JP6432817B2 - 試料の光学測定方法 - Google Patents
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Description
すなわち、本発明は以下の通りである。
(2)ゴム系の高分子化合物がクロロプレンゴムである、前記(1)に記載の光学測定方法。
(3)光学部材が、レンズ、プリズム、ミラーまたはセルである、前記(1)または(2)に記載の光学測定方法。
(4)光学部材がフーリエ変換赤外分光計のプリズムである、前記(1)または(2)に記載の光学測定方法。
上記のうち、ATR法によるフーリエ変換赤外分光分析(以下、「ATR法FT−IR」という。)において、極めて優れた効果を発揮する。すなわち、ATR法FT−IRは、屈折率の高い媒質から屈折率の低い媒質に電磁波が入射する場合に、入射角をある臨界角以上にすると電磁波は界面ではなく低屈折率の媒質側に少し染み出してから反射してくる現象(この反射される電磁波はエバネッセント波と呼ばれる)を応用する測定法である。測定対象となる試料をATRクリスタルと呼ばれるプリズムに接触させておき、赤外光がATRクリスタルに入射すると、赤外光は試料側に少し染み出してから反射してくるが、試料化合物は、その化合物特有の波長の赤外光を吸収するので、反射される赤外光は試料特有の赤外線吸収スペクトルを示すことになり、そのスペクトルから試料化合物の分子構造などを解析することができるからである。
可搬式FT−IR(4100 ExoscanハンドヘルドFT−IR、アジレント・テクノロジー社製)を用いて試験を行った。ATR法で赤外線吸収スペクトル測定するためのATRクリスタルとして、ダイヤモンドクリスタルを使用し、測定試料にはポリプロピレンフィルムを用いた。高分子化合物の希薄溶液として、クロロプレンゴムの0.5%トルエン溶液を使用した。クロロプレンはネオプレン(登録商標)を使用した。
また、上記の実施例1より、ATRクリスタルの表面に形成するクロロプレンゴム薄膜の膜厚を、ATR法FT−IRの測定深度より小さくすることで、クロロプレンゴム薄膜の影響を受けることなく試料の赤外線吸収スペクトルを測定できること、そして、赤外線吸収スペクトル測定後のクロロプレンゴム薄膜は、溶剤で拭取ることにより簡単に除去できることが分かった。
Claims (4)
- 試料の光学測定法であって、該試料が直接接触する光学部材の表面に、炭化水素系の揮発性溶媒に溶解させたゴム系の高分子化合物の希薄溶液を塗布して厚さが0.5μm以下の高分子薄膜を形成し、該試料と光学部材の表面が直接接触しない状態で光学測定を行った後、高分子薄膜を除去することを特徴とする光学測定方法。
- ゴム系の高分子化合物がクロロプレンゴムである、請求項1に記載の光学測定方法。
- 光学部材が、レンズ、プリズム、ミラーまたはセルである、請求項1または2に記載の光学測定方法。
- 光学部材がフーリエ変換赤外分光計のプリズムである、請求項1または2に記載の光学測定方法。
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