JP7460448B2 - 基板処理方法、および、基板処理装置 - Google Patents
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Description
本願明細書に開示される技術は、基板処理方法、および、基板処理装置に関するものである。処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、有機ＥＬ（ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置などのｆｌａｔ ｐａｎｅｌ ｄｉｓｐｌａｙ（ＦＰＤ）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用ガラス基板、セラミック基板、電界放出ディスプレイ（ｆｉｅｌｄ ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｄｉｓｐｌａｙ、すなわち、ＦＥＤ）用基板、または、太陽電池用基板などが含まれる。
従来より、半導体基板（以下、単に「基板」と称する）の製造工程では、基板処理装置を用いて基板に対して様々な処理が行われている。
基板処理においては、１または複数の薬液がノズルを介して基板に対して吐出されるが、ノズルからの液だれなどを抑制するため、ノズル内の薬液を吸引する吸引動作が行われる場合がある（たとえば、特許文献１を参照）。
複数の薬液が時間順次に吐出される場合、先の薬液を吸引する吸引動作において後の薬液（またはその雰囲気）が吸引されてしまう場合がある。そのような場合には、薬液間の混合（混触）によってパーティクルが生じる場合があり、最終的には製品不良に至るという問題がある。
本願明細書に開示される技術は、以上に記載されたような問題を鑑みてなされたものであり、複数の薬液を用いる基板処理において、薬液間の混合を抑制するための技術である。
本願明細書に開示される技術の第１の態様は、基板処理方法に関連し、基板に第１のノズルから第１の薬液を吐出する工程と、前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する工程と、前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に第２のノズルから前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する工程とを備え、前記第１の薬液が吐出された後、かつ、前記第２の薬液が吐出される前に、前記基板にリンス液を吐出する工程をさらに備え、前記第１のノズル内の前記液体を吸引する工程が、前記リンス液を吐出する工程の間に終了する。
本願明細書に開示される技術の第２の態様は、基板に第１のノズルから第１の薬液を吐出する工程と、前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する工程と、前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に第２のノズルから前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する工程とを備え、前記第１の薬液が吐出された後、かつ、前記第２の薬液が吐出される前に、前記基板にリンス液を吐出する工程をさらに備え、前記リンス液は、前記第１のノズル内の前記液体を吸引する工程の前に、前記第１のノズルから吐出される。
本願明細書に開示される技術の第３の態様は、基板に第１のノズルから第１の薬液を吐出する工程と、前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する工程と、前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に第２のノズルから前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する工程とを備え、前記第１の薬液が吐出された後、かつ、前記第２の薬液が吐出される前に、前記基板にリンス液を吐出する工程をさらに備え、前記リンス液は、前記第１のノズル内の前記液体を吸引する工程の間に、前記第２のノズルから吐出される。
本願明細書に開示される技術の第４の態様は、基板に第１のノズルから第１の薬液を吐出する工程と、前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する工程と、前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に第２のノズルから前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する工程とを備え、前記第１の薬液が吐出された後、かつ、前記第２の薬液が吐出される前に、前記基板にリンス液を吐出する工程をさらに備え、前記リンス液を吐出する工程は、前記第１のノズルおよび前記第２のノズルの双方において、時間順次に行われる。
本願明細書に開示される技術の第５の態様は、第２から４のうちのいずれか１つの態様に関連し、前記第１のノズル内の前記液体を吸引する工程が、前記リンス液を吐出する工程の間に終了する。
本願明細書に開示される技術の第２の態様は、基板に第１のノズルから第１の薬液を吐出する工程と、前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する工程と、前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に第２のノズルから前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する工程とを備え、前記第１の薬液が吐出された後、かつ、前記第２の薬液が吐出される前に、前記基板にリンス液を吐出する工程をさらに備え、前記リンス液は、前記第１のノズル内の前記液体を吸引する工程の前に、前記第１のノズルから吐出される。
本願明細書に開示される技術の第３の態様は、基板に第１のノズルから第１の薬液を吐出する工程と、前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する工程と、前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に第２のノズルから前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する工程とを備え、前記第１の薬液が吐出された後、かつ、前記第２の薬液が吐出される前に、前記基板にリンス液を吐出する工程をさらに備え、前記リンス液は、前記第１のノズル内の前記液体を吸引する工程の間に、前記第２のノズルから吐出される。
本願明細書に開示される技術の第４の態様は、基板に第１のノズルから第１の薬液を吐出する工程と、前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する工程と、前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に第２のノズルから前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する工程とを備え、前記第１の薬液が吐出された後、かつ、前記第２の薬液が吐出される前に、前記基板にリンス液を吐出する工程をさらに備え、前記リンス液を吐出する工程は、前記第１のノズルおよび前記第２のノズルの双方において、時間順次に行われる。
本願明細書に開示される技術の第５の態様は、第２から４のうちのいずれか１つの態様に関連し、前記第１のノズル内の前記液体を吸引する工程が、前記リンス液を吐出する工程の間に終了する。
本願明細書に開示される技術の第６の態様は、第１から５のうちのいずれか１つの態様に関連し、前記第１の薬液および前記第２の薬液は、一方が酸性の液体であり他方がアルカリ性の液体である。
本願明細書に開示される技術の第７の態様は、第１から６のうちのいずれか１つの態様に関連し、前記リンス液は水である。
本願明細書に開示される技術の第８の態様は、第１から７のうちのいずれか１つの態様に関連し、前記第１のノズルおよび前記第２のノズルは、前記基板に対向して配置される遮断板の中央部に共通して設けられる。
本願明細書に開示される技術の第９の態様は、第１から８のうちのいずれか１つの態様に関連し、前記第１のノズルと前記第２のノズルとは、互いに近傍に配置される。
本願明細書に開示される技術の第１０の態様は、第１から９のうちのいずれか１つの態様に関連し、前記第１のノズル内の液体を吸引する工程が、前記基板の上方において行われる。
本願明細書に開示される技術の第１１の態様は、基板処理装置に関連し、基板に第１の薬液を吐出する第１のノズルと、前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する吸引機構と、前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する第２のノズルと、前記第１のノズル、前記吸引機構および前記第２のノズルの制御を行う制御部とを備え、前記制御部が、前記基板に前記第１のノズルから前記第１の薬液を吐出させた後、かつ、前記第２のノズルから前記第２の薬液を吐出させる前に、前記基板にリンス液を吐出させ、前記第１のノズル内の前記液体の吸引を、前記リンス液の吐出が行われている間に終了させる。
本願明細書に開示される技術の第１２の態様は、基板に第１の薬液を吐出する第１のノズルと、前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する吸引機構と、前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する第２のノズルと、前記第１のノズル、前記吸引機構および前記第２のノズルの制御を行う制御部とを備え、前記制御部が、前記基板に前記第１のノズルから前記第１の薬液を吐出させた後、かつ、前記第２のノズルから前記第２の薬液を吐出させる前に、前記基板にリンス液を吐出させ、前記リンス液を、前記第１のノズル内の前記液体を吸引する前に、前記第１のノズルから吐出させる。
本願明細書に開示される技術の第１３の態様は、基板に第１の薬液を吐出する第１のノズルと、前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する吸引機構と、前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する第２のノズルと、前記第１のノズル、前記吸引機構および前記第２のノズルの制御を行う制御部とを備え、前記制御部が、前記基板に前記第１のノズルから前記第１の薬液を吐出させた後、かつ、前記第２のノズルから前記第２の薬液を吐出させる前に、前記基板にリンス液を吐出させ、前記リンス液を、前記第１のノズル内の前記液体を吸引する間に、前記第２のノズルから吐出させる。
本願明細書に開示される技術の第１４の態様は、基板に第１の薬液を吐出する第１のノズルと、前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する吸引機構と、前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する第２のノズルと、前記第１のノズル、前記吸引機構および前記第２のノズルの制御を行う制御部とを備え、前記制御部が、前記基板に前記第１のノズルから前記第１の薬液を吐出させた後、かつ、前記第２のノズルから前記第２の薬液を吐出させる前に、前記基板にリンス液を吐出させ、前記リンス液を、前記第１のノズルおよび前記第２のノズルの双方において、時間順次に吐出させる。
本願明細書に開示される技術の第１２の態様は、基板に第１の薬液を吐出する第１のノズルと、前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する吸引機構と、前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する第２のノズルと、前記第１のノズル、前記吸引機構および前記第２のノズルの制御を行う制御部とを備え、前記制御部が、前記基板に前記第１のノズルから前記第１の薬液を吐出させた後、かつ、前記第２のノズルから前記第２の薬液を吐出させる前に、前記基板にリンス液を吐出させ、前記リンス液を、前記第１のノズル内の前記液体を吸引する前に、前記第１のノズルから吐出させる。
本願明細書に開示される技術の第１３の態様は、基板に第１の薬液を吐出する第１のノズルと、前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する吸引機構と、前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する第２のノズルと、前記第１のノズル、前記吸引機構および前記第２のノズルの制御を行う制御部とを備え、前記制御部が、前記基板に前記第１のノズルから前記第１の薬液を吐出させた後、かつ、前記第２のノズルから前記第２の薬液を吐出させる前に、前記基板にリンス液を吐出させ、前記リンス液を、前記第１のノズル内の前記液体を吸引する間に、前記第２のノズルから吐出させる。
本願明細書に開示される技術の第１４の態様は、基板に第１の薬液を吐出する第１のノズルと、前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する吸引機構と、前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する第２のノズルと、前記第１のノズル、前記吸引機構および前記第２のノズルの制御を行う制御部とを備え、前記制御部が、前記基板に前記第１のノズルから前記第１の薬液を吐出させた後、かつ、前記第２のノズルから前記第２の薬液を吐出させる前に、前記基板にリンス液を吐出させ、前記リンス液を、前記第１のノズルおよび前記第２のノズルの双方において、時間順次に吐出させる。
本願明細書に開示される技術の第１から１４の態様によれば、第１のノズルを介する第１の薬液の吸引動作が停止された後で、第２のノズルからの第２の薬液の供給が開始される。そのため、第１のノズル内に第２の薬液の雰囲気が吸引されることが抑制される。よって、第１のノズル内において、第１の薬液と第２の薬液とが混合することが十分に抑制される。
また、本願明細書に開示される技術に関連する目的と、特徴と、局面と、利点とは、以下に示される詳細な説明と添付図面とによって、さらに明白となる。
以下、添付される図面を参照しながら実施の形態について説明する。以下の実施の形態では、技術の説明のために詳細な特徴なども示されるが、それらは例示であり、実施の形態が実施可能となるためにそれらすべてが必ずしも必須の特徴ではない。
なお、図面は概略的に示されるものであり、説明の便宜のため、適宜、構成の省略、または、構成の簡略化が図面においてなされるものである。また、異なる図面にそれぞれ示される構成などの大きさおよび位置の相互関係は、必ずしも正確に記載されるものではなく、適宜変更され得るものである。また、断面図ではない平面図などの図面においても、実施の形態の内容を理解することを容易にするために、ハッチングが付される場合がある。
また、以下に示される説明では、同様の構成要素には同じ符号を付して図示し、それらの名称と機能とについても同様のものとする。したがって、それらについての詳細な説明を、重複を避けるために省略する場合がある。
また、以下に記載される説明において、ある構成要素を「備える」、「含む」または「有する」などと記載される場合、特に断らない限りは、他の構成要素の存在を除外する排他的な表現ではない。
また、以下に記載される説明において、「第１の」または「第２の」などの序数が用いられる場合があっても、これらの用語は、実施の形態の内容を理解することを容易にするために便宜上用いられるものであり、これらの序数によって生じ得る順序などに限定されるものではない。
また、以下に記載される説明において、「上」、「下」、「左」、「右」、「側」、「底」、「表」または「裏」などの特定の位置または方向を意味する用語が用いられる場合があっても、これらの用語は、実施の形態の内容を理解することを容易にするために便宜上用いられるものであり、実際に実施される際の位置または方向とは関係しないものである。
また、以下に記載される説明において、「…の上面」または「…の下面」などと記載される場合、対象となる構成要素の上面自体または下面自体に加えて、対象となる構成要素の上面または下面に他の構成要素が形成された状態も含むものとする。すなわち、たとえば、「甲の上面に設けられる乙」と記載される場合、甲と乙との間に別の構成要素「丙」が介在することを妨げるものではない。
＜第１の実施の形態＞
以下、本実施の形態に関する基板処理方法、および、基板処理装置について説明する。
以下、本実施の形態に関する基板処理方法、および、基板処理装置について説明する。
＜基板処理装置の構成について＞
図１は、本実施の形態に関する基板処理装置１の構成の例を概略的に示す平面図である。基板処理装置１は、ロードポートＬＰと、インデクサロボットＩＲと、センターロボットＣＲと、制御部９０と、少なくとも１つの処理ユニットＵＴａ（図１においては４つの処理ユニット）とを備える。
図１は、本実施の形態に関する基板処理装置１の構成の例を概略的に示す平面図である。基板処理装置１は、ロードポートＬＰと、インデクサロボットＩＲと、センターロボットＣＲと、制御部９０と、少なくとも１つの処理ユニットＵＴａ（図１においては４つの処理ユニット）とを備える。
それぞれの処理ユニットＵＴａは、基板Ｗ（ウエハ）を処理するためのものである。処理ユニットＵＴａは、基板処理に用いることができる枚葉式の装置である。
なお、処理ユニットＵＴａは、チャンバ８０を有することができる。その場合、チャンバ８０内の雰囲気を制御部９０によって制御することで、処理ユニットＵＴａは、所望の雰囲気中における基板処理を行うことができる。
制御部９０は、基板処理装置１におけるそれぞれの構成（後述のスピンチャック５のスピンモータ２２、回転機構３４、昇降機構３５、供給および吸引機構１４、供給および吸引機構１５、供給および吸引機構１６、または、供給および吸引機構３０など）の動作を制御することができる。キャリアＣは、基板Ｗを収容する収容器である。また、ロードポートＬＰは、複数のキャリアＣを保持する収容器保持機構である。インデクサロボットＩＲは、ロードポートＬＰと基板載置部ＰＳとの間で基板Ｗを搬送することができる。センターロボットＣＲは、基板載置部ＰＳおよび処理ユニットＵＴａ間で基板Ｗを搬送することができる。
以上の構成によって、インデクサロボットＩＲ、基板載置部ＰＳおよびセンターロボットＣＲは、それぞれの処理ユニットＵＴａとロードポートＬＰとの間で基板Ｗを搬送する搬送機構として機能する。
未処理の基板ＷはキャリアＣからインデクサロボットＩＲによって取り出される。そして、未処理の基板Ｗは、基板載置部ＰＳを介してセンターロボットＣＲに受け渡される。
センターロボットＣＲは、当該未処理の基板Ｗを処理ユニットＵＴａに搬入する。そして、処理ユニットＵＴａは基板Ｗに対して処理を行う。
処理ユニットＵＴａにおいて処理済みの基板Ｗは、センターロボットＣＲによって処理ユニットＵＴａから取り出される。そして、処理済みの基板Ｗは、必要に応じて他の処理ユニットＵＴａを経由した後、基板載置部ＰＳを介してインデクサロボットＩＲに受け渡される。インデクサロボットＩＲは、処理済みの基板ＷをキャリアＣに搬入する。以上によって、基板Ｗに対する処理が行われる。
図２は、図１に例が示された制御部９０の構成の例を概念的に示す図である。制御部９０は、電気回路を有する一般的なコンピュータによって構成されていてよい。具体的には、制御部９０は、中央演算処理装置（ｃｅｎｔｒａｌ ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ ｕｎｉｔ、すなわち、ＣＰＵ）９１、リードオンリーメモリ（ｒｅａｄ ｏｎｌｙ ｍｅｍｏｒｙ、すなわち、ＲＯＭ）９２、ランダムアクセスメモリ（ｒａｎｄｏｍ ａｃｃｅｓｓ ｍｅｍｏｒｙ、すなわち、ＲＡＭ）９３、記憶装置９４、入力部９６、表示部９７および通信部９８と、これらを相互に接続するバスライン９５とを備える。
ＲＯＭ９２は基本プログラムを格納している。ＲＡＭ９３は、ＣＰＵ９１が所定の処理を行う際の作業領域として用いられる。記憶装置９４は、フラッシュメモリまたはハードディスク装置などの不揮発性記憶装置によって構成されている。入力部９６は、各種スイッチまたはタッチパネルなどによって構成されており、オペレータから処理レシピなどの入力設定指示を受ける。表示部９７は、たとえば、液晶表示装置およびランプなどによって構成されており、ＣＰＵ９１の制御の下、各種の情報を表示する。通信部９８は、ｌｏｃａｌ ａｒｅａ ｎｅｔｗｏｒｋ（ＬＡＮ）などを介してのデータ通信機能を有する。
記憶装置９４には、図１の基板処理装置１におけるそれぞれの構成の制御についての複数のモードがあらかじめ設定されている。ＣＰＵ９１が処理プログラム９４Ｐを実行することによって、上記の複数のモードのうちの１つのモードが選択され、当該モードでそれぞれの構成が制御される。なお、処理プログラム９４Ｐは、記録媒体に記憶されていてもよい。この記録媒体を用いれば、制御部９０に処理プログラム９４Ｐをインストールすることができる。また、制御部９０が実行する機能の一部または全部は、必ずしもソフトウェアによって実現される必要はなく、専用の論理回路などのハードウェアによって実現されてもよい。
図３は、本実施の形態に関する処理ユニットＵＴａの構成の例を模式的に示す図である。処理ユニットＵＴａにおけるそれぞれの構成の動作は、制御部９０によって制御される。また、図４は、対向部材２６Ａの構成の例を模式的に示す断面図である。
処理ユニットＵＴａは、内部空間を有する箱形のチャンバ８０と、チャンバ８０内で一枚の基板Ｗを水平な姿勢で保持しつつ、基板Ｗの中央部を通る鉛直な回転軸線まわりに基板Ｗを回転させるスピンチャック５と、スピンチャック５に保持されている基板Ｗの上面の中央部に向けて処理液を吐出するためのノズル８が接続される配管１０８と、スピンチャック５に保持されている基板Ｗの上面の中央部に向けて処理液を吐出するためのノズル１０が接続される配管１１０と、スピンチャック５に保持されている基板Ｗの上面の中央部に向けて処理液を吐出するためのノズル１２が接続される配管１１２と、スピンチャック５に保持されている基板Ｗの上面の中央部に向けて処理液を吐出するためのノズル１３が接続される配管１１３と、スピンチャック５に保持されている基板Ｗの上面の中央部に向けて不活性ガスを供給するためのノズル２１に接続される配管１２１と、配管１０８にたとえば、アルカリ性の薬液およびリンス液を選択的に供給し、かつ、ノズル８内および配管１０８内の当該薬液および当該リンス液を吸引するための供給および吸引機構１４と、配管１１０にたとえば、酸性の薬液およびリンス液を選択的に供給し、かつ、ノズル１０内および配管１１０内の当該薬液および当該リンス液を吸引するための供給および吸引機構１５と、配管１１２にたとえば、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）などの有機溶剤を供給し、かつ、ノズル１２内および配管１１２内の当該有機溶剤を吸引するための供給および吸引機構１６と、配管１１３にたとえば、疎水化剤（ＳＭＴ）を供給し、かつ、ノズル１３内および配管１１３内の当該疎水化剤を吸引するための供給および吸引機構３０と、配管１２１に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給源３６と、スピンチャック５を取り囲む筒状のカップ１７とを備える。
上記のノズル８、ノズル１０、ノズル１３、ノズル１２およびノズル２１は、互いに近傍に配置されている。ここで、近傍に配置されるとは、互いに同じチャンバ８０内に配置されることを含み、特に、スピンチャック５に保持された基板Ｗの上方に複数のノズルが同時に配置されることをいうものとする。
上記の酸性の薬液は、たとえば、ＨＦ、フッ化水素酸（ＨＦ）を純水で希釈した希フッ酸（ＤＨＦ）、シトリック（クエン酸）、硫酸と過酸化水素水との混合溶液（ＳＰＭ）などであり、「薬液」にはその雰囲気も含むものとする。また、アルカリ性の薬液は、たとえば、アンモニアと過酸化水素水との混合液（ＳＣ１）、ｄＮＨ４ＯＨ、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）などであり、「薬液」にはその雰囲気も含むものとする。また、リンス液は、たとえば、水であるが、本実施の形態において、水は、純水（脱イオン水）、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水、および希釈濃度（たとえば、１０ｐｐｍ以上、かつ、１００ｐｐｍ以下）のアンモニア水のいずれかである。また、「リンス液」にはその雰囲気も含むものとする。
また、有機溶剤は、ＩＰＡの他に、たとえば、メタノール、エタノール、アセトン、ＥＧ（エチレングリコール）、または、（ハイドロフルオロエーテル）などであってもよい。また、有機溶剤としては、単体成分のみからなる場合だけでなく、他の成分と混合している液体であってもよい。たとえば、ＩＰＡとアセトンとの混合液であってもよいし、ＩＰＡとメタノールとの混合液であってもよい。また、疎水化剤は、シリコン系の疎水化剤であってもよいし、メタル系の疎水化剤であってもよい。
なお、図３および図４に例が示されるノズルの数は限定的なものではなく、たとえば、さらなる薬液を吐出するためのノズルが追加されてもよい。
チャンバ８０は、スピンチャック５またはノズルなどを収容する箱状の隔壁１８と、隔壁１８の上部から隔壁１８内にフィルターなどによってろ過された清浄空気を送るＦＦＵ１９と、隔壁１８の下部からチャンバ８０内の気体を排出する排気ダクト２０とを備える。
スピンチャック５は、スピンモータ２２と、スピンモータ２２によって駆動するスピン軸２３と、スピン軸２３の上端に略水平に取り付けられた円板状のスピンベース２４とを備える。スピンベース２４の上面の周縁部には、複数の挟持部材２５が配置されている。複数の挟持部材２５は、基板Ｗの周方向に、適当な間隔を空けて配置されている。
なお、スピンチャック５は、挟持式のものに限られるものではなく、たとえば、基板Ｗの裏面を真空吸着する真空吸着式（すなわち、バキュームチャック）のものであってもよい。
また、処理ユニットＵＴａは、スピンチャック５に保持されている基板Ｗの上面に対向する対向部材２６Ａを備える。図５は、対向部材２６Ａの例を示す底面図である。
対向部材２６Ａは、遮断板２７Ａと、遮断板２７Ａに一体的に回転可能な回転軸２８とを備える。遮断板２７Ａは、基板Ｗよりも大きい径を有する円板状の構成である。遮断板２７Ａは、その下面に基板Ｗの上面全域に対向する円形の平坦面からなる基板対向面２９と、基板対向面２９の周縁部において下方に向けて突出する環状の爪部１２７とを有する。基板対向面２９の中央部には、遮断板２７Ａを上下に貫通する円筒状の貫通穴１３２が形成されている。
回転軸２８は、遮断板２７Ａの中心を通り、かつ、鉛直方向に延びる回転軸線Ａ２まわりに回転可能である。なお、回転軸線Ａ２は、基板Ｗの回転軸線Ａ１と一致する。回転軸２８は、円筒状である。回転軸２８の内部空間は、遮断板２７Ａの貫通穴１３２に連通している。回転軸２８は、遮断板２７Ａの上方で水平に延びる支持アーム３１に相対回転可能に支持されている。本実施の形態では、支持アーム３１は、少なくとも上下方向（鉛直方向）に移動可能である。
貫通穴１３２の内部には、遮断板２７Ａの回転軸線Ａ２に沿って上下に延びる軸ノズル３２が設けられる。軸ノズル３２のケーシング３３内には、上下方向（鉛直方向）に延びるノズル８、ノズル１０、ノズル１２、ノズル１３およびノズル２１が配置される。ケーシング３３は、貫通穴１３２の内部において、遮断板２７Ａおよび回転軸２８とは非接触の状態で配置される。
遮断板２７Ａには、電動モータなどを含む回転機構３４が結合されている。回転機構３４は、遮断板２７Ａおよび回転軸２８を、支持アーム３１に対して回転軸線Ａ２まわりに回転させる。
支持アーム３１には、電動モータまたはボールねじなどを含む昇降機構３５が結合されている。昇降機構３５は、対向部材２６Ａ、ノズル８、ノズル１０、ノズル１２、ノズル１３およびノズル２１を、支持アーム３１とともに鉛直方向に昇降する。昇降機構３５は、遮断板２７Ａの基板対向面２９がスピンチャック５に保持されている基板Ｗの上面に近接する近接位置と、近接位置の上方に設けられた退避位置との間で、遮断板２７Ａ、ノズル８、ノズル１０、ノズル１２、ノズル１３およびノズル２１を昇降させる。昇降機構３５は、近接位置と退避位置との間のそれぞれの位置で遮断板２７Ａを保持する。
昇降機構３５が、対向部材２６Ａを下降させると、遮断板２７Ａおよび軸ノズル３２がスピンベース２４における図示しない支持部によって受け止められる。そして、支持アーム３１側と回転軸２８側とが分離した後で、スピンベース２４の回転に同期して遮断板２７Ａが回転する。
図３に例が示されるように、カップ１７は、スピンチャック５に保持されている基板Ｗよりも外側に配置されている。カップ１７は、スピンベース２４の周囲を取り囲んでいる。スピンチャック５が基板Ｗを回転させている状態で、処理液が基板Ｗに供給されると、基板Ｗに供給された処理液が基板Ｗの周囲に振り切られる。処理液が基板Ｗに供給される際、上向きに開いたカップ１７の上端部１７ａは、スピンベース２４よりも上方に配置される。したがって、基板Ｗの周囲に排出された処理液（具体的には、薬液、リンス液、有機溶剤、または、疎水化剤など）は、カップ１７によって受け止められる。そして、カップ１７に受け止められた処理液は、回収装置または排液装置（ここでは、図示しない）などに送られる。
＜供給および吸引機構について＞
図６は、図３および図４に例が示された供給および吸引機構１４の構成の例を模式的に示す図である。なお、供給および吸引機構１５の構成、供給および吸引機構１６の構成、および、供給および吸引機構３０の構成も、それぞれの機構で供給する処理液の種類を除いては図６に例が示される構成と同様である。
図６は、図３および図４に例が示された供給および吸引機構１４の構成の例を模式的に示す図である。なお、供給および吸引機構１５の構成、供給および吸引機構１６の構成、および、供給および吸引機構３０の構成も、それぞれの機構で供給する処理液の種類を除いては図６に例が示される構成と同様である。
図６に例が示されるように、供給および吸引機構１４は、配管１０８の上流側の端部に接続された接続配管４４と、接続配管４４にさらに接続された排液配管４５と、排液配管４５に設けられたバルブ５１と、接続配管４４の上流側に接続された薬液配管４６と、薬液配管４６に設けられたバルブ５２と、接続配管４４の上流側に接続されたリンス液配管４７と、リンス液配管４７に設けられたバルブ５３と、接続配管４４よりも下流側の配管１０８に設けられたバルブ５０と、バルブ５０よりも下流側の配管１０８から分岐する吸引配管４８と、吸引配管４８に設けられた調整バルブ５４と、吸引配管４８にさらに接続された吸引装置５５と、接続配管４４にさらに接続された吸引配管４９と、吸引配管４９に設けられたバルブ５６と、吸引配管４９にさらに接続された吸引装置５７とを備える。なお、排液配管４５には、機外の排液設備に接続されている。また、吸引装置５５および吸引装置５７は、いずれか一方が備えられている場合であってもよい。
吸引装置５５は、サイフォン式の吸引装置である。ここで、サイフォン式の吸引装置とは、配管（吸引配管４８）内を液体で満たし、サイフォンの原理を利用して配管１０８内の液体を吸引（排液）する装置をいう。サイフォン式の吸引装置によれば、真空発生器またはアスピレータなどのエジェクター式の吸引装置と比較して、吸引のためのエネルギー消費を抑制することができる。
吸引装置５７は、エジェクター式の吸引装置である。エジェクター式の吸引装置は、サイフォン式の吸引装置と比較して、吸引力が強く（吸引速度が速く）、また、吸引可能な液流量が多い。
他のバルブが閉じられた状態で、バルブ５２およびバルブ５０が開かれると、薬液配管４６から薬液が配管１０８に供給され、ノズル８の吐出口から下方に向けて薬液が吐出される。
また、他のバルブが閉じられた状態で、バルブ５２およびバルブ５１が開かれると、薬液配管４６から薬液が排液配管４５に供給される。これによって、薬液配管４６内の薬液を排液（廃棄）することができる。
また、他のバルブが閉じられた状態で、バルブ５３およびバルブ５０が開かれると、バルブ５３からリンス液が配管１０８に供給され、ノズル８の吐出口から下方に向けてリンス液が吐出される。
また、他のバルブが閉じられた状態で、バルブ５３およびバルブ５１が開かれると、バルブ５３からリンス液が排液配管４５に供給される。これによって、リンス液配管４７内のリンス液を排液（廃棄）することができる。
吸引装置５５の作動状態において、調整バルブ５４が開かれると、吸引装置５５の働きが有効となり、吸引配管４８の内部が吸引される。よって、ノズル８、配管１０８および吸引配管４８に含まれる処理液（薬液またはリンス液）が、吸引配管４８へと引き込まれる。なお、吸引装置５５の吸引力は比較的弱いため、その吸引速度は比較的遅い。
また、吸引装置５７は、たとえば、常時作動状態とされている。また、バルブ動作によって吸引が開始されてもよい。吸引装置５７の作動状態において、バルブ５６が開かれると、吸引装置５７の働きが有効となり、吸引配管４９の内部が吸引される。よって、吸引配管４９、接続配管４４、配管１０８およびノズル８に含まれる処理液（薬液またはリンス液）が、吸引配管４９へと引き込まれる。なお、吸引装置５７の吸引力は吸引装置５５の場合と比較して強いため、その吸引速度は、吸引装置５５の場合と比較して速い。
＜基板処理装置の動作について＞
次に、図７から図１０を参照しつつ、本実施の形態に関する基板処理装置の動作を説明する。ここで、図７、図８、図９および図１０は、基板処理装置の動作のうち、特に供給および吸引機構１４、および、供給および吸引機構１５の動作を説明するための模式図である。
次に、図７から図１０を参照しつつ、本実施の形態に関する基板処理装置の動作を説明する。ここで、図７、図８、図９および図１０は、基板処理装置の動作のうち、特に供給および吸引機構１４、および、供給および吸引機構１５の動作を説明するための模式図である。
本実施の形態に関する基板処理装置による基板処理方法は、処理ユニットＵＴａへ搬送された基板Ｗに対し薬液処理を行う工程と、薬液処理が行われた基板Ｗに対し洗浄処理を行う工程と、洗浄処理が行われた基板Ｗに対し乾燥処理を行う工程と、乾燥処理が行われた基板Ｗを処理ユニットＵＴａから搬出する工程とを備える。以下では、上記の基板処理装置の動作に含まれる薬液処理について、より詳細に説明する。
まず、図７に例が示されるように、制御部９０の制御によって図６に示されたバルブ５０およびバルブ５２を開放して、配管１０８を介して薬液２００を供給する。そうすると、ノズル８の吐出口から基板Ｗに対し、薬液２００が吐出される。
次に、図８に例が示されるように、制御部９０の制御によって図６に示されたバルブ５０およびバルブ５３を開放して、配管１０８を介してリンス液２０１を供給する。そうすると、ノズル８の吐出口から基板Ｗに対し、リンス液２０１が吐出される。リンス液２０１が吐出される時間は、たとえば、１０秒以上、かつ、３０秒以下である。
次に、図９に例が示されるようにリンス液２０１の吐出を停止し、かつ、制御部９０の制御によって図６に示されたバルブ５０およびバルブ５６を開放して、吸引配管４９、接続配管４４、配管１０８およびノズル８に含まれる薬液またはリンス液を、吸引配管４９へと引き込む。この際、基板Ｗの上方に位置するノズル８の吐出口を介して、基板Ｗと遮断板２７Ａとに囲まれる密閉空間における薬液２００およびリンス液２０１の雰囲気も、吸引配管４９へと引き込まれ得る。吸引動作が行われる時間は、たとえば、１０秒以上、かつ、３０秒以下である。なお、吸引動作の終了は、たとえば、センサーなどによって吸引量を測定し、吸引量がしきい値を超えた時点で終了するようにしてもよい。また、調整バルブ５４を併せて開放することによって、配管１０８およびノズル８に含まれる薬液２００またはリンス液２０１を、吸引配管４８へ引き込んでもよい。
一方で、図９に例が示されるように、制御部９０の制御によって対応するバルブを開放して、配管１１０を介してリンス液２０２を供給する。そうすると、ノズル１０の吐出口から基板Ｗに対し、リンス液２０２が吐出される。なお、リンス液２０２は、リンス液２０１と同一種類の液体であってもよいし、異なる種類の液体であってもよい。また、基板Ｗと遮断板２７Ａとに囲まれる密閉空間におけるリンス液２０２の雰囲気は、上記と同様に、ノズル８の吐出口を介して吸引配管４９へと引き込まれ得る。
次に、ノズル８における吸引動作が停止された後で、図１０に例が示されるように、制御部９０の制御によって対応するバルブを開放して、配管１１０を介して薬液２０３を供給する。そうすると、ノズル１０の吐出口から基板Ｗに対し、薬液２０３が吐出される。
以上によれば、ノズル８を介する薬液２００などの吸引動作が停止された後で、ノズル１０からの薬液２０３の供給が開始されるため、ノズル８内および配管１０８内に、基板Ｗと遮断板２７Ａとに囲まれる密閉空間における薬液２０３の雰囲気が吸引されることが抑制される。よって、ノズル８内および配管１０８内において、薬液２００と薬液２０３とが混合することが十分に抑制される。
また、ノズル８およびノズル１０の双方において、リンス液の吐出が時間順次に行われることによって、ノズル８における吸引動作の前および吸引動作の間にリンス液を吐出することができるため、基板Ｗの上面に残存する薬液２００の量を減少させつつ、基板Ｗの上面を洗浄し、さらに、基板Ｗの上面にリンス液の液膜が形成されることで基板Ｗの汚染を抑制することができる。
なお、ノズル８およびノズル１０とは異なる他のノズル（たとえば、ノズル１２またはノズル１３）によってリンス液が吐出されてもよい。その場合、それぞれのノズルにおいて吸引動作が行われる必要があるが、上記の他のノズルにおける吸引動作も停止された後で、ノズル１０を介する薬液２０３の供給が開始されることが望ましい。リンス液を吐出するノズル内に薬液２０３が吸引された場合であっても、後の工程で当該ノズルから他の薬液が吐出される場合には、薬液の混合が生じるためである。
ここで、本実施の形態に関する基板処理方法では、ノズル８における吸引動作が停止された後でノズル１０を介する薬液２０３の供給が開始されるのであれば、ノズル８を介するリンス液２０１の供給およびノズル１０を介するリンス液２０２の供給は、ともに行われなくてもよい。ただし、ノズル８における吸引動作が行われている間に上記のリンス液の供給が行われることによって、基板Ｗの上面の洗浄に加えて、基板Ｗの上面にリンス液の液膜が形成されることによって基板Ｗの汚染を抑制することができる。
上記より、ノズル８における吸引動作は、リンス液の供給が行われている間に終了する、すなわち、ノズル８における吸引動作は、リンス液の供給動作よりも先に終了することが望ましい。
また、ノズル８を介するリンス液２０１の供給、および、ノズル１０を介するリンス液２０２の供給は、いずれか一方が行われてもよい。
また、薬液として疎水化剤が用いられる場合、疎水化剤を純水などのリンス液と混合させることはできないため、薬液としての疎水化剤を吸引する間は疎水化剤を基板Ｗ上でパドリングしておき、同時に、基板Ｗ上の雰囲気を不活性ガス（Ｎ２）で置換する。そして、薬液としての疎水化剤の吸引が停止された後で、他の薬液の吐出を開始する。
＜第２の実施の形態＞
本実施の形態に関する基板処理方法、および、基板処理装置について説明する。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態で説明された構成要素と同様の構成要素については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略するものとする。
本実施の形態に関する基板処理方法、および、基板処理装置について説明する。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態で説明された構成要素と同様の構成要素については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略するものとする。
＜基板処理装置の構成について＞
図１１は、本実施の形態に関する処理ユニットＵＴの構成の例を模式的に示す図である。処理ユニットＵＴにおけるそれぞれの構成の動作は、制御部９０によって制御される。また、図１２は、対向部材２６の構成の例を模式的に示す断面図である。
図１１は、本実施の形態に関する処理ユニットＵＴの構成の例を模式的に示す図である。処理ユニットＵＴにおけるそれぞれの構成の動作は、制御部９０によって制御される。また、図１２は、対向部材２６の構成の例を模式的に示す断面図である。
処理ユニットＵＴは、チャンバ８０と、スピンチャック５と、配管１０８と、配管１１０と、配管１１２と、配管１１３と、配管１２１と、供給および吸引機構１４と、供給および吸引機構１５と、供給および吸引機構１６と、供給および吸引機構３０と、不活性ガス供給源３６と、カップ１７とを備える。
また、処理ユニットＵＴは、スピンチャック５に保持されている基板Ｗの上面に対向する対向部材２６を備える。図１３は、対向部材２６の例を示す底面図である。
対向部材２６は、遮断板２７と、遮断板２７に一体的に回転可能な回転軸２８とを備える。遮断板２７は、基板Ｗとほぼ同じ径またはそれ以上の径を有する円板状の構成である。遮断板２７は、その下面に基板Ｗの上面全域に対向する円形の平坦面からなる基板対向面２９を有する。基板対向面２９の中央部には、遮断板２７を上下に貫通する円筒状の貫通穴１３２が形成されている。
回転軸２８は、遮断板２７の中心を通り、かつ、鉛直方向に延びる回転軸線Ａ２まわりに回転可能である。なお、回転軸線Ａ２は、基板Ｗの回転軸線Ａ１と一致する。回転軸２８は、円筒状である。回転軸２８の内部空間は、遮断板２７の貫通穴１３２に連通している。回転軸２８は、遮断板２７の上方で水平に延びる支持アーム３１に相対回転可能に支持されている。本実施の形態では、支持アーム３１は、少なくとも上下方向（鉛直方向）に移動可能である。
貫通穴１３２の内部には、遮断板２７の回転軸線Ａ２に沿って上下に延びる軸ノズル３２が設けられる。軸ノズル３２のケーシング３３内には、上下方向（鉛直方向）に延びるノズル８、ノズル１０、ノズル１２、ノズル１３およびノズル２１が配置される。ケーシング３３は、貫通穴１３２の内部において、遮断板２７および回転軸２８とは非接触の状態で配置される。
遮断板２７には、電動モータなどを含む回転機構３４が結合されている。回転機構３４は、遮断板２７および回転軸２８を、支持アーム３１に対して回転軸線Ａ２まわりに回転させる。
支持アーム３１には、電動モータまたはボールねじなどを含む昇降機構３５が結合されている。昇降機構３５は、対向部材２６、ノズル８、ノズル１０、ノズル１２、ノズル１３およびノズル２１を、支持アーム３１とともに鉛直方向に昇降する。昇降機構３５は、遮断板２７の基板対向面２９がスピンチャック５に保持されている基板Ｗの上面に近接する近接位置と、近接位置の上方に設けられた退避位置との間で、遮断板２７、ノズル８、ノズル１０、ノズル１２、ノズル１３およびノズル２１を昇降させる。昇降機構３５は、近接位置と退避位置との間のそれぞれの位置で遮断板２７を保持する。
＜基板処理装置の動作について＞
次に、本実施の形態に関する基板処理装置の動作を説明する。本実施の形態に関する基板処理装置による基板処理方法は、処理ユニットＵＴへ搬送された基板Ｗに対し薬液処理を行う工程と、薬液処理が行われた基板Ｗに対し洗浄処理を行う工程と、洗浄処理が行われた基板Ｗに対し乾燥処理を行う工程と、乾燥処理が行われた基板Ｗを処理ユニットＵＴから搬出する工程とを備える。
次に、本実施の形態に関する基板処理装置の動作を説明する。本実施の形態に関する基板処理装置による基板処理方法は、処理ユニットＵＴへ搬送された基板Ｗに対し薬液処理を行う工程と、薬液処理が行われた基板Ｗに対し洗浄処理を行う工程と、洗浄処理が行われた基板Ｗに対し乾燥処理を行う工程と、乾燥処理が行われた基板Ｗを処理ユニットＵＴから搬出する工程とを備える。
上記のうちの薬液処理は、第１の実施の形態に示された場合と同様に、まず、制御部９０の制御によって図６に示されたバルブ５０およびバルブ５２を開放して、配管１０８を介して薬液２００を供給する（ただし、配管１０８は対向部材２６に接続されるものとする）。そうすると、ノズル８の吐出口から基板Ｗに対し、薬液２００が吐出される。
次に、制御部９０の制御によって図６に示されたバルブ５０およびバルブ５３を開放して、配管１０８を介してリンス液２０１を供給する。そうすると、ノズル８の吐出口から基板Ｗに対し、リンス液２０１が吐出される。
次に、制御部９０の制御によって図６に示されたバルブ５０およびバルブ５６を開放して、吸引配管４９、接続配管４４、配管１０８およびノズル８に含まれる薬液またはリンス液を、吸引配管４９へと引き込む。この際、ノズル８の吐出口を介して、基板Ｗと遮断板２７とに囲まれる空間における薬液２００およびリンス液２０１の雰囲気も、吸引配管４９へと引き込まれ得る。なお、調整バルブ５４を併せて開放することによって、配管１０８およびノズル８に含まれる薬液またはリンス液を、吸引配管４８へ引き込んでもよい。
一方で、制御部９０の制御によって対応するバルブを開放して、配管１１０を介してリンス液２０２を供給する。そうすると、ノズル１０の吐出口から基板Ｗに対し、リンス液２０２が吐出される。なお、基板Ｗと遮断板２７とに囲まれる空間におけるリンス液２０２の雰囲気は、上記と同様に、ノズル８の吐出口を介して吸引配管４９へと引き込まれ得る。
次に、ノズル８における吸引動作が停止された後で、制御部９０の制御によって対応するバルブを開放して、配管１１０を介して薬液２０３を供給する。そうすると、ノズル１０の吐出口から基板Ｗに対し、薬液２０３が吐出される。
以上によれば、ノズル８を介する薬液２００などの吸引動作が停止された後で、ノズル１０からの薬液２０３の供給が開始されるため、ノズル８内および配管１０８内に、基板Ｗと遮断板２７とに囲まれる空間における薬液２０３の雰囲気が吸引されることが抑制される。よって、ノズル８内および配管１０８内において、薬液２００と薬液２０３とが混合することが十分に抑制される。
ここで、本実施の形態に関する基板処理方法では、ノズル８における吸引動作が停止された後でノズル１０を介する薬液２０３の供給が開始されるのであれば、ノズル８を介するリンス液２０１の供給およびノズル１０を介するリンス液２０２の供給は、ともに行われなくてもよい。ただし、ノズル８における吸引動作が行われている間に上記のリンス液の供給が行われることによって、基板Ｗの上面の洗浄に加えて、基板Ｗの上面に液膜が形成されることによって基板Ｗの汚染を抑制することができる。
上記より、ノズル８における吸引動作は、リンス液の供給が行われている間に終了する、すなわち、ノズル８における吸引動作は、リンス液の供給動作よりも先に終了することが望ましい。
また、ノズル８を介するリンス液２０１の供給、および、ノズル１０を介するリンス液２０２の供給は、いずれか一方が行われてもよい。
＜第３の実施の形態＞
本実施の形態に関する基板処理方法、および、基板処理装置について説明する。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態で説明された構成要素と同様の構成要素については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略するものとする。
本実施の形態に関する基板処理方法、および、基板処理装置について説明する。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態で説明された構成要素と同様の構成要素については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略するものとする。
＜基板処理装置の構成について＞
図１４は、本実施の形態に関する処理ユニットＵＴｂの構成の例を模式的に示す図である。処理ユニットＵＴｂにおけるそれぞれの構成の動作は、制御部９０によって制御される。
図１４は、本実施の形態に関する処理ユニットＵＴｂの構成の例を模式的に示す図である。処理ユニットＵＴｂにおけるそれぞれの構成の動作は、制御部９０によって制御される。
処理ユニットＵＴｂは、チャンバ８０と、スピンチャック５と、供給および吸引機構１４と、供給および吸引機構１５と、供給および吸引機構１６と、供給および吸引機構３０と、供給および吸引機構３８と、供給および吸引機構３９と、不活性ガス供給源３６と、カップ１７とを備える。
また、処理ユニットＵＴｂは、スピンチャック５に保持されている基板Ｗの上面に対向する対向部材２６を備える。
対向部材２６は、遮断板２７と、遮断板２７に一体的に回転可能な回転軸２８とを備える。遮断板２７は、その下面に基板Ｗの上面全域に対向する円形の平坦面からなる基板対向面２９を有する。基板対向面２９の中央部には、遮断板２７を上下に貫通する円筒状の貫通穴１３２が形成されている。
回転軸２８は、遮断板２７の中心を通り、かつ、鉛直方向に延びる回転軸線Ａ２まわりに回転可能である。回転軸２８は、遮断板２７の上方で水平に延びる支持アーム３１に相対回転可能に支持されている。
貫通穴１３２の内部には、遮断板２７の回転軸線Ａ２に沿って上下に延びる軸ノズル３２が設けられる。
遮断板２７には、電動モータなどを含む回転機構３４が結合されている。回転機構３４は、遮断板２７および回転軸２８を、支持アーム３１に対して回転軸線Ａ２まわりに回転させる。
昇降機構３５は、遮断板２７の基板対向面２９がスピンチャック５に保持されている基板Ｗの上面に近接する近接位置と、近接位置の上方に設けられた退避位置との間で、遮断板２７を昇降させる。なお、図１４においては、遮断板２７は、上記のうちの退避位置に位置している。
基板Ｗの上方には、ノズル４００およびノズル４０２がそれぞれ基板Ｗの上面に対向して配置される。供給および吸引機構３８は、配管４０１およびノズル４００にたとえば、アルカリ性の薬液およびリンス液を選択的に供給し、かつ、配管４０１内およびノズル４００内の当該薬液および当該リンス液を吸引する。供給および吸引機構３９は、配管４０３およびノズル４０２にたとえば、酸性の薬液およびリンス液を選択的に供給し、かつ、配管４０３内およびノズル４０２内の当該薬液および当該リンス液を吸引する。ノズル４００およびノズル４０２は、それぞれ基板Ｗの上面に対向する処理位置と（基板Ｗに処理液を吐出する位置）と、退避位置（基板Ｗの上方から退避する位置）との間で揺動可能に構成される。
＜供給および吸引機構について＞
図１５は、図１４に例が示された供給および吸引機構３８の構成の例を模式的に示す図である。なお、供給および吸引機構３９の構成も、供給する処理液の種類を除いては図１５に例が示される構成と同様である。
図１５は、図１４に例が示された供給および吸引機構３８の構成の例を模式的に示す図である。なお、供給および吸引機構３９の構成も、供給する処理液の種類を除いては図１５に例が示される構成と同様である。
図１５に例が示されるように、供給および吸引機構３８は、配管４０１の上流側の端部に接続された接続配管４４と、接続配管４４にさらに接続された排液配管４５と、排液配管４５に設けられたバルブ５１と、接続配管４４の上流側に接続された薬液配管４６と、薬液配管４６に設けられたバルブ５２と、接続配管４４の上流側に接続されたリンス液配管４７と、リンス液配管４７に設けられたバルブ５３と、接続配管４４よりも下流側の配管４０１に設けられたバルブ５０と、バルブ５０よりも下流側の配管４０１から分岐する吸引配管４８と、吸引配管４８に設けられた調整バルブ５４と、吸引配管４８にさらに接続された吸引装置５５と、接続配管４４にさらに接続された吸引配管４９と、吸引配管４９に設けられたバルブ５６と、吸引配管４９にさらに接続された吸引装置５７とを備える。なお、排液配管４５には、機外の排液設備に接続されている。また、吸引装置５５および吸引装置５７は、いずれか一方が備えられている場合であってもよい。
他のバルブが閉じられた状態で、バルブ５２およびバルブ５０が開かれると、薬液配管４６から薬液が配管４０１に供給され、ノズル４００の吐出口から下方に向けて薬液が吐出される。
また、他のバルブが閉じられた状態で、バルブ５２およびバルブ５１が開かれると、薬液配管４６から薬液が排液配管４５に供給される。これによって、薬液配管４６内の薬液を排液（廃棄）することができる。
また、他のバルブが閉じられた状態で、バルブ５３およびバルブ５０が開かれると、バルブ５３からリンス液が配管４０１に供給され、ノズル４００の吐出口から下方に向けてリンス液が吐出される。
また、他のバルブが閉じられた状態で、バルブ５３およびバルブ５１が開かれると、バルブ５３からリンス液が排液配管４５に供給される。これによって、リンス液配管４７内のリンス液を排液（廃棄）することができる。
吸引装置５５の作動状態において、調整バルブ５４が開かれると、吸引装置５５の働きが有効となり、吸引配管４８の内部が吸引される。よって、配管４０１、ノズル４００および吸引配管４８に含まれる処理液（薬液またはリンス液）が、吸引配管４８へと引き込まれる。なお、吸引装置５５の吸引力は比較的弱いため、その吸引速度は比較的遅い。
また、吸引装置５７は、たとえば、常時作動状態とされている。また、バルブ動作によって吸引が開始されてもよい。吸引装置５７の作動状態において、バルブ５６が開かれると、吸引装置５７の働きが有効となり、吸引配管４９の内部が吸引される。よって、吸引配管４９、接続配管４４および配管４０１およびノズル４００に含まれる処理液（薬液またはリンス液）が、吸引配管４９へと引き込まれる。なお、吸引装置５７の吸引力は吸引装置５５の場合と比較して強いため、その吸引速度は、吸引装置５５の場合と比較して速い。
＜基板処理装置の動作について＞
次に、図１６から図１９を参照しつつ、本実施の形態に関する基板処理装置の動作を説明する。ここで、図１６、図１７、図１８および図１９は、基板処理装置の動作のうち、特に供給および吸引機構３８、および、供給および吸引機構３９の動作を説明するための模式図である。
次に、図１６から図１９を参照しつつ、本実施の形態に関する基板処理装置の動作を説明する。ここで、図１６、図１７、図１８および図１９は、基板処理装置の動作のうち、特に供給および吸引機構３８、および、供給および吸引機構３９の動作を説明するための模式図である。
本実施の形態に関する基板処理装置による基板処理方法は、処理ユニットＵＴｂへ搬送された基板Ｗに対し薬液処理を行う工程と、薬液処理が行われた基板Ｗに対し洗浄処理を行う工程と、洗浄処理が行われた基板Ｗに対し乾燥処理を行う工程と、乾燥処理が行われた基板Ｗを処理ユニットＵＴｂから搬出する工程とを備える。
上記のうちの薬液処理では、まず、図１６に例が示されるように、制御部９０の制御によって図１５に示されたバルブ５０およびバルブ５２を開放して、配管４０１を介して薬液２００を供給する。そうすると、ノズル４００の吐出口から基板Ｗに対し、薬液２００が吐出される。
次に、図１７に例が示されるように、制御部９０の制御によって図１５に示されたバルブ５０およびバルブ５３を開放して、配管４０１を介してリンス液２０１を供給する。そうすると、ノズル４００の吐出口から基板Ｗに対し、リンス液２０１が吐出される。
