JP6080693B2 - パターン付き基板の製造方法、カラーフィルタ及び表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、パターン付き基板の製造方法、カラーフィルタ及び表示装置に関する。

表示装置は、高画質画像を表示する表示装置に広く利用されている。表示装置として汎用されている液晶表示装置は、カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板との間に、所定の配向により画像表示を可能とする液晶層が配置されており、この基板間隔、すなわち液晶層の厚みを均一に維持することが画質を決定する要素の一つである。そのために液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーが配設されている。
カラーフィルタは、ガラス板のような支持体上に、赤色、緑色及び青色の画素と、これら画素間を埋設する遮光用のブラックマトリックスを含む着色層を有して構成される。着色層は、画素及びブラックマトリックスによる表面の凹凸を有するので、必要に応じて、この凹凸を低減すること、着色層の保護等を目的として、樹脂を含むオーバーコート層（以下、「樹脂層」ともいう。）が形成される。この場合、上記スペーサーは、樹脂層上に形成される。
スペーサーは、カラーフィルタの着色層上に、又は樹脂層上に、感光性樹脂層を転写法により形成し、感光性樹脂層をパターン露光、アルカリ現像、及びベークして、形成されることが有利である（例えば、特許文献１参照）。転写法により感光性樹脂層を形成する方法は、感光性樹脂組成物の溶剤溶液を塗布乾燥して感光性樹脂層を形成する方法に比べて、溶剤による影響を避けることができる点で好ましい方法である。

スペーサーは、着色層又は樹脂層と接する面積が微小なため、着色層又は樹脂層との密着性に優れていることが要求される。
上記スペーサーの場合と同様に、一般に、パターンを基板表面に形成する場合においては、パターンが基板表面と高い密着性を保持して形成されることが要求されており、特に、近年の微細化の要請に伴い、上記の密着性の要求度合は益々高まっている。

上記の密着性を改善する方法として、カラーフィルタの画素を形成するために使用されるカラーフィルタ用着色感光性組成物に含まれる、光重合性モノマーと非感光性樹脂及び／又は感光性樹脂との比率を、特定の範囲とすることが提案されている（例えば、特許文献２参照）。このようなカラーフィルタ用着色感光性組成物を用いて形成された着色層を１０００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で紫外線洗浄した表面は、純水との接触角が７５度以上１００度以下の範囲となり、この上に樹脂層を形成した場合に、高い接着力を有することが記載されている。更に、上記樹脂層に代えて、スペーサーを形成した場合においても、高い密着力を示すと記載されている（特許文献２の段落００１５参照）。
別の密着性を改善する方法として、例えば特許文献３に記載されているように、アミノシランカップリング剤のようなカップリング剤で処理する方法を応用することが考えられる。即ち、カラーフィルタの着色層上に設けられた樹脂層の表面を、アミノシランカップリング剤のようなカップリング剤で処理したのち、スペーサーを形成する方法が考えられる。

特開２０１０−５５０５４号公報 特開２００９−３００５６４号公報 特開平１−２２３４１６号公報

しかしながら、上記のように基板表面を処理してから、スペーサーのようなパターンを形成しても、満足できる程度に十分な接着力を有するパターンを基板表面に形成することは困難であった。即ち、基板表面を紫外線照射して接触角を調整した後にパターンを形成した場合、及び、基板表面をカップリング剤で処理した後にパターンを形成した場合のいずれの場合においても、満足できる程度に高い接着力を有するパターンを基板表面に形成することは困難であった。
更に、上記のように基板表面を処理してから、パターン形成用感光性樹脂層を転写法により形成しようとしても、転写すること自体が困難である場合もあった。
従って、本発明は、基板上に転写法によりパターン形成する場合に、基板に対して高い接着力を有するパターンが得られる、パターン付き基板の製造方法を提供することを課題とする。
更に、本発明は、上記パターン付き基板を含むカラーフィルタ、及びそのカラーフィルタを備えた表示装置を提供することを課題とする。

上記課題は、以下の本発明によって達成される。
＜１＞ 塩基性基を有する表面処理剤で基板の表面を処理することを含み、表面の水接触角が４２度以上６５度以下である基板を調製する基板表面処理工程と、前記基板の表面に、転写法により感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層をパターン露光及び現像してパターンを形成するパターン形成工程と、をこの順で含むパターン付き基板の製造方法。

＜２＞ 前記基板表面処理工程は、前記表面処理剤で処理する前に、前記基板の表面を紫外線照射することを含む＜１＞に記載のパターン付き基板の製造方法。
＜３＞ 前記感光性樹脂層形成工程が、仮支持体上に感光性樹脂層を有する感光性樹脂転写材料を用いて、前記基板の表面処理剤で処理した表面に前記感光性樹脂転写材料の感光性樹脂層が接するようにして、前記感光性樹脂転写材料を重ねること、及び前記仮支持体を剥離して、前記基板の表面上に前記感光性樹脂層を転写することを含む＜１＞又は＜２＞に記載のパターン付き基板の製造方法。
＜４＞ 前記感光性樹脂層形成工程における感光性樹脂層が、側鎖に酸性基を有する樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、及び光重合開始剤（Ｃ）を含む＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載のパターン付き基板の製造方法。
＜５＞ 前記パターン形成工程における現像を、アルカリ現像液を用いて行う＜１＞〜＜４＞いずれか一項に記載のパターン付き基板の製造方法。

＜６＞ 前記基板は、支持体と樹脂層とを有し、前記表面は、前記樹脂層の表面である＜１＞〜＜５＞のいずれか一項に記載のパターン付き基板の製造方法。
＜７＞ 前記基板が、支持体上に、複数の着色画素及びブラックマトリックスを含む着色層を有するカラーフィルタ基板である＜１＞〜＜６＞のいずれか一項に記載のパターン付き基板の製造方法。
＜８＞ 前記パターンが、スペーサーである＜７＞に記載のパターン付き基板の製造方法。
＜９＞ ＜７＞又は＜８＞に記載のパターン付き基板の製造方法によって製造されたパターン付き基板を含むカラーフィルタ。
＜１０＞ ＜９＞に記載のカラーフィルタを備えた表示装置。

本発明によれば、基板上に転写法によりパターン形成する場合に、基板に対して高い接着力を有するパターンが得られる、パターン付き基板の製造方法が提供される。更に、本発明によれば、上記パターン付き基板を含むカラーフィルタ、及びそのカラーフィルタを含む表示装置が提供される。

本発明によるパターン付き基板の製造方法により作製されたパターン付き基板において、パターンが基板の表面への高い接着力を有するという理由は、必ずしも明らかではないが、以下のような理由によるものと推定される。
塩基性基を有する表面処理剤で処理された基板表面には、表面処理剤に由来する塩基性基が存在する。更に、基板表面の水接触角は、基板表面に存在する水酸基のような親水性基の単位面積当たりの量と相関関係があるものと推定されるので、水接触角の値により、親水性基の単位面積当たりの量が特定されるものと推定される。従って、基板表面の水接触角が４２度以上６５度以下であると特定されることによる、基板表面に存在する親水性基の単位面積当たりの量と、塩基性基を有する表面処理剤で処理されることによる基板表面に塩基性基が存在することの両者が相俟って、その上に設けられるパターンが高い接着力を有するという効果をもたらすものと思われる。
特に、基板表面を紫外線照射した後、塩基性基を有する表面処理剤で処理した場合には、基板表面と塩基性基とが強固に結合したものとなり、この塩基性基と、その上に設けられるパターンを構成する成分（例えば、側鎖にカルボキシル基のような酸性基を有する樹脂）とが相互作用により強固に密着しているものと思われる。このことは、本発明に係る基板表面処理工程が施された基板表面においては、転写法により形成される感光性樹脂層と基板表面との間の接着力が高く、転写法により感光性樹脂層を良好に転写することができ、かつ本発明に係るパターン形成工程における現像時においても、パターンが基板表面から脱落することがない、という事実からも裏付けられる。

以下、本発明のパターン付き基板の製造方法、その製造方法によって作製されたパターン付き基板を含むカラーフィルタ、及びそのカラーフィルタを含む表示装置について詳細に説明する。

