JP6290380B2 - 発光装置用基板、発光装置、及び、発光装置用基板の製造方法 - Google Patents
発光装置用基板、発光装置、及び、発光装置用基板の製造方法 Download PDFInfo
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Description
本発明の一実施形態について説明する。
図1の(a)は本実施形態に係る発光装置30の一構成例を示す上面図であり、(b)は(a)に示したA−A断面の断面図である。
基体100は、熱伝導性が高い材質からなる基体である。なお、基体100の材質は、熱伝導性が高い材質であれば特に限定されるものではなく、例えば、アルミニウム、銅、ステンレスあるいは鉄を材料として含むなどの金属からなる基体を用いることができる。本実施形態では、安価で、加工が容易であり、雰囲気湿度に強いことからアルミニウム製の基体を用いた。また、本実施形態では基板120の外形形状を六角形としているが、基板120の外形はこれに限るものではなく、例えば、三角形、四角形、五角形、八角形等の他の多角形であってもよく、円形あるいは楕円形であってもよく、その他の形状であってもよい。
緩衝層250は、基体100の一方の面(以下、表面と称する)に溶射あるいはエアロゾルデポジション法(AD法)によって形成された層であり、基体100よりも線膨脹率の小さい物質からなる。更に、緩衝層250の線膨脹率がセラミックス絶縁体層150よりも大きい事が好ましい。緩衝層250の厚みが10μm以上100μm以下であり、好ましくは20μmと30μmの間である。
セラミックス絶縁層150は、緩衝層250の基体100に対して反対側の面に印刷法によって形成された層であり、電気絶縁性、高光反射性、高熱伝導性を有している。
発光素子110は、LED(Light Emitting Diode)等の半導体発光素子であり、本実施形態では発光ピーク波長が450nm付近の青色発光素子を用いている。ただし、発光素子110の構成はこれに限るものではなく、例えば、発光ピーク波長が390nm〜420nmの紫外(近紫外)発光素子を用いてもよい。上記の紫外(近紫外)発光素子を用いることにより、さらなる発光効率の向上を図ることができる。
光反射樹脂枠130は、アルミナフィラー含有シリコーン樹脂からなる円環状(円弧状)の光反射樹脂枠130を形成している。ただし、光反射樹脂枠130の材質はこれに限るものではなく、光反射特性を持つ絶縁性樹脂であればよい。また、光反射樹脂枠130の形状は円環状(円弧状)に限定されるものではなく、任意の形状とすることができる。アノード用導電体配線160、カソード用導電体配線165、および保護素子の形状についても同様である。
封止樹脂140は、透光性樹脂からなる封止樹脂層であり、光反射樹脂枠130により囲まれた領域に充填されて形成され、セラミックス絶縁層150、発光素子110、およびワイヤ等を封止する。
このように、本実施形態にかかる発光装置30では、セラミックス絶縁層150の表面に、発光素子110と、発光装置30を外部配線(あるいは外部装置)に接続するための電極部(アノード電極170およびカソード電極180)と、発光素子110と上記各電極部(アノード電極170およびカソード電極180)とを接続するための配線(アノード用導電体配線160およびカソード用導電体配線165)と、発光素子110が配置されている領域を取り囲むように形成された光反射性を有する樹脂からなる枠部(光反射樹脂枠130)と、上記枠部(光反射樹脂枠130)によって囲まれる領域に配置された部材(セラミックス絶縁層150の一部、発光素子110、およびワイヤ等)を封止する封止樹脂140とが直接形成されている。
次に、発光装置30の製造方法について説明する。
本発明の実施形態2について説明する。なお、説明の便宜上、実施形態1で説明した部材と同じ機能を有する部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。
図2の(a)は本実施形態に係る発光装置10の一構成例を示す上面図であり、(b)は(a)に示したB−B断面の断面図である。
基体100は、熱伝導性が高い材質からなる。なお、基体100の材質は、熱伝導性が高い材質であれば特に限定されるものではなく、例えば、アルミニウム、銅などの金属を材料として含む金属基体を用いることができる。また、実施形態1でも言及したように、ステンレスあるいは鉄を材料として含む金属からなる基体を用いてもよい。本実施形態では、実施形態1と同様、アルミニウム製の基体を用いた。
図2に示される緩衝層250は、実施形態1で前述した緩衝層250と同様の構成を有している。このため、緩衝層250の詳細な説明は繰り返さない。
セラミックス絶縁層150aは、緩衝層250上に高熱伝導性セラミックス層151bと高光反射性セラミックス層151aとを積層した多層構造の層である。本実施形態では、上記の2種類の異なるセラミックス層151b・151aを積層して多層構造とすることにより、高熱伝導性および高光反射性を有するセラミックス絶縁層150aを形成している。なお、高熱伝導性セラミックス層151bと高光反射性セラミックス層151aとは、緩衝層250上に高熱伝導性セラミックス層151bを形成し、その上に高光反射性セラミックス層151aを形成することが好ましい。また、高熱伝導性セラミックス層151bおよび高光反射性セラミックス層151aの少なくとも一方は、電気絶縁性を有していることが好ましい。
次に、発光装置10の製造方法について説明する。図3の(a)〜図3の(d)は、発光装置10の製造工程を示す説明図である。
本発明の実施形態3について図4、図5に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
図4は、実施形態3に係る発光装置301の構成を示す平面図である。図5は、発光装置301に設けられた基板(発光装置用基板)320と発光素子304との構成を示す断面図である。
以下、図5に基づいて、基板320に備えられた各層について説明する。
実施形態3においては、金属材料からなる基体302としてアルミニウム基体を用いた。アルミニウム基体としては、例えば、縦50mm×横50mm×厚み3mmのアルミニウム板を用いることができる。アルミニウムの長所として、軽量で加工性に優れ、熱伝導率が高いことが挙げられる。また、アルミニウム基体には陽極酸化処理を妨げない程度のアルミニウム以外の成分が含まれていてもよい。なお、詳しくは後述するが、実施形態3においては、比較的低い温度で、基体302上に、緩衝層250と、中間層311と、電極パターン303と、光反射性を有する反射層312とを形成することができるので、金属材料からなる基体302として660℃の融点を有する低融点金属であるアルミニウム基体を用いることができる。このような理由から、アルミニウム基体に限定されることはなく、例えば、銅基体なども用いることができ、金属材料からなる基体302として選択できる材質の幅が広い。
図5に示される緩衝層250は、実施形態1で前述した緩衝層250と同様の構成を有している。このため、緩衝層250の詳細な説明は繰り返さない。
本実施形態においては、図5に図示されているように、(発光装置用)基板320に高放熱性と、高い絶縁耐圧特性とを安定的に付与するために、熱伝導性のセラミックス絶縁体である中間層311が、金属材料からなる基体302と、電極パターン303または光反射性を有する反射層312との間に形成されている。
中間層311上に形成する電極パターン303は、例えば、電極下地用の金属ペースト上にメッキ層を形成して得られる。
図5に図示されているように、基板320においては、電極パターン303の一部が露出するように、中間層311の上および電極パターン303の一部の上に光反射性を有する反射層312が形成されている。
図5では、発光素子304が、基板320に搭載され、パッケージ化されている。ここでは、発光素子304が、フリップチップボンディングにより、電極パターン303の端子部分と電気的に接続されている。電気的接続を取るために、はんだやバンプあるいは金属ペーストなど一般的に用いられる手法を適用すればよい。
実施形態1から3に示した基板(発光装置用基板)120・120a・320に用いられる緩衝層250は金属あるいは合金に限定されるものではなく、金属あるいは合金を用いる代わりにシート状に加工した樹脂やペースト状の樹脂を用いて緩衝層250を形成してもよい。
本発明の態様1に係る発光装置用基板(基板120・120a・320)は、金属材料からなる基体100と、熱伝導性及び光反射性を有する電気的絶縁層(セラミックス絶縁層150・150a、中間層311、反射層312)と、基体100と電気的絶縁層(セラミックス絶縁層150・150a、中間層311、反射層312)との間に形成されて基体100よりも線膨張率の小さい緩衝層250とを備えている。
