JPH0462190A - 樹脂凸版及びその製造方法 - Google Patents
樹脂凸版及びその製造方法Info
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Landscapes
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- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、特にミクロン単位の高精細なパターンを鮮明
に印刷出来るようにした樹脂凸版及びその製造方法に関
するものである。
に印刷出来るようにした樹脂凸版及びその製造方法に関
するものである。
［従来の技術］
従来、ベタ状のパターンを凸版で印刷すると、第３図に
示すようにインキパターンａの周囲にマージナルゾーン
ｂと称する一種の隈取り現象が生じる。これは、凸版の
インキが高い印圧により周囲に押しやられるため、パタ
ーンの周囲は濃くはっきり印刷されるが、中央部は薄く
なったり或は白抜けになったりするからである。このよ
うなマージナルゾーンは、凸版独特の力強い調子の印刷
が得られる反面、インキの中抜は現象であるので、パタ
ーンがミクロンオーダーの高精細の場合にはパターンの
印刷不鮮明の原因になる。
示すようにインキパターンａの周囲にマージナルゾーン
ｂと称する一種の隈取り現象が生じる。これは、凸版の
インキが高い印圧により周囲に押しやられるため、パタ
ーンの周囲は濃くはっきり印刷されるが、中央部は薄く
なったり或は白抜けになったりするからである。このよ
うなマージナルゾーンは、凸版独特の力強い調子の印刷
が得られる反面、インキの中抜は現象であるので、パタ
ーンがミクロンオーダーの高精細の場合にはパターンの
印刷不鮮明の原因になる。
［発明が解決しようとする課題］
本発明は、このような従来の問題点を解決するためにな
され、ミクロンオーダーの高精細なバターンであっても
、インキの中抜は現象が生じることなく鮮明に印刷出来
るようにした樹脂凸版及びその製造方法を提供すること
を課題としたものである。
され、ミクロンオーダーの高精細なバターンであっても
、インキの中抜は現象が生じることなく鮮明に印刷出来
るようにした樹脂凸版及びその製造方法を提供すること
を課題としたものである。
［課題を解決するための手段コ
この課題を技術的に解決するための手段として、本発明
は合成樹脂で形成された凸版のインキ受容部である凸部
面に、この凸部面の周辺を除いてインキ溜りとなる凹部
を形成した樹脂凸版を要旨とするものである。また、本
発明は、基板の表面にフォトレジスト像を形成し、この
フォトレジスト像を含む前記基板の表面にフォトレジス
トを塗布し、その上にマスク板を被せて露光しかつ現像
することによって前記フォトレジスト像を底部に何する
マスター版を形成し、このマスター版面に薄膜導電層を
施すと共に電鋳層を施して剥離することによりファーザ
ー型を形成し、このファーザー型に電鋳層を施し剥離し
てマザー型を形成し、このマザー型を用いて樹脂成形手
段により前記樹脂凸版を成形することを要旨とするもの
である。
は合成樹脂で形成された凸版のインキ受容部である凸部
面に、この凸部面の周辺を除いてインキ溜りとなる凹部
を形成した樹脂凸版を要旨とするものである。また、本
発明は、基板の表面にフォトレジスト像を形成し、この
フォトレジスト像を含む前記基板の表面にフォトレジス
トを塗布し、その上にマスク板を被せて露光しかつ現像
することによって前記フォトレジスト像を底部に何する
マスター版を形成し、このマスター版面に薄膜導電層を
施すと共に電鋳層を施して剥離することによりファーザ
ー型を形成し、このファーザー型に電鋳層を施し剥離し
てマザー型を形成し、このマザー型を用いて樹脂成形手
段により前記樹脂凸版を成形することを要旨とするもの
である。
［作 用］
凸版面に形成された凹部がインキ溜りとなるので、高い
印圧が掛かってもインキが周囲に押しやられることがな
くインキの中抜は現象を未然に防止することが出来る。
印圧が掛かってもインキが周囲に押しやられることがな
くインキの中抜は現象を未然に防止することが出来る。
［実施例コ
以下、本発明の実施例について添付図面により詳細に説
明する。
明する。
第１図は、本発明に係る樹脂凸版１の一例を示すもので
、その凸版面１ａには周辺を除いてインキ溜りとなる凹
部１ｂがそれぞれ形成されている。
、その凸版面１ａには周辺を除いてインキ溜りとなる凹
部１ｂがそれぞれ形成されている。
この樹脂凸版１を製造するには、先ず第２図（イ）に示
すように表面を平滑に研磨したガラス基板１１の上に、
水溶性フォトレジストか油溶性フォトレジストを用いて
厚さ０．３〜１．０μ程度のフォトレジスト保工２を形
成する。このフォトレジスト像１２の形成工程は、前記
ガラス基板ＩＩの上にポジ型もしくはネガ型のフォトレ
ジスト又は電子線レノストをコーティングした後、所望
の高精細パターンが形成された遮光膜のマスクを密着さ
せ、近紫外線で露光するか又は電子線をパターン状に照
射し、育機アルカリ性現像液で現像することにより行う
ことが出来る。
すように表面を平滑に研磨したガラス基板１１の上に、
水溶性フォトレジストか油溶性フォトレジストを用いて
厚さ０．３〜１．０μ程度のフォトレジスト保工２を形
成する。このフォトレジスト像１２の形成工程は、前記
ガラス基板ＩＩの上にポジ型もしくはネガ型のフォトレ
ジスト又は電子線レノストをコーティングした後、所望
の高精細パターンが形成された遮光膜のマスクを密着さ
せ、近紫外線で露光するか又は電子線をパターン状に照
射し、育機アルカリ性現像液で現像することにより行う
ことが出来る。
次に、第２図（ロ）のようにフォトレジスト像１２の形
成されたガラス基板１１の上に、５〜ｌＯμ程度の厚い
フォトレジスト１３を塗布し、第２図（ハ）のようにそ
の上に所定のマスク板１４を密着させて露光し、かつ現
像することによって第２図（ニ）のような前記フォトレ
ジスト像１２を底部に有するマスター版Ｉ５を形成する
。この場合、現像後に加熱処理する等してマスター版１
５及び前記フォトレジスト像１２の断面形状を台形にす
ると実際の使用上好ましい。
成されたガラス基板１１の上に、５〜ｌＯμ程度の厚い
フォトレジスト１３を塗布し、第２図（ハ）のようにそ
の上に所定のマスク板１４を密着させて露光し、かつ現
像することによって第２図（ニ）のような前記フォトレ
ジスト像１２を底部に有するマスター版Ｉ５を形成する
。この場合、現像後に加熱処理する等してマスター版１
５及び前記フォトレジスト像１２の断面形状を台形にす
ると実際の使用上好ましい。
この後、第２図（ネ）のように無電解メツキ法もしくは
真空蒸着法、スパッター蒸着法等を用いてマスター版Ｉ
５の表面に０．０５〜０．２μ厚の薄膜導電層１６を形
成して表面を導体化する。次いで第２図（へ）のように
、厚さ ０．２〜１．０■■の電鋳層１７を形成するが
、これは例えば陽極ニッケルのスルファミン酸ニッケル
浴にて行い、ニッケル電鋳層を析出させることにより行
う。スルファミン酸ニッケル浴の一例としては、スルフ
ァミン酸ニッケルを５００ ｇ／ノにッケル換算）、硼
酸を３０ｇ／ １、臭化ニッケルを３ｇ／！で、電流密
度は最高時で４ＯＡ／ｄｍ２にて行うことが出来る。
真空蒸着法、スパッター蒸着法等を用いてマスター版Ｉ
５の表面に０．０５〜０．２μ厚の薄膜導電層１６を形
成して表面を導体化する。次いで第２図（へ）のように
、厚さ ０．２〜１．０■■の電鋳層１７を形成するが
、これは例えば陽極ニッケルのスルファミン酸ニッケル
浴にて行い、ニッケル電鋳層を析出させることにより行
う。スルファミン酸ニッケル浴の一例としては、スルフ
ァミン酸ニッケルを５００ ｇ／ノにッケル換算）、硼
酸を３０ｇ／ １、臭化ニッケルを３ｇ／！で、電流密
度は最高時で４ＯＡ／ｄｍ２にて行うことが出来る。
電鋳層１７を形成した後、これを前記マスター版１５か
ら剥離させると共に、表面に酸化膜又はクロム酸塩被膜
等の剥離層を形成する工程を施すことにより、第２図（
ト）に示すようにファーザー型Ｆを形成する。剥離層と
なる酸化膜を形成する場合には、電解脱脂液あるいは１
０％ＮａＯＲ溶液中において電圧６Ｖで５〜６０秒間陽
極酸化するか、或はクロム酸又は重クロム酸塩溶液（０
，７〜１２ｇ＃）中に５〜４５秒間浸漬すれば良い。こ
の後、第２図（チ）に示すようにファーザー型Ｆの上に
電鋳層１８を形成し、これを剥離することによって第２
回（す）のようなマザー型Ｍを形成する。
ら剥離させると共に、表面に酸化膜又はクロム酸塩被膜
等の剥離層を形成する工程を施すことにより、第２図（
ト）に示すようにファーザー型Ｆを形成する。剥離層と
なる酸化膜を形成する場合には、電解脱脂液あるいは１
０％ＮａＯＲ溶液中において電圧６Ｖで５〜６０秒間陽
極酸化するか、或はクロム酸又は重クロム酸塩溶液（０
，７〜１２ｇ＃）中に５〜４５秒間浸漬すれば良い。こ
の後、第２図（チ）に示すようにファーザー型Ｆの上に
電鋳層１８を形成し、これを剥離することによって第２
回（す）のようなマザー型Ｍを形成する。
このようにして形成したマザー型Ｍを用いて、樹脂成形
手段により前記樹脂凸版１を成形するが、その−例とし
ては第２図（ヌ）に示すように射出成形金型１９を利用
して溶融樹脂を注入することにより行うことが出来る。
手段により前記樹脂凸版１を成形するが、その−例とし
ては第２図（ヌ）に示すように射出成形金型１９を利用
して溶融樹脂を注入することにより行うことが出来る。
これ以外に、プレス成形手段によっても樹脂凸版１を成
形することが可能である。
形することが可能である。
樹脂凸版１による印刷方式は、直刷りでもオフセット刷
りでもどちらでも良いが、前記のように樹脂凸版１の凸
部面１ａの中央部にはインキ溜りとなる凹部１ｂがそれ
ぞれ形成されているので、印圧時にインキが中央部に維
持されてインキの中抜は現象が生じることはない。被印
刷体は紙以外にガラス、セラミック、樹脂、半導体基体
、金属板であって特に限定されない。
りでもどちらでも良いが、前記のように樹脂凸版１の凸
部面１ａの中央部にはインキ溜りとなる凹部１ｂがそれ
ぞれ形成されているので、印圧時にインキが中央部に維
持されてインキの中抜は現象が生じることはない。被印
刷体は紙以外にガラス、セラミック、樹脂、半導体基体
、金属板であって特に限定されない。
［発明の効果コ
以上説明したように、本発明によれば、合成樹脂で形成
された凸版のインキ受容部である凸部面に、この凸部面
の周辺を除いてインキ溜りとなる凹部を形成したので、
高い印圧が掛かってもインキが周囲に押しやられること
がなく、このためインキ中抜は現象を未然に防止し、ミ
クロンオーダーの高精細なパターンであっても鮮明に印
刷出来る等の優れた効果を奏する。また、本発明方法に
よれば、樹脂凸版はマザー型を用いて射出成形するか又
はプレス成形によって簡単に製造することが出来る。
された凸版のインキ受容部である凸部面に、この凸部面
の周辺を除いてインキ溜りとなる凹部を形成したので、
高い印圧が掛かってもインキが周囲に押しやられること
がなく、このためインキ中抜は現象を未然に防止し、ミ
クロンオーダーの高精細なパターンであっても鮮明に印
刷出来る等の優れた効果を奏する。また、本発明方法に
よれば、樹脂凸版はマザー型を用いて射出成形するか又
はプレス成形によって簡単に製造することが出来る。
第１図は本発明に係る樹脂凸版の一部の断面図、第２図
（イ）〜（ヌ）は本発明に係る樹脂凸版の製造を工程順
に示す説明図、第３図はマージナルゾーンを示す説明図
である。 １・・・樹脂凸版 １ａ・・・凸部面１ｂ・・
・凹部
（イ）〜（ヌ）は本発明に係る樹脂凸版の製造を工程順
に示す説明図、第３図はマージナルゾーンを示す説明図
である。 １・・・樹脂凸版 １ａ・・・凸部面１ｂ・・
・凹部
Claims (2)
- （１）合成樹脂で形成された凸版のインキ受容部である
凸部面に、この凸部面の周辺を除いてインキ溜りとなる
凹部を形成したことを特徴とする樹脂凸版。 - （２）基板の表面にフォトレジスト像を形成し、このフ
ォトレジスト像を含む前記基板の表面にフォトレジスト
を塗布し、その上にマスク板を被せて露光しかつ現像す
ることによって前記フォトレジスト像を底部に有するマ
スター版を形成し、このマスター版面に薄膜導電層を施
すと共に電鋳層を施して剥離することによりファーザー
型を形成し、このファーザー型に電鋳層を施し剥離して
てマザー型を形成し、このマザー型を用いて樹脂成形手
段により第１項記載の樹脂凸版を成形することを特徴と
する樹脂凸版の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16802490A JPH0462190A (ja) | 1990-06-26 | 1990-06-26 | 樹脂凸版及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16802490A JPH0462190A (ja) | 1990-06-26 | 1990-06-26 | 樹脂凸版及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0462190A true JPH0462190A (ja) | 1992-02-27 |
Family
