JPH0330121A - 放射線感応層を有する記録担体に情報を記録する装置 - Google Patents
放射線感応層を有する記録担体に情報を記録する装置Info
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/08—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
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- G—PHYSICS
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- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
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- G11B7/126—Circuits, methods or arrangements for laser control or stabilisation
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- G11B20/10—Digital recording or reproducing
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- G11B27/36—Monitoring, i.e. supervising the progress of recording or reproducing
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、放射線源により発生された放射線の書込みビ
ームを記録層に向ける手段と、書込みビームと記録担体
間の相対運動を得るための駆動手段と、情報を表わす光
学的に検出可能なマークの情報パターンを形成するため
に、放射線源で発生された放射線の強さを、記録すべき
情報に従って制御する制御回路と、書込みビームより強
さの小さい確認ビームを該確認ビームが書込みビームを
追跡し且つ書込みビームによって形成された情報パター
ンで変調されるように記録層に向ける手段と、変調され
た確認ビームを対応した読取り信号に変換する手段とを
有する、放射線感応記録層を有する記録担体に情報を記
録する装置に関するものである。
ームを記録層に向ける手段と、書込みビームと記録担体
間の相対運動を得るための駆動手段と、情報を表わす光
学的に検出可能なマークの情報パターンを形成するため
に、放射線源で発生された放射線の強さを、記録すべき
情報に従って制御する制御回路と、書込みビームより強
さの小さい確認ビームを該確認ビームが書込みビームを
追跡し且つ書込みビームによって形成された情報パター
ンで変調されるように記録層に向ける手段と、変調され
た確認ビームを対応した読取り信号に変換する手段とを
有する、放射線感応記録層を有する記録担体に情報を記
録する装置に関するものである。
(従来の技術)
このような装置は米国特許第4, 448, 277号
より知られている。記録直後の情報の読出しは記録条件
か最適でない場合これを殆んど情報記録直後に検出する
ことかできるという利点を有する。けれども、従来の装
置は、読出しに必要な確認ビームか余計な放射線源の使
用を必要とするという欠点を有する。
より知られている。記録直後の情報の読出しは記録条件
か最適でない場合これを殆んど情報記録直後に検出する
ことかできるという利点を有する。けれども、従来の装
置は、読出しに必要な確認ビームか余計な放射線源の使
用を必要とするという欠点を有する。
(発明か解決しようとする課題)
本発明は、余計な放射線源を使用することなしに、記録
された情報を記録直後に読出すことのできるようにした
、冒頭記載の種類の記録装置を得ることを目的としたも
のである。
された情報を記録直後に読出すことのできるようにした
、冒頭記載の種類の記録装置を得ることを目的としたも
のである。
(課題を解決するための手段)
本発明によれば、前記の目的は次のようにすることによ
り達成される、すなわち、書込みビームと確認ビームは
同じ放射線源より生じ、装置は更に、放射線源で発生さ
れた放射線の瞬時の強さを表わす補正信号を発生する回
路と、補正信号と読出し信号から、放射線源で発生され
た放射線の瞬時の強さで割算された読出し信号を表わす
補正された読出し信号を取出す補正回路とを有する。
り達成される、すなわち、書込みビームと確認ビームは
同じ放射線源より生じ、装置は更に、放射線源で発生さ
れた放射線の瞬時の強さを表わす補正信号を発生する回
路と、補正信号と読出し信号から、放射線源で発生され
た放射線の瞬時の強さで割算された読出し信号を表わす
補正された読出し信号を取出す補正回路とを有する。
本発明は次の事実の認識に基くものである、すなわち、
放射線源の強度変調により読出し信号内に生じる妨害の
影響は、読出し信号を放射線源で発生された放射線の瞬
時の強さて割算することにより除去することかでき、変
調された書込みビームを発生するのに使用するのと同じ
放射線源を確認ビームの発生に用いることかできるとい
う事実の認識に基いたものである。補正された読出し信
号は、記録が正しく行われたかどうかを確認するのに用
いることができる。
放射線源の強度変調により読出し信号内に生じる妨害の
影響は、読出し信号を放射線源で発生された放射線の瞬
時の強さて割算することにより除去することかでき、変
調された書込みビームを発生するのに使用するのと同じ
放射線源を確認ビームの発生に用いることかできるとい
う事実の認識に基いたものである。補正された読出し信
号は、記録が正しく行われたかどうかを確認するのに用
いることができる。
装置は、補正された読出し信号から、確認ビームで走査
された情報パターンが特定の最適条件より偏差した程度
を表わす分析信号を取出す分析回路と、分析信号に応じ
て放射線源の制御を適応させる適応回路とを有すること
が好ましい。
された情報パターンが特定の最適条件より偏差した程度
を表わす分析信号を取出す分析回路と、分析信号に応じ
て放射線源の制御を適応させる適応回路とを有すること
が好ましい。
分析回路は、記録された情報信号を補正された読出し信
号と比較する比較回路を有することかできる。記録され
た信号か直流を有しないならば、分析回路は動作周期検
出回路または第2調波検出回路とすることができる。実
際に、直流分の無い信号の場合には、平均動作周期は5
0%で、第2調波信号成分は無い。したがって、補正さ
れた続出し信号における動作周期の偏差または第2調波
の存在は、補正された読出し信号の直流分の無い信号よ
りの偏差の程度を表わす。
号と比較する比較回路を有することかできる。記録され
た信号か直流を有しないならば、分析回路は動作周期検
出回路または第2調波検出回路とすることができる。実
際に、直流分の無い信号の場合には、平均動作周期は5
0%で、第2調波信号成分は無い。したがって、補正さ
れた続出し信号における動作周期の偏差または第2調波
の存在は、補正された読出し信号の直流分の無い信号よ
りの偏差の程度を表わす。
分析信号は、補正された信号を第1参照信号と比較する
第1比較器と、この比較器よりの、第1参照信号と補正
された読出し信号の差を表わす出力信号から、積分によ
って第1参照信号を取出す積分回路と、補正された読出
し信号の最小と最大信号値の略々中間に位置する信号レ
ベルを有する第2参照信号を取出す回路と、第1参照信
号と第2参照信号とを比較し、分析信号として、これ等
2つの参照信号の差を表わす信号を発生する第2比較器
とを有するようにした本発明の一実施態様において確実
に取出すことかできる。
第1比較器と、この比較器よりの、第1参照信号と補正
された読出し信号の差を表わす出力信号から、積分によ
って第1参照信号を取出す積分回路と、補正された読出
し信号の最小と最大信号値の略々中間に位置する信号レ
ベルを有する第2参照信号を取出す回路と、第1参照信
号と第2参照信号とを比較し、分析信号として、これ等
2つの参照信号の差を表わす信号を発生する第2比較器
とを有するようにした本発明の一実施態様において確実
に取出すことかできる。
放射線源の適応は、例えば、放射線の制御信号の動作周
期を適応させることにより行うことかできる。けれども
、特に放射線感応記録層の感度は異なる記録体に対して
著しい相違を示すことがあるので、変調された放射線の
強さの方が好ましい。
期を適応させることにより行うことかできる。けれども
、特に放射線感応記録層の感度は異なる記録体に対して
著しい相違を示すことがあるので、変調された放射線の
強さの方が好ましい。
更に、実際に記録の正確さは書込みの光の強さに大きく
依存することが見出された。
依存することが見出された。
放射線源制御は記録プロセスを通じて適応させることが
できる。一般的にいって放射線感応記録層の感度は1つ
の特定の記録担体の表面にわたって極く僅かしか変らな
いことがわかったので、原理的には記録プロセスの開始
時の適応で十分で、制御は記録プロセスの残りに対して
変えられない。
できる。一般的にいって放射線感応記録層の感度は1つ
の特定の記録担体の表面にわたって極く僅かしか変らな
いことがわかったので、原理的には記録プロセスの開始
時の適応で十分で、制御は記録プロセスの残りに対して
変えられない。
本発明の別の実施態様では、記録層への書込みビームの
ランデングスポットの中心とサーボトラックの中心間の
ずれを表わすトラッキングエラー信号を取出すために、
装置は、放射線源により発生された2つのサテライトビ
ームを記録層に向ける手段を有し、この場合、書込みビ
ームがサーボトラックに中心をおく場合に両サテライト
ビームの夫々がサーボトラックの2つの縁の1つに入射
するように、一方のサテライトビームは或る一定の距離
で書込みビームに先行しまた他方のサテライトビームは
或る一定の距離で書込みビームに追随し、また装置は、
トレーリングサテライトビームを確認ビームとして用い
る。
ランデングスポットの中心とサーボトラックの中心間の
ずれを表わすトラッキングエラー信号を取出すために、
装置は、放射線源により発生された2つのサテライトビ
ームを記録層に向ける手段を有し、この場合、書込みビ
ームがサーボトラックに中心をおく場合に両サテライト
ビームの夫々がサーボトラックの2つの縁の1つに入射
するように、一方のサテライトビームは或る一定の距離
で書込みビームに先行しまた他方のサテライトビームは
或る一定の距離で書込みビームに追随し、また装置は、
トレーリングサテライトビームを確認ビームとして用い
る。
この実施態様は、3−ビームトラッキングシステムの場
合に、トレーリングサテライトビームか、記録された情
報パターンに従って変調されるということから有利であ
る。
合に、トレーリングサテライトビームか、記録された情
報パターンに従って変調されるということから有利であ
る。
(実施例)
以下に本発明の実施例およびその利点を図面を参照して
説明する。
説明する。
第1図は、ターンテーブル1と、ディスク状記録担体5
を回転軸のまわりに矢印5の方向に回転、する駆動モー
タ2とを有する記録装置を略図で示す。記録担体4は、
十分に大きな強さの放射線を受けると例えば反射率の変
化のような光学的に検出可能な変化を受ける放射線感応
記録層を有する。
を回転軸のまわりに矢印5の方向に回転、する駆動モー
タ2とを有する記録装置を略図で示す。記録担体4は、
十分に大きな強さの放射線を受けると例えば反射率の変
化のような光学的に検出可能な変化を受ける放射線感応
記録層を有する。
このような放射線感応層は、例えば、比較的大きな強さ
のレーザビームを受けると局部的に除去され得る薄い金
属層より成ることができる。代りに、この記録層は、放
射線感応染料或いは放射線の影響の下でその構造が非晶
質から結晶にまたはその逆に変化することのできる相変
更材料より成ることができる。光学記録ヘッド6が回転
記録担体に対向して配設される。第2図に詳しく示した
光学記録ヘッド6は、その強さを制御信号■.によって
制御することのできる放射線源例えば半導体レーサ10
を有する。この半導体レーサ10はレーザビーム11を
発生し、このレーザビームは、ビームスプリッタ−12
によって、夫々ビーム11の強さI,に比例した強さを
有する2つのサブヒームに分けられる。2つのビームの
一方は、記録層に光学的に検出可能な変化を生じるのに
十分に大きな強さの書込みピームl3てある。他方のビ
ームは、その強さが小さいために光学的に検出可能な変
化を生じることのない確認ビームj4である。これ等の
ビームl3と14は、半透鏡l5と合焦対物レンズ16
を経て記録担体4に向けられる。
のレーザビームを受けると局部的に除去され得る薄い金
属層より成ることができる。代りに、この記録層は、放
射線感応染料或いは放射線の影響の下でその構造が非晶
質から結晶にまたはその逆に変化することのできる相変
更材料より成ることができる。光学記録ヘッド6が回転
記録担体に対向して配設される。第2図に詳しく示した
光学記録ヘッド6は、その強さを制御信号■.によって
制御することのできる放射線源例えば半導体レーサ10
を有する。この半導体レーサ10はレーザビーム11を
発生し、このレーザビームは、ビームスプリッタ−12
によって、夫々ビーム11の強さI,に比例した強さを
有する2つのサブヒームに分けられる。2つのビームの
一方は、記録層に光学的に検出可能な変化を生じるのに
十分に大きな強さの書込みピームl3てある。他方のビ
ームは、その強さが小さいために光学的に検出可能な変
化を生じることのない確認ビームj4である。これ等の
ビームl3と14は、半透鏡l5と合焦対物レンズ16
を経て記録担体4に向けられる。
記録のために、情報信号VIは、半導体レーザlOで発
生された放射線の強さIを記録されるべき情報に従って
制御する制御信号V.に変換される。
生された放射線の強さIを記録されるべき情報に従って
制御する制御信号V.に変換される。
この制御信号V.を第3図に示す。書込みビーム13の
関連した変化も第3図に示してある。書込みビームl3
の強さ1′は、光学的に検出可能な変化を生じるのに適
した値r.と、検出可能な変化を何等生じない値I1の
間で変化する。その強さかこのように変調された書込み
ビーム13で記録層か走査されると、光学的に検出可能
なマーク8の情報パターンが記録層内に形成される。確
認ビームl4は次のように向けられる、すなわち、矢印
5で示した運動方向に見て、該確認ビームか書込みビー
ムl3の直ぐ後ろに入射し、このため確誌ビームi4の
ランデングスポットか書込みビームのランデングスポッ
トによって記録担体4上に描かれたと同じ通路を事実上
たどるように向けられる。確認ピーム14の反射に際し
て、制御信号V5に従って既に変調されたこのビームは
、確認ビームで走査された光学的に検出可能なマーク8
の1# lfflパターンに応じて付加的な変調を受け
る。かくして変調された確認ビームI4は、合焦対物レ
ンズ16と半透鏡l5によって、放射線感応検出器l7
に通される。この検出器l7は、該検出器■7か受けた
放射線量の強さに事実上比例する読出し信号VIを次い
で発生する。
関連した変化も第3図に示してある。書込みビームl3
の強さ1′は、光学的に検出可能な変化を生じるのに適
した値r.と、検出可能な変化を何等生じない値I1の
間で変化する。その強さかこのように変調された書込み
ビーム13で記録層か走査されると、光学的に検出可能
なマーク8の情報パターンが記録層内に形成される。確
認ビームl4は次のように向けられる、すなわち、矢印
5で示した運動方向に見て、該確認ビームか書込みビー
ムl3の直ぐ後ろに入射し、このため確誌ビームi4の
ランデングスポットか書込みビームのランデングスポッ
トによって記録担体4上に描かれたと同じ通路を事実上
たどるように向けられる。確認ピーム14の反射に際し
て、制御信号V5に従って既に変調されたこのビームは
、確認ビームで走査された光学的に検出可能なマーク8
の1# lfflパターンに応じて付加的な変調を受け
る。かくして変調された確認ビームI4は、合焦対物レ
ンズ16と半透鏡l5によって、放射線感応検出器l7
に通される。この検出器l7は、該検出器■7か受けた
放射線量の強さに事実上比例する読出し信号VIを次い
で発生する。
第4図は時間の関数としての読出し信号Vlの1例を示
す。この信号v1の時間による変化は、放射線源10の
強さ変調と確認ビーム14で走査された光学的に検出可
能なマーク8の情報パターンとに依存する。第4図は更
に時間の関係としての放射線源の強さI,も示す。強さ
の変化の影響は、読出し信号V1を放射線源の強さの瞬
時値で割算することによって読出し信号V,より除くこ
とができる。放射線源の強さ変調影響を除いた後に、そ
の時間の関数としての変化か走査された情報パターンに
より専ら示される補正された読出し信号VI′か得られ
る。第4図は更にまたこの補正された読出し信号v1′
も示す。
す。この信号v1の時間による変化は、放射線源10の
強さ変調と確認ビーム14で走査された光学的に検出可
能なマーク8の情報パターンとに依存する。第4図は更
に時間の関係としての放射線源の強さI,も示す。強さ
の変化の影響は、読出し信号V1を放射線源の強さの瞬
時値で割算することによって読出し信号V,より除くこ
とができる。放射線源の強さ変調影響を除いた後に、そ
の時間の関数としての変化か走査された情報パターンに
より専ら示される補正された読出し信号VI′か得られ
る。第4図は更にまたこの補正された読出し信号v1′
も示す。
第5図は、補正された信号Vl’を取出す補正回路を示
す。例えば放射線感応ダイオード50により、この回路
は、半導体レーザ10で発生された放射線の強さに比例
した信号V。を発生する。読出し信号V1とこの信号V
..は通常のタイプの割算回路51に加えられ、この割
算回路は、読出し信号Vlを信号V,で割算することに
よって補正された読出し信号V,′を取出す。
す。例えば放射線感応ダイオード50により、この回路
は、半導体レーザ10で発生された放射線の強さに比例
した信号V。を発生する。読出し信号V1とこの信号V
..は通常のタイプの割算回路51に加えられ、この割
算回路は、読出し信号Vlを信号V,で割算することに
よって補正された読出し信号V,′を取出す。
記録された情報パターンを表わす補正された読出し信号
は分析回路に加えられ、この分析回路は、確認ビームl
4で走査された情報パターンか特定の最適条件より偏差
する程度を示す分析信号V.を取出す。この分析信号V
.はレーザ制御回路7に加えられ、このレーザ制御回路
は、分析信号V.の影響の下で、該分析信号V.により
表われる偏差を最小にするように半導体レーザ40の制
御を適応させる。前記の分析回路52は、例えば、情報
信号V,が書込みビームl3と確認ビーム14間の距離
に相当する特定の時間遅延された後に補正された読出し
信号V , /と情報信号V+か加えられる比較器を有
することかできる。このような分析回路は中でも米国特
許第4, 448, 277号に詳しく説明されていて
参考になる。記録されるべき情報信号か直流分の無い(
dc free)信号例えばCD信号域はVLP信号な
らば、{ml報パターンの読出しによって得られる信号
も直流分の無い信号でなければならない。
は分析回路に加えられ、この分析回路は、確認ビームl
4で走査された情報パターンか特定の最適条件より偏差
する程度を示す分析信号V.を取出す。この分析信号V
.はレーザ制御回路7に加えられ、このレーザ制御回路
は、分析信号V.の影響の下で、該分析信号V.により
表われる偏差を最小にするように半導体レーザ40の制
御を適応させる。前記の分析回路52は、例えば、情報
信号V,が書込みビームl3と確認ビーム14間の距離
に相当する特定の時間遅延された後に補正された読出し
信号V , /と情報信号V+か加えられる比較器を有
することかできる。このような分析回路は中でも米国特
許第4, 448, 277号に詳しく説明されていて
参考になる。記録されるべき情報信号か直流分の無い(
dc free)信号例えばCD信号域はVLP信号な
らば、{ml報パターンの読出しによって得られる信号
も直流分の無い信号でなければならない。
信号が直流分のない信号から偏差する程度は、補正され
た読出し信号V,′における動作周期または第2調波成
分で表されることかできる。実際に、直流分の無い信号
は5096の平均動作周期を有し、第2調波信号成分を
有しない。したかって50%からの平均動作周期の偏差
または第2調波信号成分の存在を、第2調波成分か減少
されるか或は動作周期を50%値により近づけるように
半導体レーザ制御を適応するのに用いることができる。
た読出し信号V,′における動作周期または第2調波成
分で表されることかできる。実際に、直流分の無い信号
は5096の平均動作周期を有し、第2調波信号成分を
有しない。したかって50%からの平均動作周期の偏差
または第2調波信号成分の存在を、第2調波成分か減少
されるか或は動作周期を50%値により近づけるように
半導体レーザ制御を適応するのに用いることができる。
動作周期検出器または第2調波を用いた分析回路は米国
特許第4, 225, 873号に詳しく説明されてい
て参考になる。
特許第4, 225, 873号に詳しく説明されてい
て参考になる。
第6図は分析回路52の別の実施例を示したもので、こ
の分析回路は、補正された読出し信号V1′と参照信号
V r e fが夫々非反転入力と反転入力に加えられ
る比較器60を有する。この比較器60の出力信号は積
分回路6lに加えられる。その上、補正された読出し信
号V ,/は正ピーク検出器62と負ピーク検出器63
に加えられ、これ等の検出器は夫々補正された読出し信
号VI′の最大信号レベルと最小信号レベルを検出し、
これを、1/2のゲインファクタを有する加算器回路6
4に加え、このため該加算器回路64の出力の信号レベ
ルは補正された読出し信号V . lの最小と最大信号
レベルの中間に位置する。加算器回路64の出力の信号
は参照信号V r e T 2として差動増幅器65の
反転入力に加えられ、参照信号V,.,は積分回路6l
の出力から差動増幅器65の非反転入力に加えられる。
の分析回路は、補正された読出し信号V1′と参照信号
V r e fが夫々非反転入力と反転入力に加えられ
る比較器60を有する。この比較器60の出力信号は積
分回路6lに加えられる。その上、補正された読出し信
号V ,/は正ピーク検出器62と負ピーク検出器63
に加えられ、これ等の検出器は夫々補正された読出し信
号VI′の最大信号レベルと最小信号レベルを検出し、
これを、1/2のゲインファクタを有する加算器回路6
4に加え、このため該加算器回路64の出力の信号レベ
ルは補正された読出し信号V . lの最小と最大信号
レベルの中間に位置する。加算器回路64の出力の信号
は参照信号V r e T 2として差動増幅器65の
反転入力に加えられ、参照信号V,.,は積分回路6l
の出力から差動増幅器65の非反転入力に加えられる。
差動増幅器65の2つの入力信号の差を示す該増幅器6
5の出力は、分析信号V.とじて機能する。第6図に示
した分析回路は次のように働く。積分回路6lから比較
器60の反転入力へのフィードバックの結果、積分回路
の出力の参照信号V r * Iは、比較器60の出力
信号V0が平均零になるレベルに設定される。
5の出力は、分析信号V.とじて機能する。第6図に示
した分析回路は次のように働く。積分回路6lから比較
器60の反転入力へのフィードバックの結果、積分回路
の出力の参照信号V r * Iは、比較器60の出力
信号V0が平均零になるレベルに設定される。
若し補正された読出し信号Vl’か直流成分無しであれ
ば、このことは、参照信号の信号レベルか補正された読
出し信号の最大と最小信号レベルの中間に位置すること
を意味する。若し補正された読出し信号が直流成分無し
でなければ、参照信号V r e Iの信号レベルは最
早や補正された読出し信号の最大と最小の中間に位置し
ない。参照信号V r a lが、参照信号V r @
l 2で示される信号レベルより偏差する程度はこの
場合補正された読出し信号が直流分無しの信号より偏差
する程度を表わす。
ば、このことは、参照信号の信号レベルか補正された読
出し信号の最大と最小信号レベルの中間に位置すること
を意味する。若し補正された読出し信号が直流成分無し
でなければ、参照信号V r e Iの信号レベルは最
早や補正された読出し信号の最大と最小の中間に位置し
ない。参照信号V r a lが、参照信号V r @
l 2で示される信号レベルより偏差する程度はこの
場合補正された読出し信号が直流分無しの信号より偏差
する程度を表わす。
第7a図は、情報信号V1、光学的に検出可能なマーク
8の関係した情報パターン、および、情報信号と補正さ
れた読出し信号VI′の両方か直流分無しの場合の補正
された読出し信号V . /を示す。
8の関係した情報パターン、および、情報信号と補正さ
れた読出し信号VI′の両方か直流分無しの場合の補正
された読出し信号V . /を示す。
第7b図と7c図は、情報信号V,と、半導体レーザl
Oか最適に制御されずその結果直流分無しでない信号V
, lが生じる場合の関係の情報パターンおよび補正
された読出し信号V1′を示す。例えば、第7b図の光
学的に検出可能なマーク8は短すぎ、このため、積分回
路61で発生された参照信号V、1の信号レベルは比較
的低く、一方第7c図ではマークは長すぎ、このため、
参照信号V、.1の信号レベルは比較的高い。参照信号
V y a I 2と参照信号V r * Iの差を示
す分析信号V.は、半導体レーザ10の制御を適応させ
るのに用いることができる。これは、例えば、強さ変調
の動作周期を適応させることによって可能である。分析
信号か、記録された光学的に検出可能なマークか短かす
ぎることを示した第7b図の場合には、強さ変調の動作
周期を情報信号■1の動作周期よりも大きくすることに
よってこれを行うことができ、一方第7C図に示した状
態においては、強さ変調の動作周期は情報信号の動作周
期よりも小さくあるべきてある。
Oか最適に制御されずその結果直流分無しでない信号V
, lが生じる場合の関係の情報パターンおよび補正
された読出し信号V1′を示す。例えば、第7b図の光
学的に検出可能なマーク8は短すぎ、このため、積分回
路61で発生された参照信号V、1の信号レベルは比較
的低く、一方第7c図ではマークは長すぎ、このため、
参照信号V、.1の信号レベルは比較的高い。参照信号
V y a I 2と参照信号V r * Iの差を示
す分析信号V.は、半導体レーザ10の制御を適応させ
るのに用いることができる。これは、例えば、強さ変調
の動作周期を適応させることによって可能である。分析
信号か、記録された光学的に検出可能なマークか短かす
ぎることを示した第7b図の場合には、強さ変調の動作
周期を情報信号■1の動作周期よりも大きくすることに
よってこれを行うことができ、一方第7C図に示した状
態においては、強さ変調の動作周期は情報信号の動作周
期よりも小さくあるべきてある。
強さ変調の動作周期を適応させる回路は、中でも、前記
の米国特許第4, 488. 277号に詳しく説明さ
れている。けれども、放射線ビームの強さの方か情報記
録において遥かに臨界的なパラメータなので、強さ変調
の動作周期の代りに放射線の強さを適応させる方が好ま
しい。更に、最適な書込み強さは、異なる記録担体に対
して著しく変る。
の米国特許第4, 488. 277号に詳しく説明さ
れている。けれども、放射線ビームの強さの方か情報記
録において遥かに臨界的なパラメータなので、強さ変調
の動作周期の代りに放射線の強さを適応させる方が好ま
しい。更に、最適な書込み強さは、異なる記録担体に対
して著しく変る。
第8図は、半導体レーザlOにより発生された放射線の
強さを分析信号V.の影響下で自動的に最適化する制御
回路7の一実施例を示す。この制御回路7は、分析信号
V.が加えられる積分回路82を有する。この積分回路
82の出力信号は加算器回路83の2つの入力の一方に
加えられ、その他方の入力には信号S0が加えられる。
強さを分析信号V.の影響下で自動的に最適化する制御
回路7の一実施例を示す。この制御回路7は、分析信号
V.が加えられる積分回路82を有する。この積分回路
82の出力信号は加算器回路83の2つの入力の一方に
加えられ、その他方の入力には信号S0が加えられる。
この信号S0は、書込みビームl3の公称書込みレベル
I.に対応する信号レベルを有する。人力に加えられた
信号の和を表わす加算器回路の出力信号は、電子的に制
御可能なスイッチ84の2つの信号入力の一方に加えら
れる。書込みビームl3の読出し強さレベル■に対応す
る信号L0かスイッチ84の他方の信号入力に加えられ
る。情報信号■1はスイッチ84の制御人力に加えられ
る。このスイッチ84は通常のタイプのもので、制御信
号V,の論理信号レベルに応じてその信号入力の信号の
一方を信号出力に伝達する。したがって書込みビームl
3の所望の強さレベルを常に示すスイッチ84の信号出
力は、半導体レーザlOの強さを該スイッチの出力信号
で示されたレベルに設定する制御回路に加えられる。こ
の制御回路は、発生された放射線の強さを測定するため
の放射線感応ダイオード50と、このダイオード50で
測定された強さをスイッチ84の出力信号により示され
た所望の強さと比較する比較器回路8lとを有する。比
較の結果に応じて、比較器回路8lは、半導体レーザl
Oに対する制御電流を発生する制御可能な電流源80を
、ダイオード50で検出された放射線の強さかスイッチ
84の出力信号で示された所望値と等しいように制御す
る。第8図に示した制御回路は次のように働く。若し分
析信号V.か、記録されたマーク8か短かすぎるか或は
長すぎることを示すと、積分回路82の出力の電圧レベ
ルは増加されるか或は減少される。この結果、書込みビ
ーム13の書込み強さ、したかって記録されたマーク8
の長さか適応される。このように、書込みビームl3の
書込み強さは、分析信号V.か零になりしたがって書込
みビームの強さが最適となる迄絶えず適応される。
I.に対応する信号レベルを有する。人力に加えられた
信号の和を表わす加算器回路の出力信号は、電子的に制
御可能なスイッチ84の2つの信号入力の一方に加えら
れる。書込みビームl3の読出し強さレベル■に対応す
る信号L0かスイッチ84の他方の信号入力に加えられ
る。情報信号■1はスイッチ84の制御人力に加えられ
る。このスイッチ84は通常のタイプのもので、制御信
号V,の論理信号レベルに応じてその信号入力の信号の
一方を信号出力に伝達する。したがって書込みビームl
3の所望の強さレベルを常に示すスイッチ84の信号出
力は、半導体レーザlOの強さを該スイッチの出力信号
で示されたレベルに設定する制御回路に加えられる。こ
の制御回路は、発生された放射線の強さを測定するため
の放射線感応ダイオード50と、このダイオード50で
測定された強さをスイッチ84の出力信号により示され
た所望の強さと比較する比較器回路8lとを有する。比
較の結果に応じて、比較器回路8lは、半導体レーザl
Oに対する制御電流を発生する制御可能な電流源80を
、ダイオード50で検出された放射線の強さかスイッチ
84の出力信号で示された所望値と等しいように制御す
る。第8図に示した制御回路は次のように働く。若し分
析信号V.か、記録されたマーク8か短かすぎるか或は
長すぎることを示すと、積分回路82の出力の電圧レベ
ルは増加されるか或は減少される。この結果、書込みビ
ーム13の書込み強さ、したかって記録されたマーク8
の長さか適応される。このように、書込みビームl3の
書込み強さは、分析信号V.か零になりしたがって書込
みビームの強さが最適となる迄絶えず適応される。
情報信号は、情報パターンの記録のために意図されたサ
ーボトラックを有する記録担体に屡々記録される。第9
図はこのような記録担体を示したもので、第9a図は平
面図、第9b図は第9a図の線b一bにおける支持担体
の一部の拡大断面図である。
ーボトラックを有する記録担体に屡々記録される。第9
図はこのような記録担体を示したもので、第9a図は平
面図、第9b図は第9a図の線b一bにおける支持担体
の一部の拡大断面図である。
サーボトラックは符号90を有する。このサーボトラッ
クは、例えば、放射線感応記録層92で被覆された透明
′基板9l内または上に形成された溝または突条を有し
、記録層92が今度は保護層93て被覆されることかで
きる。サーボトラック90は、書込みビームl3を正確
に該サーボトラックに向けさせることができる。換言す
れば、サーボトラックは、径方向の書込みビームの位置
を、記録担体より反射された放射線を用いてトラッキン
グシスムにより制御可能にする。屡々用いられるトラッ
キングシステムは3−ビームトラッキングシステムで、
このシステムは例えば英国特許第1, 434. 83
4号および欧州特許公開公報第0. 210, 603
号に説明されている。
クは、例えば、放射線感応記録層92で被覆された透明
′基板9l内または上に形成された溝または突条を有し
、記録層92が今度は保護層93て被覆されることかで
きる。サーボトラック90は、書込みビームl3を正確
に該サーボトラックに向けさせることができる。換言す
れば、サーボトラックは、径方向の書込みビームの位置
を、記録担体より反射された放射線を用いてトラッキン
グシスムにより制御可能にする。屡々用いられるトラッ
キングシステムは3−ビームトラッキングシステムで、
このシステムは例えば英国特許第1, 434. 83
4号および欧州特許公開公報第0. 210, 603
号に説明されている。
第lO図はこのような3−ビームトラッキングシスムの
一例を略図で示したもので、放射線ビーム11は、該放
射線ビームを強い零次(zero order)ビーム
100bと2つの弱いl次(f irst−order
)ビームとに分けるように、格子100に向けられる。
一例を略図で示したもので、放射線ビーム11は、該放
射線ビームを強い零次(zero order)ビーム
100bと2つの弱いl次(f irst−order
)ビームとに分けるように、格子100に向けられる。
ビーム101は、対物レンズl02、半透鏡103、軸
104を中心として回動可能な鏡l05、および合焦対
物レンズ106を有する光学システムを経て記録層92
に向けられる。ビーム101aとloleは夫々リーデ
ィングサテライトビーム(leading satel
lite beam)とトレーリングサテライトビーム
(trailingsatellite beam)を
形成し、これ等のビームは、矢印5で示した運動方向に
見て、ビーム10lbの前と後ろにおいて記録層92に
入射する。記録層92への各ビームiota, IQl
bおよび101cのランデングスポットは第11図に夫
々lloa, iiobおよびllocて示してある。
104を中心として回動可能な鏡l05、および合焦対
物レンズ106を有する光学システムを経て記録層92
に向けられる。ビーム101aとloleは夫々リーデ
ィングサテライトビーム(leading satel
lite beam)とトレーリングサテライトビーム
(trailingsatellite beam)を
形成し、これ等のビームは、矢印5で示した運動方向に
見て、ビーム10lbの前と後ろにおいて記録層92に
入射する。記録層92への各ビームiota, IQl
bおよび101cのランデングスポットは第11図に夫
々lloa, iiobおよびllocて示してある。
これ等のビームは、ビーム10lbかサーボトラック9
0に中心を置く場合にはサテライトビーム101aとl
o1bのランデングスポット110aと1100は夫々
実質的にサーボトラック90の縁に入射するように向け
られる。記録層92より反射されたビームは、次いて、
合焦対物レンズl06、鏡105および半透鏡103を
経て、複数の放射線感応ダイオードを有する放射線感応
検出システム107に向けられる。放射線感応ダイオー
ドで発生された信号電流は通常のやり方でトラッキング
エラー信号を取出すのに用いられ、この信号から、トラ
ッキングエラー信号を最小にするようにアクチュエー夕
によって鏡105を回す制御信号が取出される。
0に中心を置く場合にはサテライトビーム101aとl
o1bのランデングスポット110aと1100は夫々
実質的にサーボトラック90の縁に入射するように向け
られる。記録層92より反射されたビームは、次いて、
合焦対物レンズl06、鏡105および半透鏡103を
経て、複数の放射線感応ダイオードを有する放射線感応
検出システム107に向けられる。放射線感応ダイオー
ドで発生された信号電流は通常のやり方でトラッキング
エラー信号を取出すのに用いられ、この信号から、トラ
ッキングエラー信号を最小にするようにアクチュエー夕
によって鏡105を回す制御信号が取出される。
本発明は、3−ビームトラッキングシステムと一緒に使
用するのに非常に適している。その場合ビームlo1b
を書込みビームとして使用し、半導体レーザの強さを変
調することによりその強さを変調することかできる。ト
レーリングサテライトビームlolcは確認ビームとし
て使用することかできる。サーボトラック90の間隔か
非常に接近しているためトレーリングサテライトビーム
lo1cのランデングスポットl lOcが隣接トラッ
クと部分的にオーハーラップする場合には次のようにビ
ーム101を向けるのが好ましい、すなわち、トレーリ
ングビーム101cのランデングスポットl10cか、
光学的に検出可能なマーク8が未た記録されていないサ
ーボトラックに隣接するようにする。これにより、隣接
トラックよりの書込み信号Vlのクロストークが防がれ
る。
用するのに非常に適している。その場合ビームlo1b
を書込みビームとして使用し、半導体レーザの強さを変
調することによりその強さを変調することかできる。ト
レーリングサテライトビームlolcは確認ビームとし
て使用することかできる。サーボトラック90の間隔か
非常に接近しているためトレーリングサテライトビーム
lo1cのランデングスポットl lOcが隣接トラッ
クと部分的にオーハーラップする場合には次のようにビ
ーム101を向けるのが好ましい、すなわち、トレーリ
ングビーム101cのランデングスポットl10cか、
光学的に検出可能なマーク8が未た記録されていないサ
ーボトラックに隣接するようにする。これにより、隣接
トラックよりの書込み信号Vlのクロストークが防がれ
る。
第1図は光学記録装置の略斜視図、
第2図は光学記録ヘッドの詳細を示す線図、第3図は記
録ヘッドに用いられる半導体レーザに対する制御信号、
発生されたレーザ放射線の対応した強さの変化および合
成情報パターンを示す線図、 第4図は発生された放射線、読出し信号および補正され
た読出し信号を示す線図、 第5図は本発明の記録装置の一実施例に用いられる補正
回路の回路図、 第6図は分析回路の一実施例の回路図、第7a図乃至第
7C図は放射線源の異なる強さ設定に対する補正された
読出し信号の変化を夫々示す線図、 第8図は適応回路の一実施例の回路図、第9a図はサー
ボトラックを有する記録担体の平面図、 第9b図は第1図のb−bにおける一部の拡大断面図、 第lO図は3−ビームトラッキングシステムの略線図、 第1l図は3−ビームトラッキングシステムの記録担体
上のランデングスポットを示す線図てある。 2・・・駆動モータ 4・・・記録担体 6・・・記録ヘッド 7・・・制御回路 10・・・放射線源 52・・・分析回路 6l・・・積分回路 90・・・サーボトラック 92・・・放射線感応記録層 Uつ αフ U二 し二 ト CI)
録ヘッドに用いられる半導体レーザに対する制御信号、
発生されたレーザ放射線の対応した強さの変化および合
成情報パターンを示す線図、 第4図は発生された放射線、読出し信号および補正され
た読出し信号を示す線図、 第5図は本発明の記録装置の一実施例に用いられる補正
回路の回路図、 第6図は分析回路の一実施例の回路図、第7a図乃至第
7C図は放射線源の異なる強さ設定に対する補正された
読出し信号の変化を夫々示す線図、 第8図は適応回路の一実施例の回路図、第9a図はサー
ボトラックを有する記録担体の平面図、 第9b図は第1図のb−bにおける一部の拡大断面図、 第lO図は3−ビームトラッキングシステムの略線図、 第1l図は3−ビームトラッキングシステムの記録担体
上のランデングスポットを示す線図てある。 2・・・駆動モータ 4・・・記録担体 6・・・記録ヘッド 7・・・制御回路 10・・・放射線源 52・・・分析回路 6l・・・積分回路 90・・・サーボトラック 92・・・放射線感応記録層 Uつ αフ U二 し二 ト CI)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、放射線源により発生された放射線の書込みビームを
記録層に向ける手段と、書込みビームと記録担体間の相
対運動を得るための駆動手段と、情報を表わす光学的に
検出可能なマークの情報パターンを形成するために、放
射線源で発生された放射線の強さを、記録すべき情報に
従って制御する制御回路と、書込みビームより強さの小
さい確認ビームを該確認ビームが書込みビームを追跡し
且つ書込みビームによって形成された情報パターンで変
調されるように記録層に向ける手段と、変調された確認
ビームを対応した読取り信号に変換する手段とを有する
、放射線感応記録層を有する記録担体に情報を記録する
装置において、書込みビームと確認ビームは同じ放射線
源より生じ、装置は更に、放射線源で発生された放射線
の瞬時の強さを表わす補正信号を発生する回路と、補正
信号と読出し信号から、放射線源で発生された放射線の
瞬時の強さで割算された読出し信号を表わす補正された
読出し信号を取出す補正回路とを有することを特徴とす
る記録装置。 2、補正された読出し信号から、確認ビームで走査され
た情報パターンか特定の最適条件より偏差した程度を表
わす分析信号を取出す分析回路と、分析信号に応じて放
射線源の制御を適応させる適応回路とを有することを特
徴とする請求項1記載の記録装置。 3、補正された信号を第1参照信号と比較する第1比較
器と、この比較器よりの、第1参照信号と補正された読
出し信号の差を表わす出力信号から、積分によって第1
参照信号を取出す積分回路と、補正された読出し信号の
最小と最大信号値の略々中間に位置する信号レベルを有
する第2参照信号を取出す回路と、第1参照信号と第2
参照信号とを比較し、分析信号として、これ等2つの参
照信号の差を表わす信号を発生する第2比較器とを有す
ることを特徴とする請求項2記載の記録装置。 4、適応回路は、放射線源で発生された変調された放射
線の強さに適応する手段を有することを特徴とする請求
項2または3記載の記録装置。 5、記録層への書込みビームのランデングスポットの中
心とサーボトラックの中心間の偏差を表わすトラッキン
グエラー信号を取出すために、装置は、放射線源により
発生された2つのサテライトビームを記録層に向ける手
段を有し、この場合、書込みビームがサーボトラックに
中心をおく場合に両サテライトビームの夫々かサーボト
ラックの2つの縁の1つに入射するように、一方のサテ
ライトビームは或る一定の距離で書込みビームに先行し
また他方のサテライトビームは或る一定の距離で書込み
ビームに追随し、また装置は、トレーリングサテライト
ビームを確認ビームとして用いることを特徴とする、記
録担体上のプレフォームされたトラックに情報を記録す
るための請求項1乃至4の何れか1項記載の記録装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8901588A NL8901588A (nl) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | Inrichting voor het optekenen van informatie op een registratiedrager met een stralingsgevoelige laag. |
NL8901588 | 1989-06-23 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0330121A true JPH0330121A (ja) | 1991-02-08 |
JP3145099B2 JP3145099B2 (ja) | 2001-03-12 |
Family
ID=19854890
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16002590A Expired - Lifetime JP3145099B2 (ja) | 1989-06-23 | 1990-06-20 | 放射線感応層を有する記録担体に情報を記録する装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5105413A (ja) |
EP (1) | EP0404247B1 (ja) |
JP (1) | JP3145099B2 (ja) |
KR (1) | KR100245544B1 (ja) |
DE (1) | DE69024709T2 (ja) |
NL (1) | NL8901588A (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5303217A (en) * | 1989-06-23 | 1994-04-12 | U.S. Philips Corporation | Optical recording device wherein recording beam intensity is set in accordance with an optimum value of the DC component of a recorded signal |
US5475210A (en) * | 1991-09-09 | 1995-12-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Noise reduction system for optical record and reproduction apparatus using auto-power controlled semiconductor laser device |
JP3224844B2 (ja) * | 1991-09-09 | 2001-11-05 | 株式会社東芝 | 光ディスク装置 |
NL9200397A (nl) * | 1992-03-04 | 1993-10-01 | Philips Nv | Informatie-optekeninrichting. |
JP3770921B2 (ja) * | 1993-03-31 | 2006-04-26 | 三菱電機株式会社 | 光ディスク装置 |
DE4415508A1 (de) | 1994-05-03 | 1995-11-09 | Thomson Brandt Gmbh | Abtastgerät mit Adaptation |
US5808991A (en) * | 1995-03-06 | 1998-09-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical information recording and reproducing apparatus and method which enable recording and verifying at the same time |
US5646919A (en) * | 1996-01-16 | 1997-07-08 | Eastman Kodak Company | Dynamic tracking control in an optical recording system by sensing mark formation |
US5978334A (en) * | 1997-10-24 | 1999-11-02 | Eastman Kodak Company | Sampling timing for a reflected write signal |
US6578164B1 (en) | 2000-07-12 | 2003-06-10 | Iomega Corporation | Method for detecting transient write errors in a disk drive having a dual transducer slider |
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