JP6106970B2 - 空間光変調器および露光装置 - Google Patents
空間光変調器および露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6106970B2 JP6106970B2 JP2012148813A JP2012148813A JP6106970B2 JP 6106970 B2 JP6106970 B2 JP 6106970B2 JP 2012148813 A JP2012148813 A JP 2012148813A JP 2012148813 A JP2012148813 A JP 2012148813A JP 6106970 B2 JP6106970 B2 JP 6106970B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- spatial light
- substrate
- movable
- light modulator
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 108
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 100
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 100
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 11
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 8
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 claims description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 96
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 53
- 239000010408 film Substances 0.000 description 52
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 49
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 44
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 38
- 230000008569 process Effects 0.000 description 38
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 17
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 17
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 13
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 10
- 229910010038 TiAl Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 9
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 9
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 8
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000276498 Pollachius virens Species 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
- G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
- G02B26/0841—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting element being moved or deformed by electrostatic means
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
- G03F7/70116—Off-axis setting using a programmable means, e.g. liquid crystal display [LCD], digital micromirror device [DMD] or pupil facets
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Micromachines (AREA)
Description
[特許文献1] 特開平09−101467号公報
Claims (15)
- 基板と、
前記基板の表面に配された固定電極と、
前記表面に一端を連結された連結部と、
前記連結部の他端に連結されて、前記連結部の弾性変形により前記基板に対して揺動する可動部と、
前記可動部に一端を結合されて前記基板の厚さ方向に延在し、前記可動部と一体的に揺動する支柱部と、
前記支柱部の他端に結合され、前記可動部および前記支柱部と一体的に揺動する反射部材と、
前記反射部材において前記固定電極に対向する面に配された可動電極と、
前記可動電極の膜厚よりも大きな膜厚を有して前記支柱部に配され、前記可動部および前記可動電極の間を電気的に結合する導体層と
を備え、
前記反射部材は、反射面と、前記反射面および前記可動電極の少なくとも一方の材質よりも低比重の材質から成る支持層とを有し、前記可動電極が静電引力により前記固定電極に引き付けられることで揺動する空間光変調器。 - 前記支柱部は、金属により形成される請求項1に記載の空間光変調器。
- 基板と、
前記基板の表面に配された固定電極と、
前記表面に一端を連結された連結部と、
前記連結部の他端に連結されて、前記連結部の弾性変形により前記基板に対して揺動する可動部と、
半導体層を含み、前記可動部と一体的に揺動する反射面を有する反射部材と、
前記反射部材において前記固定電極に対向する面に配され、前記半導体層に隣接する金属層からなる可動電極と、
前記半導体層および前記金属層をオーミック接合するオーミック接合部と
を備え、
前記反射部材は、前記可動電極が静電引力により前記固定電極に引き付けられることで揺動する空間光変調器。 - 前記オーミック接合部は、前記金属層に隣接する領域の少なくとも一部にドーパントをドープした、前記半導体層の一部に形成される請求項3に記載の空間光変調器。
- 前記オーミック接合部は、前記金属層に対する界面全体においてドーパントをドープされた、前記半導体層の厚さ方向の一部に形成される請求項3に記載の空間光変調器。
- 基板と、
前記基板の表面に一端を連結された連結部と、
前記連結部の他端に連結されて、前記連結部の弾性的な捩じれ変形により前記連結部を揺動軸として前記基板に対して揺動する可動部と、
前記可動部に一端を結合されて前記基板の厚さ方向に延在し、前記可動部と一体的に揺動する支柱部と、
前記支柱部の他端に結合され、前記可動部および前記支柱部と一体的に揺動する反射面を有する反射部材と、
前記反射部材において前記表面に対向する面に配された可動電極と、
前記表面において、前記連結部および前記可動部に遮られることなく前記可動電極に対向する領域に配された固定電極と
を備え、
前記反射部材は、前記可動電極が静電引力により前記固定電極に引き付けられることで揺動する空間光変調器。 - 前記固定電極は、電気的に相互に絶縁され、互いに対称的な形状を有する複数の領域を含む請求項6に記載の空間光変調器。
- 前記固定電極は、互いに同じ形状を有する複数の領域を含む請求項7に記載の空間光変調器。
- 複数の空間光変調素子を有する空間光変調器であって、
前記複数の空間光変調素子の各々は、
基板と、
前記基板の表面に配された固定電極と、
前記表面に一端を連結された連結部と、
前記連結部の他端に連結されて、前記連結部の弾性変形により前記基板に対して揺動する可動部と、
前記可動部に一端を結合されて前記基板の厚さ方向に延在し、前記可動部と一体的に揺動する支柱部と、
前記支柱部の他端に結合され、前記可動部および前記支柱部と一体的に揺動する反射面を有する反射部材と、
前記反射部材において前記固定電極に対向する面に配された可動電極と、
前記基板の表面における前記連結部および前記固定電極が配された領域よりも外側に配され、隣接する空間光変調素子との電磁的な干渉を防止する遮蔽部と
を備え、
前記反射部材は、前記可動電極が静電引力により前記固定電極に引き付けられることで揺動する空間光変調器。 - 前記遮蔽部は、導電性材料により形成される請求項9に記載の空間光変調器。
- 前記遮蔽部は、基準電圧に電気的に結合される請求項10に記載の空間光変調器。
- 前記遮蔽部は、前記複数の空間光変調素子のうちの対応する一つ縁に沿って配された遮蔽板と、前記基板上に遮蔽板を支持する支柱とを有する請求項9から11の何れか一項に記載の空間光変調器。
- 互いに隣接する空間光変調素子の前記遮蔽部同士は一体的につながっている請求項9から12の何れか一項に記載の空間光変調器。
- 基板と、
前記基板の表面に一端を連結された連結部と、
前記連結部の他端に連結されて、前記連結部の弾性的な捩じれ変形により前記基板に対して揺動する可動部と、
前記可動部と一体的に揺動する反射部材と、
前記反射部材において前記表面に対向する面に配された可動電極と、
前記表面において、前記連結部および前記可動部に遮られることなく前記可動電極に対向する領域に配され、互いに同一かつ対称的な形状を有する複数の領域を含む固定電極と、
を備え、
前記連結部が、固定枠と、可動枠と、前記可動枠を前記固定枠に対して揺動させる第1の捩じり軸部と、前記可動部を前記可動枠に対して揺動させる第2の捩じり軸部と、を有し、前記第1の捩じり軸部と前記第2の捩じり軸部の延伸方向が直交しており、前記第1の捩じり軸部と前記第2の捩じり軸部が同一の形状及び寸法で形成され、
前記反射部材は、前記可動電極が静電引力により前記固定電極に引き付けられることで揺動する空間光変調器。 - 請求項1から請求項14までの何れか一項に記載の空間光変調器を備える露光装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012148813A JP6106970B2 (ja) | 2012-07-02 | 2012-07-02 | 空間光変調器および露光装置 |
PCT/JP2013/003816 WO2014006831A1 (ja) | 2012-07-02 | 2013-06-19 | 空間光変調器および露光装置 |
KR1020167023660A KR20160104754A (ko) | 2012-07-02 | 2013-06-19 | 공간 광변조기 및 노광 장치 |
CN201380032513.4A CN104380172B (zh) | 2012-07-02 | 2013-06-19 | 空间光调制器及曝光装置 |
KR1020157002678A KR101680494B1 (ko) | 2012-07-02 | 2013-06-19 | 공간 광변조기 및 노광 장치 |
TW102123438A TWI610095B (zh) | 2012-07-02 | 2013-07-01 | 空間光調變器及曝光裝置 |
US14/588,841 US9645390B2 (en) | 2012-07-02 | 2015-01-02 | Spatial light modulator and exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012148813A JP6106970B2 (ja) | 2012-07-02 | 2012-07-02 | 空間光変調器および露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014010407A JP2014010407A (ja) | 2014-01-20 |
JP6106970B2 true JP6106970B2 (ja) | 2017-04-05 |
Family
ID=49881607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012148813A Active JP6106970B2 (ja) | 2012-07-02 | 2012-07-02 | 空間光変調器および露光装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9645390B2 (ja) |
JP (1) | JP6106970B2 (ja) |
KR (2) | KR101680494B1 (ja) |
CN (1) | CN104380172B (ja) |
TW (1) | TWI610095B (ja) |
WO (1) | WO2014006831A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6519284B2 (ja) * | 2015-04-01 | 2019-05-29 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電子機器 |
JP6492893B2 (ja) * | 2015-04-01 | 2019-04-03 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電子機器 |
CN105589202A (zh) * | 2016-03-18 | 2016-05-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示装置、显示方法和显示*** |
JP7065311B2 (ja) * | 2017-11-22 | 2022-05-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 素子チップの製造方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2075026A1 (en) * | 1991-08-08 | 1993-02-09 | William E. Nelson | Method and apparatus for patterning an imaging member |
US5650881A (en) * | 1994-11-02 | 1997-07-22 | Texas Instruments Incorporated | Support post architecture for micromechanical devices |
US5629794A (en) | 1995-05-31 | 1997-05-13 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator having an analog beam for steering light |
FR2820833B1 (fr) * | 2001-02-15 | 2004-05-28 | Teem Photonics | Micro-miroir optique a pivot, matrice de tels micro-miroirs et procede de realisation dudit micro-miroir |
KR100389865B1 (ko) | 2001-03-02 | 2003-07-04 | 삼성전자주식회사 | 마이크로미러 디바이스 및 이를 채용한 프로젝터 |
KR100413799B1 (ko) | 2001-10-09 | 2004-01-03 | 삼성전자주식회사 | 가동 미러 장치 및 이를 채용한 프로젝터 |
CN101120278A (zh) * | 2004-12-21 | 2008-02-06 | 麦克罗尼克激光***公司 | 包括半导体材料的空间光调制器 |
US7522330B2 (en) * | 2005-10-28 | 2009-04-21 | Miradia Inc. | High fill ratio silicon spatial light modulator |
US7428092B2 (en) | 2005-11-30 | 2008-09-23 | Spatial Photonics, Inc. | Fast-response micro-mechanical devices |
