JP6290654B2 - 超純水製造装置 - Google Patents
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Description
2 一次純水タンク
3 ポンプ
4 熱交換器
5 紫外線酸化装置
6 非再生型混床式イオン交換装置(カートリッジポリッシャー)
7 限外ろ過膜装置
8 ユースポイント
10 酸化性物質除去装置
11 水素添加装置
12,22a,22b 触媒反応装置
13 制御部
14a,14c サンプリングライン
14b,14d 溶存水素計
Claims (7)
- 被処理水を順次処理して超純水を製造する超純水製造装置であって、
前記被処理水に含まれる酸素および過酸化水素の少なくとも一方を除去する酸化性物質除去装置を有し、
前記酸化性物質除去装置が、
前記被処理水に水素を添加する水素添加装置と、
前記水素添加装置により水素が添加された前記被処理水の一部が流入して通過するようにされた第1の触媒反応装置であって、前記水素が添加された前記被処理水に接触することで該被処理水から前記酸素および過酸化水素の少なくとも一方を除去する白金族金属担持触媒を備えた第1の触媒反応装置と、
前記水素添加装置により水素が添加された前記被処理水の他の一部が流入して通過するようにされた第2の触媒反応装置であって、前記第1の触媒反応装置の前記白金族金属担持触媒と同一の白金族金属担持触媒を備えた第2の触媒反応装置と、
前記第2の触媒反応装置を通過途中または通過後の前記被処理水の溶存水素濃度を測定する濃度測定手段と、
前記濃度測定手段により測定された前記溶存水素濃度に基づいて、前記水素添加装置の水素添加量を調整する制御手段と、
を有する、超純水製造装置。 - 前記第2の触媒反応装置は、前記第1の触媒反応装置に流入する前記被処理水の線速度以上の線速度で前記被処理水が流入するようにされている、請求項1に記載の超純水製造装置。
- 前記第1の触媒反応装置を通過前または通過後の被処理水の溶存酸素濃度を測定する他の濃度測定手段を有し、
前記制御手段は、前記他の濃度測定手段により測定された前記溶存酸素濃度に基づいて、所定の濃度範囲を設定し、前記濃度測定手段により測定された前記溶存水素濃度が前記所定の濃度範囲に収まるように、前記水素添加装置の水素添加量を調整する、請求項2に記載の超純水製造装置。 - 前記白金族金属担持触媒が、白金族金属と、該白金族金属が担持されたアニオン交換体とから構成されている、請求項1から3のいずれか1項に記載の超純水製造装置。
- 前記アニオン交換体がモノリス状有機多孔質である、請求項4に記載の超純水製造装置。
- 前記白金族金属の担持量が、前記白金族金属担持触媒1L当たり10〜30000mgである、請求項5に記載の超純水製造装置。
- 前記アニオン交換体がOH形である、請求項5または6に記載の超純水製造装置。
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