JPH02116007A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH02116007A JPH02116007A JP26850588A JP26850588A JPH02116007A JP H02116007 A JPH02116007 A JP H02116007A JP 26850588 A JP26850588 A JP 26850588A JP 26850588 A JP26850588 A JP 26850588A JP H02116007 A JPH02116007 A JP H02116007A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 27
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3176—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps
- G11B5/3179—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
- G11B5/3183—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes intersecting the gap plane, e.g. "horizontal head structure"
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、磁気記録用の薄膜磁気ヘッドの製造方法に関
する。
する。
〔従来の技術]
従来の技術としては、第2図に示すような平面形状の薄
膜ヘッドが知られていた。
膜ヘッドが知られていた。
第2図は、従来の平面形状の薄膜ヘッドの縦断面を示す
図であり、第2図におしλて非磁性基板1上に下磁極2
を形成し、次に下絶縁層5を形成する。その後コイル4
をスパッタ、メツキ等により形成し、その上に上絶縁層
3を形成してゆき、次いで上磁極6を形成した後、保護
層7により全面をカバーしたものであり、ギャップ8よ
り非磁性基板l側へ磁束9を漏らし磁気記録媒体へ書き
込みする構造となっている。
図であり、第2図におしλて非磁性基板1上に下磁極2
を形成し、次に下絶縁層5を形成する。その後コイル4
をスパッタ、メツキ等により形成し、その上に上絶縁層
3を形成してゆき、次いで上磁極6を形成した後、保護
層7により全面をカバーしたものであり、ギャップ8よ
り非磁性基板l側へ磁束9を漏らし磁気記録媒体へ書き
込みする構造となっている。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、かかる従来の技術の薄膜ヘッドは、非磁性基板
1を介して磁束9を漏らすために非磁性基板1の厚み分
、磁束9がロスしてしまい、コイル4のターン数を多く
したり、流す電流値を大きくする必要がある。しかし、
限られたサイズに収めるには限度があり、発熱等の問題
も発生する。
1を介して磁束9を漏らすために非磁性基板1の厚み分
、磁束9がロスしてしまい、コイル4のターン数を多く
したり、流す電流値を大きくする必要がある。しかし、
限られたサイズに収めるには限度があり、発熱等の問題
も発生する。
又、非磁性基板1の厚みを薄くして磁束9を有効に活用
しても良lが逆に各素子の薄膜形成が困難になるという
問題点を有していた。
しても良lが逆に各素子の薄膜形成が困難になるという
問題点を有していた。
そこで、本発明は従来のこのような問題点を解決するた
め、ギャップより漏れた磁束をロスすることなく効率よ
く利用できる薄膜磁気ヘッドを提供することを目的とし
ている。
め、ギャップより漏れた磁束をロスすることなく効率よ
く利用できる薄膜磁気ヘッドを提供することを目的とし
ている。
[牌題を解決するための手段]
上記課題を解決するため、本発明の薄膜ヘッドは非磁性
基板上に形成される平面形状の薄膜ヘッドにおいて、前
記非磁性基板のギャップ部周辺箇所を孔明し、磁極のギ
ャップ部を前記孔明部に形成したことを特徴とする。
基板上に形成される平面形状の薄膜ヘッドにおいて、前
記非磁性基板のギャップ部周辺箇所を孔明し、磁極のギ
ャップ部を前記孔明部に形成したことを特徴とする。
[実施例]
以下に本発明の実施例を図面にもとづいて説明する。第
1図(b)において、厚み25μmのポリイミドから成
る非磁性基板1の、ギャップ部に位置する部分に、エキ
シマレーザ−11により孔明する。この時エキシマレー
ザ−11を非磁性基板1へ孔明部を中心に左右へビーム
12を振りながら巾20μmと下部が狭く上部が中40
μmと広いテーパー状の孔明10を形成する。
1図(b)において、厚み25μmのポリイミドから成
る非磁性基板1の、ギャップ部に位置する部分に、エキ
シマレーザ−11により孔明する。この時エキシマレー
ザ−11を非磁性基板1へ孔明部を中心に左右へビーム
12を振りながら巾20μmと下部が狭く上部が中40
μmと広いテーパー状の孔明10を形成する。
その後、第1図(C)のごとく、非磁性基板1の表面へ
Cuスパッタにより厚み0.2μmの導電化膜の形成を
行ない、フォトレジスト方法を用いて所定の形状にパタ
ーニングし、メツキにより厚み5μmの磁性材料からな
る下磁極2の形成を孔明10の部分より行なう、不要と
なった部分のCuスパッタにより形成された導電化膜を
Cuのエツチング液(例えば過硫酸アンモニウム溶液)
により除去する。以下、同様の薄膜形成の方法により順
次、各素子の形成を行なっていく、第1図(d)に示す
ように、フォトレジストにより、厚み3μmの下絶縁層
5を形成し、次いで、第1図(e)のように、Cuメツ
キによる厚み5μmのコイル4、第1図(f)に示すよ
うに、フォトレジストによる厚み3μmの上絶縁層3、
最後に、第1図(a)に示すように、磁性材のメツキに
よる厚み5μmの上磁極6を孔明10の部分より形成す
ると、本発明の、薄膜磁気ヘッドが得られるこの時、ギ
ャップ8が非磁性基板1の底面と同一面に形成されてい
るために、磁束9が非磁性基板1の厚みに影響されるこ
となく100%有効に活用することができる。
Cuスパッタにより厚み0.2μmの導電化膜の形成を
行ない、フォトレジスト方法を用いて所定の形状にパタ
ーニングし、メツキにより厚み5μmの磁性材料からな
る下磁極2の形成を孔明10の部分より行なう、不要と
なった部分のCuスパッタにより形成された導電化膜を
Cuのエツチング液(例えば過硫酸アンモニウム溶液)
により除去する。以下、同様の薄膜形成の方法により順
次、各素子の形成を行なっていく、第1図(d)に示す
ように、フォトレジストにより、厚み3μmの下絶縁層
5を形成し、次いで、第1図(e)のように、Cuメツ
キによる厚み5μmのコイル4、第1図(f)に示すよ
うに、フォトレジストによる厚み3μmの上絶縁層3、
最後に、第1図(a)に示すように、磁性材のメツキに
よる厚み5μmの上磁極6を孔明10の部分より形成す
ると、本発明の、薄膜磁気ヘッドが得られるこの時、ギ
ャップ8が非磁性基板1の底面と同一面に形成されてい
るために、磁束9が非磁性基板1の厚みに影響されるこ
となく100%有効に活用することができる。
第3図は、非磁性基板1へ化学エツチングにより孔明1
0を形成する場合の実施例であり、第3図(b)におい
て、ポリイミドから成る非磁性基板1のギャップ部に位
置する部分にフォトレジストにより絶縁膜31を形成し
、l0N−Na’OH溶液にて第3図(C)のように非
磁性基板1の半分の厚みまでエツチングを行ない、巾4
0μmの孔明30を形成する、次に絶縁膜31を除去し
てから、第3図(d)に示すように孔明30の部分にフ
ォトレジストにより絶縁膜32を形成する。
0を形成する場合の実施例であり、第3図(b)におい
て、ポリイミドから成る非磁性基板1のギャップ部に位
置する部分にフォトレジストにより絶縁膜31を形成し
、l0N−Na’OH溶液にて第3図(C)のように非
磁性基板1の半分の厚みまでエツチングを行ない、巾4
0μmの孔明30を形成する、次に絶縁膜31を除去し
てから、第3図(d)に示すように孔明30の部分にフ
ォトレジストにより絶縁膜32を形成する。
その後、第3図(e)のように、l0N−Nap。
H溶液にて非磁性基板1の残りの半分をエツチングし、
中20μmの孔明40を形成する。絶縁膜32を除去す
ると、第3図(f)のごとく段差形状に孔明30・40
が形成された非磁性基板1が得られる。この後、前記、
第1図と同様に各素子を順番に形成してゆくと、第3図
(a)に示すような薄膜ヘッドが得られる。このように
化学エツチングにより非磁性基板1へ孔明しても第1図
の薄膜磁気ヘッドと同様な効果が得られる。又、化学エ
ツチングによる形成方法は、高価なレーザー装置を使用
しなくて良いメリットもある。
中20μmの孔明40を形成する。絶縁膜32を除去す
ると、第3図(f)のごとく段差形状に孔明30・40
が形成された非磁性基板1が得られる。この後、前記、
第1図と同様に各素子を順番に形成してゆくと、第3図
(a)に示すような薄膜ヘッドが得られる。このように
化学エツチングにより非磁性基板1へ孔明しても第1図
の薄膜磁気ヘッドと同様な効果が得られる。又、化学エ
ツチングによる形成方法は、高価なレーザー装置を使用
しなくて良いメリットもある。
第4図は、本発明の他の実施例を示すものであり、第4
図(b)においてポリイミドから成る非磁性基板1のギ
ャップ部に位置する部分にプレス加工により巾20μm
の孔明50を形成し、次いで、以下前記第1図と同様に
各素子を順次形成していくと第4図(a)に示すような
薄膜ヘッドが得られる0本実施例においても第1図の薄
膜磁気ヘッドと同様な効果が得られる。
図(b)においてポリイミドから成る非磁性基板1のギ
ャップ部に位置する部分にプレス加工により巾20μm
の孔明50を形成し、次いで、以下前記第1図と同様に
各素子を順次形成していくと第4図(a)に示すような
薄膜ヘッドが得られる0本実施例においても第1図の薄
膜磁気ヘッドと同様な効果が得られる。
又、下磁極、コイル、及び上磁極をメツキ等で形成する
ための導電化膜を施す時、スパッタや蒸着の他にスルホ
ールメツキ等の無電解メツキにより形成しても何ら問題
はない。
ための導電化膜を施す時、スパッタや蒸着の他にスルホ
ールメツキ等の無電解メツキにより形成しても何ら問題
はない。
[発明の効果]
本発明の薄膜磁気ヘッドは、以上説明したように非磁性
基板のギャップ部周辺箇所を孔明し、磁極のギャップ部
を前記孔明部に形成するという簡単な構造により磁極の
ギャップより漏れる磁束を100%効率よく磁気記録媒
体への書き込みに利用することが可能となる。
基板のギャップ部周辺箇所を孔明し、磁極のギャップ部
を前記孔明部に形成するという簡単な構造により磁極の
ギャップより漏れる磁束を100%効率よく磁気記録媒
体への書き込みに利用することが可能となる。
又、磁気記録媒体への書き込み効率が向上することによ
りコイルへ渣す電流値も小さくすることが可能となりコ
イルの抵抗による発熱を押さえる効果がある。
りコイルへ渣す電流値も小さくすることが可能となりコ
イルの抵抗による発熱を押さえる効果がある。
第1図は、本発明の薄膜磁気ヘッドの縦断面図第1図(
a)〜(f)は、本発明の、薄膜磁気ヘッドの製造工程
を示す縦断面図。 第2図は、従来の薄膜磁気ヘッドの縦断面図。 第3図及び第4図は、本発明の薄膜磁気ヘッドの、他の
実施例を示す縦断面図。 第3図(a) 〜(f)及び第4図(a)、(b)をよ
、本発明の薄膜磁気ヘッドの、他の実施例の製造工程を
示す縦断面図。 ・・磁束 ・・孔明 ・孔明 ・絶縁膜 ・・絶縁膜 ・・孔明 ・孔明 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴木 喜三部(他1名)・非磁性基板 ・下磁極 ・上絶縁層 ・コイル ・下絶縁層 ・上磁極 ・ギャップ 第1図(a) 第1図(b) 第2図 第3図(f) 第4図(b)
a)〜(f)は、本発明の、薄膜磁気ヘッドの製造工程
を示す縦断面図。 第2図は、従来の薄膜磁気ヘッドの縦断面図。 第3図及び第4図は、本発明の薄膜磁気ヘッドの、他の
実施例を示す縦断面図。 第3図(a) 〜(f)及び第4図(a)、(b)をよ
、本発明の薄膜磁気ヘッドの、他の実施例の製造工程を
示す縦断面図。 ・・磁束 ・・孔明 ・孔明 ・絶縁膜 ・・絶縁膜 ・・孔明 ・孔明 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴木 喜三部(他1名)・非磁性基板 ・下磁極 ・上絶縁層 ・コイル ・下絶縁層 ・上磁極 ・ギャップ 第1図(a) 第1図(b) 第2図 第3図(f) 第4図(b)
Claims (1)
- 非磁性基板上に形成される平面形状の薄膜ヘッドにおい
て、前記非磁性基板のギャップ部周辺箇所を孔明し、磁
極のギャップ部を前記孔明部に形成したことを特徴とす
る薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26850588A JPH02116007A (ja) | 1988-10-25 | 1988-10-25 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26850588A JPH02116007A (ja) | 1988-10-25 | 1988-10-25 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02116007A true JPH02116007A (ja) | 1990-04-27 |
Family
ID=17459435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26850588A Pending JPH02116007A (ja) | 1988-10-25 | 1988-10-25 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02116007A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1143419A2 (en) * | 2000-03-30 | 2001-10-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic head, method for producing same, and magnetic recording and/or reproducing system |
-
1988
- 1988-10-25 JP JP26850588A patent/JPH02116007A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1143419A2 (en) * | 2000-03-30 | 2001-10-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic head, method for producing same, and magnetic recording and/or reproducing system |
EP1143419A3 (en) * | 2000-03-30 | 2004-05-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic head, method for producing same, and magnetic recording and/or reproducing system |
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