GB2434877A (en) * | 2006-02-06 | 2007-08-08 | Qinetiq Ltd | MOEMS optical modulator |
US20080123176A1 (en) * | 2006-08-29 | 2008-05-29 | Texas Instruments, Incorporated | Process for creating ohmic contact |
US8059329B2 (en) * | 2006-10-04 | 2011-11-15 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Display substrate and method of manufacturing the same |
US7404909B2 (en) * | 2006-12-06 | 2008-07-29 | Texas Instruments Incorporated | Mirror including dielectric portions and a method of manufacturing the same |
JP2009122155A (ja) * | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Hoya Corp | マイクロデバイス製造方法、およびマイクロデバイス |
US8314984B2 (en) * | 2008-02-14 | 2012-11-20 | Miradia Inc. | Method and system for optical MEMS with flexible landing structures |
TW201024204A (en) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Silverbrook Res Pty Ltd | Method of fabricating micro-mirror assembly |
JP5509912B2 (ja) * | 2010-02-22 | 2014-06-04 | 株式会社ニコン | 空間光変調器、照明装置、露光装置およびそれらの製造方法 |
WO2013027400A1 (ja) * | 2011-08-25 | 2013-02-28 | 株式会社ニコン | 空間光変調素子の製造方法、空間光変調素子、空間光変調器および露光装置 |
-
2012
- 2012-07-02 JP JP2012148813A patent/JP6106970B2/ja active Active
-
2013
- 2013-06-19 CN CN201380032513.4A patent/CN104380172B/zh active Active
- 2013-06-19 KR KR1020157002678A patent/KR101680494B1/ko active IP Right Grant
- 2013-06-19 KR KR1020167023660A patent/KR20160104754A/ko not_active Application Discontinuation
- 2013-06-19 WO PCT/JP2013/003816 patent/WO2014006831A1/ja active Application Filing
- 2013-07-01 TW TW102123438A patent/TWI610095B/zh active
-
2015
- 2015-01-02 US US14/588,841 patent/US9645390B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2014006831A1 (ja) | 2014-01-09 |
US20150116684A1 (en) | 2015-04-30 |
JP2014010407A (ja) | 2014-01-20 |
KR20150036313A (ko) | 2015-04-07 |
CN104380172B (zh) | 2018-04-17 |
TWI610095B (zh) | 2018-01-01 |
KR101680494B1 (ko) | 2016-11-28 |
US9645390B2 (en) | 2017-05-09 |
TW201415079A (zh) | 2014-04-16 |
CN104380172A (zh) | 2015-02-25 |
KR20160104754A (ko) | 2016-09-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5751332B2 (ja) | 空間光変調素子の製造方法、空間光変調素子、空間光変調器および露光装置 | |
JP5630015B2 (ja) | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | |
US8699116B2 (en) | Microactuator, optical device, display apparatus, exposure apparatus, and method for producing device | |
JP6106970B2 (ja) | 空間光変調器および露光装置 | |
WO2011080883A1 (ja) | 電気機械変換器、空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | |
JP2011137961A (ja) | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | |
JP5549222B2 (ja) | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | |
JP2011138888A (ja) | 電気機械変換器、空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | |
JP5509912B2 (ja) | 空間光変調器、照明装置、露光装置およびそれらの製造方法 | |
US9389439B2 (en) | Spatial light modulation element and exposure apparatus | |
JP2020187320A (ja) | 表示システム | |
TWI657315B (zh) | 空間光調變元件模組、光描繪裝置、曝光裝置、空間光調變元件模組製造方法及元件製造方法 | |
TWI646353B (zh) | Space light modulator, light drawing device, exposure device, and component manufacturing method | |
JP5573212B2 (ja) | 空間光変調素子、空間光変調素子の製造方法、照明光発生装置及び露光装置 | |
KR100691476B1 (ko) | 마이크로미러 액튜에이터 | |
JP2007024947A (ja) | 光変調素子アレイ | |
JP2016109892A (ja) | 露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150602 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160517 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160715 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161101 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161215 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170207 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170220 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6106970 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |