JPH03260056A - Metal oxide-coated plastic - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、金属酸化物層が被覆されたプラスチックに関
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to plastics coated with a metal oxide layer.
（従来の技術）
各種のプラスチック基材面に、金属酸化物を蒸着等の手
段により積層した各種製品の開発が行われている。(Prior Art) Various products are being developed in which metal oxides are laminated on the surface of various plastic substrates by means such as vapor deposition.
しかし、プラスチック基材と金属酸化物とは、一般に密
着性が悪い。特に、フッ素系プラスチック等の無極性の
プラスチック基材を用いる場合は、金属酸化物との密着
性が著しく悪い。そのため、フッ素系プラスチック等の
無極性のプラスチック基材の有する優れた特性、例えば
耐熱性、耐薬品性、耐屈曲性、電気的特性及び低い摩擦
係数等の優れた特性が充分に生かされない。However, plastic base materials and metal oxides generally have poor adhesion. In particular, when a nonpolar plastic base material such as fluorine-based plastic is used, the adhesion to metal oxides is extremely poor. Therefore, the excellent properties of non-polar plastic substrates such as fluoroplastics, such as heat resistance, chemical resistance, bending resistance, electrical properties, and low coefficient of friction, are not fully utilized.
プラスチック基材の密着性を改良する方法として、両層
の間に有機バインダーの薄層を形成する方法、両層の間
に一酸化ケイ素の薄層を形成する方法、両層の間にアル
カリ金属等の薄層を形成する方法が知られている（例え
ば、特開昭５６−２８２２４号公報、特公昭６０−１２
６０１号公報、特開昭６１−２６７７０１号公報、特開
昭６１−２５１８０１号公報参照）。Methods to improve the adhesion of plastic substrates include forming a thin layer of organic binder between both layers, forming a thin layer of silicon monoxide between both layers, and adding an alkali metal between both layers. There are known methods for forming thin layers such as (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-28224, Japanese Patent Publication No. 60-12).
601, JP-A No. 61-267701, and JP-A No. 61-251801).
（発明が解決しようとする課題）
ところが、有機バインダーを用いる方法は、よけいな塗
布工程が必要であり、密着性もあまり向上しない。−酸
化ケイ素を用いる方法は、耐湿性が悪く、高温高湿下で
の密着性が低下する。また、アルカリ金属等を用いる方
法は、水や酸素と反応し易く取扱が非常に難しく、実用
的でない。(Problems to be Solved by the Invention) However, the method using an organic binder requires extra coating steps and does not improve adhesion much. - Methods using silicon oxide have poor moisture resistance and poor adhesion under high temperature and high humidity conditions. Furthermore, methods using alkali metals and the like tend to react with water and oxygen, making handling extremely difficult and impractical.
本発明は、上記の問題を解決するものであり、その目的
とするところは、無極性のプラスチック基材と金属酸化
物層とが強固に密着した金属酸化物被覆プラスチックを
提供することにある。The present invention is intended to solve the above-mentioned problems, and its purpose is to provide a metal oxide-coated plastic in which a nonpolar plastic base material and a metal oxide layer are firmly adhered to each other.
（課題を解決するための手段）
第１の発明では、無極性のプラスチック基材面に、ジル
コニウム、ニッケルもしくはチタンの酸化物を主成分と
する金属酸化物の層が積層されている。(Means for Solving the Problems) In the first invention, a layer of a metal oxide whose main component is an oxide of zirconium, nickel, or titanium is laminated on the surface of a nonpolar plastic base material.
無極性のプラスチック基材としては、例えばフッ素樹脂
の基材、オレフィン樹脂の基材等がある。フッ素樹脂と
しては、具体的にはポリテトラフルオロエチレン、テト
ラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエー
テル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオ
ロプロピレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレ
ン、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、クロ
ロトリフルオロエチレン−エチレン共重合体、ポリビニ
リデンフルオライド、ポリビニルフルオライド等がある
。オレフィン樹脂としては、具体的にはポリエチレン、
ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体等があ
る。Examples of non-polar plastic base materials include fluororesin base materials and olefin resin base materials. Examples of the fluororesin include polytetrafluoroethylene, tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, polychlorotrifluoroethylene, and tetrafluoroethylene-ethylene copolymer. Examples include polymers, chlorotrifluoroethylene-ethylene copolymers, polyvinylidene fluoride, and polyvinyl fluoride. Specifically, olefin resins include polyethylene,
Examples include polypropylene and ethylene-propylene copolymer.
このような無極性のプラスチック基材には、予め、コロ
ナ処理、プラズマ処理、プラズマエツチング処理等の公
知の物理的表面処理、或いは混酸処理、溶剤処理等の公
知の化学的表面処理を施しておくのが好ましい。Such a non-polar plastic base material is previously subjected to known physical surface treatments such as corona treatment, plasma treatment, plasma etching treatment, or known chemical surface treatments such as mixed acid treatment and solvent treatment. is preferable.
前記のジルコニウム、ニッケルもしくはチタンの酸化物
を主成分とする金属酸化物の層の最小膜厚は、これ等の
金属酸化物の膜が連続膜となる膜厚以上であればよく、
好ましくは１５０Å以上である。最大膜厚は、好ましく
は１μ−以下がよい。１μ剛以上だとクラックが入りや
すくなる。The minimum thickness of the metal oxide layer containing oxides of zirconium, nickel, or titanium as a main component may be at least the thickness at which the film of these metal oxides becomes a continuous film,
Preferably it is 150 Å or more. The maximum film thickness is preferably 1 μm or less. If the stiffness is more than 1μ, cracks will easily occur.
このような金属酸化物の層の形成にあたっては、原料と
して高純度のジルコニウム酸化物、ニッケル酸化物もし
くはチタン酸化物を使用して蒸着してもよく、また金属
ジルコニウム、金属ニッケルもしくは金属チタンと酸素
ガスとを反応蒸着してもよい。In forming such a metal oxide layer, high-purity zirconium oxide, nickel oxide, or titanium oxide may be used as raw materials for vapor deposition, or metal zirconium, metal nickel, or metal titanium and oxygen may be used. It is also possible to perform reactive vapor deposition with a gas.
蒸着原料による蒸着は高真空下で行うのが好ましく、好
ましくは真空度がＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ以下である
。より好ましくは、ジルコニウムの酸化物の層を形成す
る場合は５ Ｘｌ０−’Ｔｏｒｒ以下であり、ニッケル
もしくはチタンの酸化物の層を形成する場合は２ Ｘ
１０− ’Ｔｏｒｒ以下である。The vapor deposition using the vapor deposition raw material is preferably carried out under high vacuum, and preferably the degree of vacuum is I x 10-' Torr or less. More preferably, when forming a zirconium oxide layer, it is 5 Xl0-' Torr or less, and when forming a nickel or titanium oxide layer, it is 2 X
10-' Torr or less.
形成されるジルコニウム酸化物の膜組成は、ＺｒＯ！を
主成分とし、残部は、Ｍｇ、Ｃａ。The composition of the formed zirconium oxide film is ZrO! The main components are Mg and Ca.
Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ５Ｚｎ。Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni5Zn.
Ａｌ、Ｓｉ、Ｓｒ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｂａ。Al, Si, Sr, Mo, In, Sn, Ba.
Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｂ、Ｚｒ等の金属または金属酸化物
の１種以上が含まれていてもよい。One or more metals or metal oxides such as Hf, Ta, W, Pb, and Zr may be included.
また、ニッケル酸化物の膜組成は、ＮｉＯを主成分とし
、チタン酸化物の膜組成はＴｉ０ｘＣＯ＜Ｘ≦２）（Ｘ
は蒸着中の酸素ガス分圧を変えることにより変化させる
ことができる）を主成分とし、その残部には上記のジル
コニウム酸化物の場合と同様な金属または金属酸化物の
１種以上が含まれていてもよい。なお、ジルコニウム、
ニッケルもしくはチタンの酸化物の成分は、８０重量％
以上であることが好ましい。In addition, the film composition of nickel oxide is mainly composed of NiO, and the film composition of titanium oxide is Ti0xCO<X≦2) (X
can be changed by changing the partial pressure of oxygen gas during deposition), and the remainder contains one or more metals or metal oxides similar to the above-mentioned zirconium oxide. It's okay. In addition, zirconium,
Nickel or titanium oxide component is 80% by weight
It is preferable that it is above.
第２の発明では、無極性のプラスチック基材面に、ジル
コニウム、ニッケルもしくはチタンの酸化物を主成分と
する金属酸化物の層が積層され、さらにその上に異なる
金属酸化物の層が積層されている。In the second invention, a layer of a metal oxide whose main component is an oxide of zirconium, nickel, or titanium is laminated on the surface of a nonpolar plastic base material, and a layer of a different metal oxide is further laminated on top of the metal oxide layer. ing.
最上層（第２層目）を形成する上記金属酸化物は第１層
目を形成する金属酸化物と異なればよく、例えば、Ａ１
．Ｏ，Ｓ ｔｏ、Ｓ ｊｏｇ、ＭｇＯ，ＺｒＯ，、Ｔｔ
Ｏ，、ＺｎＯ等が挙げられ、場合によってはＺｒＯ，Ｎ
ｉｐ、Ｔｉｅ。The metal oxide forming the uppermost layer (second layer) may be different from the metal oxide forming the first layer, for example, A1
．． O, S to, S jog, MgO, ZrO,, Tt
O,, ZnO, etc., and in some cases ZrO, N
ip, Tie.
（０〈ｘ≦２）であってもよい。なお、かかる金属酸化
物は上記のような単一成分てもよいし、これらの混合物
であってもよい。(0<x≦2). The metal oxide may be a single component as described above, or may be a mixture thereof.
これらの金属酸化物の層の膜厚は、用途によって適宜決
めればよいが、一般に１〜３０μｍである。この膜の組
成は用途によって適宜決めればよい。例えば、耐摩耗性
が要求される場合は、最上層としてはＡ１．０３層が好
ましい。また、反射防止性や耐摩傷性が要求される場合
は、最上層としてはＳｉｎ、層が好ましい。The thickness of these metal oxide layers may be appropriately determined depending on the application, but is generally 1 to 30 μm. The composition of this film may be determined as appropriate depending on the application. For example, if wear resistance is required, an A1.03 layer is preferred as the top layer. Further, when antireflection properties and abrasion resistance are required, a Sin layer is preferable as the uppermost layer.
次に、無極性のプラスチック基板面に、金属酸化物の層
を積層する方法について、図面を参照しながら説明する
。Next, a method for laminating a metal oxide layer on the surface of a nonpolar plastic substrate will be described with reference to the drawings.
第１図は、本発明に用いる真空蒸着装置の一例を示す模
式図である。図において、１は真空槽であり、排気口８
に直結される排気装置（図示せず）によって、高真空に
排気されるようになっている。FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a vacuum evaporation apparatus used in the present invention. In the figure, 1 is a vacuum chamber, and an exhaust port 8
It is designed to be evacuated to a high vacuum by an evacuation device (not shown) directly connected to the .
真空槽１内には、蒸発原料５．５１．５２が供給された
冷却装置付きの銅ハース６．６１．６２と電子銃フィラ
メント７が配置されている。たお、銅ハース６．６１．
６２は任意に位置の交換が可能である。銅ハース６の上
方には、所望膜厚で蒸発物を遮るためのシャッター４が
設置されている。また、シャッター４の上方には、無極
性のプラスチック基板３を固定するための基板取付治具
２が設けられている。なお、９は膜厚モニター、１０は
酸素ガス導入口である。In the vacuum chamber 1, a copper hearth 6,61,62 with a cooling device and an electron gun filament 7, to which an evaporation raw material 5,51,52 is supplied, are arranged. Tao, copper hearth 6.61.
62 can be exchanged in position as desired. A shutter 4 is installed above the copper hearth 6 to block evaporated matter with a desired thickness. Further, above the shutter 4, a board mounting jig 2 for fixing a non-polar plastic board 3 is provided. Note that 9 is a film thickness monitor, and 10 is an oxygen gas inlet.
無極性のプラスチック基板３に金属酸化物を蒸着するに
は、真空槽１内のガス圧を一般にｌＸｌ０−’Ｔ ｏ
ｒ ｒ以下の望ましい真空度に減圧し、銅ハース６に蒸
発原料５として、例えば酸化ジルコニウム、−酸化ニッ
ケルもしくは二酸化チタンを供給し、この蒸発原料５を
電子銃フィラメント７によって加熱溶解させ、この蒸発
原料５を蒸発させる。このようにして無極性のプラスチ
ック基材面に、厚さが２００〜２５００λ程度で、例え
ば、二酸化ジルコニウム、−酸化ニッケルもしくは二酸
化チタンからなる金属酸化物の膜層（第１層目）を形成
する。To deposit a metal oxide on a non-polar plastic substrate 3, the gas pressure in the vacuum chamber 1 is generally set to lXl0-'T o
The pressure is reduced to a desired degree of vacuum of r Evaporate raw material 5. In this way, a metal oxide film layer (first layer) having a thickness of approximately 200 to 2500λ and consisting of, for example, zirconium dioxide, -nickel oxide, or titanium dioxide is formed on the nonpolar plastic base material surface. .
次いで、蒸発原料５１として、例えば、二酸化ケイ素が
供給された銅ハース６１と銅ハース６の位置を交代させ
、銅ハース６１の二酸化ケイ素を加熱蒸発させ、上記の
二酸化ジルコニウム、酸化ニッケルもしくは二酸化チタ
ンの膜層上に、二酸化ケイ素からなる金属酸化物の膜層
（第２層目）を形成する。Next, as the evaporation raw material 51, for example, the positions of the copper hearth 61 and the copper hearth 6 to which silicon dioxide is supplied are changed, and the silicon dioxide in the copper hearth 61 is heated and evaporated, and the zirconium dioxide, nickel oxide, or titanium dioxide mentioned above is heated and evaporated. A metal oxide film layer (second layer) made of silicon dioxide is formed on the film layer.
さらに、第３層目を形成するときには、蒸発原料５２と
して、例えば酸化アルミニウムが供給された銅ハース６
２と銅ハース６１の位置を交代させ、電子ビーム加熱に
より酸化アルミニウムを蒸発させ、上記の二酸化ケイ素
の膜層上に酸化アルごニウムの膜層（第３層目）を形成
する。Furthermore, when forming the third layer, a copper hearth 6 to which aluminum oxide, for example, is supplied as the evaporation raw material 52
2 and the copper hearth 61 are exchanged, aluminum oxide is evaporated by electron beam heating, and an argonium oxide film layer (third layer) is formed on the silicon dioxide film layer.
これ等の金属酸化物の層を形成する際に、無極性のプラ
スチック基板の熱変形温度以上で形成すれば、クラック
や剥離が生じやすくなるので、基板の熱変形温度以下で
形成されるのが好ましい、また、第２層目や第３層目を
形成するときに、真空を破ると蒸着膜表面に水の吸着や
ゴ果の付着が起こりやすくなるため、減圧状態を維持し
ながら連続して第２層目や第３層目を形成するのが好ま
しい。When forming these metal oxide layers, if they are formed at a temperature higher than the heat distortion temperature of a non-polar plastic substrate, cracks and peeling will easily occur, so it is best to form them below the heat distortion temperature of the substrate. Preferably, when forming the second or third layer, if the vacuum is broken, water adsorption and fruit adhesion are likely to occur on the surface of the deposited film. It is preferable to form a second layer or a third layer.
上記の金属酸化物の層形成方法においては、電子ビーム
加熱方式による真空蒸着法を示したが、その他スパッタ
リング、イオンブレーティング、真空蒸着法等の物理蒸
着法を用いることができる。In the method for forming the metal oxide layer described above, a vacuum evaporation method using an electron beam heating method is shown, but other physical vapor deposition methods such as sputtering, ion blasting, and vacuum evaporation can also be used.
（実施例） 以下に、本発明の実施例及び比較例を説明する。(Example) Examples and comparative examples of the present invention will be described below.
なお、性能評価において、金属酸化物層の密着性は、試
料を６０℃、９６％ＲＨの恒温恒湿槽内に７日間放置し
た後、ＪＩＳ Ｄ−０２０２に準じてクロスカットテー
プ剥離試験を行った。In the performance evaluation, the adhesion of the metal oxide layer was determined by leaving the sample in a constant temperature and humidity chamber at 60°C and 96% RH for 7 days, and then performing a cross-cut tape peeling test in accordance with JIS D-0202. Ta.
すなわち、剃刀刃を用いて蒸着された金属酸化物膜層の
表面にｌ−間隔に切り目を入れ、１ＩＩ１１２の枡目を
１００個形威形成る。ついで、その上に市販のセロファ
ン粘着テープを強く押し付けた後、表面から９０°方向
へ引張り剥離した後、蒸着膜の残っている枡目の数（個
／１００）をもって密着性の指標とした。That is, cuts are made at l-intervals on the surface of the deposited metal oxide film layer using a razor blade to form 100 1II112 squares. Next, a commercially available cellophane adhesive tape was strongly pressed onto the tape and then pulled off in a 90° direction from the surface, and the number of squares remaining in the deposited film (cells/100) was used as an index of adhesion.
１蓬貫よ
無極性のプラスチック基板として、厚さ５０μのテトラ
フルオロエチレン−へキサフルオロプロピレン共重合体
（ネオフロンＦＥＰ ＮＦＯＯ５０：ダイキン工業■社
製）を用いた。1. As a non-polar plastic substrate, a 50 μ thick tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (Neoflon FEP NFOO50: manufactured by Daikin Industries, Ltd.) was used.
金属酸化物層の形成は、第１図に示す真空蒸着装置を用
いて行った。蒸発原料５としては、高純度の二酸化ジル
コニウム（電子ビーム蒸着用ペレット）を用い、この蒸
発原料５の加熱は、電子ビーム加熱式であり、電子銃は
日電アネルバ■製の２に一３連Ｅ型電子銃（型名７９８
０−７１０４）である。The metal oxide layer was formed using a vacuum evaporation apparatus shown in FIG. As the evaporation raw material 5, high-purity zirconium dioxide (pellets for electron beam evaporation) is used, and the heating of this evaporation raw material 5 is an electron beam heating type, and the electron gun is a 2-13 series E manufactured by Nichiden Anelva ■. Model electron gun (model name 798
0-7104).
金属酸化物層の形成手順は、まず無極性のプラスチック
基板３を蒸発原料５から上方３０ｃｍの位置に取り付け
た後、所定の真空に排気し、電子ビーム加熱により蒸発
原料５を加熱して、第１表に示した条件で二酸化ジルコ
ニウムの膜層（第１層目）を形成した。この膜層の密着
性は１００（個／１００）であった。The procedure for forming the metal oxide layer is to first attach a non-polar plastic substrate 3 to a position 30 cm above the evaporation source 5, then evacuate to a predetermined vacuum, heat the evaporation source 5 by electron beam heating, and then heat the evaporation source 5. A zirconium dioxide film layer (first layer) was formed under the conditions shown in Table 1. The adhesion of this film layer was 100 (pieces/100).
１蓬側１
実施例１と同様にして二酸化ジルコニウムの膜Ｎ（第１
層目）を形成した後、さらに、真空度を破ることなく、
引続いて蒸発原料５１として特級の二酸化ケイ素を用い
、第１表に示した条件でＳｉｎ、の膜層（第２層目）を
形成した。1 Folding side 1 In the same manner as in Example 1, zirconium dioxide film N (first
After forming the layer), without breaking the vacuum,
Subsequently, a film layer (second layer) of Sin was formed using special grade silicon dioxide as the evaporation raw material 51 under the conditions shown in Table 1.
この膜層の密着性は１００（個／１００）であった。The adhesion of this film layer was 100 (pieces/100).
尖搭銖１
蒸発原料５として、分析用の二酸化ジルコニウムを用い
たこと以外は、実施例１と同様に行った。この膜層の密
着性は１００（個／１００）であった。Point 1 The same procedure as in Example 1 was carried out except that zirconium dioxide for analysis was used as the evaporation raw material 5. The adhesion of this film layer was 100 (pieces/100).
尖施銖土
蒸発原料５として、分析用の二酸化ジルコニウムを用い
たこと以外は、実施例２と同様に行った。この膜層の密
着性は１００（個／１００）であった。Example 2 was carried out in the same manner as in Example 2, except that zirconium dioxide for analysis was used as the evaporated raw material 5 for evaporation of sludge. The adhesion of this film layer was 100 (pieces/100).
尖施舛ｉ
厚さ５０μのテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロ
プロピレン共重合体（ネオフロンＦＥＰＮＦＯＯ５０：
ダイキン工業■社製）を用い、これを高周波スパッタリ
ング装置（１３，５６ＭＨｚ）に供給し、４ Ｘ １０
− ’Ｔｏｒｒまで減圧した後、酸素ガスを導入してＩ
Ｘ １０− ”Ｔｏｒｒに保ち、高周波電力２５Ｗで
１分間高周波プラズマ処理をした。Tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (Neoflon FEPNFOO50:
This was supplied to a high frequency sputtering device (13,56 MHz) using a 4 x 10
- After reducing the pressure to 'Torr, introduce oxygen gas and
High-frequency plasma treatment was performed for 1 minute at a high-frequency power of 25 W while maintaining the temperature at X 10-'' Torr.
このプラズマ処理した無極性のプラスチック基板を用い
たこと以外は、実施例２と同様に行った。この膜層の密
着性は１００（個／１００）であった。The same procedure as in Example 2 was carried out except that this plasma-treated non-polar plastic substrate was used. The adhesion of this film layer was 100 (pieces/100).
夾施拠ｉ
蒸発原料５として、高純度の一酸化ニッケル（電子ビー
ム蒸着用ペレット）を用いたこと以外は、実施例１と同
様に行った。この膜層の密着性は１００（個／１００）
であった。Example 1 The same procedure as in Example 1 was conducted except that high-purity nickel monoxide (electron beam evaporation pellets) was used as the evaporation raw material 5. The adhesion of this film layer is 100 (pieces/100)
Met.
尖施旌工
蒸発原料５として、特級の金属ニッケルを使用し、真空
槽内に酸素ガスを導入しながら１．５ＸＩＯ−’Ｔｏｒ
ｒで蒸着したこと以外は、実施例１と同様に行った（こ
の場合は、金属ニッケルが酸化されて一酸化ニッケルの
膜層が形成される）。Special grade metal nickel is used as the evaporation raw material 5, and 1.5XIO-'Tor is used while introducing oxygen gas into the vacuum chamber.
The process was carried out in the same manner as in Example 1, except that the vapor deposition was performed using r (in this case, metallic nickel was oxidized to form a nickel monoxide film layer).
この膜層の密着性は１００（個／１００）であった。The adhesion of this film layer was 100 (pieces/100).
尖施囲主
蒸発原料５として、高純度の一酸化ニッケルを用いたこ
と以外は、実施例２と同様に行った。The same procedure as in Example 2 was conducted except that high-purity nickel monoxide was used as the main evaporation raw material 5.
この膜層の密着性は１００（個／１００）であった。The adhesion of this film layer was 100 (pieces/100).
尖施旌１
蒸発原料５として、特級の金属ニッケルを使用し、真空
槽内に酸素ガスを導入しながら１．５Ｘ １０−’Ｔｏ
ｒｒで蒸着したこと以外は、実施例２と同様に行った。1. Special grade metal nickel is used as the evaporation raw material 5, and 1.5X 10-'To is used while introducing oxygen gas into the vacuum chamber.
The same procedure as in Example 2 was performed except that the vapor deposition was performed using rr.
この膜層の密着性は、１００（個／１００）であった。The adhesion of this film layer was 100 (pieces/100).
夫為炎刊
厚さ５０μのテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロ
プロピレン共重合体（ネオフロンＦＥＰＮＦＯＯ５０：
ダイキン工業■社製）を用い、これを高周波スパッタリ
ング装置（１３，５６ＭＨｚ）に供給し、４ Ｘ １０
− ’Ｔｏｒｒまで減圧した後、酸素ガスを導入してＩ
Ｘ １０− ”Ｔｏｒｒに保ち、高周波電力２５−で
１分間高周波プラズマ処理をした。Tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (Neoflon FEPNFOO50: 50μ thick)
This was supplied to a high frequency sputtering device (13,56 MHz) using a 4 x 10
- After reducing the pressure to 'Torr, introduce oxygen gas and
High frequency plasma treatment was performed for 1 minute at a high frequency power of 25 mm while maintaining the pressure at X 10-'' Torr.
このプラズマ処理した無極性のプラスチック基板を用い
たこと以外は、実施例８と同様に行った。この膜層の密
着性は１００（個／１００）であった。The same procedure as in Example 8 was carried out except that this plasma-treated non-polar plastic substrate was used. The adhesion of this film layer was 100 (pieces/100).
実１４■１
蒸発原料５として高純度の二酸化チタン（電子ビーム蒸
着用ペレット）を用い、１．ＯＸｌ０−“Ｔｏｒｒで蒸
着したこと以外は、実施例１と同様に行った。この膜層
の密着性は１００（個／１００）であった。Actual 14■1 Using high purity titanium dioxide (pellets for electron beam evaporation) as the evaporation raw material 5, 1. The same procedure as in Example 1 was carried out except that the deposition was performed at OXl0-"Torr. The adhesion of this film layer was 100 (pieces/100).
夫差貫■
蒸発原料５として、特級の金属チタンを使用し、真空槽
内に酸素ガスを導入しながら２．０×１０− ’Ｔｏｒ
ｒで蒸着したこと以外は、実施例１と同様に行った（こ
の場合は、金属チタンが酸化されてチタン酸化物の膜層
が形成される）、この膜層の密着性は１００（個／１０
０）であった。■ Special grade metal titanium is used as the evaporation raw material 5, and 2.0 x 10-'Tor is used while introducing oxygen gas into the vacuum chamber.
The process was carried out in the same manner as in Example 1, except that the metal titanium was oxidized to form a titanium oxide film layer. 10
0).
裏施涯Ｕ
蒸発原料５として、高純度の一酸化ニッケル（電子ビー
ム蒸着用ペレット）を用い、１．０×１０−’Ｔｏｒｒ
で蒸着したこと以外は、実施例２と同様に行った。膜層
の密着性は１００（個／１００）であった。Back treatment U High purity nickel monoxide (pellet for electron beam evaporation) is used as the evaporation raw material 5, and the temperature is 1.0×10-'Torr.
The process was carried out in the same manner as in Example 2, except that the vapor deposition was performed using . The adhesion of the film layer was 100 (pieces/100).
１」４糺■
蒸発原料５として、特級の金属チタンを使用し、真空槽
内に酸素ガスを導入しながら２．０×１０− ’Ｔｏｒ
ｒで蒸着したこと以外は、実施例２と同様に行った。膜
層の密着性は１００（個／１００）であった。1" 4 paste ■ Special grade metallic titanium is used as the evaporation raw material 5, and 2.0 x 10-'Tor is used while introducing oxygen gas into the vacuum chamber.
The same procedure as in Example 2 was carried out except that the vapor deposition was carried out using r. The adhesion of the film layer was 100 (pieces/100).
１遣班旦
厚さ５０μのテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロ
プロピレン共重合体（ネオフロンＦＥＰＮＦＯＯ５０：
ダイキン工業■社製）を用い、これを高周波スパッタリ
ング装置（１３，５６ＭＨｚ）に供給し、４ Ｘｌ０−
ｈＴｏｒｒまで減圧した後、酸素ガスを導入してＩ Ｘ
１０− ”Ｔｏｒｒに保ち、高周波電力２５−で１分
間高周波プラズマ処理をした。Tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (Neoflon FEPNFOO50:
This was supplied to a high frequency sputtering device (13,56MHz), and 4Xl0-
After reducing the pressure to hTorr, oxygen gas was introduced and I
High frequency plasma treatment was performed for 1 minute at a high frequency power of 25 mm while maintaining the pressure at 10'' Torr.
このプラズマ処理した無極性のプラスチック基板を用い
たこと以外は、実施例１３と同様に行った。この膜層の
密着性は１００（個／１００）であった。The same procedure as in Example 13 was carried out except that this plasma-treated non-polar plastic substrate was used. The adhesion of this film layer was 100 (pieces/100).
且較貫１
使用した装置およびプラスチック基板は実施例１と同じ
である。金属酸化膜層の形成は、蒸発原料として特級の
二酸化ケイ素を用い、第１表に示した条件で、基板上に
直接二酸化ケイ素を蒸着した。この膜層の密着性はＯ（
個／１００）であった。Comparison 1 The equipment and plastic substrate used were the same as in Example 1. The metal oxide film layer was formed by directly vapor depositing silicon dioxide on the substrate under the conditions shown in Table 1 using special grade silicon dioxide as an evaporation source. The adhesion of this film layer is O(
pieces/100).
止栓量ｉ
実施例１で用いたのと同じプラスチック基板を、シリコ
ン系有機塗料（ＳＲ２４１０レジン：トート・シリコン
社製）に浸漬し、１０ｃｍ／ｓｉｎの速度で引上げ、室
温で３０分間乾燥した後、８０°Ｃで２４時間乾燥した
。シリコン系有機塗料層の厚さは１．５μｍであった・
これを真空槽内に供給し、第１表に示した条件で特級の
二酸化ケイ素を蒸着した。この膜層の密着性は、０（個
／１００）であった。Amount of stopper i The same plastic substrate as used in Example 1 was immersed in a silicon-based organic paint (SR2410 resin: manufactured by TOTO Silicon Co., Ltd.), pulled up at a speed of 10 cm/sin, and dried at room temperature for 30 minutes. , and dried at 80°C for 24 hours. The thickness of the silicon-based organic paint layer was 1.5 μm. This was supplied into a vacuum chamber, and special grade silicon dioxide was deposited under the conditions shown in Table 1. The adhesion of this film layer was 0 (pieces/100).
且較貫ｌ
使用した装置およびプラスチック基板は実施例１と同じ
である。金属酸化膜層の形成は、まず蒸発原料５として
高純度の一酸化ケイ素を用い、また蒸発原料５１として
特級の二酸化ケイ素を用い、第１表に示した条件で、ケ
イ素酸化物（Ｓ ｉ Ｏｚ−ｘ）を蒸着し、さらに引続
いて二酸化ケイ素を蒸着した。この膜層の密着性は、＋
３（個／１００）であった。Comparison: The equipment and plastic substrate used were the same as in Example 1. To form the metal oxide film layer, first, high-purity silicon monoxide was used as the evaporation raw material 5, and special grade silicon dioxide was used as the evaporation raw material 51, and silicon oxide (SiOz) was formed under the conditions shown in Table 1. -x) and subsequently silicon dioxide. The adhesion of this film layer is +
It was 3 (pieces/100).
（以下余白 ）
（発明の効果）
上述の通り、無極性のプラスチック基材面に、ジルコニ
ウム、ニッケルもしくはチタンの酸化物を主成分とする
金属酸化物の層を積層することによって、上記の基材面
に強固に密着した上記特定の金属酸化物の層を形成する
ことができる。(The following is a blank space) (Effects of the invention) As mentioned above, by laminating a layer of metal oxide whose main component is an oxide of zirconium, nickel or titanium on the surface of a non-polar plastic base material, the above base material A layer of the above-mentioned specific metal oxide can be formed firmly adhering to the surface.
さらにその上に積層される種々の金属酸化物層と基材と
の密着力も優れ、種々の金属酸化物を用いた金属酸化物
被覆プラスチックを得ることができる。しかも、用途に
応じて金属酸化物の膜構成を選択することにより、広範
囲の用途に利用することができる。Furthermore, the adhesion between various metal oxide layers laminated thereon and the base material is excellent, and metal oxide-coated plastics using various metal oxides can be obtained. Furthermore, by selecting the metal oxide film configuration depending on the application, it can be used in a wide range of applications.
第１図は本発明に用いる真空蒸着装置の一例を示す模式
図である。
１・・・真空槽、２・・・基板取付治具、３・・・無極
性のプラスチック基板、４・・・シャッター ５．５１
．５２・・・蒸発原料、６．６１．６２・・・銅ハース
、７・・・電子銃フィラメント、８・・・真空排気口。FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a vacuum evaporation apparatus used in the present invention. 1... Vacuum chamber, 2... Board mounting jig, 3... Non-polar plastic board, 4... Shutter 5.51
．． 52... Evaporation raw material, 6.61.62... Copper hearth, 7... Electron gun filament, 8... Vacuum exhaust port.
Claims (2)
ッケルもしくはチタンの酸化物を主成分とする金属酸化
物の層が積層されてなる金属酸化物被覆プラスチック。1. A metal oxide-coated plastic made by laminating a layer of metal oxide, the main component of which is zirconium, nickel, or titanium oxide, on a non-polar plastic base material.
ッケルもしくはチタンの酸化物を主成分とする金属酸化
物の層が積層され、さらにその上に異なる金属酸化物の
層が積層されてなる金属酸化物被覆プラスチック。2. A metal oxide coating in which a layer of metal oxide mainly composed of oxides of zirconium, nickel, or titanium is laminated on the surface of a nonpolar plastic base material, and a layer of a different metal oxide is further laminated on top of that layer. plastic.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5763390A JPH03260056A (en) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | Metal oxide-coated plastic |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5763390A JPH03260056A (en) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | Metal oxide-coated plastic |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03260056A true JPH03260056A (en) | 1991-11-20 |
Family
ID=13061302
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5763390A Pending JPH03260056A (en) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | Metal oxide-coated plastic |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03260056A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020066457A1 (en) * | 2018-09-25 | 2020-04-02 | 東レＫｐフィルム株式会社 | Layered body and layered body production method |
-
1990
- 1990-03-08 JP JP5763390A patent/JPH03260056A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020066457A1 (en) * | 2018-09-25 | 2020-04-02 | 東レＫｐフィルム株式会社 | Layered body and layered body production method |
| JPWO2020066457A1 (en) * | 2018-09-25 | 2021-08-30 | 東レ株式会社 | Laminated body and manufacturing method of laminated body |
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