ID=15860403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16802490A Pending JPH0462190A (ja) | 1990-06-26 | 1990-06-26 | 樹脂凸版及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0462190A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002178654A (ja) * | 2000-12-13 | 2002-06-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 凸版印刷版とその製版方法 |
| KR100880345B1 (ko) * | 2001-07-13 | 2009-01-28 | 가부시키가이샤 고무라테크 | 액정기반 접합용 시일제를 전사하기 위한 인쇄판 |
| US20100180782A1 (en) * | 2002-09-09 | 2010-07-22 | International Business Machines Corporation | Printing in a Medium |
| JP2020524097A (ja) * | 2017-07-05 | 2020-08-13 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニーＴｈｅ Ｐｒｏｃｔｅｒ ＆ Ｇａｍｂｌｅ Ｃｏｍｐａｎｙ | パッケージングシステム上に３ｄマイクロ光学画像を印刷する方法 |
-
1990
- 1990-06-26 JP JP16802490A patent/JPH0462190A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002178654A (ja) * | 2000-12-13 | 2002-06-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 凸版印刷版とその製版方法 |
| KR100880345B1 (ko) * | 2001-07-13 | 2009-01-28 | 가부시키가이샤 고무라테크 | 액정기반 접합용 시일제를 전사하기 위한 인쇄판 |
| US20100180782A1 (en) * | 2002-09-09 | 2010-07-22 | International Business Machines Corporation | Printing in a Medium |
| US8267011B2 (en) * | 2002-09-09 | 2012-09-18 | International Business Machines Corporation | Stamp with drainage channels for transferring a pattern in the presence of a third medium |
| US8336456B2 (en) | 2002-09-09 | 2012-12-25 | International Business Machines Corporation | Printing in a medium |
| US8453569B2 (en) | 2002-09-09 | 2013-06-04 | International Business Machines Corporation | Stamp with permeable hydrophylic matrix |
| JP2020524097A (ja) * | 2017-07-05 | 2020-08-13 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニーＴｈｅ Ｐｒｏｃｔｅｒ ＆ Ｇａｍｂｌｅ Ｃｏｍｐａｎｙ | パッケージングシステム上に３ｄマイクロ光学画像を印刷する方法 |
| JP2022044672A (ja) * | 2017-07-05 | 2022-03-17 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | パッケージングシステム上に３ｄマイクロ光学画像を印刷する方法 |
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