実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
なお、以下に説明する発明の構成において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、その繰り返しの説明は省略する。また、同様の機能を指す場合には、ハッチパターンを同じくし、特に符号を付さない場合がある。
また、図面等において示す各構成の、位置、大きさ、範囲などは、理解の簡単のため、実際の位置、大きさ、範囲などを表していない場合がある。このため、開示する発明は、必ずしも、図面等に開示された位置、大きさ、範囲などに限定されない。
また、本明細書にて用いる「第1」、「第2」、「第3」という序数詞は、構成要素の混同を避けるために付したものであり、数的に限定するものではないことを付記する。
また、本明細書において、「上に」、「下に」などの配置を示す語句は、構成同士の位置関係を、図面を参照して説明するために、便宜上用いている。また、構成同士の位置関係は、各構成を描写する方向に応じて適宜変化するものである。従って、明細書で説明した語句に限定されず、状況に応じて適切に言い換えることができる。
また、本明細書等において、トランジスタとは、ゲートと、ドレインと、ソースとを含む少なくとも三つの端子を有する素子である。そして、ドレイン(ドレイン端子、ドレイン領域又はドレイン電極)とソース(ソース端子、ソース領域又はソース電極)の間にチャネル領域を有しており、ドレインとチャネル領域とソースとを介して電流を流すことができるものである。なお、本明細書等において、チャネル領域とは、電流が主として流れる領域をいう。
また、ソースやドレインの機能は、異なる極性のトランジスタを採用する場合や、回路動作において電流の方向が変化する場合などには入れ替わることがある。このため、本明細書等においては、ソースやドレインの用語は、入れ替えて用いることができるものとする。
また、本明細書等において、「電気的に接続」には、「何らかの電気的作用を有するもの」を介して接続されている場合が含まれる。ここで、「何らかの電気的作用を有するもの」は、接続対象間での電気信号の授受を可能とするものであれば、特に制限を受けない。例えば、「何らかの電気的作用を有するもの」には、電極や配線をはじめ、トランジスタなどのスイッチング素子、抵抗素子、インダクタ、キャパシタ、その他の各種機能を有する素子などが含まれる。
なお、例えば、トランジスタのソース(又は第1の端子など)が、Z1を介して(又は介さず)、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、Z2を介して(又は介さず)、Yと電気的に接続されている場合や、トランジスタのソース(又は第1の端子など)が、Z1の一部と直接的に接続され、Z1の別の一部がXと直接的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、Z2の一部と直接的に接続され、Z2の別の一部がYと直接的に接続されている場合では、以下のように表現することが出来る。
例えば、「XとYとトランジスタのソース(又は第1の端子など)とドレイン(又は第2の端子など)とは、互いに電気的に接続されており、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yの順序で電気的に接続されている。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース(又は第1の端子など)は、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)はYと電気的に接続され、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yは、この順序で電気的に接続されている」と表現することができる。または、「Xは、トランジスタのソース(又は第1の端子など)とドレイン(又は第2の端子など)とを介して、Yと電気的に接続され、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yは、この接続順序で設けられている」と表現することができる。これらの例と同様な表現方法を用いて、回路構成における接続の順序について規定することにより、トランジスタのソース(又は第1の端子など)と、ドレイン(又は第2の端子など)とを、区別して、技術的範囲を決定することができる。なお、これらの表現方法は、一例であり、これらの表現方法に限定されない。ここで、X、Y、Z1、Z2は、対象物(例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層、など)であるとする。
(実施の形態1)
本実施の形態では、本発明の一態様のタッチセンサーについて説明する。
本発明の一態様は、トランジスタ、容量素子及び保護回路を有する、アクティブマトリクス方式のタッチセンサーである。該トランジスタ、該容量素子及び該保護回路は電気的に接続する。保護回路はダイオードあるいはダイオード特性を有する素子を含む。また、ダイオード特性を有する素子として、トランジスタを用いても良い。
図1(A)に本発明の一態様であるタッチセンサー10Uの回路構成を説明する。図1(A)では、保護回路としてダイオードを用いる例を示す。
タッチセンサー10Uは、トランジスタM1と、トランジスタM2と、トランジスタM3と、容量素子Cと、ダイオードDと、配線VPIと、配線MLと、配線G1と、配線VRESと、配線RESと、配線CSと、配線VDDと、を有している。
トランジスタM1のソースまたはドレインの一方は、配線VPIと電気的に接続し、トランジスタM1のソースまたはドレインの他方は、トランジスタM2のソースまたはドレインの一方と電気的に接続し、トランジスタM1のゲートは、トランジスタM3のソースまたはドレインの一方、容量素子Cの第1の電極及びダイオードDの第1の電極と電気的に接続し、トランジスタM2のソースまたはドレインの他方は、配線MLと電気的に接続し、トランジスタM2のゲートは配線G1と電気的に接続し、トランジスタM3のソースまたはドレインの他方は、配線VRESと電気的に接続し、トランジスタM3のゲートは配線RESと電気的に接続し、容量素子Cの第2の電極は配線CSと電気的に接続し、ダイオードDの第2の電極は配線VDDと電気的に接続している。
図1(B)は保護回路がトランジスタM4で構成されている例である。この場合、トランジスタM4のソースまたはドレインの一方は、トランジスタM1のゲート、トランジスタM3のソースまたはドレインの一方、容量素子Cの第1の電極及びトランジスタM4のゲートと電気的に接続している。また、トランジスタM4のソースまたはドレインの他方は、配線VDDと電気的に接続している。
トランジスタM1のゲート、トランジスタM3のソースまたはドレインの一方、及び容量素子Cの第1の電極が電気的に接続することにより、ノードAを形成する。
すなわち、本実施の形態において、保護回路はノードAと配線VDDの間に設けられている。
なお、配線、トランジスタ、ダイオードなど、上記タッチセンサー10Uに含まれる各構成要素の機能や動作方法に関する詳細は、後述する実施の形態3で説明を行う。
以上のように、本発明の一態様のタッチセンサーを提供することができる。本発明の一態様のタッチセンサーは、保護回路を有しているため、タッチセンサーへのタッチによる入力時における静電気放電への耐性が向上したタッチセンサーを提供することができる。
なお、図15(A)及び、図15(B)に示すように、配線VDDの電位を、低電位側の電源電圧に変更し、配線VSSとしてもよい。その場合、図15(A)及び、図15(B)に示すように、ダイオードDやトランジスタM4の接続構造を変更すればよい。なお、図16(A)に示すように、配線VDDと配線VSSの両方を用いて、図15(A)と図1(A)とを組み合わせてもよい。この場合、ダイオードD1のアノードをノードAに電気的に接続し、カソードを配線VDDに電気的に接続し、ダイオードD2のアノードを配線VSSに電気的に接続し、カソードをノードAに接続すればよい。同様に、図16(B)に示すように、図15(B)と図1(B)とを、組み合わせてもよい。この場合、トランジスタM4のソースまたはドレインの一方とゲートをノードAに電気的に接続し、ソースまたはドレインの他方を配線VDDに電気的に接続し、トランジスタM6のソースまたはドレインの一方とゲートを配線VSSに電気的に接続し、ソースまたはドレインの他方をノードAに電気的に接続すればよい。
本発明の一態様のタッチパネルが有する保護回路にp−channel型のトランジスタM7を用いることができる。この場合、図17(A)に示すように、トランジスタM7のソースまたはドレインの一方とゲートを配線VDDに電気的に接続し、ソースまたはドレインの他方をノードAに電気的に接続すればよい。
本発明の一態様のタッチパネルが有する保護回路のその他の例を図17(B)乃至(K)に示す。なお、図17(A)において、符号1700は、ノードAと配線VDDとその間の回路を示す。図17(B)乃至(K)では、符号1700の部分のみを示す。
図17(B)はノードAと配線VDDの間にダイオードD1及びダイオードD2が直列に接続される例を示す。図17(C)はノードAと配線VDDの間にトランジスタM4及びM6が直列に接続される例を示す。図17(D)はノードAと配線VDDの間にp−channel型のトランジスタM7及びM9が直列に接続される例を示す。図17(E)はノードAと配線VDDの間に抵抗Rが接続される例を示す。図17(F)はノードAと配線VDDの間にダイオードD及びトランジスタM4が直列に接続される例を示す。図17(G)はノードAと配線VDDの間にダイオードD及び抵抗Rが直列に接続される例を示す。図17(H)はノードAと配線VDDの間にトランジスタM4及び抵抗Rが直列に接続される例を示す。図17(I)はノードAと配線VDDの間にダイオードD及びトランジスタM4が並列に接続される例を示す。図17(J)はノードAと配線VDDの間にダイオードD及び抵抗Rが並列に接続される例を示す。図17(K)はノードAと配線VDDの間にトランジスタM4及び抵抗Rが並列に接続される例を示す。
本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
(実施の形態2)
本実施の形態では、実施の形態1とは異なる本発明の一態様のタッチセンサーについて説明する。
本発明の一態様は、トランジスタ、容量素子及び保護回路を有する、アクティブマトリクス方式のタッチセンサーである。該トランジスタ、該容量素子及び該保護回路は電気的に接続する。保護回路はダイオードあるいはダイオード特性を有する素子を含む。また、ダイオード特性を有する素子として、トランジスタを用いても良い。
図2(A)に本発明の一態様のタッチセンサー10Uの回路構成を説明する。図2(A)では、保護回路としてダイオードを用いる例を示す。
タッチセンサー10Uは、トランジスタM1と、トランジスタM2と、トランジスタM3と、容量素子Cと、ダイオードDと、配線VPIと、配線MLと、配線G1と、配線VRESと、配線RESと、配線CSと、を有している。
トランジスタM1のソースまたはドレインの一方は、配線VPIと電気的に接続し、トランジスタM1のソースまたはドレインの他方は、トランジスタM2のソースまたはドレインの一方と電気的に接続し、トランジスタM1のゲートは、トランジスタM3のソースまたはドレインの一方、容量素子Cの第1の電極及びダイオードDの第1の電極と電気的に接続し、トランジスタM2のソースまたはドレインの他方は、配線MLと電気的に接続し、トランジスタM2のゲートは配線G1と電気的に接続し、トランジスタM3のソースまたはドレインの他方は、配線VRESと電気的に接続し、トランジスタM3のゲートは配線RESと電気的に接続し、容量素子Cの第2の電極は配線CSと電気的に接続し、ダイオードDの第2の電極は配線G1と電気的に接続している。
図2(B)は保護回路がトランジスタM4で構成されている例である。この場合、トランジスタM4のソースまたはドレインの一方は、トランジスタM1のゲート、トランジスタM3のソースまたはドレインの一方、容量素子Cの第1の電極及びトランジスタのゲートと電気的に接続している。また、トランジスタM4のソースまたはドレインの他方は、配線G1と電気的に接続している。
トランジスタM1のゲート、トランジスタM3のソースまたはドレインの一方、及び容量素子Cの第1の電極が電気的に接続することにより、ノードAを形成する。
すなわち、本実施の形態において、保護回路はノードAと配線G1の間に設けられている。本発明の一態様のタッチセンサーでは、配線VDDが省略できるため、タッチセンサーの回路構成を単純化でき、タッチセンサーの占有面積を小さくすることができる。
なお、配線、トランジスタ、ダイオードなど、上記タッチセンサー10Uに含まれる各構成要素の機能や動作方法に関する詳細は、後述する実施の形態3で説明を行う。
以上のように、本発明の一態様のタッチセンサーを提供することができる。本発明の一態様のタッチセンサーは、保護回路を有しているため、タッチセンサーへのタッチによる入力時における静電気放電への耐性が向上したタッチセンサーを提供することができる。
本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
(実施の形態3)
本実施の形態では、本発明の一態様のタッチセンサーの駆動方法について図3を用いて説明する。図3(A)は本発明の一態様のタッチセンサーを有するタッチパネルを示す。図3(B)は、本発明の一態様のタッチセンサーに接続される変換器の一例を示す。図3(C)及び図3(D)は駆動方法を説明するタイミングチャートである。なお、本実施の形態で用いるタッチセンサーは、実施の形態1、実施の形態2で説明したタッチセンサーを用いることができる。この場合、同じ符号に対する重複する説明は省略する。図3(B)では、例として図1(B)に示したタッチセンサーを用いる。
図3(A)のタッチパネル100において、基材16にマトリクス状に配置されたタッチセンサー10U、タッチセンサー10Uと配線MLを介して接続される変換器CONV及び、タッチセンサー10Uと配線G1を介して接続される駆動回路GDが設けられている。
配線VPIには接地電位が供給される。配線MLは信号線として機能し、後述する変換器などに検知信号DATAを供給することができる。配線G1は走査線として機能し、選択信号が供給される。配線VRESには接地電位が供給される。配線RESにはリセット信号が供給される。配線CSには制御信号が供給される。配線VDDには、一定の電位が供給される(図3(B))。
大気中に置かれた容量素子Cの第1の電極に、大気と異なる誘電率を有するものが近づくと、容量素子Cの第1の電極と大気と異なる誘電率を有するものとの間の静電容量が変化する。具体的には、指などのものが容量素子Cに近づくと、指と容量素子Cの第1の電極との間の静電容量が変化する。この静電容量の変化を検知することで、タッチセンサーを近接検知器に用いることができる。
《第1のステップ》
第1のステップにおいて、トランジスタM3を導通状態にした後に非導通状態にするリセット信号をゲートに供給し、容量素子Cの第1の電極の電位を所定の電位にする(図3(C)期間T1参照)。
具体的には、リセット信号を配線RESに供給させる。リセット信号が供給されたトランジスタM3は、ノードAの電位を例えば接地電位にする。
《第2のステップ》
第2のステップにおいて、トランジスタM2を導通状態にする選択信号をゲートに供給し、トランジスタM1のソースまたはドレインの他方を配線ML(信号線)に電気的に接続する。
具体的には、配線G1(走査線)に選択信号を供給させる。選択信号が供給されたトランジスタM2は、トランジスタM1のソースまたはドレインの他方を配線ML(信号線)に電気的に接続する(図3(C)期間T2参照)。
《第3のステップ》
第3のステップにおいて、制御信号を容量素子Cの第2の電極に供給し、制御信号及び容量素子Cの容量に基づいて変化する電位をトランジスタM1のゲートに供給する。
具体的には、配線CSに矩形の制御信号を供給させる。矩形の制御信号を第2の電極に供給された容量素子Cは、容量素子Cの容量に基づいてノードAの電位を上昇させる(図3(C)期間T2の後半を参照)。
例えば、検知素子が大気中に置かれている場合、大気より誘電率の高いものが、容量素子Cの第1の電極に近接して配置された場合、容量素子Cの容量は見かけ上大きくなる。
これにより、矩形の制御信号がもたらすノードAの電位の変化は、大気より誘電率の高いものが近接して配置されていない場合に比べて小さくなる(図3(D)実線参照)。
《第4のステップ》
第4のステップにおいて、トランジスタM1のゲートの電位の変化がもたらす信号(検知信号DATA)を配線ML(信号線)に供給する。
例えば、トランジスタM1のゲートの電位の変化がもたらす電流の変化を配線ML(信号線)に供給する。