次に、図１８に例が示されるようにリンス液２０１の吐出を停止し、かつ、制御部９０の制御によって図１５に示されたバルブ５０およびバルブ５６を開放して、吸引配管４９、接続配管４４、配管４０１およびノズル４００に含まれる薬液またはリンス液を、吸引配管４９へと引き込む。この際、ノズル４００の吐出口を介して、チャンバ８０内の薬液２００およびリンス液２０１の雰囲気も、吸引配管４９へと引き込まれ得る。なお、調整バルブ５４を併せて開放することによって、配管４０１およびノズル４００に含まれる薬液２００またはリンス液２０１を、吸引配管４８へ引き込んでもよい。
一方で、図１８に例が示されるように、制御部９０の制御によって対応するバルブを開放して、配管４０３を介してリンス液２０２を供給する。そうすると、ノズル４０２の吐出口から基板Ｗに対し、リンス液２０２が吐出される。なお、チャンバ８０内のリンス液２０２の雰囲気は、上記と同様に、ノズル４００の吐出口を介して吸引配管４９へと引き込まれ得る。
次に、ノズル４００における吸引動作が停止された後で、図１９に例が示されるように、制御部９０の制御によって対応するバルブを開放して、ノズル４０２を介して薬液２０３を供給する。そうすると、ノズル４０２の吐出口から基板Ｗに対し、薬液２０３が吐出される。
ここで、本実施の形態に関する基板処理方法では、ノズル４００における吸引動作が停止された後でノズル４０２を介する薬液２０３の供給が開始されるのであれば、ノズル４００を介するリンス液２０１の供給およびノズル４０２を介するリンス液２０２の供給は、ともに行われなくてもよい。ただし、ノズル４００における吸引動作が行われている間に上記のリンス液の供給が行われることによって、基板Ｗの上面の洗浄に加えて、基板Ｗの上面に液膜が形成されることによって基板Ｗの汚染を抑制することができる。
また、ノズル４００を介するリンス液２０１の供給、および、ノズル４０２を介するリンス液２０２の供給は、いずれか一方が行われてもよい。
以上によれば、ノズル４００を介する薬液２００などの吸引動作が停止された後で、ノズル４０２からの薬液２０３の供給が開始されるため、ノズル４００内および配管４０１内に、チャンバ８０内の薬液２０３の雰囲気が吸引されることが抑制される。よって、ノズル４００内および配管４０１内において、薬液２００と薬液２０３とが混合することが十分に抑制される。
＜第４の実施の形態＞
本実施の形態に関する基板処理方法、および、基板処理装置について説明する。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態で説明された構成要素と同様の構成要素については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略するものとする。
本実施の形態に関する基板処理方法、および、基板処理装置について説明する。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態で説明された構成要素と同様の構成要素については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略するものとする。
＜基板処理装置の構成について＞
図２０は、本実施の形態に関する処理ユニットＵＴｃの構成の例を模式的に示す図である。処理ユニットＵＴｃにおけるそれぞれの構成の動作は、制御部９０によって制御される。
図２０は、本実施の形態に関する処理ユニットＵＴｃの構成の例を模式的に示す図である。処理ユニットＵＴｃにおけるそれぞれの構成の動作は、制御部９０によって制御される。
処理ユニットＵＴｃは、チャンバ８０と、スピンチャック５と、スピンチャック５に保持されている基板Ｗの上面の中央部に向けて処理液を吐出するためのノズル３１０が接続される配管３２０と、スピンチャック５に保持されている基板Ｗの上面の中央部に向けて処理液を吐出するためのノズル３１２が接続される配管３２２と、スピンチャック５に保持されている基板Ｗの上面の中央部に向けて処理液を吐出するためのノズル３１４が接続される配管３２４と、スピンチャック５に保持されている基板Ｗの上面の中央部に向けて処理液を吐出するためのノズル３１６が接続される配管３２６と、配管３２０にたとえば、アルカリ性の薬液およびリンス液を選択的に供給し、かつ、ノズル３１０内および配管３２０内の当該薬液および当該リンス液を吸引するための供給および吸引機構３３０と、配管３２２にたとえば、酸性の薬液およびリンス液を選択的に供給し、かつ、ノズル３１２内および配管３２２内の当該薬液および当該リンス液を吸引するための供給および吸引機構３３２と、配管３２４にたとえば、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）などの有機溶剤を供給し、かつ、ノズル３１４内および配管３２４内の当該有機溶剤を吸引するための供給および吸引機構３３４と、配管３２６にたとえば、他の薬液を供給し、かつ、ノズル３１６内および配管３２６内の当該薬液を吸引するための供給および吸引機構３３６と、ノズル３１０、ノズル３１２、ノズル３１４およびノズル３１６を一体的に支持する支持部３０２と、支持部３０２が端部に取り付けられたノズルアーム３００と、カップ１７とを備える。
ノズルアーム３００は、アーム部３００Ａと、軸体３００Ｂと、アクチュエータ３００Ｃとを備える。アクチュエータ３００Ｃは、軸体３００Ｂの軸周りの角度を調整する。アーム部３００Ａの一方の端部は軸体３００Ｂに固定されており、アーム部３００Ａの他方の端部は軸体３００Ｂの軸から離れて配置される。また、アーム部３００Ａの他方の端部には、支持部３０２が取り付けられている。そうすることによって、支持部３０２は、基板Ｗの半径方向に処理位置（基板Ｗに処理液を吐出する位置）と退避位置（基板Ｗの上方から退避する位置）との間で揺動可能に構成される。なお、揺動による支持部３０２の移動方向は、基板Ｗの半径方向の成分を有していればよく、基板Ｗの半径方向に厳密に平行である必要はない。ここで、ノズルアーム３００は、図示しないモータなどによって、鉛直方向に昇降可能であってもよい。その場合、ノズルアーム３００の端部に取り付けられた支持部３０２と基板Ｗの上面との間の距離を、ノズルアーム３００の昇降によって調整可能である。
基板Ｗの上方には、支持部３０２によって一体的に支持されたノズル３１０、ノズル３１２、ノズル３１４およびノズル３１６が、それぞれ基板Ｗの上面に対向して配置される。供給および吸引機構３３０は、配管３２０およびノズル３１０にたとえば、アルカリ性の薬液およびリンス液を選択的に供給し、かつ、配管３２０内およびノズル３１０内の当該薬液および当該リンス液を吸引する。供給および吸引機構３３２は、配管３２２およびノズル３１２にたとえば、酸性の薬液およびリンス液を選択的に供給し、かつ、配管３２２内およびノズル３１２内の当該薬液および当該リンス液を吸引する。
＜供給および吸引機構について＞
図２１は、図２０に例が示された供給および吸引機構３３０の構成の例を模式的に示す図である。なお、供給および吸引機構３３２、供給および吸引機構３３４、供給および吸引機構３３６の構成も、供給する処理液の種類を除いては図２１に例が示される構成と同様である。
図２１は、図２０に例が示された供給および吸引機構３３０の構成の例を模式的に示す図である。なお、供給および吸引機構３３２、供給および吸引機構３３４、供給および吸引機構３３６の構成も、供給する処理液の種類を除いては図２１に例が示される構成と同様である。
図２１に例が示されるように、供給および吸引機構３３０は、配管３２０の上流側の端部に接続された接続配管４４と、接続配管４４にさらに接続された排液配管４５と、排液配管４５に設けられたバルブ５１と、接続配管４４の上流側に接続された薬液配管４６と、薬液配管４６に設けられたバルブ５２と、接続配管４４の上流側に接続されたリンス液配管４７と、リンス液配管４７に設けられたバルブ５３と、接続配管４４よりも下流側の配管３２０に設けられたバルブ５０と、バルブ５０よりも下流側の配管３２０から分岐する吸引配管４８と、吸引配管４８に設けられた調整バルブ５４と、吸引配管４８にさらに接続された吸引装置５５と、接続配管４４にさらに接続された吸引配管４９と、吸引配管４９に設けられたバルブ５６と、吸引配管４９にさらに接続された吸引装置５７とを備える。なお、排液配管４５には、機外の排液設備に接続されている。また、吸引装置５５および吸引装置５７は、いずれか一方が備えられている場合であってもよい。
他のバルブが閉じられた状態で、バルブ５２およびバルブ５０が開かれると、薬液配管４６から薬液が配管３２０に供給され、ノズル３１０の吐出口から下方に向けて薬液が吐出される。
また、他のバルブが閉じられた状態で、バルブ５２およびバルブ５１が開かれると、薬液配管４６から薬液が排液配管４５に供給される。これによって、薬液配管４６内の薬液を排液（廃棄）することができる。
また、他のバルブが閉じられた状態で、バルブ５３およびバルブ５０が開かれると、バルブ５３からリンス液が配管３２０に供給され、ノズル３１０の吐出口から下方に向けてリンス液が吐出される。
また、他のバルブが閉じられた状態で、バルブ５３およびバルブ５１が開かれると、バルブ５３からリンス液が排液配管４５に供給される。これによって、リンス液配管４７内のリンス液を排液（廃棄）することができる。
吸引装置５５の作動状態において、調整バルブ５４が開かれると、吸引装置５５の働きが有効となり、吸引配管４８の内部が吸引される。よって、配管３２０、ノズル３１０および吸引配管４８に含まれる処理液（薬液またはリンス液）が、吸引配管４８へと引き込まれる。なお、吸引装置５５の吸引力は比較的弱いため、その吸引速度は比較的遅い。
また、吸引装置５７は、たとえば、常時作動状態とされている。また、バルブ動作によって吸引が開始されてもよい。吸引装置５７の作動状態において、バルブ５６が開かれると、吸引装置５７の働きが有効となり、吸引配管４９の内部が吸引される。よって、吸引配管４９、接続配管４４および配管３２０およびノズル３１０に含まれる処理液（薬液またはリンス液）が、吸引配管４９へと引き込まれる。なお、吸引装置５７の吸引力は吸引装置５５の場合と比較して強いため、その吸引速度は、吸引装置５５の場合と比較して速い。
＜基板処理装置の動作について＞
次に、図２２から図２５を参照しつつ、本実施の形態に関する基板処理装置の動作を説明する。ここで、図２２、図２３、図２４および図２５は、基板処理装置の動作のうち、特にノズル３１０およびノズル３１２から処理液が供給される動作を説明するための模式図である。
次に、図２２から図２５を参照しつつ、本実施の形態に関する基板処理装置の動作を説明する。ここで、図２２、図２３、図２４および図２５は、基板処理装置の動作のうち、特にノズル３１０およびノズル３１２から処理液が供給される動作を説明するための模式図である。
本実施の形態に関する基板処理装置による基板処理方法は、処理ユニットＵＴｃへ搬送された基板Ｗに対し薬液処理を行う工程と、薬液処理が行われた基板Ｗに対し洗浄処理を行う工程と、洗浄処理が行われた基板Ｗに対し乾燥処理を行う工程と、乾燥処理が行われた基板Ｗを処理ユニットＵＴｃから搬出する工程とを備える。
上記のうちの薬液処理では、まず、図２２に例が示されるように、制御部９０の制御によって図２１に示されたバルブ５０およびバルブ５２を開放して、配管３２０を介して薬液２００を供給する。そうすると、ノズル３１０の吐出口から基板Ｗに対し、薬液２００が吐出される。
次に、図２３に例が示されるように、制御部９０の制御によって図２１に示されたバルブ５０およびバルブ５３を開放して、配管３２０を介してリンス液２０１を供給する。そうすると、ノズル３１０の吐出口から基板Ｗに対し、リンス液２０１が吐出される。
次に、図２４に例が示されるようにリンス液２０１の吐出を停止し、かつ、制御部９０の制御によって図２１に示されたバルブ５０およびバルブ５６を開放して、吸引配管４９、接続配管４４、配管３２０およびノズル３１０に含まれる薬液またはリンス液を、吸引配管４９へと引き込む。この際、ノズル３１０の吐出口を介して、チャンバ８０内の薬液２００およびリンス液２０１の雰囲気も、吸引配管４９へと引き込まれ得る。なお、調整バルブ５４を併せて開放することによって、配管３２０およびノズル３１０に含まれる薬液２００またはリンス液２０１を、吸引配管４８へ引き込んでもよい。
一方で、図２４に例が示されるように、制御部９０の制御によって対応するバルブを開放して、配管３２２を介してリンス液２０２を供給する。そうすると、ノズル３１２の吐出口から基板Ｗに対し、リンス液２０２が吐出される。なお、チャンバ８０内のリンス液２０２の雰囲気は、上記と同様に、ノズル３１０の吐出口を介して吸引配管４９へと引き込まれ得る。
次に、ノズル３１０における吸引動作が停止された後で、図２５に例が示されるように、制御部９０の制御によって対応するバルブを開放して、ノズル３１２を介して薬液２０３を供給する。そうすると、ノズル３１２の吐出口から基板Ｗに対し、薬液２０３が吐出される。
ここで、本実施の形態に関する基板処理方法では、ノズル３１０における吸引動作が停止された後でノズル３１２を介する薬液２０３の供給が開始されるのであれば、ノズル３１０を介するリンス液２０１の供給およびノズル３１２を介するリンス液２０２の供給は、ともに行われなくてもよい。ただし、ノズル３１０における吸引動作が行われている間に上記のリンス液の供給が行われることによって、基板Ｗの上面の洗浄に加えて、基板Ｗの上面に液膜が形成されることによって基板Ｗの汚染を抑制することができる。
また、ノズル３１０を介するリンス液２０１の供給、および、ノズル３１２を介するリンス液２０２の供給は、いずれか一方が行われてもよい。
以上によれば、ノズル３１０を介する薬液２００などの吸引動作が停止された後で、ノズル３１０の近傍に位置するノズル３１２からの薬液２０３の供給が開始されるため、ノズル３１０内および配管３２０内に、チャンバ８０内の薬液２０３の雰囲気が吸引されることが抑制される。よって、ノズル３１０内および配管３２０内において、薬液２００と薬液２０３とが混合することが十分に抑制される。
＜以上に記載された実施の形態によって生じる効果について＞
次に、以上に記載された実施の形態によって生じる効果の例を示す。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態に例が示された具体的な構成に基づいて当該効果が記載されるが、同様の効果が生じる範囲で、本願明細書に例が示される他の具体的な構成と置き換えられてもよい。
次に、以上に記載された実施の形態によって生じる効果の例を示す。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態に例が示された具体的な構成に基づいて当該効果が記載されるが、同様の効果が生じる範囲で、本願明細書に例が示される他の具体的な構成と置き換えられてもよい。
また、当該置き換えは、複数の実施の形態に跨ってなされてもよい。すなわち、異なる実施の形態において例が示されたそれぞれの構成が組み合わされて、同様の効果が生じる場合であってもよい。
以上に記載された実施の形態によれば、基板処理方法において、基板Ｗに第１のノズルから第１の薬液を吐出する。ここで、第１のノズルは、たとえば、ノズル８、ノズル３１０およびノズル４００などのうちのいずれか１つに対応するものである（以下では便宜上、これらのうちのいずれか１つを対応させて記載する場合がある）。また、第１の薬液は、たとえば、薬液２００などに対応するものである。そして、薬液２００が吐出された後、ノズル８内の液体（たとえば、薬液２００またはリンス液２０１など）を吸引する。そして、ノズル８内の液体の吸引が停止された後、基板Ｗに第２のノズルから薬液２００とは異なる第２の薬液を吐出する。ここで、第２のノズルは、たとえば、ノズル１０、ノズル３１２およびノズル４０２などのうちのいずれか１つに対応するものである（以下では便宜上、これらのうちのいずれか１つを対応させて記載する場合がある）。また、第２の薬液は、たとえば、薬液２０３などに対応するものである。
このような構成によれば、ノズル８を介する薬液２００などの吸引動作が停止された後で、ノズル１０からの薬液２０３の供給が開始される。そのため、ノズル８内に薬液２０３の雰囲気が吸引されることが抑制される。よって、ノズル８内において、薬液２００と薬液２０３とが混合することが十分に抑制される。その結果、複数のノズル間で吐出される薬液同士の混触などを避けるためにあらかじめノズル同士を離して配置する必要がなくなる。すなわち、ノズル配置の自由度が向上する。
なお、上記の構成に本願明細書に例が示された他の構成を適宜追加した場合、すなわち、上記の構成としては言及されなかった本願明細書中の他の構成が適宜追加された場合であっても、同様の効果を生じさせることができる。
また、特段の制限がない場合には、それぞれの処理が行われる順序は変更することができる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、基板処理方法において、薬液２００が吐出された後、かつ、薬液２０３が吐出される前に、基板Ｗにリンス液２０１またはリンス液２０２を吐出する。このような構成によれば、ノズル８における吸引動作が行われている間にリンス液２０１またはリンス液２０２の供給が行われることによって、基板Ｗの上面の洗浄に加えて、基板Ｗの上面にリンス液の液膜が形成されることで基板Ｗの汚染を抑制することができる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、ノズル８内の液体を吸引する工程は、リンス液２０１またはリンス液２０２を吐出する工程よりも先に終了する。このような構成によれば、基板Ｗの上面にリンス液の液膜が形成されている間に、ノズル８内の液体を吸引する工程を終了させることができる。よって、基板Ｗの汚染を抑制することができる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、リンス液２０１は、ノズル８内の液体を吸引する工程の前に、ノズル８から吐出される。このような構成によれば、基板Ｗの上面およびノズル８内の洗浄を行った後で残存する薬液２００を吸引することができるため、残存する薬液２００の量を減少させることができる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、リンス液２０２は、ノズル８内の液体を吸引する工程の間に、ノズル１０から吐出される。このような構成によれば、ノズル８における吸引動作が行われている間にノズル１０を介するリンス液２０２の供給が行われることによって、基板Ｗの上面の洗浄に加えて、基板Ｗの上面にリンス液の液膜が形成されることで基板Ｗの汚染を抑制することができる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、リンス液を吐出する工程は、ノズル８およびノズル１０の双方において、時間順次に行われる。このような構成によれば、ノズル８における吸引動作の前および吸引動作の間にリンス液を吐出することができるため、残存する薬液２００の量を減少させつつ、基板Ｗの上面を洗浄し、さらに、基板Ｗの上面にリンス液の液膜が形成されることで基板Ｗの汚染を抑制することができる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、薬液２００および薬液２０３は、一方が酸性の液体であり他方がアルカリ性の液体である。このような構成によれば、混触禁止である薬液間の混合（混触）を抑制することができる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、リンス液２０１またはリンス液２０２は水（ＤＩＷ）である。このような構成によれば、ノズル内および基板Ｗの上面を効果的に洗浄することができる。
また、以上に記載された実施の形態によれば、ノズル８およびノズル１０は、基板Ｗに対向して配置される遮断板２７（または遮断板２７Ａ）の中央部に共通して設けられる。このような構成によれば、ノズル８の吐出口を介して、基板Ｗと遮断板２７（または遮断板２７Ａ）との間の（密閉）空間における薬液２００の雰囲気、さらには、薬液２０３の雰囲気が吸引されやすくなるが、ノズル８を介する薬液２００などの吸引動作が停止された後で、ノズル１０からの薬液２０３の供給が開始されるため、ノズル８内に薬液２０３の雰囲気が吸引されることが抑制される。
また、以上に記載された実施の形態によれば、ノズル８およびノズル１０（または、ノズル３１０およびノズル３１２）は、互いに近傍に配置される。このような構成によれば、ノズル８の吐出口を介して、薬液２００の雰囲気、さらには、近傍に位置するノズル１０を介して吐出される薬液２０３の雰囲気が吸引されやすくなるが、ノズル８を介する薬液２００などの吸引動作が停止された後で、ノズル１０からの薬液２０３の供給が開始されるため、ノズル８内に薬液２０３の雰囲気が吸引されることが抑制される。
以上に記載された実施の形態によれば、基板処理装置において、ノズル８と、供給および吸引機構１４と、ノズル１０とを備える。ノズル８は、基板Ｗに薬液２００を吐出する。供給および吸引機構１４は、薬液２００が吐出された後、ノズル８内の液体を吸引する。ノズル１０は、ノズル８内の液体の吸引が停止された後、基板Ｗに薬液２００とは異なる薬液２０３を吐出する。
このような構成によれば、ノズル８を介する薬液２００などの吸引動作が停止された後で、ノズル１０からの薬液２０３の供給が開始される。そのため、ノズル８内に薬液２０３の雰囲気が吸引されることが抑制される。よって、ノズル８内において、薬液２００と薬液２０３とが混合することが十分に抑制される。その結果、複数のノズル間で吐出される薬液同士の混触などを避けるためにあらかじめノズル同士を離して配置する必要がなくなる。すなわち、ノズル配置の自由度が向上する。
また、上記の構成に本願明細書に例が示された他の構成を適宜追加した場合、すなわち、上記の構成としては言及されなかった本願明細書中の他の構成が適宜追加された場合であっても、同様の効果を生じさせることができる。
＜以上に記載された実施の形態の変形例について＞
以上に記載された実施の形態では、それぞれの構成要素の寸法、形状、相対的配置関係または実施の条件などについても記載する場合があるが、これらはすべての局面においてひとつの例であって、限定的なものではないものとする。
以上に記載された実施の形態では、それぞれの構成要素の寸法、形状、相対的配置関係または実施の条件などについても記載する場合があるが、これらはすべての局面においてひとつの例であって、限定的なものではないものとする。
したがって、例が示されていない無数の変形例、および、均等物が、本願明細書に開示される技術の範囲内において想定される。たとえば、少なくとも１つの構成要素を変形する場合、追加する場合または省略する場合、さらには、少なくとも１つの実施の形態における少なくとも１つの構成要素を抽出し、他の実施の形態における構成要素と組み合わせる場合が含まれるものとする。
また、以上に記載された実施の形態において、特に指定されずに材料名などが記載された場合は、矛盾が生じない限り、当該材料に他の添加物が含まれた、たとえば、合金などが含まれるものとする。
また、矛盾が生じない限り、以上に記載された実施の形態において「１つ」備えられるものとして記載された構成要素は、「１つ以上」備えられていてもよいものとする。
さらに、以上に記載された実施の形態におけるそれぞれの構成要素は概念的な単位であって、本願明細書に開示される技術の範囲内には、１つの構成要素が複数の構造物から成る場合と、１つの構成要素がある構造物の一部に対応する場合と、さらには、複数の構成要素が１つの構造物に備えられる場合とを含むものとする。
また、以上に記載された実施の形態におけるそれぞれの構成要素には、同一の機能を発揮する限り、他の構造または形状を有する構造物が含まれるものとする。
１ 基板処理装置
５ スピンチャック
８，１０，１２，１３，２１，３１０，３１２，３１４，３１６，４００，４０２ ノズル
１４，１５，１６，３０，３８，３９，３３０，３３２，３３４，３３６ 供給および吸引機構
１７ カップ
１７ａ 上端部
１８ 隔壁
１９ ＦＦＵ
２０ 排気ダクト
２２ スピンモータ
２３ スピン軸
２４ スピンベース
２５ 挟持部材
２６，２６Ａ 対向部材
２７，２７Ａ 遮断板
２８ 回転軸
２９ 基板対向面
３１ 支持アーム
３２ 軸ノズル
３３ ケーシング
３４ 回転機構
３５ 昇降機構
３６ 不活性ガス供給源
４４ 接続配管
４５ 排液配管
４６ 薬液配管
４７ リンス液配管
４８，４９ 吸引配管
５０，５１，５２，５３，５６ バルブ
５４ 調整バルブ
５５，５７ 吸引装置
８０ チャンバ
９０ 制御部
９１ ＣＰＵ
９２ ＲＯＭ
９３ ＲＡＭ
９４ 記憶装置
９４Ｐ 処理プログラム
９５ バスライン
９６ 入力部
９７ 表示部
９８ 通信部
１０８，１１０，１１２，１１３，１２１，３２０，３２２，３２４，３２６，４０１，４０３ 配管
１２７ 爪部
１３２ 貫通穴
２００，２０３ 薬液
２０１，２０２ リンス液
３００ ノズルアーム
３００Ａ アーム部
３００Ｂ 軸体
３００Ｃ アクチュエータ
３０２ 支持部
５ スピンチャック
８，１０，１２，１３，２１，３１０，３１２，３１４，３１６，４００，４０２ ノズル
１４，１５，１６，３０，３８，３９，３３０，３３２，３３４，３３６ 供給および吸引機構
１７ カップ
１７ａ 上端部
１８ 隔壁
１９ ＦＦＵ
２０ 排気ダクト
２２ スピンモータ
２３ スピン軸
２４ スピンベース
２５ 挟持部材
２６，２６Ａ 対向部材
２７，２７Ａ 遮断板
２８ 回転軸
２９ 基板対向面
３１ 支持アーム
３２ 軸ノズル
３３ ケーシング
３４ 回転機構
３５ 昇降機構
３６ 不活性ガス供給源
４４ 接続配管
４５ 排液配管
４６ 薬液配管
４７ リンス液配管
４８，４９ 吸引配管
５０，５１，５２，５３，５６ バルブ
５４ 調整バルブ
５５，５７ 吸引装置
８０ チャンバ
９０ 制御部
９１ ＣＰＵ
９２ ＲＯＭ
９３ ＲＡＭ
９４ 記憶装置
９４Ｐ 処理プログラム
９５ バスライン
９６ 入力部
９７ 表示部
９８ 通信部
１０８，１１０，１１２，１１３，１２１，３２０，３２２，３２４，３２６，４０１，４０３ 配管
１２７ 爪部
１３２ 貫通穴
２００，２０３ 薬液
２０１，２０２ リンス液
３００ ノズルアーム
３００Ａ アーム部
３００Ｂ 軸体
３００Ｃ アクチュエータ
３０２ 支持部
Claims (14)
- 基板に第１のノズルから第１の薬液を吐出する工程と、
前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する工程と、
前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に第２のノズルから前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する工程とを備え、
前記第１の薬液が吐出された後、かつ、前記第２の薬液が吐出される前に、前記基板にリンス液を吐出する工程をさらに備え、
前記第１のノズル内の前記液体を吸引する工程が、前記リンス液を吐出する工程の間に終了する、
基板処理方法。 - 基板に第１のノズルから第１の薬液を吐出する工程と、
前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する工程と、
前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に第２のノズルから前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する工程とを備え、
前記第１の薬液が吐出された後、かつ、前記第２の薬液が吐出される前に、前記基板にリンス液を吐出する工程をさらに備え、
前記リンス液は、前記第１のノズル内の前記液体を吸引する工程の前に、前記第１のノズルから吐出される、
基板処理方法。 - 基板に第１のノズルから第１の薬液を吐出する工程と、
前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する工程と、
前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に第２のノズルから前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する工程とを備え、
前記第１の薬液が吐出された後、かつ、前記第２の薬液が吐出される前に、前記基板にリンス液を吐出する工程をさらに備え、
前記リンス液は、前記第１のノズル内の前記液体を吸引する工程の間に、前記第２のノズルから吐出される、
基板処理方法。 - 基板に第１のノズルから第１の薬液を吐出する工程と、
前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する工程と、
前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に第２のノズルから前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する工程とを備え、
前記第１の薬液が吐出された後、かつ、前記第２の薬液が吐出される前に、前記基板にリンス液を吐出する工程をさらに備え、
前記リンス液を吐出する工程は、前記第１のノズルおよび前記第２のノズルの双方において、時間順次に行われる、
基板処理方法。 - 請求項２から４のうちのいずれか１つに記載の基板処理方法であり、
前記第１のノズル内の前記液体を吸引する工程が、前記リンス液を吐出する工程の間に終了する、
基板処理方法。 - 請求項１から５のうちのいずれか１つに記載の基板処理方法であり、
前記第１の薬液および前記第２の薬液は、一方が酸性の液体であり他方がアルカリ性の液体である、
基板処理方法。 - 請求項１から６のうちのいずれか１つに記載の基板処理方法であり、
前記リンス液は水である、
基板処理方法。 - 請求項１から７のうちのいずれか１つに記載の基板処理方法であり、
前記第１のノズルおよび前記第２のノズルは、前記基板に対向して配置される遮断板の中央部に共通して設けられる、
基板処理方法。 - 請求項１から８のうちのいずれか１つに記載の基板処理方法であり、
前記第１のノズルと前記第２のノズルとは、互いに近傍に配置される、
基板処理方法。 - 請求項１から９のうちのいずれか１つに記載の基板処理方法であり、
前記第１のノズル内の液体を吸引する工程が、前記基板の上方において行われる、
基板処理方法。 - 基板に第１の薬液を吐出する第１のノズルと、
前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する吸引機構と、
前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する第２のノズルと、
前記第１のノズル、前記吸引機構および前記第２のノズルの制御を行う制御部とを備え、
前記制御部が、前記基板に前記第１のノズルから前記第１の薬液を吐出させた後、かつ、前記第２のノズルから前記第２の薬液を吐出させる前に、前記基板にリンス液を吐出させ、
前記第１のノズル内の前記液体の吸引を、前記リンス液の吐出が行われている間に終了させる、
基板処理装置。 - 基板に第１の薬液を吐出する第１のノズルと、
前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する吸引機構と、
前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する第２のノズルと、
前記第１のノズル、前記吸引機構および前記第２のノズルの制御を行う制御部とを備え、
前記制御部が、前記基板に前記第１のノズルから前記第１の薬液を吐出させた後、かつ、前記第２のノズルから前記第２の薬液を吐出させる前に、前記基板にリンス液を吐出させ、
前記リンス液を、前記第１のノズル内の前記液体を吸引する前に、前記第１のノズルから吐出させる、
基板処理装置。 - 基板に第１の薬液を吐出する第１のノズルと、
前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する吸引機構と、
前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する第２のノズルと、
前記第１のノズル、前記吸引機構および前記第２のノズルの制御を行う制御部とを備え、
前記制御部が、前記基板に前記第１のノズルから前記第１の薬液を吐出させた後、かつ、前記第２のノズルから前記第２の薬液を吐出させる前に、前記基板にリンス液を吐出させ、
前記リンス液を、前記第１のノズル内の前記液体を吸引する間に、前記第２のノズルから吐出させる、
基板処理装置。 - 基板に第１の薬液を吐出する第１のノズルと、
前記第１の薬液が吐出された後、前記第１のノズル内の液体を吸引する吸引機構と、
前記第１のノズル内の前記液体の吸引が停止された後、前記基板に前記第１の薬液とは異なる第２の薬液を吐出する第２のノズルと、
前記第１のノズル、前記吸引機構および前記第２のノズルの制御を行う制御部とを備え、
前記制御部が、前記基板に前記第１のノズルから前記第１の薬液を吐出させた後、かつ、前記第２のノズルから前記第２の薬液を吐出させる前に、前記基板にリンス液を吐出させ、
前記リンス液を、前記第１のノズルおよび前記第２のノズルの双方において、時間順次に吐出させる、
基板処理装置。
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