JPH0374858A - 搬送装置 - Google Patents
搬送装置Info
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- JPH0374858A JPH0374858A JP1210148A JP21014889A JPH0374858A JP H0374858 A JPH0374858 A JP H0374858A JP 1210148 A JP1210148 A JP 1210148A JP 21014889 A JP21014889 A JP 21014889A JP H0374858 A JPH0374858 A JP H0374858A
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- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 18
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- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 18
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- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 abstract 5
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract 4
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は搬送装置に関し、特に研磨加工された薄板、例
えばシリコンウェハや石英フォトマスクなどの搬送に使
用されるものである。
えばシリコンウェハや石英フォトマスクなどの搬送に使
用されるものである。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕従来、
研磨加工されたシリコンウェハや石英フォトマスクなど
は、例えばビンセットを用いて下向きになった研磨面を
上向きに反転させて搬送している。
研磨加工されたシリコンウェハや石英フォトマスクなど
は、例えばビンセットを用いて下向きになった研磨面を
上向きに反転させて搬送している。
しかし、ビンセット−を用いた場合、
■シリコンウェハや石英フォトマスクの研磨面をビンセ
ットで挟むので、研磨面にビンセットの汚れが移る。
ットで挟むので、研磨面にビンセットの汚れが移る。
■手作業であるため、シリコンウェハや石英フォトマス
クをカセットに挿入する際カセットに接触して、研磨面
に□カセットの汚れが移る。
クをカセットに挿入する際カセットに接触して、研磨面
に□カセットの汚れが移る。
■手作業であるため、ロフト単位の処理にならざるを得
ず、１分間に１枚処理するなどの間欠処理や枚葉処理に
は不向きである。
ず、１分間に１枚処理するなどの間欠処理や枚葉処理に
は不向きである。
本発明は前述した問題点を解消するためになされたもの
であり、シリコンウェハや石英フォトマスクの研磨面を
汚すことのなく、枚葉処理も可能な搬送装置を提供する
ことを目的とする。
であり、シリコンウェハや石英フォトマスクの研磨面を
汚すことのなく、枚葉処理も可能な搬送装置を提供する
ことを目的とする。
本発明の搬送装置は、平板状の被搬送体を収容可能な凹
部を有し、この凹部底面に流体の噴出口が設けられた第
１の保持台と、この第１の保持台に回動可能に取り付け
られ、第１の保持台の凹部に対向するように、平板状の
被搬送体を収容可能で一側面が開放した凹部を有し、こ
の凹部底面に開放した側面方向へ傾斜した流体の噴出口
が設けられた第２の保持台と、前記第１及び第２の保持
台を水平軸を中心として反転させる機構とを具備したこ
とを特徴とするものである。
部を有し、この凹部底面に流体の噴出口が設けられた第
１の保持台と、この第１の保持台に回動可能に取り付け
られ、第１の保持台の凹部に対向するように、平板状の
被搬送体を収容可能で一側面が開放した凹部を有し、こ
の凹部底面に開放した側面方向へ傾斜した流体の噴出口
が設けられた第２の保持台と、前記第１及び第２の保持
台を水平軸を中心として反転させる機構とを具備したこ
とを特徴とするものである。
本発明の搬送装置では、以下のようにしてシリコンウェ
ハや石英フォトマスクなどの被搬送体を搬送する。研磨
機で加工された被搬送体を、他の搬送装置によりその研
磨面を下に向けた状態で第１の保持台上に搬送する。第
１の保持台から被搬送体の研磨面へ水又はエアなどの流
体を噴出させ、他の搬送装置から被搬送体を放して、第
１の保持台の凹部にこれを浮揚させた状態で保持する。
ハや石英フォトマスクなどの被搬送体を搬送する。研磨
機で加工された被搬送体を、他の搬送装置によりその研
磨面を下に向けた状態で第１の保持台上に搬送する。第
１の保持台から被搬送体の研磨面へ水又はエアなどの流
体を噴出させ、他の搬送装置から被搬送体を放して、第
１の保持台の凹部にこれを浮揚させた状態で保持する。
第１の保持台上に第２の保持台をかぶせた後、第１及び
第２の保持台から被搬送体の両面へ流体を噴出させて両
者の間の凹部に被搬送体を浮揚させた状態で保持する。
第２の保持台から被搬送体の両面へ流体を噴出させて両
者の間の凹部に被搬送体を浮揚させた状態で保持する。
第１及び第２の保持台を水平軸を中心として反転させ、
被搬送体の研磨面を上に向ける。第１の保持台から流体
の噴出を止めて、第２の保持台上から第１の保持台をは
ずす。第２の保持台の噴出口から流体の噴出を続けると
、この噴出口は開放した側面方向へ傾斜しているため、
水平方向の推進力を受け、第２の保持台の開放した側面
から他の処理装置上へ搬送することができる。
被搬送体の研磨面を上に向ける。第１の保持台から流体
の噴出を止めて、第２の保持台上から第１の保持台をは
ずす。第２の保持台の噴出口から流体の噴出を続けると
、この噴出口は開放した側面方向へ傾斜しているため、
水平方向の推進力を受け、第２の保持台の開放した側面
から他の処理装置上へ搬送することができる。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第１図（ａ）〜（ｅ）は本発明に係る搬送装置の操作方
法を示す断面図、第２図は第１図（ｂ）の■−■矢視図
、第３図は第１図（ｂ）の■−■矢視図である。以下の
実施例においては、本発明に係る搬送装置を用いて研磨
面加工されたシリコンウェハを搬送する場合について説
明する。
法を示す断面図、第２図は第１図（ｂ）の■−■矢視図
、第３図は第１図（ｂ）の■−■矢視図である。以下の
実施例においては、本発明に係る搬送装置を用いて研磨
面加工されたシリコンウェハを搬送する場合について説
明する。
第１図〜第３図において、第１の保持台１と第２の保持
台２とはヒンジ３により回動可能に取り付けられている
。第１の保持台１はシリコンウェハを収容できる円形の
凹部１１を有し、この凹部１１の底面には鉛直方向に噴
出口１２が設けられている。
台２とはヒンジ３により回動可能に取り付けられている
。第１の保持台１はシリコンウェハを収容できる円形の
凹部１１を有し、この凹部１１の底面には鉛直方向に噴
出口１２が設けられている。
この噴出口１２は第１の保持台１の内部に設けられた流
通路１３に連通し、この流通路ｔ３にはパイプ１４が接
続されている。この第１の保持台１では、外部から圧送
された純水がバイブ１４及び流通路１３を通って噴出口
１２から噴出する。また、この第１の保持台１には軸１
５が取り付けられ、この軸１５は軸受１６によって支持
され、ロータリーアクチュエータ１７によって回転でき
るようになっている。第２の保持台２は、第１図（ｂ）
の状態で第１の保持台１の凹部１１に対向するように、
シリコンウェハ＼を収容できる凹部２１を有しているが
、第２の保持台２のヒンジ３と反対側の側面には凹部側
壁がなく、この側面は外部へ開放されている。この凹部
２１の底面には開放された側面方向へ傾斜した噴出口２
２が設けられている。この噴出口２２は第２の保持台２
の内部に設けられた流通路２３に連通し、この流通路２
３にはバイブ２４が接続されている。この第２の保持台
２では、外部から圧送された純水がパイプ２４及び流通
路２３を通って噴出口２２から噴出する。
通路１３に連通し、この流通路ｔ３にはパイプ１４が接
続されている。この第１の保持台１では、外部から圧送
された純水がバイブ１４及び流通路１３を通って噴出口
１２から噴出する。また、この第１の保持台１には軸１
５が取り付けられ、この軸１５は軸受１６によって支持
され、ロータリーアクチュエータ１７によって回転でき
るようになっている。第２の保持台２は、第１図（ｂ）
の状態で第１の保持台１の凹部１１に対向するように、
シリコンウェハ＼を収容できる凹部２１を有しているが
、第２の保持台２のヒンジ３と反対側の側面には凹部側
壁がなく、この側面は外部へ開放されている。この凹部
２１の底面には開放された側面方向へ傾斜した噴出口２
２が設けられている。この噴出口２２は第２の保持台２
の内部に設けられた流通路２３に連通し、この流通路２
３にはバイブ２４が接続されている。この第２の保持台
２では、外部から圧送された純水がパイプ２４及び流通
路２３を通って噴出口２２から噴出する。
この搬送装置を用いてシリコンウェハを搬送する操作を
第１図（ａ）〜（ｅ）を参照して説明する。
第１図（ａ）〜（ｅ）を参照して説明する。
まず、枚葉形研磨機で加工されたシリコンウェハ３０を
、真空チャック４０によりその研磨面を下に向けた状態
で第１の保持台１上に搬送されて位置決めする。次に、
ＩＪＩの保持台１の噴出口１１からシリコンウェハ３０
の研磨面へ純水を噴出させ、真空チャック４０からシリ
コンウェハ３０を放して、第１の保持台１の凹部１１に
これを浮揚させた状態で保持する。つづいて、第２の保
持台２を回動させ、第１の保持台１上に第２の保持台２
をかぶせた後、第２の保持台２の噴出口２２からも純水
を噴出させる。こうして、シリコンウェハ３０の両面へ
純水を噴出させ、第１の保持台１と第２の保持台２との
間の凹部にシリコンウェハ３０を浮揚させた状態で保持
する。次いで、ロータリーアクチュエータ１７を作動さ
せ、第１の保持台１及び第２の保持台２を水平軸を中心
として反転させ、シリコンウェハ３０の研磨面を上に向
ける。その後、第１の保持台１から純水の噴出を止めて
、第１の保持台１を回動させて第２の保持台２上から第
１の保持台１をはずす。更に、第２の保持台２の噴出口
２２から純水の噴出を続けると、この噴出口２２は開放
した側面方向へ傾斜しているため、水平方向の推進力を
受け、第２の保持台２の開放した側面から他の処理装置
５０上へ搬送することができる。
、真空チャック４０によりその研磨面を下に向けた状態
で第１の保持台１上に搬送されて位置決めする。次に、
ＩＪＩの保持台１の噴出口１１からシリコンウェハ３０
の研磨面へ純水を噴出させ、真空チャック４０からシリ
コンウェハ３０を放して、第１の保持台１の凹部１１に
これを浮揚させた状態で保持する。つづいて、第２の保
持台２を回動させ、第１の保持台１上に第２の保持台２
をかぶせた後、第２の保持台２の噴出口２２からも純水
を噴出させる。こうして、シリコンウェハ３０の両面へ
純水を噴出させ、第１の保持台１と第２の保持台２との
間の凹部にシリコンウェハ３０を浮揚させた状態で保持
する。次いで、ロータリーアクチュエータ１７を作動さ
せ、第１の保持台１及び第２の保持台２を水平軸を中心
として反転させ、シリコンウェハ３０の研磨面を上に向
ける。その後、第１の保持台１から純水の噴出を止めて
、第１の保持台１を回動させて第２の保持台２上から第
１の保持台１をはずす。更に、第２の保持台２の噴出口
２２から純水の噴出を続けると、この噴出口２２は開放
した側面方向へ傾斜しているため、水平方向の推進力を
受け、第２の保持台２の開放した側面から他の処理装置
５０上へ搬送することができる。
以上詳述したように本発明の搬送装置を用いれば、次の
ような効果が得られる。
ような効果が得られる。
■被搬送体を反転させる際に、その研磨面を搬送装置本
体に接触させることがないので、研磨面に汚れが移るこ
とがない。
体に接触させることがないので、研磨面に汚れが移るこ
とがない。
■搬送装置の動作を自動化して、枚葉形研磨機のサイク
ルに合わせて被搬送体を搬送することができる。
ルに合わせて被搬送体を搬送することができる。
■噴出口から噴出させる流体として純水を用いれば、洗
浄効果も付与することができる。
浄効果も付与することができる。
第１図（ａ）〜（Ｃ）は本発明に係る搬送装置の操作方
法を示す断面図、第２図は第１図（ｂ）の■−■矢視図
、第３図は第１図（ｂ）の■−■矢視図である。 １・・・第１の保持台、２・・・第２の保持台、３・・
・ヒンジ、ＩＬ ２１・・・凹部、１２．２２・・・噴
出口、１３．２３・・・流通路、１４．２４・・・パイ
プ、１５・・・軸、ＩＢ・・・軸受、１７・・・ロータ
リーアクチュエータ、３０・・・シリコンウェハ、４０
・・・真空チャック、５０・・・搬送装置。
法を示す断面図、第２図は第１図（ｂ）の■−■矢視図
、第３図は第１図（ｂ）の■−■矢視図である。 １・・・第１の保持台、２・・・第２の保持台、３・・
・ヒンジ、ＩＬ ２１・・・凹部、１２．２２・・・噴
出口、１３．２３・・・流通路、１４．２４・・・パイ
プ、１５・・・軸、ＩＢ・・・軸受、１７・・・ロータ
リーアクチュエータ、３０・・・シリコンウェハ、４０
・・・真空チャック、５０・・・搬送装置。
Claims (1)
- 平板状の被搬送体を収容可能な凹部を有し、この凹部底
面に流体の噴出口が設けられた第１の保持台と、この第
１の保持台に回動可能に取り付けられ、第１の保持台の
凹部に対向するように、平板状の被搬送体を収容可能で
一側面が開放した凹部を有し、この凹部底面に開放した
側面方向へ傾斜した流体の噴出口が設けられた第２の保
持台と、前記第１及び第２の保持台を水平軸を中心とし
て反転させる機構とを具備したことを特徴とする搬送装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21014889A JP2804794B2 (ja) | 1989-08-16 | 1989-08-16 | 搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21014889A JP2804794B2 (ja) | 1989-08-16 | 1989-08-16 | 搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0374858A true JPH0374858A (ja) | 1991-03-29 |
| JP2804794B2 JP2804794B2 (ja) | 1998-09-30 |
Family
ID=16584563
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21014889A Expired - Fee Related JP2804794B2 (ja) | 1989-08-16 | 1989-08-16 | 搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2804794B2 (ja) |
-
1989
- 1989-08-16 JP JP21014889A patent/JP2804794B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2804794B2 (ja) | 1998-09-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |