JP6423363B2 - 研磨用ガラス光学素子ブランク用成形型、研磨用ガラス光学素子ブランクの製造方法および光学素子の製造方法 - Google Patents
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Description
[1] 少なくとも上型および下型を有し、
研磨用ガラス光学素子ブランクを製造するために用いる成形型であって、
上記上型および下型の少なくとも一方の成形面は、表面粗さ(Rz)が10μm超である、成形型。
光学ガラスからなるガラス素材を大気雰囲気下で再加熱した後、軟化した上記ガラス素材を上記成形型でプレス成形するプレス工程と
を含む研磨用ガラス光学素子ブランクの製造方法。
上記研削工程を経た研磨用ガラス光学素子ブランクを研磨する工程と
を含む光学素子の製造方法。
以下、図1〜図3を参照しながら、本発明の一形態について説明する。なお、図中同一または相当部分には同一の符号を付してその説明は繰り返さない。
次に、図1に示す成形型の製造方法について一例を説明する。
本実施形態に係る成形型の製造方法は、上型および下型に対応する基材を準備する工程と、前記上型および下型の少なくとも一方の成形面の表面粗さ(Rz)を10μm超とする工程を有する。
本実施形態に係る研磨用ガラス光学素子ブランクの製造方法は、
本実施形態に係る成形型を用意する工程と、
光学ガラスからなるガラス素材を、大気雰囲気下で再加熱した後、軟化した前記ガラス素材を前記成形型でプレス成形するプレス工程と、を含む。
本実施形態に係る光学素子の製造方法は、
本実施形態に係る光学素子ブランクの製造方法により作製された光学素子ブランクを研削する工程と、
前記研削工程を経た研磨用光学素子ブランクを研磨する工程と、を含む。
<成形型I>
成形型の基材として、ステンレス製の上型、下型および胴型を準備した。
まず、シリカを主成分とし、コロイダルシリカを結合剤とするコーティング材料に、溶媒としての水を加え、十分に攪拌して、所望の粘度のコーティング溶液を得た。
成形型IIIは、コーティング溶液の濃度を高くして、成形面の表面粗さ(Rz)を25μmとした以外は、成形型IIと同様の方法で作製された。
成形型IVは、コーティング溶液の濃度を更に高くして、成形面の表面粗さ(Rz)を40μmとした以外は、成形型IIと同様の方法で作製された。
成形型の基材として、ステンレス製の上型、下型および胴型を準備した。
次に、上記成形型I〜Vを用いてレンズブランクを作製した。いずれの成形型を用いた場合も、下記のレンズブランクの作製手順で行った。
まず、フツリン酸塩系のガラス素材(回転楕円形状、質量16g、Tg=404℃、Ts=444℃)を準備した。次に、ガラス素材の表面に粉末状の離型剤(窒化ホウ素)を塗布した。また、再加熱用装置の軟化用受け皿にも、離型剤を塗布した。
成形型I〜Vについて、成形型の評価を行った。具体的には、上記の方法でレンズブランクAを一定数(作製したブランクの総数は表1に示す。)それぞれ作製し、得られたレンズブランクの不良品の発生率を評価した。特に、不良品の発生率については、不良品の内訳も評価した。さらに、得られたレンズブランクの主表面の表面粗さ(Rz)も測定した。結果を表1に示す。
次に、成形型I、成形型IIおよび成形型IIIを用いて、得られるレンズブランクについて、カン・ワレと成形型の温度との関係を評価した。
まず、ホウ酸ランタン系のガラス素材(回転楕円形状、質量21g、Tg=655℃、Ts=690℃)を準備した。次に、ガラス素材の表面に粉末状の離型剤(窒化ホウ素)を塗布した。また、再加熱用装置の軟化用受け皿にも、離型剤を塗布した。
次に、成形型I、成形型IIIを用いて、得られたレンズブランクAについて、第1面および第2面の形状誤差を評価した。具体的には、リング式簡易曲率計(ミツトヨ社製 デジマティックインジケータID−CXとオリジナルリングゲージ)を用いて、レンズブランクAのΔHを測定し、このΔHを形状評価の指標とした。結果を図6に示す。
次に、成形型I、成形型IIIを用いて、得られたレンズブランクAについて、アニール処理後の第1面および第2面の形状誤差を評価した。具体的には、リング式簡易曲率計(同上)を用いて、レンズブランクAのΔHを測定し、このΔHを、アニール前の形状誤差とした。次に、該レンズブランクAをTg−10℃、120分間、大気雰囲気下で加熱して、アニール処理を行い、再度ΔHを測定し、アニール後の形状誤差とした。結果を図7に示す。
21… 上型
13,23… 基材
13A,23A… 基材表面
15… 被膜(酸化物セラミック膜)
17、27… 成形面
30… 胴型
40a… 軟化したガラス素材
40b… 研磨用ガラス光学素子ブランク
Claims (6)
- 少なくとも上型および下型を有し、
研磨用ガラス光学素子ブランクを製造するために用いる成形型であって、
前記上型および下型の少なくとも一方の成形面に酸化物セラミック膜を有し、その表面粗さ(Rz)が10μm超であり、
前記酸化物セラミック膜の平均膜厚が5μm以上80μm以下である、成形型。 - 前記酸化物セラミック膜が、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、マグネシア、およびカルシアからなる群から選択される少なくとも1種を含む、請求項1に記載の成形型。
- 前記成形面の表面粗さ(Rz)が50μm以下である、請求項1または2に記載の成形型。
- 大気雰囲気において、軟化したガラス素材をプレス成形するために用いられる、請求項1〜3のいずれかに記載の成形型。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の成形型を用意する工程と、
光学ガラスからなるガラス素材を大気雰囲気下で再加熱した後、軟化した前記ガラス素材を前記成形型でプレス成形するプレス工程とを含む研磨用ガラス光学素子ブランクの製造方法。 - 請求項5に記載の製造方法によって製造された研磨用ガラス光学素子ブランクを研削する工程と、
前記研削工程を経た研磨用ガラス光学素子ブランクを研磨する工程と
を含む光学素子の製造方法。
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