＜パターン付き基板の製造方法＞
本発明に係るパターン付き基板の製造方法は、基板の表面を、塩基性基を有する表面処理剤で表面処理することを含む、水接触角が４２度以上６５度以下の表面を有する基板を調製する基板表面処理工程、前記基板の表面上に、転写法により感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程、及び前記感光性樹脂層をパターン露光及び現像してパターンを形成するパターン形成工程、をこの順で含む。
［基板表面処理工程］
基板表面処理工程は、塩基性基を有する表面処理剤で基板の表面を表面処理することを含み、本工程で表面処理された基板の表面は、水接触角が４２度以上６５度以下である。
基板表面処理工程で処理される基板は、その表面にパターンが形成されるものであれば、いかなるものであってもよい。
特に好ましい基板には、カラーフィルタ基板が含まれる。
カラーフィルタ基板は、ガラス板のような支持体上に、複数の着色画素及びブラックマトリックスを含む着色層を有する。着色層上には、所望により、樹脂層が設けられる。
樹脂層は、上記着色層の表面を平坦化するための平坦化層として、着色層を保護する保護層として、又はその他の機能を付与するための層として設けられる。
このような樹脂層は、一般的に有機樹脂層からなり、その素材としては、例えば、特許第５１３４９８２号公報に記載されているような熱硬化型樹脂組成物を熱硬化したものが挙げられる。

本発明に係る基板表面処理工程は、塩基性基を有する表面処理剤で基板の表面を表面処理することを含み、基板表面処理工程を受けた基板の表面は、水接触角が４２度以上６５度以下である必要がある。
基板が、例えば、上記のような樹脂層を有するカラーフィルタ基板である場合、樹脂層の表面を、塩基性基を有する表面処理剤で処理しただけでは、樹脂層の表面の水接触角が４２度以上６５度以下を示すものを調製することは困難である場合が多い。そのような場合には、塩基性基を有する表面処理剤で処理する前に、樹脂層の表面を紫外線照射し、引き続いて塩基性基を有する表面処理剤で処理する。これにより、樹脂層の表面の水接触角が４２度以上６５度以下を示すカラーフィルタ基板が得られる。
樹脂層の表面の水接触角が４２度より小さい場合、又は６５度より大きい場合には、感光性樹脂層転写工程における感光性樹脂層の転写が困難であるか、又は、仮に転写が可能であっても、パターン形成工程における現像により、パターンとして残るべき部分も消失してパターンが形成されない。
上記の水接触角は、５３度以上６５度以下がより好ましく、５７度以上６５度以下が更に好ましい。
本発明の好ましい態様においては、上記の紫外線照射が行われる。基板の表面、特にその表面が樹脂層の表面の場合には、紫外線照射し、次いで塩基性基を有する表面処理剤で処理することにより、その上に形成されるパターンの接着力がより一段と高いものを得ることができる。

〈紫外線照射〉
上記紫外線照射の光源としては、１０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長を含むものが使用され、１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の波長を含むものが好ましく、１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の波長を含むものが特に好ましい。
紫外線照射は、照射強度が３３ｍＷ／ｃｍ^２以上２００ｍＷ／ｃｍ^２以下、好ましくは４０ｍＷ／ｃｍ^２以上１００ｍＷ／ｃｍ^２以下、更に好ましくは５０ｍＷ／ｃｍ^２以上８０ｍＷ／ｃｍ^２以下で行なわれる。
紫外線照射の照射量は、引き続く塩基性基を有する表面処理剤で処理した表面の水接触角が４２度以上６５度以下となるに選ばれる。好ましくは、水接触角が５３度以上６５度以下の範囲、更に好ましくは５７度以上６５度以下の範囲となるように、紫外線照射の照射量が選定される。
紫外線照射の照射量エネルギーの目安を示せば、例えば３００ｍＪ／ｃｍ^２以上６５０ｍＪ／ｃｍ^２以下の範囲となる。
このような紫外線照射を行う光源の好ましい一例としては、エキシマランプが挙げられる。

〈塩基性基を有する表面処理剤〉
本発明に係る基板表面処理工程は、塩基性基を有する表面処理剤で基板の表面を処理することを含む。
上記表面処理剤の塩基性基としては、アミノ基が好ましいものとして挙げられる。
塩基性基を有する表面処理剤は、塩基性基に加えて、好ましくは基板の表面と反応する官能基を有する。基板の表面と反応する官能基には、例えばシラノール基などが含まれる。
塩基性基を有する表面処理剤の好ましい一群には、例えば、塩基性基を有するシランカップリング剤が挙げられる。このような塩基性基を有するシランカップリング剤の具体例を以下に列挙する。

二官能のシランカップリング剤として、例えば、Ｎ−［３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル］−３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、４−アミノブチルメチルジエトキシシラン、１１−アミノウンデシルメチルジエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジス（メトキシエトキシエトキシ）シラン、３−（ｍ−アミノフェノキシ）プロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノメチルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−１１−アミノウンデシルメチルジメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルメチルジメトキシシラン、Ｎ−３−［（アミノ（ポリプロピレンオキシ））］アミノプロピルメチルジメトキシシラン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルメチルジエトキシシランなどが挙げられる。

三官能のシランカップリング剤として、例えば、Ｎ−［３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル］−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、１１−アミノウンデシルトリエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリス（メトキシエトキシエトキシ）シラン、３−（ｍ−アミノフェノキシ）プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−１１−アミノウンデシルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノメチルトリエトキシシラン、（シクロヘキシルアミノメチル）トリエトキシシラン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。

塩基性基を有する表面処理剤で基板の表面を処理する方法としては、塩基性基を有する表面処理剤を、良溶媒（例えば、メタノール等のアルコール）に溶解した溶液を、基板の表面に、スピン塗布、ロール塗布、スプレイ塗布等の公知の塗布方式で塗布するか、又は、上記の溶液に基板を浸漬する等の方法が含まれる。
塩基性基を有する表面処理剤の溶液の濃度は、上記表面処理剤の濃度が０．１質量％以上０．５質量％以下のものが好ましい。
また、処理時の温度は、５℃以上４０℃以下の範囲が好ましい。
浸漬による処理の場合、浸漬する時間は、１０秒以上３分間以下が好ましい。
浸漬後は、３０秒間〜５分間、５度〜４０度の水で水洗することが好ましい。
水洗後は、８０℃〜１３０℃の温度で３０秒〜５分間乾燥することが好ましい。

［感光性樹脂層形成工程］
上記のようにして基板表面処理工程を受けた基板の表面には、転写法により、感光性樹脂層が設けられる。この感光性樹脂層に対して、後述するパターン形成工程が行われて、基板上にパターンが形成される。
このようなパターンを形成するための感光性樹脂層の好ましい一例には、フォトスペーサーが含まれる。以下、感光性樹脂層がフォトスペーサーの場合について主に説明するが、本発明はこれに限られるものではない。

〈感光性樹脂転写材料〉
基板の表面に、転写により感光性樹脂層を設けるには、別途製造された感光性樹脂転写材料を用いることが好ましい。
このような感光性樹脂転写材料は、仮支持体上に感光性樹脂層が設けられた構成を有する。仮支持体と感光性樹脂層との間には、熱可塑性樹脂層及び／又は中間層を含むことが好ましい。熱可塑性樹脂層及中間層を含む場合、仮支持体側から順に、熱可塑性樹脂層及中間層を含むことが好ましい。更に、感光性樹脂層の表面には、カバーフイルムを設けることが好ましい。
上記熱可塑性樹脂層を有する感光性樹脂転写材料を使用することにより、基板の表面に凹凸があっても、その凹凸に沿って感光性樹脂層を密着させて転写することが容易となる。
上記中間層は、酸素バリヤー層としての機能を有するものが用いられる。このような中間層を有する感光性樹脂転写材料を用いた場合には、後述のパターン形成工程におけるパターン露光時に、酸素による感光性樹脂層の硬化阻害を低減される。
上記カバーフイルムを設けることにより、感光性樹脂転写材料を取り扱う際に感光性樹脂層が損傷することを低減し、更に、保存中の感光性樹脂転写材料の感光性樹脂層の劣化を低減することが可能となる。
感光性樹脂転写材料を構成する仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、カバーフイルム、その他の層や、感光性樹脂転写材料の作製方法については、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００２４］〜［００３０］に記載の構成、作製方法と同様である。

