体のこの表面に薄くて均一なフ
ォトレジストの記録層が付着させてある。周波数変調し
た情報信号は、輝度変調した書込光線を用いてフォトレ
ジスト記録層に記録され、一続きのほぼ同心円状あるい
は渦巻状の記録トラックの形態で配置した一連の間隔を
置いた露光区域を生じさせる。
ォトレジスト記録層を有する形式の記録マスタがある。
この記録マスタは、滑らかで平らな表面を持ったガラス
基体を含み、該ガラス基体のこの表面に薄くて均一なフ
ォトレジストの記録層が付着させてある。周波数変調し
た情報信号は、輝度変調した書込光線を用いてフォトレ
ジスト記録層に記録され、一続きのほぼ同心円状あるい
は渦巻状の記録トラックの形態で配置した一連の間隔を
置いた露光区域を生じさせる。
【０００５】このようにして露光された記録マスタは、
次に現像される。この現像工程では、記録マスタのフォ
トレジスト層に現像剤溶液が付与され、該現像剤溶液に
より、フォトレジスト層の露光区域が除去される。ここ
で、現像剤溶液を付与する際に、現像剤溶液を均質に付
与しないと、フォトレジスト層に現像むらが生じてしま
う。この現像むらは、スタンパのピットの形状に影響を
与え、ひいては、最終製品である光ディスクのピットの
形状に影響を与える。そこで、このような問題を解決す
るために、現像剤溶液を均一に付与する必要があるが、
このように現像剤溶液を均一に付与するのは実際上困難
である。
次に現像される。この現像工程では、記録マスタのフォ
トレジスト層に現像剤溶液が付与され、該現像剤溶液に
より、フォトレジスト層の露光区域が除去される。ここ
で、現像剤溶液を付与する際に、現像剤溶液を均質に付
与しないと、フォトレジスト層に現像むらが生じてしま
う。この現像むらは、スタンパのピットの形状に影響を
与え、ひいては、最終製品である光ディスクのピットの
形状に影響を与える。そこで、このような問題を解決す
るために、現像剤溶液を均一に付与する必要があるが、
このように現像剤溶液を均一に付与するのは実際上困難
である。
【０００６】本発明の目的は、光・ディスク・マスタの
露光フォトレジスト層を良好に現像することができる現
像方法を提供することにある。
露光フォトレジスト層を良好に現像することができる現
像方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、光・ディスク
・マスタにある露光フォトレジスト層を現像する方法で
あって、光・ディスク・マスタを第１の所定速度で回転
させ、所定の規定度を有するフォトレジスト現像剤溶液
を選定し、回転している光・ディスク・マスタのフォト
レジスト層に水を分配してそれを予湿潤し、次に水と前
記現像剤溶液の両方をフォトレジスト層に分配し、次に
現像剤溶液のみをフォトレジスト層に分配してこの層を
完全に現像し、この現像したフォトレジスト層を水で洗
って残余の現像剤溶液を除き、光・ディスク・マスタを
第２の所定速度で回転させて現像済のフォトレジスト層
を乾燥させる段階を含むことを特徴とする。
・マスタにある露光フォトレジスト層を現像する方法で
あって、光・ディスク・マスタを第１の所定速度で回転
させ、所定の規定度を有するフォトレジスト現像剤溶液
を選定し、回転している光・ディスク・マスタのフォト
レジスト層に水を分配してそれを予湿潤し、次に水と前
記現像剤溶液の両方をフォトレジスト層に分配し、次に
現像剤溶液のみをフォトレジスト層に分配してこの層を
完全に現像し、この現像したフォトレジスト層を水で洗
って残余の現像剤溶液を除き、光・ディスク・マスタを
第２の所定速度で回転させて現像済のフォトレジスト層
を乾燥させる段階を含むことを特徴とする。
【０００８】
【作用】本発明では、露光したフォトレジスト層を現像
するために、光・ディスク．マスタを比較的低い速度
（たとえば、７５乃至１００rpm ）で回転させながらま
ずフォトレジスト層に水を与えて予湿潤させ、次に水と
所定規定度の現像剤溶液とを与えてフォトレジスト層を
部分的に現像し、最後に現像剤溶液のみを与えて完全な
現像を行う。現像したフォトレジスト層を次に水で洗っ
て残余の現像剤溶液を除き、最後に比較的高い速度（好
ましくは、７５０乃至１０００rpm ）で回転させて現像
フォトレジスト層を乾燥させる。フォトレジスト層は、
好ましくは、Ｓｈｉｐｌｅｙ ＡＺ１３５０フォトレジ
ストから得られ、現像剤溶液は、好ましくは、約０．２
３０乃至０．２４０の規定度を持った水酸化カリウムま
たは水酸化ナトリウムのいずれかである。本発明では、
好ましくは、水と現像剤溶液の両方を与える段階は約５
乃至１０秒であり、現像剤溶液のみを与える段階は約２
０秒であり、洗浄段階は約３０乃至６０秒である。
するために、光・ディスク．マスタを比較的低い速度
（たとえば、７５乃至１００rpm ）で回転させながらま
ずフォトレジスト層に水を与えて予湿潤させ、次に水と
所定規定度の現像剤溶液とを与えてフォトレジスト層を
部分的に現像し、最後に現像剤溶液のみを与えて完全な
現像を行う。現像したフォトレジスト層を次に水で洗っ
て残余の現像剤溶液を除き、最後に比較的高い速度（好
ましくは、７５０乃至１０００rpm ）で回転させて現像
フォトレジスト層を乾燥させる。フォトレジスト層は、
好ましくは、Ｓｈｉｐｌｅｙ ＡＺ１３５０フォトレジ
ストから得られ、現像剤溶液は、好ましくは、約０．２
３０乃至０．２４０の規定度を持った水酸化カリウムま
たは水酸化ナトリウムのいずれかである。本発明では、
好ましくは、水と現像剤溶液の両方を与える段階は約５
乃至１０秒であり、現像剤溶液のみを与える段階は約２
０秒であり、洗浄段階は約３０乃至６０秒である。
【０００９】
【実施例】本発明の上記及び他の特徴および利点は添付
図面に関連した以下の詳細な説明から明らかになろう。
図面、特に図１を参照して、記録マスタ１１に周波数変
調した情報を記録する装置が示してある。マスタ１１は
滑らかで平らな上面を有するガラス基体１３を包含し、
この上面には所定の均一な厚さのフォトレジスト層１５
が付着させてある。所定の記録限界を越えた輝度を有す
る光線を当てることによってフォトレジスト層を露光さ
せる。
図面に関連した以下の詳細な説明から明らかになろう。
図面、特に図１を参照して、記録マスタ１１に周波数変
調した情報を記録する装置が示してある。マスタ１１は
滑らかで平らな上面を有するガラス基体１３を包含し、
この上面には所定の均一な厚さのフォトレジスト層１５
が付着させてある。所定の記録限界を越えた輝度を有す
る光線を当てることによってフォトレジスト層を露光さ
せる。
【００１０】この記録装置は、所定の輝度を有する書込
光線１９を発生するアルゴンイオンレーザのような書込
レーザ源１７と、ライン２３に受けた周波数変調情報信
号（ＦＭ情報信号）に従って書込光線の輝度を変調する
輝度変調器２１とを包含する。さらに、記録装置は、所
定角速度で記録マスタ１１を回転させるスピンドル・モ
ータ２５と、記録マスタ１１のフォトレジスト層１５に
輝度変調した光線を焦点合わせする対物レンズ２７とを
包含する。対物レンズ２７はマスタ１１に対して半径方
向に動くことのできるキャリッジ（図示せず）に装着し
てあり、対物レンズ２７からの焦点合わせされた光線が
フォトレジスト層１５上で螺旋パターンを画くことにな
る。
光線１９を発生するアルゴンイオンレーザのような書込
レーザ源１７と、ライン２３に受けた周波数変調情報信
号（ＦＭ情報信号）に従って書込光線の輝度を変調する
輝度変調器２１とを包含する。さらに、記録装置は、所
定角速度で記録マスタ１１を回転させるスピンドル・モ
ータ２５と、記録マスタ１１のフォトレジスト層１５に
輝度変調した光線を焦点合わせする対物レンズ２７とを
包含する。対物レンズ２７はマスタ１１に対して半径方
向に動くことのできるキャリッジ（図示せず）に装着し
てあり、対物レンズ２７からの焦点合わせされた光線が
フォトレジスト層１５上で螺旋パターンを画くことにな
る。
【００１１】図２，図３，図４に示すように、輝度変調
した光線１９の輝度はフォトレジスト層１５の所定の記
録限界よりも交互に大きくなったり小さくなったりし、
それによって、複数のほぼ円形で同心の記録トラック３
１の形態に配置された一連の間隔を置いた露光区域２９
が層１５に形成される。各露光区域および隣りとの間隔
は周波数変調した信号の１サイクルに相当する。図５は
露光区域を除いた現像後の記録マスタ１１を示してお
り、マスタ１１はスタンパを製造するのに用いるに適し
た状態にある。
した光線１９の輝度はフォトレジスト層１５の所定の記
録限界よりも交互に大きくなったり小さくなったりし、
それによって、複数のほぼ円形で同心の記録トラック３
１の形態に配置された一連の間隔を置いた露光区域２９
が層１５に形成される。各露光区域および隣りとの間隔
は周波数変調した信号の１サイクルに相当する。図５は
露光区域を除いた現像後の記録マスタ１１を示してお
り、マスタ１１はスタンパを製造するのに用いるに適し
た状態にある。
【００１２】記録マスタ１１は、まず、特殊な工程を経
て図１の記録装置と共に用いられるように下ごしらえさ
れる。この工程では、ガラス基体１３の上面をまず研磨
してから清掃する。次に、この表面にフォトレジスト溶
液を与え、その後、所定の要領で乾燥させ、焼成するこ
とによってフォトレジスト層１５を形成する。焼成後、
記録マスタは記録に適した状態になる。なお、フォトレ
ジスト層を形成するに先立って基体１３上に薄い金属層
を形成してもよい。
て図１の記録装置と共に用いられるように下ごしらえさ
れる。この工程では、ガラス基体１３の上面をまず研磨
してから清掃する。次に、この表面にフォトレジスト溶
液を与え、その後、所定の要領で乾燥させ、焼成するこ
とによってフォトレジスト層１５を形成する。焼成後、
記録マスタは記録に適した状態になる。なお、フォトレ
ジスト層を形成するに先立って基体１３上に薄い金属層
を形成してもよい。
【００１３】いっそう詳しく言えば、ガラス基体１３の
平らな表面は、まず、約９ミクロン粒度の酸化アルミニ
ウム・コンパウンドを用いて普通の要領で研削する。次
に、超微分子粒度の酸化ジルコニウムまたは酸化セリウ
ム艶出剤を用いて磨く。酸化セリウムがより迅速に表面
を磨くことができるとわかっている。ガラス基体１３の
研磨表面は特殊な３段階の工程で清掃する。
平らな表面は、まず、約９ミクロン粒度の酸化アルミニ
ウム・コンパウンドを用いて普通の要領で研削する。次
に、超微分子粒度の酸化ジルコニウムまたは酸化セリウ
ム艶出剤を用いて磨く。酸化セリウムがより迅速に表面
を磨くことができるとわかっている。ガラス基体１３の
研磨表面は特殊な３段階の工程で清掃する。
【００１４】まず、表面を高純度の脱イオン水で洗浄し
て細かいブラシでこすり、艶出剤の大部分を除く。脱イ
オン水は、好ましくは、１８メガオーム・センチメート
ルの抵抗を持っている。ガラス基体１３の清掃面を高輝
度の光の下で裸眼で点検する。この光の下で、スクラッ
チのような欠陥や顕微鏡的なピットが点状の散乱光源と
して現れる。欠陥があった場合、その寸法を測定するた
めに顕微鏡を用いる。２５ミクロンより大きい欠陥が検
出されたかあるいは１０ミクロンより小さい欠陥の数が
１平方ミリメートルあたり１つ以上ある場合には、この
基体１３を不合格とし、磨きと清掃を繰り返す。次に、
表面をアセトンでぬぐい、取扱い中に入り込んだダスト
や油の痕跡を除く。
て細かいブラシでこすり、艶出剤の大部分を除く。脱イ
オン水は、好ましくは、１８メガオーム・センチメート
ルの抵抗を持っている。ガラス基体１３の清掃面を高輝
度の光の下で裸眼で点検する。この光の下で、スクラッ
チのような欠陥や顕微鏡的なピットが点状の散乱光源と
して現れる。欠陥があった場合、その寸法を測定するた
めに顕微鏡を用いる。２５ミクロンより大きい欠陥が検
出されたかあるいは１０ミクロンより小さい欠陥の数が
１平方ミリメートルあたり１つ以上ある場合には、この
基体１３を不合格とし、磨きと清掃を繰り返す。次に、
表面をアセトンでぬぐい、取扱い中に入り込んだダスト
や油の痕跡を除く。
【００１５】第２に、表面を洗剤溶液で洗浄し、第３
に、約１０乃至２０分間、脱イオン水で再び洗浄する。
清掃後、基体１３を図６に示すようにターンテーブルに
置き、約７５０−１０００rpm の回転速度で回転させて
表面を乾燥させる。図６は清掃済の基体１３にフォトレ
ジスト層１５を形成する際に用いる装置を示している。
この装置は、所定の要領で基体１３を回転させる可変速
度モータ３３と、所定の順序で脱イオン水，塩化第一錫
溶液およびフォトレジスト溶液を分配する３本の分配チ
ューブ３７，３９，４１を装着したピボットアーム３５
とを、包含する。
に、約１０乃至２０分間、脱イオン水で再び洗浄する。
清掃後、基体１３を図６に示すようにターンテーブルに
置き、約７５０−１０００rpm の回転速度で回転させて
表面を乾燥させる。図６は清掃済の基体１３にフォトレ
ジスト層１５を形成する際に用いる装置を示している。
この装置は、所定の要領で基体１３を回転させる可変速
度モータ３３と、所定の順序で脱イオン水，塩化第一錫
溶液およびフォトレジスト溶液を分配する３本の分配チ
ューブ３７，３９，４１を装着したピボットアーム３５
とを、包含する。
【００１６】基体１３を、まず、約７５乃至１００rpm
に相当する角速度で回転させ、その間分配チューブ３９
を通して清掃済の上面に塩化第一錫を分配する。ピボッ
トアーム３５を、手で回転させて表面全体にわたって塩
化第一錫を散布する。塩化第一錫の分子が基体の清掃面
に付着し、引き続いてのフォトレジスト溶液の付着を助
けると考えられる。
に相当する角速度で回転させ、その間分配チューブ３９
を通して清掃済の上面に塩化第一錫を分配する。ピボッ
トアーム３５を、手で回転させて表面全体にわたって塩
化第一錫を散布する。塩化第一錫の分子が基体の清掃面
に付着し、引き続いてのフォトレジスト溶液の付着を助
けると考えられる。
【００１７】次に、分配チューブ３７を通して表面に水
を与えて残余の塩化第一錫溶液を洗い落し、モータ３３
の回転速度を約７５０−１０００rpm まで高めて洗浄済
の面を乾燥させる。今や、表面はフォトレジスト溶液を
与えた適正状態にある。フォトレジスト溶液は、Ｓｈｉ
ｐｌｅｙ ＡＺ１３５０フォトレジストを、セロソルブ
アセテートを含むと考えられるＳｈｉｐｌｅｙ ＡＺ
シンナーで、約３対１の比率によって希釈することによ
って調製する。この溶液は約1.3 センチポアズの粘度を
有し、約半ミクロンより大きい粒子を除くように濾過す
る。標準技術によって、たとえば、Ｃａｎｏｎ−Ｆｉｎ
ｓｋｅ粘度計によって粘度を測定することはできる。
を与えて残余の塩化第一錫溶液を洗い落し、モータ３３
の回転速度を約７５０−１０００rpm まで高めて洗浄済
の面を乾燥させる。今や、表面はフォトレジスト溶液を
与えた適正状態にある。フォトレジスト溶液は、Ｓｈｉ
ｐｌｅｙ ＡＺ１３５０フォトレジストを、セロソルブ
アセテートを含むと考えられるＳｈｉｐｌｅｙ ＡＺ
シンナーで、約３対１の比率によって希釈することによ
って調製する。この溶液は約1.3 センチポアズの粘度を
有し、約半ミクロンより大きい粒子を除くように濾過す
る。標準技術によって、たとえば、Ｃａｎｏｎ−Ｆｉｎ
ｓｋｅ粘度計によって粘度を測定することはできる。
【００１８】次に、この希釈したフォトレジスト溶液
を、約７５−１００rpm で回転している基体１３の下ご
しらえ済の上面にチューブ４１を通して与える。このと
きもピボットアーム３５を手で回転させて基体の全半径
を横切って溶液を分配する。約７５rpm より下の速度で
は、比較的長い時間をかけるならばほぼ均一な厚さの膜
を得ることができるが、これは層汚染の傾向を高める。
一方、１００rpm より上の速度では、半径方向のすじや
流れ模様が生じ、後の情報記録の質の悪影響を与える可
能性がある。約３５．５６cmの直径を持った基体を完全
に覆うには約３５mlのフォトレジスト溶液を必要とす
る。
を、約７５−１００rpm で回転している基体１３の下ご
しらえ済の上面にチューブ４１を通して与える。このと
きもピボットアーム３５を手で回転させて基体の全半径
を横切って溶液を分配する。約７５rpm より下の速度で
は、比較的長い時間をかけるならばほぼ均一な厚さの膜
を得ることができるが、これは層汚染の傾向を高める。
一方、１００rpm より上の速度では、半径方向のすじや
流れ模様が生じ、後の情報記録の質の悪影響を与える可
能性がある。約３５．５６cmの直径を持った基体を完全
に覆うには約３５mlのフォトレジスト溶液を必要とす
る。
【００１９】基体１３の表面をフォトレジスト溶液で覆
った後、モータ３３の回転速度を乾燥するまで約７５０
−１０００rpm まで高める。これによって、所定の均一
な厚さのフォトレジスト層１５を得ることができる。フ
ォトレジスト層１５の厚さが毎分回転数（rpm)と温度と
に逆比例することがわかったならば、基体１３を回転さ
せてフォトレジスト溶液を部分的に乾燥させる特定の回
転速度を調節して所定の厚さを得ることができる。たと
えば、Ｔｏｌａｎｓｋｙ干渉計を用いて適当な回転速度
を普通の要領で測定することができる。この技術は層の
相対厚さを表示することができ、回転速度を連続的に調
節する反復過程を経て、最適の回転速度を決定すること
ができる。フォトレジスト溶液の粘度および温度をほぼ
均一に保てるならば、この回転速度調節はほんのたまに
行えばよい。現在のところ、層の厚さが約１１５０乃至
１３５０Ａ°であることが好ましく、これで作ったディ
スク・レプリカはそれに相当した高さの情報担持バンプ
またはピットを持つことになる。
った後、モータ３３の回転速度を乾燥するまで約７５０
−１０００rpm まで高める。これによって、所定の均一
な厚さのフォトレジスト層１５を得ることができる。フ
ォトレジスト層１５の厚さが毎分回転数（rpm)と温度と
に逆比例することがわかったならば、基体１３を回転さ
せてフォトレジスト溶液を部分的に乾燥させる特定の回
転速度を調節して所定の厚さを得ることができる。たと
えば、Ｔｏｌａｎｓｋｙ干渉計を用いて適当な回転速度
を普通の要領で測定することができる。この技術は層の
相対厚さを表示することができ、回転速度を連続的に調
節する反復過程を経て、最適の回転速度を決定すること
ができる。フォトレジスト溶液の粘度および温度をほぼ
均一に保てるならば、この回転速度調節はほんのたまに
行えばよい。現在のところ、層の厚さが約１１５０乃至
１３５０Ａ°であることが好ましく、これで作ったディ
スク・レプリカはそれに相当した高さの情報担持バンプ
またはピットを持つことになる。
【００２０】乾燥したフォトレジスト層１５がなんらか
の欠陥（たとえば、半径方向すじ、外部粒子）を持って
いることがわかったならば、Ｓｈｉｐｌｅｙ ＡＺ シ
ンナーのような適当な溶剤を用いて層を除去することが
できる。それから、上述した要領で新しい層を塗布する
ことができる。図６のターンテーブルから除去した後、
記録マスタ１１を焼いてフォトレジスト層１５を完全に
乾燥させ、露光許容差を最大にする。マスタ１１は、好
ましくは、約８０°Ｃで約２０分間焼く。これらのパラ
メータは、多数の記録マスタ１１に情報を連続的に記録
する場合に露光許容差の変動を最小限に抑えるために狭
い許容差に保たねばならない。
の欠陥（たとえば、半径方向すじ、外部粒子）を持って
いることがわかったならば、Ｓｈｉｐｌｅｙ ＡＺ シ
ンナーのような適当な溶剤を用いて層を除去することが
できる。それから、上述した要領で新しい層を塗布する
ことができる。図６のターンテーブルから除去した後、
記録マスタ１１を焼いてフォトレジスト層１５を完全に
乾燥させ、露光許容差を最大にする。マスタ１１は、好
ましくは、約８０°Ｃで約２０分間焼く。これらのパラ
メータは、多数の記録マスタ１１に情報を連続的に記録
する場合に露光許容差の変動を最小限に抑えるために狭
い許容差に保たねばならない。
【００２１】各記録マスタ１１の露光感度は他のものと
少しずつ異なりがちなので、各マスタ１１に対する輝度
変調光線１９（図１）のピーク輝度を最適なものとする
ことが望ましく、そうすれば、最適な５０／５０衝撃係
数で周波数変調情報信号を記録することができる。複数
の組の隣合った記録トラックの形態で所定のテスト信号
をマスタ１１に記録し、各組は異なったピーク輝度で記
録してある。以下に詳しく説明する現像技術を用いてテ
スト信号を現像した後、記録マスタを点検して所望の５
０／５０値に最も近い衝撃係数を持つ特定組のトラック
を決定する。こうして最適のピーク輝度を決定した後、
周波数変調情報信号を記録マスタ１１の残った未露光部
分に最適衝撃係数で記録することができる。
少しずつ異なりがちなので、各マスタ１１に対する輝度
変調光線１９（図１）のピーク輝度を最適なものとする
ことが望ましく、そうすれば、最適な５０／５０衝撃係
数で周波数変調情報信号を記録することができる。複数
の組の隣合った記録トラックの形態で所定のテスト信号
をマスタ１１に記録し、各組は異なったピーク輝度で記
録してある。以下に詳しく説明する現像技術を用いてテ
スト信号を現像した後、記録マスタを点検して所望の５
０／５０値に最も近い衝撃係数を持つ特定組のトラック
を決定する。こうして最適のピーク輝度を決定した後、
周波数変調情報信号を記録マスタ１１の残った未露光部
分に最適衝撃係数で記録することができる。
【００２２】テスト信号は約７−８ＭＨｚの一定周波数
を持っていると好ましく、この信号が３組または４組の
トラックに記録され、各組が約５パーセントだけ変動す
るピーク輝度で記録されるのが好ましい。各組は数百の
記録トラックに相当する約１０秒間記録される。また、
これらの組がフォトレジスト層１５の未露光部分の狭い
バンドをはさんで互いに隔たっており、層の内周付近の
狭い区域に位置していると好ましい。
を持っていると好ましく、この信号が３組または４組の
トラックに記録され、各組が約５パーセントだけ変動す
るピーク輝度で記録されるのが好ましい。各組は数百の
記録トラックに相当する約１０秒間記録される。また、
これらの組がフォトレジスト層１５の未露光部分の狭い
バンドをはさんで互いに隔たっており、層の内周付近の
狭い区域に位置していると好ましい。
【００２３】これらの組の現像した記録トラックは、読
取光線（図示せず）を用いて各組を走査し、記録したテ
スト信号に従って変調した輝度を持った反射光線を生じ
させて検査することができる。この反射光線は輝度変調
される。なぜならば、フォトレジスト層１５の未露光部
分の反射率が約４パーセントであり、別の部分の反射率
がほぼゼロであるからである。変調した光線は普通のス
ペクトル分析器で適当に検出し、監視して第２調波ひず
みの存在を知る。このひずみは、テスト信号が最適な５
０／５０衝撃係数で記録されたときに最小となる。
取光線（図示せず）を用いて各組を走査し、記録したテ
スト信号に従って変調した輝度を持った反射光線を生じ
させて検査することができる。この反射光線は輝度変調
される。なぜならば、フォトレジスト層１５の未露光部
分の反射率が約４パーセントであり、別の部分の反射率
がほぼゼロであるからである。変調した光線は普通のス
ペクトル分析器で適当に検出し、監視して第２調波ひず
みの存在を知る。このひずみは、テスト信号が最適な５
０／５０衝撃係数で記録されたときに最小となる。
【００２４】読取光線が各組のトラックの個々の記録ト
ラックをたどる必要はない。同じテスト信号が隣接のト
ラックに記録されているからである。しかしながら、記
録マスタ１１の偏心率が読取光線をして一度に複数組の
トラックを走査させることがないことが確実であること
に注目されたい。読取光線は好ましくはヘリウム・ネオ
ンレーザで生じさせる。その波長がフォトレジスト層１
５を露光することがないからである。
ラックをたどる必要はない。同じテスト信号が隣接のト
ラックに記録されているからである。しかしながら、記
録マスタ１１の偏心率が読取光線をして一度に複数組の
トラックを走査させることがないことが確実であること
に注目されたい。読取光線は好ましくはヘリウム・ネオ
ンレーザで生じさせる。その波長がフォトレジスト層１
５を露光することがないからである。
【００２５】図１の記録装置を用い、最適値に調節した
書込光線１９のピーク輝度でもって、フォトレジスト層
１５の残った未露光部分に周波数変調した情報信号を記
録する。次に、この記録済のマスタ１１を現像して各記
録トラックを均一な深さ，幅で連続的に変化する長さを
持った一連の間隔を置いたピットに変換する。本発明の
実施例では、露光した記録マスタ１１は、特殊な工程で
現像される。この工程では、マスタ１１を図６に示す形
式のターンテーブルによって約７５−１００rpm の速度
で回転させながら一連の流体を分配する。この工程で
は、まず水が分配されて層１５を予湿潤させ、次に、水
と所定の規定度の現像剤溶液とを分配して層１５を部分
的に現像し、最後に現像剤溶液のみを分配して完全な現
像を行う。現像したフォトレジスト層１５を次に水で洗
って残留現像剤溶液を除去し、その後、マスタ１１の回
転速度を約７５０−１０００rpm まで高めて現像層を乾
燥させる。
書込光線１９のピーク輝度でもって、フォトレジスト層
１５の残った未露光部分に周波数変調した情報信号を記
録する。次に、この記録済のマスタ１１を現像して各記
録トラックを均一な深さ，幅で連続的に変化する長さを
持った一連の間隔を置いたピットに変換する。本発明の
実施例では、露光した記録マスタ１１は、特殊な工程で
現像される。この工程では、マスタ１１を図６に示す形
式のターンテーブルによって約７５−１００rpm の速度
で回転させながら一連の流体を分配する。この工程で
は、まず水が分配されて層１５を予湿潤させ、次に、水
と所定の規定度の現像剤溶液とを分配して層１５を部分
的に現像し、最後に現像剤溶液のみを分配して完全な現
像を行う。現像したフォトレジスト層１５を次に水で洗
って残留現像剤溶液を除去し、その後、マスタ１１の回
転速度を約７５０−１０００rpm まで高めて現像層を乾
燥させる。
【００２６】好ましい現像剤溶液は水酸化カリウム，水
酸化ナトリウムを含むグループから選定したものであ
り、規定度が約０．２３０乃至０．２４０である。好ま
しくは、水と現像剤溶液とを分配する段階は約５乃至１
０秒であり、現像剤溶液のみを分配する段階は約２０秒
であり、洗浄段階は約３０乃至６０秒である。光ディス
クを成形するのに用いるに適したスタンパは現像した記