《第5のステップ》
第5のステップにおいて、トランジスタM2を非導通状態にする選択信号をゲートに供給する。
図3(B)は、配線ML(信号線)に変換器CONVが接続された例を示す。
変換器CONVは、配線ML(信号線)を流れる電流の変化を電圧の変化に変換して端子OUTに供給する。配線VPO及び配線BRは例えば高電源電位を供給することができる。
図3(A)は、実施の形態1または実施の形態2で示したタッチセンサーがマトリクス状に配置される例を示す。
図中、複数の配線G1(1)乃至G1(n)が設けられている。配線G1(1)乃至配線G1(n)を順番に選択し、検知信号DATAを配線MLに供給する。配線G1(1)を選択する場合は、上記の第1のステップから第4のステップを実行し、配線G1(2)乃至配線G1(n)を選択する場合は、第2のステップから第4のステップを配線G1ごとに繰り返して実行する。なお、配線G1は走査線としての機能を有する。
指など大気と異なる誘電率を有するものが容量素子Cの第1の電極に近づく際、静電気放電によるタッチセンサーの静電破壊が起きることがある。具体的には、指など大気と異なる誘電率を有するものの電位が容量素子Cの第1の電極の電位に比べて非常に高い場合、プラス電荷のチャージが放電することによりタッチセンサーの静電破壊が起こることがある。さらに具体的には、プラス電荷のチャージがトランジスタM1のゲート絶縁膜や容量素子Cの絶縁膜(誘電体)を破壊し、タッチセンサーを破壊してしまうことがある。
本実施の態様で示すタッチセンサーは、ノードAと電気的に接続する保護回路を有しており、ノードAに溜まったプラス電荷(トランジスタM1のゲートに供給する電位を変化させるのに必要な電荷以上の電荷、「過剰なプラス電荷」、または「破壊レベルのプラス電荷」と呼ぶこともある)を放出することができる。保護回路を設けることで、タッチセンサーが有する素子やタッチセンサーの破壊を防ぐことができる。
保護回路の一方をノードAに電気的に接続し、他方を配線VDDに電気的に接続することで、過剰なプラス電荷を配線VDDに放出させることができる。
あるいは、保護回路の一方をノードAに電気的に接続し、他方を配線G1に電気的に接続することで、過剰なプラス電荷を配線G1に放出させることができる。
保護回路はダイオードを用いて構成することができる。保護回路としてダイオードDを用いる場合、アノードをノードAに電気的に接続し、カソードを配線VDDあるいは、配線G1に電気的に接続すればよい。
保護回路はトランジスタを用いて構成することができる。保護回路としてトランジスタM4を用いる場合、ソースまたはドレインの一方とゲートをノードAに電気的に接続し、ソースまたはドレインの他方を配線VDDあるいは、配線G1に電気的に接続すればよい。
以上より、本発明の一態様のタッチセンサーを駆動することができる。また、本発明の一態様のタッチセンサーは保護回路を有しているので、駆動時(タッチ入力時)に静電気放電によりタッチセンサーが有する素子やタッチセンサーが破壊されるのを防ぐことができる。本発明の一態様により信頼性の高いタッチセンサーを提供することができる。
本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
(実施の形態4)
本実施の形態では、本発明の一態様のタッチセンサーの具体的な構成及び作製方法について図4乃至図9を用いて説明する。
<タッチセンサーの構成例1>
図4(A)に、本発明の一態様のタッチセンサーが有するトランジスタ102及び容量素子105を示す。トランジスタ102及び容量素子105は、例えば、タッチセンサーのセンサー部や保護回路に設けられる。本発明の一態様のタッチセンサーは、ボトムゲート構造のトランジスタを有する。
なお、本発明の一態様のタッチセンサーが有するトランジスタの構造は特に限定されない。例えば、スタガ型のトランジスタとしてもよいし、逆スタガ型のトランジスタとしてもよい。また、ボトムゲート構造に限定されず、トップゲート型のトランジスタ構造としてもよい。
本発明の一態様のタッチセンサーが有するトランジスタの半導体層として、酸化物半導体を用いる例を示すが、トランジスタに用いる半導体材料は特に限定されない。半導体材料として、シリコン、ゲルマニウム等を用いても良い。
本発明の一態様のタッチセンサーが有するトランジスタに用いる半導体材料の結晶性についても特に限定されず、非晶質半導体、結晶性を有する半導体(微結晶半導体、多結晶半導体、単結晶半導体、又は半導体層の一部に結晶領域を有する半導体)のいずれを用いてもよい。結晶性を有する半導体を用いると、トランジスタ特性の劣化を抑制できるため好ましい。
半導体層に酸化物半導体を用いる場合、CAAC−OS(C Axis Aligned Crystalline Oxide Semiconductor)膜を用いてもよい。CAAC−OS膜は、c軸配向した複数の結晶部を有する酸化物半導体膜の一つである。特に、c軸が被形成面又は上面の法線ベクトルに平行な方向を向き、ab面が被形成面又は上面に平行であることが好ましい。
また、半導体層に酸化物半導体を用いる場合、微結晶酸化物半導体膜を用いてもよい。微結晶半導体膜は、1nm以上100nm以下、又は1nm以上10nm以下の大きさの結晶部を含む。結晶部の大きさが1nm以上10nm以下、又は1nm以上3nm以下である微結晶半導体膜をnc−OS(nanocrystalline Oxide Semiconductor)膜と呼ぶ場合がある。
トランジスタ102は、ゲート電極として機能する導電膜304と、導電膜304上のゲート絶縁膜として機能する絶縁膜305と、絶縁膜305上の酸化物半導体層308aと、酸化物半導体層308a上のソース電極及びドレイン電極として機能する導電膜310a、310bと、を有する。また、トランジスタ102上、より詳しくは、酸化物半導体層308a、導電膜310a、310b上には、絶縁膜312、314が保護膜として設けられている。また、絶縁膜314上には、絶縁膜348が設けられている。
容量素子105は、一対の電極間に誘電体層を有する。容量素子105は、該一対の電極の一方として導電膜350を有し、該一対の電極の他方として酸化物導電体層308bを有する。また、容量素子105の誘電体層は、絶縁膜314、348である。すなわち、絶縁膜314、348は、トランジスタ102と容量素子105で共通して設けられている。なお、図4(A)においては、誘電体層を、絶縁膜314、348の積層構造を図示しているが、これに限定されず、単層構造又は3層以上の積層構造としてもよい。
酸化物導電体層308bは、酸化物半導体層308aと同一工程で成膜され、ゲート絶縁膜として機能する絶縁膜305上に設けられている。ただし、本発明の一態様はこれに限定されない。酸化物半導体層308aとは異なる膜を別工程で成膜して、酸化物導電体層308bとしてもよい。また、酸化物導電体以外の導電体を用いて、容量素子105の一対の電極の他方としてもよい。容量素子105の電極には透光性を有する導電膜、あるいは、透光性を有する程度に薄い導電膜を用いることができる。透光性を有する導電膜として、酸化インジウム、酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide、ITO)、インジウム亜鉛酸化物、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物、ガリウムを添加した酸化亜鉛などの導電性酸化物、又はグラフェンなどの透光性を有する導電性材料を用いることができる。また、容量素子105の電極は、例えば、スパッタリング法を用いて形成することができる。
本発明の一態様では、ソース電極及びドレイン電極として機能する導電膜310a及び310bが3層からなる積層構造の例を示したが、これに限定されない。導電膜310a及び310bは、単層でもよいし、2層あるいは4層以上の積層構造としてもよい。
また、トランジスタ102のドレイン電極として機能する導電膜310bは、酸化物導電体層308bと電気的に接続する。ここでは、導電膜310bの一部が酸化物導電体層308bに接して設けられている例を示したが、他の導電膜を介して、導電膜310bと酸化物導電体層308bとが電気的に接続していてもよい。また、導電膜310bは、導電膜350と電気的に接続する構成としていてもよい。
酸化物半導体層308aと、酸化物導電体層308bとは、同一の成膜工程及び同一のエッチング工程を経て、それぞれ島状に加工することができる。酸化物半導体は、膜中の酸素欠損又は/及び膜中の水素、水等の不純物濃度によって、抵抗を制御することができる半導体材料である。そのため、それぞれ島状に加工された酸化物半導体層へ酸素欠損又は/及び不純物濃度が増加する処理、又は酸素欠損又は/及び不純物濃度が低減する処理を選択することによって、同一工程で形成された酸化物半導体層308a及び酸化物導電体層308bの抵抗率を制御することができる。
具体的には、容量素子の電極として機能する酸化物導電体層308bとなる島状の酸化物半導体層にプラズマ処理を行い、酸化物半導体層中の酸素欠損を増加させる、又は/及び酸化物半導体層中の水素、水等の不純物を増加させることによって、キャリア密度が高く、低抵抗な酸化物半導体層とすることができる。また、酸化物半導体層に水素を含む絶縁膜を接して形成し、該水素を含む絶縁膜から酸化物半導体層に水素を拡散させることによって、キャリア密度が高く、低抵抗な酸化物半導体層とすることができる。
酸化物半導体層へのプラズマ処理、または、酸化物半導体層上に水素を含む絶縁膜を形成する際の成膜ダメージにより、酸化物半導体層中の酸素欠損が増加する。この酸素欠損に水素、水などの不純物や、水素を含む絶縁膜から拡散した水素が入ることで、酸化物半導体層はキャリア密度が高くなり、低抵抗となる。
一方、トランジスタ102上には、酸化物半導体層308aが上記プラズマ処理に曝されないように、絶縁膜312を設ける。また、絶縁膜312を設けることによって、酸化物半導体層308aが水素を含む絶縁膜314と接しない構成とする。絶縁膜312として、酸素を放出することが可能な絶縁膜を用いることで、酸化物半導体層308aに酸素を供給することができる。酸素が供給された酸化物半導体層308aは、膜中又は界面の酸素欠損が低減され高抵抗な酸化物半導体となる。なお、酸素を放出することが可能な絶縁膜として、例えば、酸化シリコン膜、又は酸化窒化シリコン膜を用いることができる。
また、酸化物導電体層308bに行うプラズマ処理としては、代表的には、希ガス(He、Ne、Ar、Kr、Xe)、リン、ボロン、水素、及び窒素の中から選ばれた一種を含むガスを用いたプラズマ処理が挙げられる。より具体的には、Ar雰囲気下でのプラズマ処理、Arと水素の混合ガス雰囲気下でのプラズマ処理、アンモニア雰囲気下でのプラズマ処理、Arとアンモニアの混合ガス雰囲気下でのプラズマ処理、又は窒素雰囲気下でのプラズマ処理などが挙げられる。
上記プラズマ処理によって、酸化物導電体層308bは、酸素が脱離した格子(又は酸素が脱離した部分)に酸素欠損が形成される。当該酸素欠損は、キャリアを発生する要因になり得る場合がある。また、酸化物導電体層308bの近傍、より具体的には、酸化物導電体層308bの下側又は上側に接する絶縁膜から水素が供給され、上記酸素欠損に水素が入ると、キャリアである電子を生成する場合がある。したがって、プラズマ処理によって酸素欠損が増加された酸化物導電体層308bは、酸化物半導体層308aよりもキャリア密度が高い。
一方、酸素欠損が低減され、水素濃度が低減された酸化物半導体層308aは、高純度真性化、又は実質的に高純度真性化された酸化物半導体層といえる。ここで、実質的に真性とは、酸化物半導体のキャリア密度が、1×1017/cm3未満であること、好ましくは1×1015/cm3未満であること、さらに好ましくは1×1013/cm3未満であることを指す。または、不純物濃度が低く、欠陥準位密度の低い(酸素欠損の少ない)ことを高純度真性又は実質的に高純度真性とよぶ。高純度真性又は実質的に高純度真性である酸化物半導体は、キャリア発生源が少ないため、キャリア密度を低くすることができる。従って、当該酸化物半導体膜にチャネル領域が形成されるトランジスタは、しきい値電圧がプラスとなる電気特性(ノーマリーオフ特性ともいう。)になりやすい。また、高純度真性又は実質的に高純度真性である酸化物半導体層308aは、欠陥準位密度が低いため、トラップ準位密度を低減することができる。
また、高純度真性又は実質的に高純度真性である酸化物半導体層308aは、オフ電流が著しく小さく、チャネル幅が1×106μmでチャネル長Lが10μmの素子であっても、ソース電極とドレイン電極間の電圧(ドレイン電圧)が1Vから10Vの範囲において、オフ電流が、半導体パラメータアナライザの測定限界以下、すなわち1×10−13A以下という特性を得ることができる。したがって、酸化物半導体層308aにチャネル領域が形成されるトランジスタ102は、電気特性の変動が小さく、信頼性の高いトランジスタとなる。
また、図4(A)においては、絶縁膜312は、容量素子の電極として機能する酸化物導電体層308bと重なる領域が選択的に除去されるように設けられている。また、絶縁膜314は、酸化物導電体層308bと接して形成した後、酸化物導電体層308b上から除去されてもよい。絶縁膜314として、例えば、水素を含む絶縁膜、換言すると水素を放出することが可能な絶縁膜、代表的には窒化シリコン膜を用いることで、酸化物導電体層308bに水素を供給することができる。水素を放出することが可能な絶縁膜は、膜中の含有水素濃度が1×1022atoms/cm3以上であると好ましい。このような絶縁膜を酸化物導電体層308bに接して形成することで、酸化物導電体層308bに効果的に水素を含有させることができる。このように、上述したプラズマ処理と合わせて、酸化物半導体層(又は酸化物導電体層)に接する絶縁膜の構成を変えることによって、酸化物半導体層(又は酸化物導電体層)の抵抗を任意に調整することができる。
酸化物導電体層308bに含まれる水素は、金属原子と結合する酸素と反応して水になると共に、酸素が脱離した格子(又は酸素が脱離した部分)に酸素欠損を形成する。当該酸素欠損に水素が入ることで、キャリアである電子が生成される場合がある。また、水素の一部が金属原子と結合する酸素と結合することで、キャリアである電子を生成する場合がある。したがって、水素が含まれている酸化物導電体層308bは、酸化物半導体層308aよりもキャリア密度が高い。
トランジスタ102のチャネル領域が形成される酸化物半導体層308aは水素ができる限り低減されていることが好ましい。具体的には、酸化物半導体層308aにおいて、二次イオン質量分析法(SIMS:Secondary Ion Mass Spectrometry)により得られる水素濃度を、2×1020atoms/cm3以下、好ましくは5×1019atoms/cm3以下、より好ましくは1×1019atoms/cm3以下、5×1018atoms/cm3未満、好ましくは1×1018atoms/cm3以下、より好ましくは5×1017atoms/cm3以下、さらに好ましくは1×1016atoms/cm3以下とする。
一方、容量素子の電極として機能する酸化物導電体層308bは、酸化物半導体層308aよりも水素濃度又は/及び酸素欠損量が多く、低抵抗化されている。
酸化物半導体層308a及び酸化物導電体層308bは、代表的には、In−Ga酸化物、In−Zn酸化物、In−M−Zn酸化物(Mは、Mg、Al、Ti、Ga、Y、Zr、La、Ce、Nd、又はHf)等の金属酸化物で形成される。なお、酸化物半導体層308a及び酸化物導電体層308bは、透光性を有する。
なお、酸化物半導体層308aがIn−M−Zn酸化物の場合、In及びMの和を100atomic%としたとき、Inが25atomic%以上、Mが75atomic%以下、又はInが34atomic%以上、Mが66atomic%以下とする。
酸化物半導体層308aは、エネルギーギャップが2eV以上、又は2.5eV以上、又は3eV以上である。
酸化物半導体層308aの厚さは、3nm以上200nm以下、又は3nm以上100nm以下、又は3nm以上60nm以下とすることができる。
酸化物半導体層308aがIn−M−Zn酸化物の場合、In−M−Zn酸化物を成膜するために用いるスパッタリングターゲットの金属元素の原子数比は、In≧M、Zn≧Mを満たすことが好ましい。このようなスパッタリングターゲットの金属元素の原子数比として、In:M:Zn=1:1:1、In:M:Zn=1:1:1.2、In:M:Zn=2:1:1.5、In:M:Zn=2:1:2.3、In:M:Zn=2:1:3、In:M:Zn=3:1:2、In:M:Zn=4:2:4.1等が好ましい。なお、成膜される酸化物半導体層308aの原子数比はそれぞれ、誤差として上記のスパッタリングターゲットに含まれる金属元素の原子数比のプラスマイナス40%の変動を含む。例えば、In:M:Zn=4:2:4.1のターゲットを用いて成膜された酸化物半導体層に含まれる金属元素の原子数比は、およそIn:M:Zn=4:2:3である。
前述のIn:M:Zn=4:2:3の原子数比をもつ酸化物半導体層は、Inの含有率が高く、トランジスタのオン電流を大きくすることができるため好ましい。また、該酸化物半導体層は、CAAC−OSを形成しやすく、CAAC−OS以外の結晶構造(例えばスピネル型の結晶構造)を形成し難いため好ましい。
なお、図4(A)に示すタッチセンサーのその他の構成要素については、タッチセンサーの作製方法の説明等において、詳述する。
また、酸素欠損が形成された酸化物半導体に水素を添加すると、酸素欠損サイトに水素が入り伝導帯近傍にドナー準位が形成される。この結果、酸化物半導体は、導電性が高くなり、導電体化する。導電体化された酸化物半導体を酸化物導電体ということができる。一般に、酸化物半導体は、エネルギーギャップが大きいため、可視光に対して透光性を有する。一方、酸化物導電体は、伝導帯近傍にドナー準位を有する酸化物半導体である。したがって、該ドナー準位による吸収の影響は小さく、可視光に対して酸化物半導体と同程度の透光性を有する。
<タッチセンサーの変形例1>
本発明の一態様のタッチセンサーは、可撓性を有する。
作製基板上に被剥離層を形成した後、被剥離層を作製基板から剥離して別の基板に転置することができる。この方法によれば、例えば、耐熱性の高い作製基板上で形成した被剥離層を、耐熱性の低い基板に転置することができる。このため、被剥離層の作製温度が、耐熱性の低い基板によって制限されない。
例えば、作製基板上にトランジスタ102及び容量素子105等の被剥離層を形成した後、これらの素子を作製基板から剥離する。作製基板上に剥離層を形成し、剥離層の上に被剥離層を形成し、剥離層から被剥離層を剥離してもよい。そして、接着剤を用いて、可撓性基板にこれらの素子を転置することで、図4(B)に示すタッチセンサーを作製できる。図4(B)において、トランジスタ102及び容量素子105は、可撓性基板392及び可撓性基板398の間に位置する。可撓性基板392及び絶縁膜338は、接着層394により貼り合わされている。可撓性基板398、導電膜350、導電膜303、及び絶縁膜348は、接着層396により貼り合わされている。
また、図4(B)には、タッチセンサーの端子部、及びトランジスタ103を有する駆動回路部の構成例を示す。センサー部に含まれるトランジスタ102及び容量素子105の構成は図4(A)と同様のため、説明を省略する。
駆動回路部が有するトランジスタ103は、絶縁膜348上に導電膜303を有する点でトランジスタ102と異なる。導電膜303は第2のゲート電極として機能することができる。トランジスタ103は、トランジスタ102に比べて電界効果移動度を高めることが可能であり、オン電流を増大させることができる。この結果、高速動作が可能な駆動回路部を作製することができる。また、駆動回路部の占有面積の小さいタッチセンサーを作製することができる。なお、ここでは、駆動回路部とセンサー部とで異なる構造のトランジスタを用いる例を示したが、駆動回路部が有するトランジスタと、センサー部が有するトランジスタは同じ構造であってもよい。また、駆動回路部が有する複数のトランジスタは、すべて同じ構造であってもよく、二種以上の構造であってもよい。また、センサー部が有する複数のトランジスタは、すべて同じ構造であってもよく、二種以上の構造であってもよい。また、駆動回路部に1つのゲート電極を有するトランジスタを用いてもよいし、センサー部に2つのゲート電極を有するトランジスタを用いてもよい。
トランジスタ103の第2のゲート電極である導電膜303と容量素子105の電極である導電膜350は、同一表面上に位置することが好ましい。
トランジスタの電極と容量素子の電極を同一工程で成膜することで、少ない工程数でタッチセンサーを作製することができ、好ましい。
導電膜346は、駆動回路部に外部からの信号や電位を伝達する外部入力端子と電気的に接続する。ここでは、外部入力端子としてFPC808(Flexible Printed Circuit)を設ける例を示している。工程数の増加を防ぐため、導電膜346は、センサー部や駆動回路部に用いる電極や配線と同一の材料、同一の工程で作製することが好ましい。ここでは、導電膜346を、トランジスタ102、103を構成する電極と同一の材料、同一の工程で作製した例を示す。
接続体825はFPC808に接続している。接続体825を介してFPC808と導電膜346は電気的に接続する。
本発明の一態様のタッチセンサーにおいて、可撓性基板392側から外光が入射する場合、センサー部に設けられるトランジスタ102の酸化物半導体層308aに光が当たらないよう、導電膜304に遮光性の材料を用いることが好ましい。また、酸化物半導体層308aの底面(導電膜304と対向する面)全体が導電膜304と重なることが好ましい。なお、可撓性基板392側から外光が入射しない場合などはこれに限られず、酸化物半導体層308aと導電膜304の平面形状の大小関係は問わない。また、駆動回路部のトランジスタ103においても、酸化物半導体層308aの底面全体が導電膜304と重なっていてもよい。
<タッチセンサーの構成例2>
図5(A)に、本発明の一態様のタッチセンサーが有するトランジスタ104、106、及び容量素子105を示す。本発明の一態様のタッチセンサーは、トップゲート構造のトランジスタを有する。トランジスタ104及び容量素子105は、例えば、タッチセンサーのセンサー部に設けられる。トランジスタ106は、例えば、タッチセンサーの駆動回路部に設けられる。
図5(B)はトランジスタ104の上面図であり、図5(A)に示すトランジスタ104は、図5(B)の一点鎖線X1−X2間の断面図に相当する。図5(C)はトランジスタ106の上面図であり、図5(A)に示すトランジスタ106は、図5(C)の一点鎖線X3−X4間の断面図に相当する。また、図5(E)は、図5(C)の一点鎖線Y3−Y4間の断面図に相当する。なお、図5(A)(E)では、基板等の図示を省略している。また、図5(B)(C)では、明瞭化のため、基板や絶縁膜などを省略している。また、一点鎖線X1−X2方向をチャネル長方向、一点鎖線Y1−Y2方向をチャネル幅方向と呼称する場合がある。
図5(A)(B)に示すトランジスタ104は、絶縁表面上の酸化物半導体層308aと、酸化物半導体層308a上の絶縁膜305と、絶縁膜305を介して酸化物半導体層308aと重なる導電膜304と、酸化物半導体層308a、絶縁膜305、及び導電膜304を覆う絶縁膜312と、絶縁膜312に設けられる開口部を介して、酸化物半導体層308aに接続される導電膜310a、310bと、を有する。なお、トランジスタ104上には、絶縁膜312、導電膜310a、及び導電膜310bを覆う絶縁膜314、348を設けてもよい。
トランジスタ104において、導電膜304は、ゲート電極(トップゲート電極ともいう)としての機能を有し、導電膜310aは、ソース電極及びドレイン電極の一方の電極としての機能を有し、導電膜310bは、ソース電極及びドレイン電極の他方の電極としての機能を有する。また、トランジスタ104において、絶縁膜338は、酸化物半導体層308aの下地膜としての機能を有し、絶縁膜305は、ゲート絶縁膜としての機能を有する。
容量素子105は、該一対の電極の一方として導電膜350を有し、該一対の電極の他方として酸化物導電体層308bを有する。また、容量素子105の誘電体層は、絶縁膜314、348である。すなわち、絶縁膜314、348は、トランジスタ104と容量素子105で共通して設けられている。図5(A)では、導電膜310bと導電膜350とが接する例を示す。導電膜310bと導電膜350は、他の導電膜を介して電気的に接続していてもよい。
酸化物半導体層308aと、酸化物導電体層308bとは、同一の成膜工程及び同一のエッチング工程を経て、それぞれ島状に加工された層である。トランジスタの半導体層と容量素子の電極を同一工程で成膜することで、少ない工程数でタッチセンサーを作製することができ、好ましい。これにより、製造コストの低減が可能である。
次に、トランジスタ104が有する酸化物半導体層308aの詳細について、以下説明を行う。
トランジスタ104の酸化物半導体層308aにおいて、導電膜304と重ならない領域には、酸素欠損を形成する元素を有する。以下、酸素欠損を形成する元素を、不純物元素として説明する。不純物元素の代表例としては、水素、ホウ素、炭素、窒素、フッ素、アルミニウム、シリコン、リン、塩素、希ガス元素等がある。希ガス元素の代表例としては、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン及びキセノンがある。
不純物元素が酸化物半導体膜に添加されると、酸化物半導体膜中の金属元素及び酸素の結合が切断され、酸素欠損が形成される。または、不純物元素が酸化物半導体膜に添加されると、酸化物半導体膜中の金属元素と結合していた酸素が不純物元素と結合し、金属元素から酸素が脱離され、酸素欠損が形成される。これらの結果、酸化物半導体膜においてキャリア密度が増加し、導電性が高くなる。
酸化物半導体層308aのチャネル長方向の断面形状において、酸化物半導体膜のキャリア密度が増加し導電性が高くなる領域(以下、低抵抗領域という)が形成される。また、酸化物半導体層308a中に形成される低抵抗領域は、複数の構造があり、一例を図5(D)に示す。なお、図5(D)において、チャネル長Lは、一対の低抵抗領域に挟まれた領域である。
図5(D)に示すように、酸化物半導体層308aは、導電膜304と重なる領域に形成されるチャネル領域332aと、チャネル領域332aを挟み、且つ不純物元素を含む領域、すなわち低抵抗領域332b、332cとを有する。なお、図5(D)に示すように、チャネル長方向の断面形状において、チャネル領域332a及び低抵抗領域332b、332cの境界が、絶縁膜305を介して、導電膜304の下端部と、一致又は概略一致している。すなわち、上面形状において、チャネル領域332a及び低抵抗領域332b、332cの境界が、導電膜304の下端部と、一致又は概略一致している。
また、酸化物半導体層308aは、絶縁膜305及び導電膜304と重ならない領域の膜厚が、絶縁膜305及び導電膜304と重なる領域の膜厚よりも薄い領域を有する場合がある(図8(E)等参照)。該薄い領域は、絶縁膜305及び導電膜304と重なる領域の酸化物半導体膜の膜厚よりも、厚さが0.1nm以上5nm以下の範囲で小さい。
なお、酸化物半導体層308a中の低抵抗領域332b、332cは、ソース領域及びドレイン領域として機能する。また、低抵抗領域332b、332cには不純物元素が含まれる。
不純物元素が希ガス元素であって、酸化物半導体層308aがスパッタリング法で形成される場合、チャネル領域332a及び低抵抗領域332b、332cは、それぞれ希ガス元素を含む。なお、チャネル領域332aと比較して、低抵抗領域332b、332cの方が希ガス元素の濃度が高い。
これは、酸化物半導体層308aがスパッタリング法で形成される場合、スパッタリングガスとして希ガスを用いるため、酸化物半導体層308aに希ガスが含まれること、並びに低抵抗領域332b、332cにおいて、酸素欠損を形成するために、意図的に希ガスが添加されることが原因である。
また、不純物元素が、ホウ素、炭素、窒素、フッ素、アルミニウム、シリコン、リン、又は、塩素の場合、低抵抗領域332b、332cは、上記の不純物元素を有する。このため、チャネル領域332aと比較して、低抵抗領域332b、332cの方が上記の不純物元素の濃度が高い。なお、低抵抗領域332b、332cにおいて、二次イオン質量分析法により得られる不純物元素の濃度は、5×1018atoms/cm3以上1×1022atoms/cm3以下、又は1×1019atoms/cm3以上1×1021atoms/cm3以下、又は5×1019atoms/cm3以上5×1020atoms/cm3以下とすることができる。
また、不純物元素が、水素の場合、チャネル領域332aと比較して、低抵抗領域332b、332cの方が水素の濃度が高い。なお、低抵抗領域332b、332cにおいて、二次イオン質量分析法により得られる水素の濃度は、8×1019atoms/cm3以上、又は1×1020atoms/cm3以上、又は5×1020atoms/cm3以上とすることができる。
低抵抗領域332b、332cは不純物元素を有するため、酸素欠損が増加し、キャリア密度が増加する。この結果、低抵抗領域332b、332cは、導電性が高くなる。
なお、不純物元素が、水素、ホウ素、炭素、窒素、フッ素、アルミニウム、シリコン、リン、又は塩素の一以上と、希ガスの一以上の場合であってもよい。この場合、低抵抗領域332b、332cにおいて、希ガスにより形成された酸素欠損と、添加された水素、ホウ素、炭素、窒素、フッ素、アルミニウム、シリコン、リン、又は塩素の一以上との相互作用により、低抵抗領域332b、332cは、導電性がさらに高まる場合がある。
低抵抗領域332b、332cは、酸化物導電体からなる(又は酸化物導電体を含む)領域であるといえる。酸化物導電体は、縮退半導体であり、伝導帯端とフェルミ準位とが一致又は略一致していると推定される。このため、酸化物導電体とソース電極及びドレイン電極として機能する導電膜との接触はオーミック接触であり、酸化物導電体とソース電極及びドレイン電極として機能する導電膜との接触抵抗を低減できる。
酸化物半導体層308aであって、特にチャネル領域332aにおいて、不純物元素を低減することで、酸化物半導体膜のキャリア密度を低減することができる。このため、酸化物半導体層308aであって、特にチャネル領域332aにおいては、キャリア密度を1×1017個/cm3以下、又は1×1015個/cm3以下、又は1×1013個/cm3以下、又は1×1011個/cm3以下とすることができる。
酸化物半導体層308aとして、不純物濃度が低く、欠陥準位密度の低い酸化物半導体膜を用いることで、さらに優れた電気特性を有するトランジスタを作製することができる。
また、酸化物半導体層308aは、例えば非単結晶構造でもよい。非単結晶構造は、例えば、CAAC−OS(C Axis Aligned Crystalline Oxide Semiconductor)、多結晶構造、微結晶構造、又は非晶質構造を含む。非単結晶構造において、非晶質構造は最も欠陥準位密度が高く、CAAC−OSは最も欠陥準位密度が低い。
なお、酸化物半導体層308aが、非晶質構造の領域、微結晶構造の領域、多結晶構造の領域、CAAC−OSの領域、単結晶構造の領域の二種以上を有する混合膜であってもよい。混合膜は、例えば、非晶質構造の領域、微結晶構造の領域、多結晶構造の領域、CAAC−OSの領域、単結晶構造の領域のいずれか二種以上の領域を有する単層構造の場合がある。また、混合膜は、例えば、非晶質構造の領域、微結晶構造の領域、多結晶構造の領域、CAAC−OSの領域、単結晶構造の領域のいずれか二種以上が積層された構造の場合がある。
なお、酸化物半導体層308aにおいて、チャネル領域332aと低抵抗領域332b、332cとの結晶性が異なる場合がある。具体的には、酸化物半導体層308aにおいて、低抵抗領域332b、332cよりもチャネル領域332aの方が、結晶性が高い。これは、低抵抗領域332b、332cに不純物元素が添加された際に、低抵抗領域332b、332cにダメージが入ってしまい、結晶性が低下するためである。
本実施の形態に示すトランジスタ104は、チャネル領域332aがソース領域及びドレイン領域として機能する低抵抗領域332bと低抵抗領域332cに挟まれる構造である。したがって、トランジスタ104は、オン電流が大きく、電界効果移動度が高い。また、トランジスタ104において、導電膜304をマスクとして、不純物元素が酸化物半導体層308aに添加される。すなわち、セルファラインで低抵抗領域を形成することができる。
また、トランジスタ104は、ゲート電極として機能する導電膜304と、ソース電極及びドレイン電極として機能する導電膜310a、310bとが重ならない構成である。したがって、導電膜304と、導電膜310a、310bとの間の寄生容量を低減することが可能である。この結果、基板として大面積基板を用いた場合、導電膜304と、導電膜310a、310bと、における信号遅延を低減することが可能である。
図5(A)(C)(E)に示すトランジスタ106は、絶縁膜338上の導電膜303と、絶縁膜338及び導電膜303上の絶縁膜301と、絶縁膜301を介して導電膜303と重なる酸化物半導体層308aと、酸化物半導体層308a上の絶縁膜305と、絶縁膜305を介して酸化物半導体層308aと重なる導電膜304と、酸化物半導体層308a、絶縁膜305、及び導電膜304を覆う絶縁膜312と、絶縁膜312に設けられる開口部140a、140bを介して、酸化物半導体層308aに接続される導電膜310a、310bと、を有する。なお、トランジスタ106上には、絶縁膜312、導電膜310a、及び導電膜310b、を覆う絶縁膜314、348と、を設けてもよい。
トランジスタ106において、導電膜303は、第1のゲート電極(ボトムゲート電極ともいう)としての機能を有し、導電膜304は、第2のゲート電極(トップゲート電極ともいう)としての機能を有し、導電膜310aは、ソース電極及びドレイン電極の一方の電極としての機能を有し、導電膜310bは、ソース電極及びドレイン電極の他方の電極としての機能を有する。また、トランジスタ106において、絶縁膜301は、第1のゲート絶縁膜としての機能を有し、絶縁膜305は、第2のゲート絶縁膜としての機能を有する。
なお、図5(A)(C)(E)に示すトランジスタ106は、先に説明したトランジスタ104と異なり、酸化物半導体層308aの上下にゲート電極として機能する導電膜を有する構造である。トランジスタ106に示すように、本発明の一態様のタッチセンサーが有するトランジスタには、2つ以上のゲート電極を設けてもよい。
図5(E)に示すように、第2のゲート電極として機能する導電膜304は、絶縁膜301及び絶縁膜305に設けられる開口部139において、第1のゲート電極として機能する導電膜303に接続される。よって、導電膜304と導電膜303には、同じ電位が与えられる。なお、開口部139を設けずに、導電膜304と導電膜303に異なる電位を与えてもよい。
また、図5(E)に示すように、酸化物半導体層308aは、第1のゲート電極として機能する導電膜303と、第2のゲート電極として機能する導電膜304のそれぞれと対向するように位置し、2つのゲート電極として機能する導電膜に挟まれている。第2のゲート電極として機能する導電膜304のチャネル幅方向の長さは、酸化物半導体層308aのチャネル幅方向の長さよりも長く、酸化物半導体層308aのチャネル幅方向全体は、絶縁膜305を介して導電膜304に覆われている。また、第2のゲート電極として機能する導電膜304と第1のゲート電極として機能する導電膜303とは、絶縁膜305に設けられる開口部139において接続されるため、酸化物半導体層308aのチャネル幅方向の側面の一方は、絶縁膜305を介して第2のゲート電極として機能する導電膜304と対向している。
別言すると、トランジスタ106のチャネル幅方向において、第1のゲート電極として機能する導電膜303及び第2のゲート電極として機能する導電膜304は、第1のゲート絶縁膜として機能する絶縁膜301、及び第2のゲート絶縁膜として機能する絶縁膜305に設けられる開口部において接続すると共に、第1のゲート絶縁膜として機能する絶縁膜301、及び第2のゲート絶縁膜として機能する絶縁膜305を介して酸化物半導体層308aを囲む構成である。
このような構成を有することで、トランジスタ106に含まれる酸化物半導体層308aを、第1のゲート電極として機能する導電膜303及び第2のゲート電極として機能する導電膜304の電界によって電気的に囲むことができる。トランジスタ106のように、第1のゲート電極及び第2のゲート電極の電界によって、チャネル領域が形成される酸化物半導体膜を電気的に囲むトランジスタのデバイス構造をsurrounded channel(s−channel)構造と呼ぶことができる。
トランジスタ106は、s−channel構造を有するため、第1のゲート電極として機能する導電膜303、又は第2のゲート電極として機能する導電膜304によってチャネルを誘起させるための電界を効果的に酸化物半導体層308aに印加することができるため、トランジスタ106の電流駆動能力が向上し、高いオン電流特性を得ることが可能となる。また、オン電流を高くすることが可能であるため、トランジスタ106を微細化することが可能となる。また、トランジスタ106は、第1のゲート電極として機能する導電膜303及び第2のゲート電極として機能する導電膜304によって囲まれた構造を有するため、トランジスタ106の機械的強度を高めることができる。
なお、トランジスタ106のチャネル幅方向において、開口部139が形成されていない酸化物半導体層308aの側面に、開口部139と異なる開口部を形成してもよい。
<タッチセンサーの作製方法例1>
図4(A)に示すタッチセンサーの作製方法の一例について、図6及び図7を用いて説明する。
なお、本発明の一態様のタッチセンサーが有するトランジスタ及び容量素子を構成する膜(絶縁膜、半導体膜、導電膜等)は、スパッタリング法、化学気相堆積(CVD)法、真空蒸着法、パルスレーザー堆積(PLD)法を用いて形成することができる。あるいは、塗布法や印刷法で形成することができる。成膜方法としては、スパッタリング法、プラズマ化学気相堆積(PECVD)法が代表的であるが、熱CVD法でもよい。熱CVD法の例として、MOCVD(有機金属化学堆積)法やALD(原子層成膜)法を使ってもよい。
熱CVD法は、チャンバー内を大気圧又は減圧下とし、原料ガスと酸化剤を同時にチャンバー内に送り、基板近傍又は基板上で反応させて基板上に堆積させることで成膜を行う。このように、熱CVD法は、プラズマを発生させない成膜方法であるため、プラズマダメージにより欠陥が生成されることが無いという利点を有する。
また、ALD法は、チャンバー内を大気圧又は減圧下とし、反応のための原料ガスが順次にチャンバーに導入され、そのガス導入の順序を繰り返すことで成膜を行う。例えば、それぞれのスイッチングバルブ(高速バルブともよぶ。)を切り替えて2種類以上の原料ガスを順番にチャンバーに供給し、複数種の原料ガスが混ざらないように第1の原料ガスと同時又はその後に不活性ガス(アルゴン、或いは窒素など)などを導入し、第2の原料ガスを導入する。なお、同時に不活性ガスを導入する場合には、不活性ガスはキャリアガスとなり、また、第2の原料ガスの導入時にも同時に不活性ガスを導入してもよい。また、不活性ガスを導入する代わりに真空排気によって第1の原料ガスを排出した後、第2の原料ガスを導入してもよい。第1の原料ガスが基板の表面に吸着して第1の単原子層を成膜し、後から導入される第2の原料ガスと反応して、第2の単原子層が第1の単原子層上に積層されて薄膜が形成される。
このガス導入順序を制御しつつ所望の厚さになるまで複数回繰り返すことで、段差被覆性に優れた薄膜を形成することができる。薄膜の厚さは、ガス導入順序を繰り返す回数によって調節することができるため、精密な膜厚調節が可能であり、微細なトランジスタを作製する場合に適している。
まず、基板302上に絶縁膜338を形成し、絶縁膜338上に導電膜304を形成し、導電膜304上に絶縁膜305を形成する。その後、絶縁膜305上に酸化物半導体層308を形成する(図6(A))。本実施の形態では、半導体層として、酸化物半導体層308を用いる例を示すが、半導体層に用いる半導体材料は特に限定されない。半導体材料として、シリコン、ゲルマニウム等を用いても良い。
基板302としては、様々な基板を用いることができ、特定のものに限定されることはない。基板の一例としては、半導体基板(例えば単結晶基板又はシリコン基板)、SOI基板、ガラス基板、石英基板、プラスチック基板、金属基板、ステンレス・スチル基板、ステンレス・スチル・ホイルを有する基板、タングステン基板、タングステン・ホイルを有する基板、可撓性基板、貼り合わせフィルム、繊維状の材料を含む紙、又は基材フィルムなどがある。ガラス基板の一例としては、バリウムホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、又はソーダライムガラスなどがある。可撓性基板、貼り合わせフィルム、基材フィルムなどの一例としては、以下のものがあげられる。例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルサルフォン(PES)に代表されるプラスチックがある。または、一例としては、アクリル等の合成樹脂などがある。または、一例としては、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリフッ化ビニル、又はポリ塩化ビニルなどがある。または、一例としては、ポリアミド、ポリイミド、アラミド、エポキシ、無機蒸着フィルム、又は紙類などがある。特に、半導体基板、単結晶基板、又はSOI基板などを用いてトランジスタ及び容量素子を製造することによって、特性、サイズ、又は形状などのばらつきが少なく、電流能力が高く、サイズの小さいトランジスタ及び容量素子を製造することができる。このようなトランジスタ及び容量素子によって回路を構成すると、回路の低消費電力化、又は回路の高集積化を図ることができる。
また、基板302として、可撓性基板を用い、可撓性基板上に直接、トランジスタ及び容量素子を形成してもよい。または、基板302とトランジスタ及び容量素子の間に剥離層を設けてもよい。剥離層は、その上にトランジスタ等の機能素子を一部あるいは全部完成させた後、基板302より分離し、他の基板に転載するのに用いることができる。その際、トランジスタ及び容量素子は、耐熱性の劣る基板や可撓性の基板にも転載できる。なお、上述の剥離層には、例えば、タングステン膜と酸化シリコン膜との無機膜の積層構造の構成や、基板上にポリイミド等の有機樹脂膜が形成された構成等を用いることができる。
トランジスタ及び容量素子が転載される基板の一例としては、上述したトランジスタ及び容量素子を形成することが可能な基板に加え、紙基板、セロファン基板、アラミドフィルム基板、ポリイミドフィルム基板、石材基板、木材基板、布基板(天然繊維(絹、綿、麻)、合成繊維(ナイロン、ポリウレタン、ポリエステル)もしくは再生繊維(アセテート、キュプラ、レーヨン、再生ポリエステル)などを含む)、皮革基板、又はゴム基板などがある。これらの基板を用いることにより、特性のよいトランジスタの形成、消費電力の小さいトランジスタの形成、壊れにくい装置の製造、耐熱性の付与、軽量化、又は薄型化を図ることができる。
トランジスタの特性安定化等のため、下地膜として機能する絶縁膜338を設けることが好ましい。絶縁膜338は、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、窒化酸化シリコン膜、酸化アルミニウム膜、酸化ハフニウム膜、酸化ガリウム膜、又はGa−Zn酸化物膜などの無機絶縁膜を用い、単層で又は積層して作製することができる。絶縁膜338はスパッタリング法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法(プラズマCVD法、熱CVD法、MOCVD(Metal Organic CVD)法など)、ALD(Atomic Layer Deposition)法、蒸着法、パルスレーザー堆積(PLD)法、塗布法、印刷法等を用いて形成できる。
導電膜304は、モリブデン、チタン、タンタル、タングステン、アルミニウム、銅、クロム、ネオジム、ニッケル、鉄、コバルト、スカンジウム等の金属材料又はこれらを主成分とする合金材料を用いて形成することができる。また、マンガン、ジルコニウムのいずれか一又は複数から選択された金属元素を用いてもよい。また、導電膜304としてリン等の不純物元素をドーピングした多結晶シリコン膜に代表される半導体膜、ニッケルシリサイド等のシリサイド膜を用いてもよい。導電膜304は、単層構造としてもよいし、積層構造としてもよい。導電膜304は、テーパ形状としてもよく、例えばテーパ角を15°以上70°以下とすればよい。ここで、テーパ角とは、テーパ形状を有する層の側面と、当該層の底面との間の角度を指す。
なお、導電膜304に外光が照射される場合は、外光の反射を防ぐため、反射性の低い膜や光を吸収する膜を導電膜304の光が照射される面側に設けてもよい。なお、本発明の一態様において、他の導電膜についても、外光が照射される場合は、外光の反射を防ぐため、反射性の低い膜や光を吸収する膜を導電膜の光が照射される面側に設けてもよい。例えば、窒化チタン、窒化タンタルを用いてもよい。例えば、窒化チタン膜上に銅膜を積層する積層構造としてもよい。
導電膜304としては、例えば、シリコンを含むアルミニウム膜の単層構造、マンガンを含む銅膜の単層構造、アルミニウム膜上にチタン膜を積層する二層構造、窒化チタン膜上にチタン膜を積層する二層構造、窒化チタン膜上にタングステン膜を積層する二層構造、窒化タンタル膜又は窒化タングステン膜上にタングステン膜を積層する二層構造、マンガンを含む銅膜上に銅膜を積層する二層構造、チタン膜と、そのチタン膜上にアルミニウム膜を積層し、さらにその上にチタン膜を形成する三層構造、マンガンを含む銅膜上に銅膜を積層し、さらにその上にマンガンを含む銅膜を形成する三層構造等がある。また、アルミニウムに、チタン、タンタル、タングステン、モリブデン、クロム、ネオジム、スカンジウムから選ばれた元素の一又は複数組み合わせた合金膜、もしくは窒化膜を用いてもよい。
また、導電膜304は、インジウム錫酸化物(ITO)、酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化シリコンを含むインジウム錫酸化物等の透光性を有する導電性材料を適用することもできる。また、上記透光性を有する導電性材料と、上記金属元素の積層構造とすることもできる。
なお、後述の導電膜310a、310bも同様の材料を用いて形成すればよい。
絶縁膜305は、トランジスタ102のゲート絶縁膜に相当する絶縁膜である。絶縁膜305としては、プラズマCVD法、スパッタリング法等により、酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、窒化酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜、酸化ハフニウム膜、酸化イットリウム膜、酸化ジルコニウム膜、酸化ガリウム膜、酸化タンタル膜、酸化マグネシウム膜、酸化ランタン膜、酸化セリウム膜、酸化ネオジム膜、又はGa−Zn酸化物を一種以上含む絶縁膜を用いることができる。なお、絶縁膜305は、単層構造としてもよいし、積層構造としてもよい。
なお、酸化物半導体層308と接する絶縁膜は、酸化物絶縁膜であることが好ましく、化学量論的組成よりも過剰に酸素を含有する領域(酸素過剰領域)を有することがより好ましい。絶縁膜305に酸素過剰領域を設けるには、例えば、酸素雰囲気下にて絶縁膜305を形成すればよい。または、成膜後の絶縁膜305に酸素を導入して、酸素過剰領域を形成してもよい。酸素の導入方法としては、イオン注入法、イオンドーピング法、プラズマイマージョンイオン注入法、プラズマ処理等を用いることができる。
本実施の形態では、絶縁膜305として窒化シリコン層と、該窒化シリコン層上の酸化シリコン層と、を形成する。窒化シリコン層は、酸化シリコン層と比較して比誘電率が高く、酸化シリコン層と同等の静電容量を得るのに必要な膜厚が大きいため、トランジスタ102のゲート絶縁膜として機能する絶縁膜305として、窒化シリコン層を含むことで絶縁膜を物理的に厚膜化することができる。よって、トランジスタ102の絶縁耐圧の低下を抑制、さらには絶縁耐圧を向上させて、トランジスタ102の静電破壊を抑制することができる。
酸化物半導体層308は、少なくともインジウム(In)、亜鉛(Zn)及びM(Al、Ga、Ge、Y、Zr、Sn、La、Ce又はHf等の金属)を含むIn−M−Zn酸化物で表記される膜を含むことが好ましい。または、InとZnの双方を含むことが好ましい。また、該酸化物半導体を用いたトランジスタの電気特性のばらつきを減らすため、それらと共に、スタビライザーを含むことが好ましい。
スタビライザーとしては、ガリウム(Ga)、スズ(Sn)、ハフニウム(Hf)、アルミニウム(Al)、又はジルコニウム(Zr)等がある。また、他のスタビライザーとしては、ランタノイドである、ランタン(La)、セリウム(Ce)、プラセオジム(Pr)、ネオジム(Nd)、サマリウム(Sm)、ユウロピウム(Eu)、ガドリニウム(Gd)、テルビウム(Tb)、ジスプロシウム(Dy)、ホルミウム(Ho)、エルビウム(Er)、ツリウム(Tm)、イッテルビウム(Yb)、ルテチウム(Lu)等がある。
酸化物半導体層308を構成する酸化物半導体として、例えば、In−Ga−Zn系酸化物、In−Al−Zn系酸化物、In−Sn−Zn系酸化物、In−Hf−Zn系酸化物、In−La−Zn系酸化物、In−Ce−Zn系酸化物、In−Pr−Zn系酸化物、In−Nd−Zn系酸化物、In−Sm−Zn系酸化物、In−Eu−Zn系酸化物、In−Gd−Zn系酸化物、In−Tb−Zn系酸化物、In−Dy−Zn系酸化物、In−Ho−Zn系酸化物、In−Er−Zn系酸化物、In−Tm−Zn系酸化物、In−Yb−Zn系酸化物、In−Lu−Zn系酸化物、In−Sn−Ga−Zn系酸化物、In−Hf−Ga−Zn系酸化物、In−Al−Ga−Zn系酸化物、In−Sn−Al−Zn系酸化物、In−Sn−Hf−Zn系酸化物、In−Hf−Al−Zn系酸化物を用いることができる。
なお、ここで、In−Ga−Zn系酸化物とは、InとGaとZnを主成分として有する酸化物という意味であり、InとGaとZnの比率は問わない。また、InとGaとZn以外の金属元素が入っていてもよい。
酸化物半導体層308の成膜方法は、スパッタリング法、MBE(Molecular Beam Epitaxy)法、CVD法、パルスレーザ堆積法、ALD(Atomic Layer Deposition)法等を適宜用いることができる。
酸化物半導体層308を成膜する際、できる限り膜中に含まれる水素濃度を低減させることが好ましい。水素濃度を低減させるには、例えば、スパッタリング法を用いて成膜を行う場合には、成膜室内を高真空排気するのみならずスパッタガスの高純度化も必要である。スパッタガスとして用いる酸素ガスやアルゴンガスは、露点が−40℃以下、好ましくは−80℃以下、より好ましくは−100℃以下、より好ましくは−120℃以下にまで高純度化したガスを用いることで酸化物半導体層308に水分等が取り込まれることを可能な限り防ぐことができる。
また、成膜室内の残留水分を除去するためには、吸着型の真空ポンプ、例えば、クライオポンプ、イオンポンプ、チタンサブリメーションポンプを用いることが好ましい。また、ターボ分子ポンプにコールドトラップを加えたものであってもよい。クライオポンプは、例えば、水素分子、水(H2O)など水素原子を含む化合物(より好ましくは炭素原子を含む化合物も)等の排気能力が高いため、クライオポンプを用いて排気した成膜室で成膜された膜中に含まれる不純物の濃度を低減できる。
また、酸化物半導体層308をスパッタリング法で成膜する場合、成膜に用いる金属酸化物ターゲットの相対密度(充填率)は90%以上100%以下、好ましくは95%以上100%以下とする。相対密度の高い金属酸化物ターゲットを用いることにより、成膜される膜を緻密な膜とすることができる。
なお、基板302を高温に保持した状態で酸化物半導体層308を形成することも、酸化物半導体層308中に含まれうる不純物濃度を低減するのに有効である。基板302を加熱する温度は、150℃以上450℃以下とすればよく、好ましくは基板温度が200℃以上350℃以下とすればよい。
次に、酸化物半導体層308を所望の領域に加工することで、島状の酸化物半導体層308a及び島状の酸化物半導体層308cを形成する(図6(B))。
また、のちに酸化物導電体層308bとなる酸化物半導体層308cと、酸化物半導体層308aは、酸化物半導体層308より加工して形成されるため、少なくとも同一の金属元素を有する。また、酸化物半導体層308のエッチング加工の際に、酸化物半導体層308のオーバーエッチングによって絶縁膜305の一部(酸化物半導体層308a及び酸化物半導体層308cから露出した領域)がエッチングされ膜厚が減少することがある。
島状の酸化物半導体層308a及び酸化物半導体層308cを形成後、熱処理を行う。熱処理は、250℃以上650℃以下、好ましくは300℃以上400℃以下、より好ましくは320℃以上370℃以下の温度で、不活性ガス雰囲気、酸化性ガスを10ppm以上含む雰囲気、又は減圧雰囲気で行えばよい。また、熱処理の雰囲気は、不活性ガス雰囲気で熱処理を行った後に、脱離した酸素を補うために酸化性ガスを10ppm以上含む雰囲気で行ってもよい。ここでの加熱処理によって、絶縁膜305、及び酸化物半導体層308a、308cの少なくとも一から水素や水などの不純物を除去することができる。なお、当該熱処理は、酸化物半導体層308を島状に加工する前に行ってもよい。
なお、酸化物半導体をチャネルとするトランジスタ102に安定した電気特性を付与するためには、酸化物半導体中の不純物濃度を低減し、酸化物半導体を真性又は実質的に真性にすることが有効である。
次に、絶縁膜305、及び酸化物半導体層308a、308c上に導電膜310a、310b、及び絶縁膜312を形成する(図6(C))。絶縁膜312には、酸化物半導体層308cが露出するように、開口部362を形成する。
導電膜310a、310bとしては、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、銅、イットリウム、ジルコニウム、モリブデン、銀、タンタル、又はタングステンからなる金属、又はこれを主成分とする合金を用いた膜を単層構造又は積層構造として形成することができる。図6(C)では三層構造からなる導電膜310a、310bを図示するが、本実施の形態はこれに限定されない。例えば、アルミニウム膜上にチタン膜を積層する二層構造、タングステン膜上にチタン膜を積層する二層構造、銅−マグネシウム−アルミニウム合金膜上に銅膜を積層する二層構造、チタン膜又は窒化チタン膜と、そのチタン膜又は窒化チタン膜上に重ねてアルミニウム膜又は銅膜を積層し、さらにその上にチタン膜又は窒化チタン膜を形成する三層構造、モリブデン膜又は窒化モリブデン膜と、そのモリブデン膜又は窒化モリブデン膜上に重ねてアルミニウム膜又は銅膜を積層し、さらにその上にモリブデン膜又は窒化モリブデン膜を形成する三層構造等がある。なお、酸化インジウム、酸化錫又は酸化亜鉛を含む透明導電材料を用いてもよい。また、導電膜310a、310bは、例えば、スパッタリング法を用いて形成することができる。
絶縁膜312としては、例えば、厚さ150nm以上400nm以下の酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜等を用いることができる。本実施の形態においては、絶縁膜312として、厚さ300nmの酸化窒化シリコン膜を用いる。また、絶縁膜312は、例えば、PE−CVD法を用いて形成することができる。
開口部362の形成方法としては、例えば、ドライエッチング法を用いることができる。ただし、開口部362の形成方法としては、これに限定されず、ウエットエッチング法、又はドライエッチング法とウエットエッチング法を組み合わせた形成方法としてもよい。なお、開口部362を形成するためのエッチング工程によって、酸化物半導体層308cの膜厚が減少する場合がある。
なお、導電膜310a、301b、絶縁膜312のエッチング工程等において、酸化物半導体層308a、308c中に酸素欠損が形成される場合がある。したがって、この後、熱処理を行うことが好ましい。絶縁膜312として、酸素を放出することが可能な絶縁膜を用いる場合、熱処理によって、絶縁膜312に含まれる酸素の一部を酸化物半導体層308aに移動させ、酸化物半導体層308a中の酸素欠損を低減することが可能である。この結果、酸化物半導体層308aに含まれる酸素欠損量を低減することができる。一方、絶縁膜312と接しない酸化物半導体層308cの酸素欠損量は低減されないため、酸化物半導体層308cは、酸化物半導体層308aより多くの酸素欠損を含有することとなる。熱処理の条件は、酸化物半導体層308a、308cを形成後の熱処理と同様とすることができる。
次に、開口部362を覆うように、絶縁膜312、及び酸化物半導体層308c上に絶縁膜314を形成する。絶縁膜314を形成することによって、酸化物半導体層308cは、酸化物導電体層308bとなる(図6(D))。
絶縁膜314は、水素を含んで構成される。絶縁膜314の水素が酸化物半導体層308cに拡散すると、酸化物半導体層308cにおいて水素は酸素欠損と結合し、キャリアである電子が生成される。その結果、酸化物半導体層308cの抵抗率が低下し、酸化物導電体層308bとなる。
酸化物導電体層308bの抵抗率は、少なくとも酸化物半導体層308aよりも低く、好ましくは、1×10−3Ωcm以上1×104Ωcm未満、さらに好ましくは、1×10−3Ωcm以上1×10−1Ωcm未満であるとよい。なお、絶縁膜314は、外部からの不純物、例えば、水、アルカリ金属、アルカリ土類金属等が、トランジスタ102に含まれる酸化物半導体層308aへ拡散するのを防ぐ効果も奏する。
絶縁膜314としては、例えば、厚さ50nm以上400nm以下の窒化シリコン膜、又は窒化酸化シリコン膜等を用いることができる。本実施の形態においては、絶縁膜314として、厚さ100nmの窒化シリコン膜を用いる。
また、上記窒化シリコン膜は、ブロック性を高めるために、高温で成膜されることが好ましく、例えば基板温度100℃以上基板の歪み点以下、より好ましくは300℃以上400℃以下の温度で加熱して成膜することが好ましい。但し、高温で成膜する場合は、酸化物半導体層308aから酸素が脱離し、キャリア濃度が上昇する現象が発生することがあるため、このような現象が発生しない温度とする。
次に、絶縁膜314上に絶縁膜348を形成し、絶縁膜348上に導電膜350を形成する。(図7(A))。
絶縁膜348に用いることができる材料としては、他の絶縁膜と同様の材料が挙げられる。
導電膜350には、酸化インジウム、酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、インジウム錫酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物、ガリウムを添加した酸化亜鉛などの導電性酸化物、又はグラフェンなどの透光性を有する導電性材料を用いることができる。また、導電膜350は、例えば、スパッタリング法を用いて形成することができる。また、前述のトランジスタの半導体層に用いることが可能な酸化物半導体を低抵抗化させて用いてもよい。
以上の工程によって、トランジスタ102と、容量素子105と、を同一基板上に形成することができる。
その後、接着層344を用いて基板342を絶縁膜348及び導電膜350上に貼り合わせてもよい(図7(B))。
基板342に用いることができる材料は、基板302と同様である。接着層344には、紫外線硬化型等の光硬化型接着剤、反応硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、嫌気型接着剤などの各種硬化型接着剤を用いることができる。これら接着剤としてはエポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、イミド樹脂、PVC(ポリビニルクロライド)樹脂、PVB(ポリビニルブチラル)樹脂、EVA(エチレンビニルアセテート)樹脂等が挙げられる。特に、エポキシ樹脂等の透湿性が低い材料が好ましい。また、二液混合型の樹脂を用いてもよい。また、接着シート等を用いてもよい。
<タッチセンサーの作製方法例2>
図5(A)に示すトランジスタ104の作製方法の一例について、図8及び図9を用いて説明する。なお、タッチセンサーの作製方法例1と同様の内容は上記を参照することとし、詳細な記載を省略する。
まず、基板302上に絶縁膜338(絶縁膜338a及び絶縁膜338b)を形成する(図8(A))。絶縁膜338は、スパッタリング法、プラズマ化学気相堆積(PECVD)法、MOCVD(有機金属化学堆積)法等の熱CVD法等の化学気相堆積(CVD)法、真空蒸着法、パルスレーザー堆積(PLD)法、原子層成膜(ALD)法、塗布法や印刷法を用いて形成することができる。
酸化物半導体層308aとの界面特性を向上させるため、絶縁膜338において少なくとも酸化物半導体層308aと接する領域は酸化物絶縁膜で形成することが好ましい。また、絶縁膜338として加熱により酸素を放出する酸化物絶縁膜を用いることで、加熱処理により絶縁膜338に含まれる酸素を、酸化物半導体層308aに移動させることが可能である。
絶縁膜338の厚さは、50nm以上、又は100nm以上3000nm以下、又は200nm以上1000nm以下とすることができる。絶縁膜338を厚くすることで、絶縁膜338の酸素放出量を増加させることができると共に、絶縁膜338と酸化物半導体層308aとの界面における界面準位、並びに酸化物半導体層308aのチャネル領域332aに含まれる酸素欠損を低減することが可能である。
また、絶縁膜338bを形成した後、絶縁膜338bに酸素を添加してもよい。絶縁膜338bに添加する酸素としては、酸素ラジカル、酸素原子、酸素原子イオン、酸素分子イオン等がある。また、添加方法としては、イオンドーピング法、イオン注入法、プラズマ処理法等がある。また、絶縁膜上に該絶縁膜からの酸素の脱離を抑制する膜を形成した後、該膜を介して絶縁膜338bに酸素を添加してもよい。
次に、絶縁膜338上に酸化物半導体膜を形成し、該酸化物半導体膜を所望の形状に加工することで、島状の酸化物半導体層308aを形成する。こののち、絶縁膜338及び酸化物半導体層308a上に絶縁膜305を形成する(図8(B))。
酸化物半導体層308aの形成方法について以下に説明する。絶縁膜338b上にスパッタリング法、プラズマ化学気相堆積(PECVD)法、MOCVD(有機金属化学堆積)法等の熱CVD法等の化学気相堆積(CVD)法、真空蒸着法、パルスレーザー堆積(PLD)法、原子層成膜(ALD)法、塗布法や印刷法を用いて形成する。次に、酸化物半導体膜上にリソグラフィ工程によりマスクを形成した後、該マスクを用いて酸化物半導体膜の一部をエッチングすることで、図6(B)に示すように、酸化物半導体層308aを形成することができる。この後、マスクを除去する。なお、酸化物半導体層308aを形成した後、加熱処理を行ってもよい。
なお、酸化物半導体膜を形成する際に、例えば、スパッタリング法を用いる場合、基板温度を150℃以上750℃以下、又は150℃以上450℃以下、又は200℃以上350℃以下として、酸化物半導体膜を成膜することで、CAAC−OS膜を形成することができる。また、基板温度を25℃以上150℃未満とすることで、微結晶酸化物半導体膜を形成することができる。
また、酸化物半導体膜を形成した後、加熱処理を行い、酸化物半導体膜の脱水素化又は脱水化処理をしてもよい。加熱処理の温度は、代表的には、150℃以上基板歪み点未満、又は250℃以上450℃以下、又は300℃以上450℃以下とする。脱水素化又は脱水化処理により、水素、水等の含有量が低減された酸化物半導体膜を得ることが可能である。すなわち、不純物濃度が低く、欠陥準位密度の低い酸化物半導体膜を形成することができる。
加熱処理は、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン、クリプトン等の希ガス、又は窒素を含む不活性ガス雰囲気で行う。または、不活性ガス雰囲気で加熱した後、酸素雰囲気で加熱してもよい。なお、上記不活性雰囲気及び酸素雰囲気に水素、水などが含まれないことが好ましい。処理時間は3分以上24時間以下とする。
該加熱処理は、電気炉、RTA装置等を用いることができる。RTA装置を用いることで、短時間に限り、基板の歪み点以上の温度で熱処理を行うことができる。そのため加熱処理時間を短縮することができる。
酸化物半導体膜を加熱しながら成膜することで、さらには酸化物半導体膜を形成した後、加熱処理を行うことで、酸化物半導体膜において、二次イオン質量分析法により得られる水素濃度を5×1019atoms/cm3以下、又は1×1019atoms/cm3以下、5×1018atoms/cm3以下、又は1×1018atoms/cm3以下、又は5×1017atoms/cm3以下、又は1×1016atoms/cm3以下とすることができる。
絶縁膜305は、酸化物絶縁膜又は窒化物絶縁膜を単層又は積層して形成することができる。なお、酸化物半導体層308aとの界面特性を向上させるため、絶縁膜305において少なくとも酸化物半導体層308aと接する領域は酸化物絶縁膜を用いて形成することが好ましい。絶縁膜305は、スパッタリング法、プラズマ化学気相堆積(PECVD)法、MOCVD(有機金属化学堆積)法等の熱CVD法等の化学気相堆積(CVD)法、真空蒸着法、パルスレーザー堆積(PLD)法、原子層成膜(ALD)法、塗布法や印刷法を用いて形成することができる。
また、絶縁膜305として、酸素、水素、水等のブロッキング効果を有する絶縁膜を設けることで、酸化物半導体層308aからの酸素の外部への拡散と、外部から酸化物半導体層308aへの水素、水等の侵入を防ぐことができる。酸素、水素、水等のブロッキング効果を有する絶縁膜としては、酸化アルミニウム膜、酸化窒化アルミニウム膜、酸化ガリウム膜、酸化窒化ガリウム膜、酸化イットリウム膜、酸化窒化イットリウム膜、酸化ハフニウム膜、酸化窒化ハフニウム膜等がある。
また、絶縁膜305の材料として、ハフニウムシリケート(HfSiOx)、窒素が添加されたハフニウムシリケート(HfSixOyNz)、窒素が添加されたハフニウムアルミネート(HfAlxOyNz)、酸化ハフニウム、酸化イットリウムなどのhigh−k材料を用いることでトランジスタのゲートリークを低減できる。
また、絶縁膜305として、加熱により酸素を放出する酸化物絶縁膜を用いることで、加熱処理により絶縁膜305に含まれる酸素を、酸化物半導体層308aに移動させることが可能である。
絶縁膜305の厚さは、5nm以上400nm以下、又は5nm以上300nm以下、又は10nm以上250nm以下とすることができる。
絶縁膜305として、酸化シリコン膜又は酸化窒化シリコン膜を用いることができる。
ここでは、絶縁膜305として、PECVD装置を用い、厚さ100nmの酸化窒化シリコン膜を形成する。
次に、絶縁膜305上に導電膜306(導電膜306a及び導電膜306b)を形成する(図8(C))。
導電膜306は、スパッタリング法、プラズマ化学気相堆積(PECVD)法、MOCVD(有機金属化学堆積)法等の熱CVD法等の化学気相堆積(CVD)法、真空蒸着法、パルスレーザー堆積(PLD)法、原子層成膜(ALD)法、塗布法や印刷法を用いて形成することができる。本実施の形態においては、導電膜306aとして、スパッタリング装置を用い、窒化タンタル膜を10nm形成する。また、導電膜306bとして、スパッタリング装置を用い、銅膜を300nm形成する。なお、導電膜306aと導電膜306bを真空中で連続して形成すると、導電膜303aと導電膜303bの界面の不純物が抑制できるため好適である。
次に、導電膜306b上にリソグラフィ工程によりマスク145を形成した後、導電膜306b、導電膜306a、及び絶縁膜305の一部をエッチングし、導電膜304a、304bを形成する(図8(D))。
導電膜306及び絶縁膜305をエッチングする方法は、ウエットエッチング法又は/及びドライエッチング法を適宜用いることができる。
また、導電膜306及び絶縁膜305のエッチング工程において、酸化物半導体層308aの一部を露出させる。なお、図8(E)に示すように、酸化物半導体層308aの一部が露出した領域は、導電膜304及び絶縁膜305のエッチング工程により、導電膜304と重なる酸化物半導体層308aよりも膜厚が薄くなる場合がある。また、図8(E)に示すように、導電膜306及び絶縁膜305のエッチング工程において、下地膜として機能する絶縁膜338bの酸化物半導体層308aから露出した領域の一部が除去され、酸化物半導体層308aと重畳する領域の膜厚よりも薄くなる場合がある。
次に、絶縁膜338b、絶縁膜305、酸化物半導体層308a、導電膜304、及びマスク145上から不純物元素143を添加する(図8(F))。
不純物元素143の添加工程において、導電膜304、絶縁膜305、及びマスク145に覆われていない酸化物半導体層308aに不純物元素が添加される。なお、不純物元素143の添加により、酸化物半導体層308aには酸素欠損が形成される。
不純物元素143の添加方法としては、イオンドーピング法、イオン注入法、プラズマ処理法等がある。プラズマ処理法の場合、添加する不純物元素を含むガス雰囲気にてプラズマを発生させて、プラズマ処理を行うことによって、不純物元素を添加することができる。上記プラズマを発生させる装置としては、ドライエッチング装置、アッシング装置、プラズマCVD装置、高密度プラズマCVD装置等を用いることができる。
なお、不純物元素143の原料ガスとして、B2H6、PH3、CH4、N2、NH3、AlH3、AlCl3、SiH4、Si2H6、F2、HF、H2及び希ガスの一以上を用いることができる。または、希ガスで希釈されたB2H6、PH3、N2、NH3、AlH3、AlCl3、F2、HF、及びH2の一以上を用いることができる。希ガスで希釈されたB2H6、PH3、N2、NH3、AlH3、AlCl3、F2、HF、及びH2の一以上を用いて不純物元素143を酸化物半導体層308aに添加することで、希ガスと、水素、ホウ素、炭素、窒素、フッ素、アルミニウム、シリコン、リン、及び塩素の一以上とを同時に酸化物半導体層308aに添加することができる。
又は、希ガスを酸化物半導体層308aに添加した後、B2H6、PH3、CH4、N2、NH3、AlH3、AlCl3、SiH4、Si2H6、F2、HF、及びH2の一以上を酸化物半導体層308aに添加してもよい。
又は、B2H6、PH3、CH4、N2、NH3、AlH3、AlCl3、SiH4、Si2H6、F2、HF、及びH2の一以上を酸化物半導体層308aに添加した後、希ガスを酸化物半導体層308aに添加してもよい。
こののち、加熱処理を行い、不純物元素143が添加された領域の導電性をさらに高めてもよい。上記加熱処理の温度は、代表的には、150℃以上基板歪み点未満、又は250℃以上450℃以下、又は300℃以上450℃以下とする。
次に、マスク145を除去する(図9(A))。
次に、絶縁膜338b、酸化物半導体層308a、及び導電膜304上に絶縁膜312aを形成し、絶縁膜312a上に絶縁膜312bを形成する(図9(B))。
絶縁膜312a及び絶縁膜312bは、絶縁膜338a及び絶縁膜338bの形成方法を適宜用いることができる。
本実施の形態においては、絶縁膜312aとして、PECVD装置を用い、窒化シリコン膜を100nm形成する。また、絶縁膜312bとして、PECVD装置を用い、酸化窒化シリコン膜を300nm形成する。
絶縁膜312aとして窒化シリコン膜を用いることで、該窒化シリコン膜中の水素が酸化物半導体層308a中に入り込み、絶縁膜312aに接する酸化物半導体層308aのキャリア濃度をさらに向上させることが可能となる。
次に、絶縁膜312b上にリソグラフィ工程によりマスクを形成した後、絶縁膜312a及び絶縁膜312bの一部をエッチングして、酸化物半導体層308aに達する開口部140a及び開口部140bを形成する(図9(C))。
次に、開口部140a及び開口部140bを覆うように、絶縁膜312b上に導電膜311(導電膜311a及び導電膜311b)を形成する(図9(D))。
導電膜311には、導電膜306の形成方法を適宜用いることができる。ここでは、導電膜311aとして、スパッタリング装置を用い、厚さ50nmのタングステン膜を形成する。また、導電膜311bとして、スパッタリング装置を用い、厚さ200nmの銅膜を形成する。
次に、導電膜311b上にリソグラフィ工程によりマスクを形成した後、導電膜311a及び導電膜311bの一部をエッチングして、導電膜310a及び導電膜310bを形成する(図9(E))。
なお、導電膜310aは、導電膜310a1と導電膜310a1上の導電膜310a2の積層構造となる。また、導電膜310bは、導電膜310b1と導電膜310b1上の導電膜310b2の積層構造となる。
次に、絶縁膜312b、導電膜310a及び導電膜310b上に絶縁膜314を形成する(図9(F))。
絶縁膜314は、絶縁膜338aの形成方法を適宜用いることができる。ここでは、絶縁膜314として、PECVD装置を用い、厚さ200nmの窒化シリコン膜を形成する。
以上の工程により、トランジスタ104を作製することができる。
なお、トランジスタ106を形成する場合には、基板302上に絶縁膜338を形成する。次に絶縁膜338上に導電膜を形成し、該導電膜を所望の形状に加工することで、導電膜303を形成する。次に、図8(A)乃至図8(C)に示す工程と同様の工程を行う(図8(A)で形成する絶縁膜338はトランジスタ106における絶縁膜301に相当することになる)。その後、絶縁膜305上にリソグラフィ工程によりマスクを形成した後、絶縁膜305の一部をエッチングして導電膜303に達する開口部139を形成する。その後の工程については、図8(D)以降に示す工程と同様の工程を行うことで、トランジスタ106を作製することができる。
以上のように、本発明の一態様のタッチセンサーは、トランジスタ及び容量素子を有し、トランジスタの半導体層と容量素子の一方の電極とを同一工程で成膜することで作製ができる。よって、少ない工程数でアクティブマトリクス方式のタッチセンサーを作製することができる。または、大型のタッチパネルに用いることができるタッチセンサーを提供することができる。また、本発明の一態様によれば、タッチパネルへのタッチによる入力時における静電気放電への耐性が向上したタッチセンサー及びタッチパネルを提供することができる。
本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
(実施の形態5)
本実施の形態では、本発明の一態様のタッチパネルについて説明する。
本発明の一態様のタッチパネルは、一対の基板間にアクティブマトリクス方式のタッチセンサーと表示素子と、を有する。タッチセンサーは、例えば、静電容量方式であってもよい。
センサー部と表示部を重ねて有するタッチパネルにおいて、静電容量方式のタッチセンサーを構成する配線や電極と、表示部を構成する配線や電極との間には、寄生容量が形成される場合がある。表示素子を駆動させたときに生じるノイズが、寄生容量を通してタッチセンサー側に伝わることで、タッチセンサーの検出感度が低下する恐れがある。
また、センサー部と表示部の距離を十分広くすることで、ノイズの影響を避け、タッチセンサーの検出感度の低下を抑制することができるが、タッチパネル全体の厚さが厚くなる場合がある。
本発明の一態様では、アクティブマトリクス方式のタッチセンサーを提供する。該タッチセンサーは、トランジスタ及び容量素子を有する。該トランジスタ及び該容量素子は電気的に接続する。
本発明の一態様のアクティブマトリクス方式のタッチセンサーは、容量素子を構成する電極と、読み出し配線が別の層で形成することができる。読み出し配線を細い幅で形成することで、寄生容量を小さくでき、ノイズの影響を抑制することができる。これにより、タッチセンサーの検出感度の低下を抑制できる。また、検出信号を増幅して出力させることでも、ノイズの影響を抑制することができる。
本発明の一態様のタッチパネルは、アクティブマトリクス方式のタッチセンサーを用いることで、センサー部と表示部の距離を狭くし、タッチパネルを薄型化することができる。また、2枚の基板の間にタッチセンサー及び表示素子を配置することができることからも、タッチパネルを薄型化することができる。ここで、本発明の一態様のタッチセンサーを用いることで、センサー部と表示部の距離を狭くしても、タッチセンサーの検出感度の低下を抑制できる。したがって、本発明の一態様では、タッチセンサーもしくはタッチパネルの薄型化と、高い検出感度を両立することができる。また、一対の基板に可撓性を有する材料を用いることで、可撓性を有するタッチパネルとすることもできる。また、本発明の一態様では、繰り返しの曲げに強いタッチパネルを提供することができる。または、大型のタッチパネルを提供することができる。また、本発明の一態様では、タッチパネルへのタッチによる入力時における静電気放電への耐性が向上したタッチセンサー及びタッチパネルを提供することができる。
本発明の一態様のタッチパネルが有するタッチセンサーには、実施の形態4で詳述した通り、容量素子の電極として酸化物導電体層を用いてもよい。アクティブマトリクス方式のタッチセンサーにおいて、トランジスタを構成する半導体層や導電膜と、容量素子の電極とを同一工程で成膜することが好ましい。これにより、タッチパネルを作製するための工程数が少なくなり、製造コストを低減させることができる。
なお、本発明の一態様のタッチパネルは、容量素子の電極として酸化物導電体層を用いることで、他の材料を用いる場合に比べて、視野角依存性が小さくなることがある。また、本発明の一態様のタッチパネルは、容量素子の電極として酸化物導電体層を用いることで、他の材料を用いる場合に比べて、NTSC比を大きくできることがある。
具体的には、本発明の一態様は、一対の基板間にタッチセンサー、遮光層、及び表示素子を有するタッチパネルであり、遮光層は、タッチセンサーと表示素子の間に位置し、遮光層は、タッチセンサーが有するトランジスタと重なる部分を有し、表示素子は、タッチセンサーが有する容量素子と重なる部分を有する、タッチパネルである。
表示素子としては、特に限定はないが、例えば、有機EL素子を用いることができる。したがって、上記構成において、表示素子は、第1の電極、第2の電極、及び発光性の有機化合物を含む層を有し、第1の電極の端部を覆う絶縁膜を有し、発光性の有機化合物を含む層は、第1の電極及び第2の電極の間に位置し、絶縁膜は、タッチセンサーが有するトランジスタと重なる部分を有していてもよい。
<タッチパネルの構成例>
本実施の形態では、本発明の一態様のタッチパネルの構成について、図10及び図11を参照しながら説明する。
図10は本発明の一態様のタッチパネル500TPの構成を説明する投影図である。なお、説明の便宜のためにタッチセンサー602の一部及び画素502の一部を拡大して図示している。
図11(A)は図10に示す本発明の一態様のタッチパネル500TPのZ1−Z2における断面の構造を示す断面図であり、図11(B)及び図11(C)は図11(A)に示す構造の一部の変形例を示す断面図である。
<タッチパネルの構成例>
本実施の形態で説明するタッチパネル500TPは、表示部500及び表示部500に重なる入力部600を有する(図10参照)。
入力部600は、マトリクス状に配設される複数のタッチセンサー602を有する。
また、行方向(図中に矢印Rで示す)に配置される複数のタッチセンサー602が電気的に接続される配線G1または配線RESなどを有する。なお、配線RESは制御線としての機能を有する。
また、列方向(図中に矢印Cで示す)に配置される複数のタッチセンサー602が電気的に接続される配線MLなどを有する。
トランジスタまたは/及び容量素子等をタッチセンサー602に用いることができる。例えば、導電膜と当該導電膜に電気的に接続される容量素子を用いることができる。また、容量素子と当該容量素子に電気的に接続されるトランジスタを用いることができる。
絶縁層653、絶縁層653を挟持する第1の電極651及び第2の電極652を備える容量素子650を用いることができる(図11(A)参照)。
また、タッチセンサーはマトリクス状に配置された複数の窓部667を有する。窓部667は可視光を透過し、複数の窓部667の間に遮光性の層BMを配設してもよい。
窓部667に重なる位置に着色層を備える。着色層は、所定の色の光を透過する。なお、着色層はカラーフィルタということができる。例えば、青色の光を透過する着色層CFB、緑色の光を透過する着色層CFGまたは赤色の光を透過する着色層CFRを用いることができる。また、黄色の光を透過する着色層や白色の光を透過する着色層を用いてもよい。
表示部500は、マトリクス状に配置された複数の画素502を有する。画素502は入力部600の窓部667と重なるように配置されている。
画素502は、タッチセンサー602に比べて高い精細度で配設されてもよい。
本実施の形態で説明するタッチパネル500TPは、可視光を透過する窓部667を具備し、マトリクス状に配設される複数のタッチセンサー602を備える入力部600と、窓部667に重なる画素502を複数備える表示部500と、を有し、窓部667と画素502の間に着色層を含んで構成される。また、それぞれのタッチセンサーに他のタッチセンサーへの干渉を低減することができるスイッチが配設されている。
これにより、各タッチセンサーが検知する検知情報をタッチセンサーの位置情報と共に供給することができる。また、画像を表示する画素の位置情報に関連付けて検知情報を供給することができる。また、検知情報を供給させないタッチセンサーと信号線を非導通状態にすることで、検知信号を供給させるタッチセンサーへの干渉を低減することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規なタッチパネル500TPを提供することができる。
例えば、タッチパネル500TPの入力部600は検知情報を検知して位置情報と共に供給することができる。具体的には、タッチパネル500TPの使用者は、入力部600に触れた指等をポインタに用いて様々なジェスチャー(タップ、ドラッグ、スワイプまたはピンチイン等)をすることができる。
入力部600は、入力部600に近接または接触する指等を検知して、検知した位置または軌跡等を含む検知情報を供給することができる。
演算装置は供給された情報が所定の条件を満たすか否かをプログラム等に基づいて判断し、所定のジェスチャーに関連付けられた命令を実行する。
これにより、入力部600の使用者は、指等を用いて所定のジェスチャーを供給し、所定のジェスチャーに関連付けられた命令を演算装置に実行させることができる。
これにより、タッチパネル500TPはその大きさに依存することなく、タッチセンサーを駆動して、検知情報を供給させることができる。例えば、ハンドヘルド型に用いることができる大きさから、電子黒板に用いることができる大きさまで、さまざまな大きさのタッチパネル500TPを提供することができる。
また、タッチパネル500TPが折り畳まれた状態及び展開された状態にすることができ且つ折り畳まれた状態と展開された状態とで選択されていないタッチセンサーがもたらす選択されたタッチセンサーへの干渉が異なる場合においても、タッチパネル500TPの状態に依存することなくタッチセンサーを駆動して、検知情報を供給させることができる。
また、タッチパネル500TPの表示部500は表示情報Vを供給されることができる。例えば、演算装置は表示情報Vを供給することができる。
以上の構成に加えて、タッチパネル500TPは以下の構成を備えることもできる。
タッチパネル500TPの入力部600は、駆動回路603gまたは駆動回路603dを備えてもよい。また、フレキシブルプリント基板FPC1と電気的に接続されてもよい。
タッチパネル500TPの表示部500は、走査線駆動回路503g、配線511または端子519を備えてもよい。また、フレキシブルプリント基板FPC2と電気的に接続されてもよい。
また、傷の発生を防いでタッチパネル500TPを保護する保護層670を備えてもよい。例えば、セラミックコート層またはハードコート層を保護層670に用いることができる。具体的には、酸化アルミニウムを含む層またはUV硬化樹脂を用いることができる。また、タッチパネル500TPが反射する外光の強度を弱める反射防止層670pを用いることができる。具体的には、円偏光板等を用いることができる。
以下に、タッチパネル500TPを構成する個々の要素について説明する。なお、これらの構成は明確に分離できず、一つの構成が他の構成を兼ねる場合や他の構成の一部を含む場合がある。
例えば、複数の窓部667に重なる位置に着色層を備える入力部600は、入力部600であるとともにカラーフィルタでもある。
また、例えば入力部600が表示部500に重ねられたタッチパネル500TPは、入力部600であるとともに表示部500でもある。
《全体の構成》
本実施の形態で説明するタッチパネル500TPは、入力部600または表示部500を有する。
《入力部》
入力部600は、タッチセンサー602、配線G1、配線MLまたは基材610を備える。
なお、基材610に入力部600を形成するための膜を成膜し、当該膜を加工する方法を用いて、入力部600を形成してもよい。
または、入力部600の一部を他の基材に形成し、当該一部を基材610に転置する方法を用いて、入力部600を形成してもよい。
《タッチセンサー》
例えば大気中において、指などの大気より大きな誘電率を備えるものが導電膜に近接すると、指と導電膜の間の静電容量が変化する。タッチセンサー602は、この静電容量の変化を検知して検知情報を供給することができる。具体的には、導電膜及び当該導電膜に一方の電極が接続された容量素子を含む回路をタッチセンサー602に用いることができる。
例えば、静電容量の変化に伴い容量素子との間で電荷の分配が引き起こされ、容量素子の両端の電極の電圧が変化する。この電圧の変化を検知信号に用いることができる。具体的には、容量素子650の電極間の電圧は一方の電極に電気的に接続された導電膜にものが近接することにより変化する(図11(A)参照)。
《スイッチ、トランジスタ》
タッチセンサー602は、制御信号に基づいて導通状態または非導通状態にすることができるスイッチを備える。例えば、トランジスタM12をスイッチに用いることができる。トランジスタM12は、実施の形態4で示したトランジスタを用いることができる。
また、検知信号を増幅するトランジスタをタッチセンサー602に用いることができる。
同一の工程で作製することができるトランジスタを、検知信号を増幅するトランジスタ及びスイッチに用いることができる。これにより、作製工程が簡略化された入力部600を提供できる。
《配線》
入力部600は、配線G1、配線RESまたは配線MLなどを備える。
導電性を有する材料を、配線G1、配線RESまたは配線ML等に用いることができる。
例えば、無機導電性材料、有機導電性材料、金属または導電性セラミックスなどを、配線に用いることができる。
具体的には、アルミニウム、金、白金、銀、クロム、タンタル、チタン、モリブデン、タングステン、ニッケル、鉄、コバルト、イットリウム、ジルコニウム、パラジウムまたはマンガンから選ばれた金属元素、上述した金属元素を含む合金または上述した金属元素を組み合わせた合金などを配線等に用いることができる。特に、アルミニウム、クロム、銅、タンタル、チタン、モリブデン、タングステンの中から選択される一以上の元素を含むと好ましい。特に、銅とマンガンの合金がウエットエッチング法を用いた微細加工に好適である。
具体的には、アルミニウム膜上にチタン膜を積層する二層構造、窒化チタン膜上にチタン膜を積層する二層構造、窒化チタン膜上にタングステン膜を積層する二層構造、窒化タンタル膜または窒化タングステン膜上にタングステン膜を積層する二層構造、チタン膜と、そのチタン膜上にアルミニウム膜を積層し、さらにその上にチタン膜を形成する三層構造等を用いることができる。
具体的には、アルミニウム膜上にチタン、タンタル、タングステン、モリブデン、クロム、ネオジム、スカンジウムから選ばれた一または複数を組み合わせた合金膜、もしくは窒化膜を積層する積層構造を用いることができる。
または、酸化インジウム、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、ガリウムを添加した酸化亜鉛などの導電性酸化物を用いることができる。
または、グラフェンまたはグラファイトを用いることができる。グラフェンを含む膜は、例えば膜状に形成された酸化グラフェンを含む膜を還元して形成することができる。還元する方法としては、熱を加える方法や還元剤を用いる方法等を挙げることができる。
または、導電性高分子を用いることができる。
《駆動回路》
駆動回路603gは例えば所定のタイミングで選択信号を供給することができる。具体的には、選択信号を配線G1ごとに所定の順番で供給する。また、さまざまな回路を駆動回路603gに用いることができる。例えば、シフトレジスタ、フリップフロップ回路、組み合わせ回路などを用いることができる。例えば、入力部140が表示部130の所定の動作に基づいて動作するように、駆動回路603gが選択信号を供給してもよい。具体的には、表示部130の帰線期間中に入力部140が動作するように選択信号を供給してもよい。これにより、表示部130の動作に伴う雑音を入力部140が検知してしまう不具合を軽減できる。
駆動回路603dは、タッチセンサー602が供給する検知信号に基づいて検知情報を供給する。また、さまざまな回路を駆動回路603dに用いることができる。例えば、タッチセンサーと電気的に接続されることによりソースフォロワ回路やカレントミラー回路を構成することができる回路を、駆動回路603dに用いることができる。また、検知信号をデジタル信号に変換するアナログデジタル変換回路を備えていてもよい。
《基材》
基材610は、製造工程に耐えられる程度の耐熱性及び製造装置に適用可能な厚さ及び大きさを備えるものであれば、特に限定されない。特に、可撓性を有する材料を210に用いると、入力部600を折り畳んだ状態または展開された状態にすることができる。なお、表示部500が表示をする側に入力部600を配置する場合は、透光性を有する材料を基材610に用いる。
有機材料、無機材料または有機材料と無機材料等の複合材料等を基材610に用いることができる。
例えば、ガラス、セラミックスまたは金属等の無機材料を基材610に用いることができる。
具体的には、無アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、カリガラスまたはクリスタルガラス等を、基材610に用いることができる。
具体的には、金属酸化物膜、金属窒化物膜若しくは金属酸窒化物膜等を、基材610に用いることができる。例えば、酸化珪素、窒化珪素、酸窒化珪素、アルミナ膜等を、基材610に用いることができる。
例えば、樹脂、樹脂フィルムまたはプラスチック等の有機材料を基材610に用いることができる。
具体的には、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート若しくはアクリル樹脂等の樹脂フィルムまたは樹脂板を、基材610に用いることができる。
例えば、薄板状のガラス板または無機材料等の膜を樹脂フィルム等に貼り合わせた複合材料を基材610に用いることができる。
例えば、繊維状または粒子状の金属、ガラスもしくは無機材料等を樹脂フィルムに分散した複合材料を、基材610に用いることができる。
例えば、繊維状または粒子状の樹脂もしくは有機材料等を無機材料に分散した複合材料を基材610に用いることができる。
また、単層の材料または複数の層が積層された積層材料を、基材610に用いることができる。例えば、基材と基材に含まれる不純物の拡散を防ぐ絶縁層等が積層された積層材料を、基材610に用いることができる。
具体的には、ガラスとガラスに含まれる不純物の拡散を防ぐ酸化シリコン膜、窒化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜等から選ばれた一または複数の膜が積層された積層材料を、基材610に適用できる。
または、樹脂と樹脂を透過する不純物の拡散を防ぐ酸化シリコン膜、窒化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜等が積層された積層材料を、基材610に適用できる。
具体的には、可撓性を有する基材610b、不純物の拡散を防ぐバリア膜610a及び基材610bとバリア膜610aを貼り合わせる樹脂層610cの積層体を用いることができる(図11(A)参照)。
《フレキシブルプリント基板》
フレキシブルプリント基板FPC1は、タイミング信号、電源電位等を供給し、検知信号を供給される。
《表示部》
表示部500は、画素502、配線または基材510を備える(図10参照)。
なお、基材510に表示部500を形成するための膜を成膜し、当該膜を加工して表示部500を形成してもよい。
または、表示部500の一部を他の基材に形成し、当該一部を基材510に転置して、表示部500を形成してもよい。
《画素》
画素502は副画素502B、副画素502G及び副画素502Rを含み、それぞれの副画素は表示素子と表示素子を駆動する画素回路を備える。
《画素回路》
画素に能動素子を有するアクティブマトリクス方式、または、画素に能動素子を有しないパッシブマトリクス方式を表示部に用いることが出来る。
アクティブマトリクス方式では、能動素子(アクティブ素子、非線形素子)として、トランジスタだけでなく、さまざまな能動素子(アクティブ素子、非線形素子)を用いることが出来る。例えば、MIM(Metal Insulator Metal)、又はTFD(Thin Film Diode)などを用いることも可能である。これらの素子は、製造工程が少ないため、製造コストの低減、又は歩留まりの向上を図ることができる。または、これらの素子は、素子のサイズが小さいため、開口率を向上させることができ、低消費電力化や高輝度化をはかることが出来る。
アクティブマトリクス方式以外のものとして、能動素子(アクティブ素子、非線形素子)を用いないパッシブマトリクス型を用いることも可能である。能動素子(アクティブ素子、非線形素子)を用いないため、製造工程が少ないため、製造コストの低減、又は歩留まりの向上を図ることができる。または、能動素子(アクティブ素子、非線形素子)を用いないため、開口率を向上させることができ、低消費電力化、又は高輝度化などを図ることが出来る。
画素回路は、例えば、トランジスタ502tを含む。
表示部500はトランジスタ502tを覆う絶縁膜521を備える。絶縁膜521は画素回路に起因する凹凸を平坦化するための層として用いることができる。また、絶縁膜521に不純物の拡散を抑制できる層を含む積層膜を適用することができる。これにより、不純物の拡散によるトランジスタ502t等の信頼性の低下を抑制できる。
《表示素子》
さまざまな表示素子を表示部500に用いることができる。例えば、電気泳動方式や電子粉流体(登録商標)方式やエレクトロウェッティング方式などにより表示を行う表示素子(電子インクともいう)、シャッター方式のMEMS表示素子、光干渉方式のMEMS表示素子、液晶素子などを用いることができる。
また、透過型液晶ディスプレイ、半透過型液晶ディスプレイ、反射型液晶ディスプレイ、直視型液晶ディスプレイなどに用いることができる表示素子を用いることができる。
例えば、射出する光の色が異なる有機エレクトロルミネッセンス素子を副画素毎に適用してもよい。
例えば、白色の光を射出する有機エレクトロルミネッセンス素子を適用できる。
例えば、発光素子550Rは、下部電極、上部電極、下部電極と上部電極の間に発光性の有機化合物を含む層を有する。
副画素502Rは発光モジュール580Rを備える。副画素502Rは、発光素子550R及び発光素子550Rに電力を供給することができるトランジスタ502tを含む画素回路を備える。また、発光モジュール580Rは発光素子550R及び光学素子(例えば着色層CFR)を備える。
なお、特定の波長の光を効率よく取り出せるように、発光モジュール580Rに微小共振器構造を配設することができる。具体的には、特定の光を効率よく取り出せるように配置された可視光を反射する膜及び半反射・半透過する膜の間に発光性の有機化合物を含む層を配置してもよい。
発光モジュール580Rは、光を取り出す方向に着色層CFRを有する。着色層は特定の波長を有する光を透過するものであればよく、例えば赤色、緑色または青色等の光を選択的に透過するものを用いることができる。なお、他の副画素を着色層が設けられていない窓部に重なるように配置して、着色層を透過しないで発光素子の発する光を射出させてもよい。
着色層CFRは発光素子550Rと重なる位置にある。これにより、発光素子550Rが発する光の一部は着色層CFRを透過して、図中に示す矢印の方向の発光モジュール580Rの外部に射出される。
着色層(例えば着色層CFR)を囲むように遮光性の層BMがある。
なお、光を取り出す側に封止材560が設けられている場合、封止材560は発光素子550Rと着色層CFRに接してもよい。
下部電極は絶縁膜521の上に配設される。下部電極に重なる開口部が設けられた隔壁528を備える。なお、隔壁528の一部は下部電極の端部に重なる。
下部電極は、上部電極との間に発光性の有機化合物を含む層を挟持して発光素子(例えば発光素子550R)を構成する。画素回路は発光素子に電力を供給する。
また、隔壁528上に、基材610と基材510の間隔を制御するスペーサを設けてもよい。
なお、半透過型液晶ディスプレイや反射型液晶ディスプレイを実現する場合には、画素電極の一部、または、全部が、反射電極としての機能を有するようにすればよい。例えば、画素電極の一部、または、全部が、アルミニウム、銀、などを有するようにすればよい。
また、反射電極の下に、SRAMなどの記憶回路を設けることも可能である。これにより、さらに、消費電力を低減することができる。また、適用する表示素子に好適な構成を様々な画素回路から選択して用いることができる。
《基材》
可撓性を有する材料を基材510に用いることができる。例えば、基材610に用いることができる材料と同様の材料を基材510に適用することができる。
なお、基材510が透光性を必要としない場合は、例えば透光性を有しない材料、具体的にはSUSまたはアルミニウム等を用いることができる。
例えば、可撓性を有する基材510bと、不純物の拡散を防ぐバリア膜510aと、基材510b及びバリア膜510aを貼り合わせる樹脂層510cと、が積層された積層体を基材510に好適に用いることができる(図11(A)参照)。
《封止材》
封止材560は基材610と基材510を貼り合わせる。封止材560は空気より大きい屈折率を備える。また、封止材560側に光を取り出す場合は、封止材560と接する層(たとえば着色層CFR)との屈折率の差を小さくすることで、効率よく光を取り出すことができる。
なお、画素回路または発光素子(例えば発光素子550R)は基材510と基材610の間にある。
《走査線駆動回路の構成》
走査線駆動回路503gは選択信号を供給する。トランジスタ503t及び容量503cを含む。なお、画素回路と同一の工程で同一基板上に形成することができるトランジスタを駆動回路に用いることができる。
《配線》
表示部500は、走査線、信号線及び電源線等の配線を有する。さまざまな導電膜を用いることができる。例えば、入力部600に用いることができる導電膜と同様の材料を用いることができる。
表示部500は、信号を供給することができる端子519が設けられている。なお、画像信号及び同期信号等の信号を供給することができるフレキシブルプリント基板FPC2が端子519に電気的に接続されている。図11(A)では、端子519がトランジスタ502t及び503tのゲート電極と同じ材料で構成される例を示したが、これに限定されない。
なお、フレキシブルプリント基板FPC2にはプリント配線基板(PWB)が取り付けられていても良い。
<タッチパネルの変形例1>
様々なトランジスタを入力部600または/及び表示部500に適用できる。
ボトムゲート型のトランジスタを入力部600に適用する場合の構成を図11(A)に示す。
ボトムゲート型のトランジスタを表示部500に適用する場合の構成を図11(A)及び図11(B)に図示する。
例えば、酸化物半導体、アモルファスシリコン等を含む半導体層を図11(A)に図示するトランジスタ502t及びトランジスタ503tに適用することができる。
例えば、酸化物半導体、レーザーアニールなどの処理により結晶化させた多結晶シリコンを含む半導体層を、図11(B)に図示するトランジスタ502t及びトランジスタ503tに適用することができる。
トップゲート型のトランジスタを表示部500に適用する場合の構成を、図11(C)に図示する。
例えば、酸化物半導体、レーザーアニールなどの処理により結晶化させた多結晶シリコン、または単結晶シリコン基板等から転置された単結晶シリコン膜等を含む半導体層を、図11(C)に図示するトランジスタ502t及びトランジスタ503tに適用することができる。
<タッチパネルの変形例2>
表示部500の表示素子に液晶素子を用いる例を図12に示す。
液晶素子には、TN(Twisted Nematic)モード、VA(Vertical Alignment)モード、IPS(In Plane Switching)モードなど各モードの液晶素子を用いることができる。
表示部500には、絶縁膜521の上の第1の共通電極570、第1の共通電極の上の絶縁膜572、絶縁膜572の上の画素電極574が設けられている。画素電極574は、トランジスタ502tのソースまたはドレインの一方に電気的に接続されている。
また、表示部500には、絶縁膜572、及び画素電極574を覆うように第1の配向膜が設けられている。
入力部600には、着色層CFR及び遮光性の層BMを覆うように絶縁膜582が設けられている。絶縁膜582の表面に第2の共通電極584が設けられている。第2の共通電極584を覆うように第2の配向膜586が設けられている。
第1の配向膜と第2の配向膜の間に液晶層578が設けられている。液晶層578は基材510と基材610の間に設けられたシール材588により封止されている。
絶縁膜582は、着色層CFR及び遮光性の層BMによる凹凸を緩和するために設けられているが、凹凸が無い場合、あるいは凹凸が表示に影響を及ぼさない場合は必ずしも設ける必要はない。
第2の共通電極584は液晶層578の配向を制御するために設けることが好ましいが、必ずしも設ける必要はない。すなわち、着色層CFR及び遮光性の層BMを覆うように直接第2の配向膜586を設ける構成としてもよい。
本実施の形態では、入力部600に直接着色層CFR、遮光性の層BM、絶縁膜582、第2の共通電極584、及び第2の配向膜586を設ける例を示したが、これに限らない。対向基板を用意し、対向基板に着色層CFR、遮光性の層BM、絶縁膜582、第2の共通電極584、及び第2の配向膜586を設け、シール材588を用いて基材510と張り合わせ、液晶層578を注入して表示部500を完成させた後、入力部600を張り合わせてもよい。
<タッチパネルの変形例3>
様々なトランジスタを入力部600または/及び表示部500に適用できる。
ボトムゲート型のトランジスタを入力部600に適用する場合の構成を図12(A)に示す。
ボトムゲート型のトランジスタを表示部500に適用する場合の構成を図12(A)及び図12(B)に図示する。
例えば、酸化物半導体、アモルファスシリコン等を含む半導体層を図12(A)に図示するトランジスタ502t及びトランジスタ503tに適用することができる。
例えば、酸化物半導体、レーザーアニールなどの処理により結晶化させた多結晶シリコンを含む半導体層を、図12(B)に図示するトランジスタ502t及びトランジスタ503tに適用することができる。
トップゲート型のトランジスタを表示部500に適用する場合の構成を、図12(C)に図示する。
例えば、酸化物半導体、レーザーアニールなどの処理により結晶化させた多結晶シリコン、または単結晶シリコン基板等から転置された単結晶シリコン膜等を含む半導体層を、図12(C)に図示するトランジスタ502t及びトランジスタ503tに適用することができる。
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
(実施の形態6)
本実施の形態では、本発明の一態様を適用して作製できる電子機器及び照明装置について、図13及び図14を用いて説明する。
本発明の一態様のタッチパネルは可撓性を有する。したがって、可撓性を有する電子機器や照明装置に好適に用いることができる。また、本発明の一態様を適用することで、信頼性が高く、繰り返しの曲げに対して強い電子機器や照明装置を作製できる。また、本発明の一態様によれば、タッチパネルへのタッチによる入力時における静電気放電への耐性が向上したタッチセンサー及びタッチパネルを提供することができる。
電子機器としては、例えば、テレビジョン装置(テレビ、又はテレビジョン受信機ともいう)、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機(携帯電話、携帯電話装置ともいう)、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる。
また、本発明の一態様のタッチパネルは可撓性を有するため、家屋やビルの内壁もしくは外壁、又は、自動車の内装もしくは外装の曲面に沿って組み込むことも可能である。
図13(A)は、携帯電話機の一例を示している。携帯電話機1300は、筐体1301に組み込まれた表示部1302のほか、操作ボタン1303、外部接続ポート1304、スピーカ1305、マイク1306などを備えている。なお、携帯電話機1300は、本発明の一態様のタッチパネルを表示部1302に用いることにより作製される。本発明の一態様により、湾曲した表示部を備え、且つ信頼性の高い携帯電話機を歩留まりよく提供できる。また、本発明の一態様によれば、タッチパネルへのタッチによる入力時における静電気放電への耐性が向上したタッチセンサー及びタッチパネルを提供することができる。
図13(A)に示す携帯電話機1300は、指などで表示部1302に触れることで、情報を入力することができる。また、電話を掛ける、或いは文字を入力するなどのあらゆる操作は、指などで表示部1302に触れることにより行うことができる。
また、操作ボタン1303の操作により、電源のON、OFF動作や、表示部1302に表示される画像の種類を切り替えることができる。例えば、メール作成画面から、メインメニュー画面に切り替えることができる。
図13(B)は、腕時計型の携帯情報端末の一例を示している。携帯情報端末1310は、筐体1311、表示部1312、バンド1313、バックル1314、操作ボタン1315、入出力端子1316などを備える。
携帯情報端末1310は、移動電話、電子メール、文章閲覧及び作成、音楽再生、インターネット通信、コンピュータゲームなどの種々のアプリケーションを実行することができる。
表示部1312はその表示面が湾曲して設けられ、湾曲した表示面に沿って表示を行うことができる。また、表示部1312はタッチセンサーを備え、指やスタイラスなどで画面に触れることで操作することができる。例えば、表示部1312に表示されたアイコン1317に触れることで、アプリケーションを起動することができる。
操作ボタン1315は、時刻設定のほか、電源のオン、オフ動作、無線通信のオン、オフ動作、マナーモードの実行及び解除、省電力モードの実行及び解除など、様々な機能を持たせることができる。例えば、携帯情報端末1310に組み込まれたオペレーティングシステムにより、操作ボタン1315の機能を自由に設定することもできる。
また、携帯情報端末1310は、通信規格された近距離無線通信を実行することが可能である。例えば無線通信可能なヘッドセットと相互通信することによって、ハンズフリーで通話することもできる。
また、携帯情報端末1310は入出力端子1316を備え、他の情報端末とコネクターを介して直接データのやりとりを行うことができる。また入出力端子1316を介して充電を行うこともできる。なお、充電動作は入出力端子7106を介さずに無線給電により行ってもよい。
携帯情報端末1310の表示部1312には、本発明の一態様のタッチパネルが組み込まれている。本発明の一態様により、湾曲した表示部を備え、且つ信頼性の高い携帯情報端末を歩留まりよく提供できる。また、本発明の一態様によれば、タッチパネルへのタッチによる入力時における静電気放電への耐性が向上したタッチセンサー及びタッチパネルを提供することができる。
図13(C)乃至(E)は、照明装置の一例を示している。照明装置1320、照明装置1330、及び照明装置1340は、それぞれ、操作スイッチ1323を備える台部1321と、台部1321に支持される発光部を有する。
図13(C)に示す照明装置1320は、波状の発光面を有する発光部1322を備える。したがってデザイン性の高い照明装置となっている。
図13(D)に示す照明装置1330の備える発光部1332は、凸状に湾曲した2つの発光部が対称的に配置された構成となっている。したがって照明装置1330を中心に全方位を照らすことができる。
図13(E)に示す照明装置1340は、凹状に湾曲した発光部1342を備える。したがって、発光部1342からの発光を、照明装置1340の前面に集光するため、特定の範囲を明るく照らす場合に適している。
また、照明装置1320、照明装置1330及び照明装置1340の備える各々の発光部はフレキシブル性を有しているため、発光部を可塑性の部材や可動なフレームなどの部材で固定し、用途に合わせて発光部の発光面を自在に湾曲可能な構成としてもよい。
なおここでは、台部によって発光部が支持された照明装置について例示したが、発光部を備える筐体を天井に固定する、又は天井からつり下げるように用いることもできる。発光面を湾曲させて用いることができるため、発光面を凹状に湾曲させて特定の領域を明るく照らす、又は発光面を凸状に湾曲させて部屋全体を明るく照らすこともできる。
ここで、各発光部には、本発明の一態様のタッチパネルが組み込まれている。本発明の一態様により、湾曲した表示部を備え、且つ信頼性の高い照明装置を歩留まりよく提供できる。また、本発明の一態様によれば、タッチパネルへのタッチによる入力時における静電気放電への耐性が向上したタッチセンサー及びタッチパネルを提供することができる。
図13(F)には、携帯型のタッチパネルの一例を示している。タッチパネル1350は、筐体1351、表示部1352、操作ボタン1353、引き出し部材1354、制御部1355を備える。
タッチパネル1350は、筒状の筐体1351内にロール状に巻かれたフレキシブルな表示部1352を備える。
また、タッチパネル1350は制御部1355によって映像信号を受信可能で、受信した映像を表示部1352に表示することができる。また、制御部1355にはバッテリをそなえる。また、制御部1355にコネクターを接続する端子部を備え、映像信号や電力を有線により外部から直接供給する構成としてもよい。
また、操作ボタン1353によって、電源のON、OFF動作や表示する映像の切り替え等を行うことができる。
図13(G)には、表示部1352を引き出し部材1354により引き出した状態のタッチパネル1350を示す。この状態で表示部1352に映像を表示することができる。また、筐体1351の表面に配置された操作ボタン1353によって、片手で容易に操作することができる。また、図13(F)のように操作ボタン1353を筐体1351の中央でなく片側に寄せて配置することで、片手で容易に操作することができる。
なお、表示部1352を引き出した際に表示部1352の表示面が平面状となるように固定するため、表示部1352の側部に補強のためのフレームを設けていてもよい。
なお、この構成以外に、筐体にスピーカを設け、映像信号と共に受信した音声信号によって音声を出力する構成としてもよい。
表示部1352には、本発明の一態様のタッチパネルが組み込まれている。本発明の一態様により、軽量で、且つ信頼性の高いタッチパネルを歩留まりよく提供できる。また、本発明の一態様によれば、タッチパネルへのタッチによる入力時における静電気放電への耐性が向上したタッチセンサー及びタッチパネルを提供することができる。
図14(A)乃至(C)に、折りたたみ可能な携帯情報端末1410を示す。図14(A)に展開した状態の携帯情報端末1410を示す。図14(B)に展開した状態又は折りたたんだ状態の一方から他方に変化する途中の状態の携帯情報端末1410を示す。図14(C)に折りたたんだ状態の携帯情報端末1410を示す。携帯情報端末1410は、折りたたんだ状態では可搬性に優れ、展開した状態では、継ぎ目のない広い表示領域により表示の一覧性に優れる。
表示パネル1416はヒンジ1413によって連結された3つの筐体1415に支持されている。ヒンジ1413を介して2つの筐体1415間を屈曲させることにより、携帯情報端末1410を展開した状態から折りたたんだ状態に可逆的に変形させることができる。本発明の一態様のタッチパネルを表示パネル1416に用いることができる。例えば、曲率半径1mm以上150mm以下で曲げることができるタッチパネルを適用できる。また、本発明の一態様によれば、タッチパネルへのタッチによる入力時における静電気放電への耐性が向上したタッチセンサー及びタッチパネルを提供することができる。
なお、本発明の一態様において、タッチパネルが折りたたまれた状態又は展開された状態であることを検知して、検知情報を供給するセンサーを備える構成としてもよい。タッチパネルの制御装置は、タッチパネルが折りたたまれた状態であることを示す情報を取得して、折りたたまれた部分(又は折りたたまれて使用者から視認できなくなった部分)の動作を停止してもよい。具体的には、表示を停止してもよい。また、タッチセンサーによる検知を停止してもよい。
同様に、タッチパネルの制御装置は、タッチパネルが展開された状態であることを示す情報を取得して、表示やタッチセンサーによる検知を再開してもよい。
図14(D)(E)に、折りたたみ可能な携帯情報端末1420を示す。図14(D)に表示部1422が外側になるように折りたたんだ状態の携帯情報端末1420を示す。図14(E)に、表示部1422が内側になるように折りたたんだ状態の携帯情報端末1420を示す。携帯情報端末1420を使用しない際に、非表示部1425を外側に折りたたむことで、表示部1422の汚れや傷つきを抑制できる。本発明の一態様のタッチパネルを表示部1422に用いることができる。本発明の一態様によれば、タッチパネルへのタッチによる入力時における静電気放電への耐性が向上したタッチセンサー及びタッチパネルを提供することができる。
図14(F)は携帯情報端末1430の外形を説明する斜視図である。図14(G)は、携帯情報端末1430の上面図である。図14(H)は携帯情報端末1440の外形を説明する斜視図である。
携帯情報端末1430、1440は、例えば電話機、手帳又は情報閲覧装置等から選ばれた一つ又は複数の機能を有する。具体的には、スマートフォンとしてそれぞれ用いることができる。
携帯情報端末1430、1440は、文字や画像情報をその複数の面に表示することができる。例えば、3つの操作ボタン1439を一の面に表示することができる(図14(F)(H))。また、破線の矩形で示す情報1437を他の面に表示することができる(図14(G)(H))。なお、情報1437の例としては、SNS(ソーシャル・ネットワーキング・サービス)の通知、電子メールやや電話などの着信を知らせる表示、電子メールなどの題名、電子メールなどの送信者名、日時、時刻、バッテリの残量、アンテナ受信の強度などがある。または、情報1437が表示されている位置に、情報1437の代わりに、操作ボタン1439、アイコンなどを表示してもよい。なお、図14(F)(G)では、上側に情報1437が表示される例を示したが、本発明の一態様は、これに限定されない。例えば、図14(H)に示す携帯情報端末1440のように、横側に表示されていてもよい。
例えば、携帯情報端末1430の使用者は、洋服の胸ポケットに携帯情報端末1430を収納した状態で、その表示(ここでは情報1437)を確認することができる。
具体的には、着信した電話の発信者の電話番号又は氏名等を、携帯情報端末1430の上方から観察できる位置に表示する。使用者は、携帯情報端末1430をポケットから取り出すことなく、表示を確認し、電話を受けるか否かを判断できる。
携帯情報端末1430の筐体1435、携帯情報端末1440の筐体1436がそれぞれ有する表示部1433には、本発明の一態様のタッチパネルを用いることができる。本発明の一態様により、湾曲した表示部を備え、且つ信頼性の高いタッチパネルを歩留まりよく提供できる。また、本発明の一態様によれば、タッチパネルへのタッチによる入力時における静電気放電への耐性が向上したタッチセンサー及びタッチパネルを提供することができる。
また、図14(I)に示す携帯情報端末1450のように、3面以上に情報を表示してもよい。ここでは、情報1455、情報1456、情報1457がそれぞれ異なる面に表示されている例を示す。
携帯情報端末1450の筐体1454が有する表示部1458には、本発明の一態様のタッチパネルを用いることができる。本発明の一態様により、湾曲した表示部を備え、且つ信頼性の高いタッチパネルを歩留まりよく提供できる。また、本発明の一態様によれば、タッチパネルへのタッチによる入力時における静電気放電への耐性が向上したタッチセンサー及びタッチパネルを提供することができる。
本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。