（感光性樹脂層）
感光性樹脂転写材料の感光性樹脂層は、パターンを形成するためのものであれば、いかなるものであってもよいが、後述のパターン形成工程における現像をアルカリ現像液を用いて行うことができるものであることが好ましい。このような感光性樹脂層を構成する感光性組成物は、側鎖に酸性基を有する樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、及び光重合開始剤（Ｃ）を少なくとも含有する。また、必要に応じて、着色剤や界面活性剤などのその他の成分を用いて構成することができる。

―樹脂（Ａ）―
樹脂（Ａ）は側鎖に酸性基を有する。側鎖に酸性基を有するとは、側鎖に酸性基を有する構造単位（基）を有することをいい、該酸性基が主鎖に直接結合する形態であっても、後述の酸性基を有する単量体の具体例に示されるように、酸性基が連結基を介して結合してもよいことを含む。
また、上記同様に下記エチレン性不飽和基を有する基とは、側鎖にエチレン性不飽和基を有する構造単位（基）を有することをいい、該エチレン性不飽和基が主鎖に直接結合する形態であっても、後述のエチレン性不飽和基を有する単量体の具体例に示されるように、エチレン性不飽和基が連結基を介して結合してもよいことを含む。
また樹脂（Ａ）はより好ましくは、酸性基を有する基（構造単位）：Ｙ（ｙモル％）の他、側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基（構造単位）：Ｘ（ｘモル％）と、エチレン性不飽和基を有する基（構造単位）：Ｚ（ｚモル％）を含有してなり、必要に応じてその他の基（Ｌ）（ｌモル％）を有していてもよい。また、樹脂（Ａ）中のひとつの基の中にＸ，Ｙ，及びＺが複数組み合わされていてもよい。

前記酸性基としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基、リン酸基、フェノール性水酸基等が挙げられる。これらの中でも、現像性、及び硬化膜の耐水性が優れる点から、カルボキシ基、フェノール性水酸基であることが好ましい。

前記側鎖に酸性基を有するために用いられる単量体としては、特に制限はなく、スチレン類、（メタ）アクリレート類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類などが挙げられ、（メタ）アクリレート類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類が好ましく、さらに好ましくは（メタ）アクリレート類である。

前記側鎖に酸性基を有する単量体の具体例としては、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、α−シアノ桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは、適宜製造したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。

前記水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物に用いられる水酸基を有する単量体としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。前記環状酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。これらの中でも現像性に優れ、低コストである点で（メタ）アクリル酸等が好ましい。

前記「側鎖にエチレン性不飽和基」としては、特に制限はなく、エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基が好ましい。また、エチレン性不飽和基と単量体との連結はエステル基、アミド基、カルバモイル基などの２価の連結基であれば特に制限はない。側鎖にエチレン性不飽和基を導入する方法は公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、酸性基を持つ基にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、ヒドロキシル基を持つ基にイソシアネート基を持つ（メタ）アクリレートを付加した付加する方法、イソシアネート基を持つ基にヒドロキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法などが挙げられる。
その中でも、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法が最も製造が容易であり、低コストである点で好ましい。

前記エチレン性不飽和結合及びエポキシ基を有する（メタ）アクリレートとしては、これらを有すれば特に制限はない。

前記その他の単量体としては、特に制限はなく、例えば分岐および／または脂環構造をもたない（メタ）アクリル酸エステル、スチレン、ビニルエーテル、二塩基酸無水物基、ビニルエステル基、炭化水素アルケニル基等を有する単量体などが挙げられる。
前記ビニルエーテル基としては、特に制限はなく、例えば、ブチルビニルエーテル基などが挙げられる。

前記二塩基酸無水物基としては、特に制限はなく、例えば、無水マレイン酸基、無水イタコン酸基などが挙げられる。
前記ビニルエステル基としては、特に制限はなく、例えば、酢酸ビニル基などが挙げられる。
前記炭化水素アルケニル基としては、特に制限はなく、例えば、ブタジエン基、イソプレン基などが挙げられる。