100、302 基体
110、304 発光素子
120、120a、320 基板(発光装置用基板)
150、150a セラミックス絶縁層(電気的絶縁層)
151a セラミックス層(第2セラミックス層)
151b セラミックス層(第1セラミックス層)
250 緩衝層
311 中間層(第1セラミックス層)
312 反射層(第2セラミックス層)
Claims (19)
- 金属材料からなる基体と、
熱伝導性及び光反射性を有する電気的絶縁層と、
前記基体と前記電気的絶縁層との間に形成されて前記基体よりも線膨張率の小さい緩衝層とを備え、前記緩衝層の線膨張率が、前記電気的絶縁層の線膨張率よりも大きいことを特徴とする発光装置用基板。 - 前記基体がアルミニウムからなり、
前記緩衝層が、Niとアルミニウムとの合金からなる請求項1に記載の発光装置用基板。 - 前記緩衝層が樹脂を含む請求項1に記載の発光装置用基板。
- 前記緩衝層と前記電気的絶縁層とが、エポキシ樹脂を含む請求項1に記載の発光装置用基板。
- 前記緩衝層を構成する樹脂と前記電気的絶縁層を構成する樹脂とが、アルミナ粒子を含有する請求項1に記載の発光装置用基板。
- 前記電気的絶縁層は多層構造からなり、
前記電気的絶縁層を構成する複数の層のうち、前記緩衝層と接触する層は熱伝導を有する第1セラミックス層であり、前記緩衝層から最も遠い側の層は光反射性を有する第2セラミックス層である請求項1に記載の発光装置用基板。 - 前記基体が、アルミニウム、銅、ステンレス、又は、鉄を材料として含む請求項1に記載の発光装置用基板。
- 前記緩衝層が、金属又は合金層である請求項1に記載の発光装置用基板。
- 前記緩衝層の金属又は合金層は、Ni、Ti、Co、Fe、Nb、Mo、Ta、Wのうち少なくともいずれか一つを材料として含む請求項8に記載の発光装置用基板。
- 前記基体がアルミニウムからなり、前記緩衝層が、Ni、Ti、Coのうち少なくともいずれか一つを材料として含む請求項1に記載の発光装置用基板。
- 前記緩衝層におけるNiの割合が重量比率で90%以上である請求項2に記載の発光装置用基板。
- 前記緩衝層の厚みが10μm以上100μm以下である請求項2に記載の発光装置用基板。
- 前記樹脂が、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、および、フッ素樹脂のいずれかの樹脂である請求項3に記載の発光装置用基板。
- 前記樹脂が、セラミックス粒子を含有している請求項3に記載の発光装置用基板。
- 前記電気的絶縁層が、樹脂にセラミックス粒子を含有させることにより形成されている請求項1に記載の発光装置用基板。
- 請求項1から15のいずれか一項に記載の発光装置用基板と、
前記電気的絶縁層の上に配置された発光素子とを備えたことを特徴とする発光装置。 - 請求項1に記載の発光装置用基板の製造方法であって、
溶射法又はエアロゾルデポジション法(AD法)を用いて前記基体の上に緩衝層を形成し、
前記緩衝層の上にセラミックス塗料を塗布することによって熱伝導性および光反射性を有する電気的絶縁層を形成することを特徴とする発光装置用基板の製造方法。 - 請求項6に記載の発光装置用基板の製造方法であって、
あらかじめシート状に加工されたセラミックス粒子を含有する樹脂を前記基体の上に貼り合わせて緩衝層を形成し、
前記緩衝層の上に別のシート状に加工されたセラミックス粒子を含有する樹脂を貼り合せることによって熱伝導性を有する第1セラミックス層を形成し、
前記第1セラミックス層の上にセラミックス塗料を塗布することによって光反射性を有する第2セラミックス層を形成することを特徴とする発光装置用基板の製造方法。 - 請求項6に記載の発光装置用基板の製造方法であって、
溶射法又はエアロゾルデポジション法(AD法)を用いて前記基体の上に前記緩衝層を形成し、前記緩衝層の上にセラミックス塗料を塗布することによって熱伝導性を有する前記第1セラミックス層と光反射性を有する前記第2セラミックス層とをこの順番に形成することを特徴とする発光装置用基板の製造方法。
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