録マスタ１１から作る。スタンパを作るのに、まず、フ
ォトレジスト記録層１５に約５００−６００Ａ°厚さの
第１の均一な金属膜を蒸着し、次に、この第１の金属膜
に約１５ミル厚さの第２の均一な金属膜を電気めっきす
る。第１の金属膜の下面はフォトレジスト層１５に形成
されている間隔を置いたピットのパターンに正確に一致
し、これらの２つの金属膜は一体の金属層となる。この
一体の金属層を記録マスタ１１から分離し、適当なフォ
トレジストシンナーを用いて残留フォトレジスト材を除
去し、スタンパを形成する。好ましい実施例では、金属
膜は共にニッケルで作る。
酸化ナトリウムを含むグループから選定したものであ
り、規定度が約０．２３０乃至０．２４０である。好ま
しくは、水と現像剤溶液とを分配する段階は約５乃至１
０秒であり、現像剤溶液のみを分配する段階は約２０秒
であり、洗浄段階は約３０乃至６０秒である。光ディス
クを成形するのに用いるに適したスタンパは現像した記
録マスタ１１から作る。スタンパを作るのに、まず、フ
ォトレジスト記録層１５に約５００−６００Ａ°厚さの
第１の均一な金属膜を蒸着し、次に、この第１の金属膜
に約１５ミル厚さの第２の均一な金属膜を電気めっきす
る。第１の金属膜の下面はフォトレジスト層１５に形成
されている間隔を置いたピットのパターンに正確に一致
し、これらの２つの金属膜は一体の金属層となる。この
一体の金属層を記録マスタ１１から分離し、適当なフォ
トレジストシンナーを用いて残留フォトレジスト材を除
去し、スタンパを形成する。好ましい実施例では、金属
膜は共にニッケルで作る。
【００２７】本発明を好ましい実施例によって説明して
きたが、発明の精神，範囲から逸脱することなく種々の
変更を行い得ることは当業者であれば分かるであろう。
きたが、発明の精神，範囲から逸脱することなく種々の
変更を行い得ることは当業者であれば分かるであろう。
【００２８】
【発明の効果】前記の説明から明らかなように、本発明
によれば、フォトレジスト層を現像する際に、まず、水
を分配して予湿潤し、次に、水と現像剤溶液の両方を分
配し、次に、現像剤溶液のみを分配している。このよう
に、フォトレジスト層を徐々に現像しているので、フォ
トレジスト層に現像むらが生じることなく、簡単な方法
で、良好な現像を達成することができる。
によれば、フォトレジスト層を現像する際に、まず、水
を分配して予湿潤し、次に、水と現像剤溶液の両方を分
配し、次に、現像剤溶液のみを分配している。このよう
に、フォトレジスト層を徐々に現像しているので、フォ
トレジスト層に現像むらが生じることなく、簡単な方法
で、良好な現像を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】記録マスタ上に周波数変調した情報信号を記録
する装置の概略図である。
する装置の概略図である。
【図２】図１の記録マスタの一部の拡大平面図であり、
複数のほぼ同心円状あるいは渦巻状の記録トラックの形
態で配置した一連の間隔を置いた露光区域を示す図であ
る。
複数のほぼ同心円状あるいは渦巻状の記録トラックの形
態で配置した一連の間隔を置いた露光区域を示す図であ
る。
【図３】図１の記録装置における書込光線の変調輝度を
示すグラフである。
示すグラフである。
【図４】図４は記録トラックに沿った、記録マスタの一
部の断面図であり、図３の書込光線の輝度が所定の限界
を越えたときにいつでも露光されるフォトレジスト記録
層を示す図である。
部の断面図であり、図３の書込光線の輝度が所定の限界
を越えたときにいつでも露光されるフォトレジスト記録
層を示す図である。
【図５】露光区域を除去した現像後の、図４の記録マス
タの断面図である。
タの断面図である。
【図６】図１の記録マスタにフォトレジスト記録層を形
成するのに用いるターンテーブルの斜視図である。
成するのに用いるターンテーブルの斜視図である。
【符号の説明】 １１ 記録マスタ １３ ガラス基体 １５ フォトレジスト層 １７ 書込レーザ源 ２５ モータ ２７ 対物レンズ ２９ 露光区域 ３１ 記録トラック ３３ モータ ３５ ピボットアーム ３７，３９，４１ 分配チューブ
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正内容】
【図６】
Claims (5)
- 【請求項１】 光・ディスク・マスタにある所定の均一
な厚さの露光フォトレジスト層を現像する方法であっ
て、光・ディスク・マスタを第１の所定速度で回転さ
せ、所定の規定度を有するフォトレジスト現像剤溶液を
選定し、回転している光・ディスク・マスタのフォトレ
ジスト層に水を分配してそれを予湿潤し、次に水と前期
現像剤溶液の両方をフォトレジスト層に分配し、次に現
像剤溶液のみをフォトレジスト層に分配してこの層を完
全に現像し、この現像したフォトレジスト層を水で洗っ
て残余の現像剤溶液を除き、光・ディスク・マスタを第
２の所定速度で回転させて現像済のフォトレジスト層を
乾燥させる段階を包含することを特徴とするフォトレジ
スト層を現像する方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の方法において、フォトレ
ジスト現像剤溶液が水酸化カリウム，水酸化ナトリウム
を含むグループから選定されることを特徴とするフォト
レジスト層を現像する方法。 - 【請求項３】 請求項２記載の方法において、フォトレ
ジスト現像剤溶液が約０．２３０乃至約０．２４０の規
定度を持つように選定されることを特徴とする方法。 - 【請求項４】 請求項１記載の方法において、第１の所
定速度が約７５rpm乃至約１００rpm であり、第２の所
定速度が約７５０rpm 乃至約１０００rpm であることを
特徴とするフォトレジスト層を現像する方法。 - 【請求項５】 請求項１記載の方法において、水と現像
剤溶液の両方を分配する段階が約５秒乃至約１０秒の時
間であり、現像剤溶液のみを分配する段階は約２０秒間
であり、洗浄段階が約３０秒乃至約６０秒の時間である
ことを特徴とするフォトレジスト層を現像する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US17674380A | 1980-08-11 | 1980-08-11 | |
| US176743 | 1980-08-11 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62321152A Division JPS63177329A (ja) | 1980-08-11 | 1987-12-18 | フォトレジスト層を塗布する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05225616A true JPH05225616A (ja) | 1993-09-03 |
| JP2521849B2 JP2521849B2 (ja) | 1996-08-07 |
Family
ID=22645656
Family Applications (4)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55146985A Expired - Lifetime JPH0246366B2 (ja) | 1980-08-11 | 1980-10-22 | |
| JP62321152A Granted JPS63177329A (ja) | 1980-08-11 | 1987-12-18 | フォトレジスト層を塗布する方法 |
| JP3026661A Expired - Lifetime JPH0760534B2 (ja) | 1980-08-11 | 1991-01-29 | 光線の最適ピーク輝度を選定する方法 |
| JP3026662A Expired - Lifetime JP2521849B2 (ja) | 1980-08-11 | 1991-01-29 | フォトレジスト層を現像する方法 |
Family Applications Before (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP55146985A Expired - Lifetime JPH0246366B2 (ja) | 1980-08-11 | 1980-10-22 | |
| JP62321152A Granted JPS63177329A (ja) | 1980-08-11 | 1987-12-18 | フォトレジスト層を塗布する方法 |
| JP3026661A Expired - Lifetime JPH0760534B2 (ja) | 1980-08-11 | 1991-01-29 | 光線の最適ピーク輝度を選定する方法 |
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| AT (1) | ATE48200T1 (ja) |
| AU (1) | AU539526B2 (ja) |
| BR (1) | BR8104816A (ja) |
| CA (1) | CA1186570A (ja) |
| DE (1) | DE3177126D1 (ja) |
| ES (5) | ES8301543A1 (ja) |
| HK (1) | HK26991A (ja) |
| MX (5) | MX151350A (ja) |
| NO (3) | NO158519C (ja) |
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| KR870002142B1 (ko) * | 1982-09-20 | 1987-12-12 | 디스커비소젼 어시에이츠 | 광학 기록 매체 및 그의 제조방법 |
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| EP0139478B1 (en) * | 1983-09-23 | 1989-06-28 | Unisys Corporation | Improved method for overcoating optical recording media |
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| CA1265394A (en) * | 1986-09-19 | 1990-02-06 | James E. Geary, Jr. | Free surface casting method |
| US4810527A (en) * | 1986-09-19 | 1989-03-07 | E. I. Du Pont Nemours And Company | Free surface casting method |
| US5057685A (en) * | 1989-01-04 | 1991-10-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical rotation detector including a disk having slits with concave and convex parts and method of manufacturing |
| JP2545677B2 (ja) * | 1992-09-30 | 1996-10-23 | 東芝イーエムアイ株式会社 | フォトレジストの塗布方法 |
| US5395803A (en) * | 1993-09-08 | 1995-03-07 | At&T Corp. | Method of spiral resist deposition |
| US6207247B1 (en) | 1998-03-27 | 2001-03-27 | Nikon Corporation | Method for manufacturing a molding tool used for sustrate molding |
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| CN102445862A (zh) * | 2010-09-30 | 2012-05-09 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种改进的晶圆显影方法 |
| CN104570609A (zh) * | 2013-10-29 | 2015-04-29 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 一种光刻胶涂布轨迹的实施方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3954469A (en) * | 1973-10-01 | 1976-05-04 | Mca Disco-Vision, Inc. | Method of creating a replicating matrix |
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| JPS5226214A (en) * | 1975-08-25 | 1977-02-26 | Hitachi Ltd | Method for coating resist |
| DE2554692C2 (de) * | 1975-12-05 | 1977-11-17 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Vorrichtung zur Herstellung der Magnetschichten von Magnetspeicherplatten |
| JPS5934783B2 (ja) * | 1976-09-14 | 1984-08-24 | ソニー株式会社 | デイスク原盤の製法 |
| JPS5346004A (en) * | 1976-10-08 | 1978-04-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Manufacture of press.master for video disk |
| JPS6053675B2 (ja) * | 1978-09-20 | 1985-11-27 | 富士写真フイルム株式会社 | スピンコ−テイング方法 |
| JPS5567742A (en) * | 1978-11-16 | 1980-05-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Glass substrate recording medium |
| JPS5927229B2 (ja) * | 1979-09-19 | 1984-07-04 | 富士通株式会社 | スピンナ− |
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-
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- 1980-10-22 JP JP55146985A patent/JPH0246366B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1981
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- 1981-05-20 AU AU70866/81A patent/AU539526B2/en not_active Expired
- 1981-05-27 NO NO811797A patent/NO158519C/no not_active IP Right Cessation
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