前記樹脂（Ａ）におけるその他の単量体の含有率としては、モル組成比が、０〜３０ｍｏｌ％であることが好ましく、０〜２０ｍｏｌ％であることがより好ましい。

樹脂（Ａ）の具体例としては、例えば、特開２００８−１４６０１８号公報の段落番号［００５７］〜［００６３］に記載される化合物Ｐ−１〜Ｐ−３５で表される化合物が挙げられる。

前記樹脂（Ａ）は、モノマーの（共）重合反応の工程とエチレン性不飽和基を導入する工程の二段階の工程から作られる。 まず、（共）重合反応は種々のモノマーの（共）重合反応によって作られ、特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、重合の活性種については、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、配位重合などを適宜選択することができる。これらの中でも合成が容易であり、低コストである点からラジカル重合であることが好ましい。また、重合方法についても特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、バルク重合法、懸濁重合法、乳化重合法、溶液重合法などを適宜選択することができる。これらの中でも、溶液重合法であることがより望ましい。

樹脂（Ａ）として好適な前記共重合体の重量平均分子量は、１０，０００〜１０万が好ましく、１２，０００〜６万が更に好ましく、１５，０００〜４．５万が特に好ましい。重量平均分子量が前記範囲内であると、共重合体の製造適性、現像性の点で望ましい。また、溶融粘度の低下により形成された形状が潰れ難い点で、また、架橋不良となり難い点、現像後のスペーサー形状が良好である（スペーサーの周囲に残渣がない）点で好ましい。

樹脂（Ａ）として好適なガラス転移温度（Ｔｇ）は、４０〜１８０℃であることが好ましく、４５〜１４０℃であることはより好ましく、５０〜１３０℃であることが特に好ましい。ガラス転移温度（Ｔｇ）が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度を有するフォトスペーサーが得られる。

樹脂（Ａ）として好適な酸価はとりうる分子構造により好ましい範囲は変動するが、一般には２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることはより好ましく、７０〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。酸価が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度を有するフォトスペーサーが得られる。

前記樹脂（Ａ）のガラス転移温度（Ｔｇ）が４０〜１８０℃であり、かつ重量平均分子量が１０，０００〜１００，０００であることが良好な現像性、力学強度を有するフォトスペーサーが得られる点で好ましい。
更に、前記樹脂（Ａ）の好ましい例は、好ましい前記分子量、ガラス転移温度（Ｔｇ）、及び酸価のそれぞれの組合せがより好ましい。

本発明における樹脂（Ａ）は、前記側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基：Ｘ（ｘモル％）と、酸性基を有する基：Ｙ（ｙモル％）と、エチレン性不飽和基を有する基：Ｚ（ｚモル％）とをそれぞれ別の共重合単位に有する少なくとも３元共重合以上の共重合体であることが変形回復率、現像残渣、耐振動性、レチキュレーションの観点から好ましい。具体的には、前記Ｘ，Ｙ，Ｚを構成する各々の単量体を少なくとも１つ共重合させてなる共重合体が好ましい。
前記樹脂（Ａ）の前記各成分の共重合組成比については、ガラス転移温度と酸価を勘案して決定され、一概に言えないが、「側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基」は１０モル％〜７０モル％が好ましく、１５モル％〜６５モル％が更に好ましく、２０モル％〜６０モル％が特に好ましい。側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基が前記範囲内であると、良好な現像性が得られると共に、画像部の現像液耐性も良好である。
また、「側鎖に酸性基を有する基」は５モル％〜７０モル％が好ましく、１０モル％〜６０モル％が更に好ましく、２０モル％〜５０モル％が特に好ましい。側鎖に酸性基を有する基が前記範囲内であると、良好な硬化性、現像性が得られる。
また、「側鎖にエチレン性不飽和基を有する基」は１０モル％〜７０モル％が好ましく、２０モル％〜７０モル％が更に好ましく、３０モル％〜７０モル％が特に好ましい。側鎖にエチレン性不飽和基を有する基が前記範囲内であると、顔料分散性に優れると共に、現像性及び硬化性も良好である。

前記樹脂（Ａ）の含有量としては、前記感光性組成物全固形分に対して、５質量％〜７０質量％が好ましく、１０質量％〜５０質量％がより好ましい。樹脂（Ａ）は後述のその他の樹脂を含有することができるが、樹脂（Ａ）のみが好ましい。

前記樹脂（Ａ）と併用することができる樹脂としては、アルカリ性水溶液に対して膨潤性を示す化合物が好ましく、アルカリ性水溶液に対して可溶性である化合物がより好ましい。
アルカリ性水溶液に対して膨潤性又は溶解性を示す樹脂としては、例えば、酸性基を有するものが好適に挙げられ、具体的には、エポキシ化合物にエチレン性不飽和二重結合と酸性基とを導入した化合物（エポキシアクリレート化合物）、側鎖に（メタ）アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体、エポキシアクリレート化合物と、側鎖に（メタ）アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体との混合物、マレアミド酸系共重合体、などが好ましい。
前記酸性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、などが挙げられ、これらの中でも、原料の入手性などの観点から、カルボキシル基が好ましく挙げられる。

前記樹脂（Ａ）と併用することができる樹脂との合計の含有量としては、前記感光性組成物全固形分に対して、５質量％〜７０質量％が好ましく、１０質量％〜５０質量％がより好ましい。該固形分含有量が、５質量％未満であると、後述する感光層の膜強度が弱くなりやすく、該感光層の表面のタック性が悪化することがあり、７０質量％を超えると、露光感度が低下することがある。なお、前記含有量は、固形分含有量のことを示している。

―重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及びその他の成分―
重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び感光性組成物に所望により含有させるその他の成分としては、公知の重合性組成物における重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び感光性組成物に所望により含有させるその他の成分を好適に用いることができ、例えば、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００１０］〜［００２０］に記載の成分や、特開２００６−６４９２１号公報の段落番号［００２７］〜［００５３］に記載の成分が挙げられる。

前記樹脂（Ａ）との関係において、重合性化合物（Ｂ）の樹脂（Ａ）に対する質量比率（（Ｃ）／（Ｂ）比）が０．５〜２．０であることが好ましく、０．６〜１．４であることはより好ましく、０．７〜１．２であることが特に好ましい。（Ｃ）／（Ｂ）比が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性及び力学強度を有するフォトスペーサーが得られる。
前記光重合開始剤（Ｃ）の含有量としては、樹脂（Ａ）に対して０．１質量％〜２０質量％が好ましく、０．５質量％〜１０質量％がより好ましい。

本発明においては、上記前記感光性組成物がフォトスペーサ用のものであることが、本発明による効果が最も発揮されるので、特に好ましく用いられる。このようなフォトスペーサー用の感光性組成物の好ましいものは、例えば特開２０１０−２３７５８９号公報に記載されているものが挙げられる。

〈感光性樹脂転写材料を用いた感光性樹脂層の転写〉
感光性樹脂転写材料を用いて、基板の表面に感光性樹脂転写材料の感光性樹脂層を転写するには、以下のようにして行われる。
先ず、感光性樹脂転写材料がカバーフイルムを有する場合には、カバーフイルムを剥離して、その下の感光性樹脂層の表面を露出させる。
次に、上記の露出した感光性樹脂層の表面が基板の表面と接するようにして、基板と感光性樹脂転写材料とを加熱及び／又は加圧によりラミネートする。
次に、ラミネートして得られた積層体から、感光性樹脂転写材料の仮支持体を剥離する。これにより、感光性樹脂転写材料の感光性樹脂層が基板の表面に転写される。このとき、感光性樹脂転写材料が前述の熱可塑性樹脂層及び／又は中間層を有する場合には、熱可塑性樹脂層及び／又は中間層も、基板の表面に転写される。即ち、基板の表面には、感光性樹脂層とその上にある中間層及び／又は熱可塑性樹脂層が共に転写される。なお、中間層及び熱可塑性樹脂層を有する場合には、基板の表面から、順に、感光性樹脂層、中間層及び熱可塑性樹脂層を有する。
上記のラミネートは、具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネーター及びラミネート方法が挙げられ、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。

［パターン形成工程］
本発明に係るパターン形成工程は、上記のようにして基板の表面に転写された感光性樹脂層をパターン露光及び現像することを含む。
パターン形成工程としては、例えば特開２００６−６４９２１号公報の段落番号［００７１］〜［００７７］に記載の形成例や、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００４０］〜［００５１］に記載の工程などが、本発明においても好適な例として挙げられる。

例えば、カラーフィルタ基板の表面にスペーサーを形成する場合には、スペーサーを形成するためのマスクを介して、市販のプロキシミティー型露光機（例えば、日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）を用いて露光することが好ましい。パターン露光に使用される高原としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、感光性樹脂層の感度に合わせて、適宜選択（例えば、３００ｍＪ／ｃｍ^２）される。
パターン露光した感光性樹脂層は、次いで、現像する。
現像は、公知の方法でおこなうことができる。例えば、現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。前記現像の前には、純水をシャワーノズル等にて噴霧して、感光性樹脂組成物層、中間層、及び／又は熱可塑性樹脂層の表面を均一に湿らせることが好ましい。

上記現像液に使用されるアルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の濃度は、０．０１〜３０質量％が好ましく、現像液のｐＨは８以上１４以下の範囲が好ましい。

上記現像液に使用される「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１〜３０質量％が好ましい。更に、公知の界面活性剤を添加することもでき、該界面活性剤の濃度としては０．０１〜１０質量％が好ましい。

前記現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。感光性樹脂組成物層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を適宜組み合わせることができる。
現像時の現像液の温度は、通常室温（２０℃）付近から４０℃が好ましい。現像時間は、感光性樹脂層の組成、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常１０秒間以上２分間以下である
このようにして、基板の表面にパターンが形成される。

基板上に転写された感光性樹脂層の上に、中間層及び／又は熱可塑性樹脂層を有する場合には、上記の現像に先立って、中間層及び／又は熱可塑性樹脂層を除去する処理を行うことが好ましい。このような除去に使用される処理液としては、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機アルカリ性物質を含む水溶液が好ましい。更に、有機アルカリ性物質を含む水溶液には、ベンジルアルコールのような水と混和性の有機溶剤、ｎ−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウムのようなアニオン性界面活性剤を含有させたものでもよい。
上記のような処理液を中間層及び／又は熱可塑性樹脂層にシャワリングすることにより、中間層及び／又は熱可塑性樹脂層は除去されて、その下にある感光性樹脂層が露出される。
その後、エアを吹きかけて処感光性樹脂層の表面に付着する処理液を液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間洗浄し、更にエアを吹きかけて処感光性樹脂層の表面に残る純水を液切りしてから、前述の現像を行う。現像後に、更に、水洗工程を入れることも可能である。

前記現像によって得られたパターンを、更に加熱処理（ベーク処理ともいう）してもよい。この加熱処理により、パターンの強度を向上させることができる。
加熱処理の方法としては、従来公知の種々の方法を用いることができる。すなわち、例えば、複数枚の基板をカセットに収納してコンベクションオーブンで処理する方法、ホットプレートで１枚ずつ処理する方法、赤外線ヒーターで処理する方法、等である。
また、ベーク温度（加熱温度）としては、通常１５０〜２８０℃であり、好ましくは１８０〜２５０℃である。加熱時間は、前記ベーク温度によって変動するが、ベーク温度を２４０℃とした場合には、１０〜１２０分が好ましく、３０〜９０分がより好ましい。

上記加熱処理の前に、ポスト露光を行なってもよい。
ポスト露光に用いる光源としては、感光性樹脂層が有する感光波長を含む光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。
具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
露光量としては、前記露光を補う露光量であればよく、通常は５０ｍＪ／ｃｍ^２〜５０００ｍＪ／ｃｍ^２であり、好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ^２〜２０００ｍＪ／ｃｍ^２、更に好ましくは５００ｍＪ／ｃｍ^２〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２である。
以上のようにして、基板上にパターンが形成される。

＜表示装置＞
上記のようにして製造されたスペーサーをパターンとして有するカラーフィルタを用いた表示装置について、液晶表示装置の場合を例に説明する。
液晶表示装置の１つとして、少なくとも一方が光透過性の一対の支持体（本発明の液晶表示装置用基板を含む。）間に液晶層と液晶駆動手段（単純マトリックス駆動方式及びアクティブマトリックス駆動方式を含む。）を少なくとも備えたものが挙げられる。

この場合、本発明の液晶表示装置用基板は、前述のスペーサーをパターンとして有するカラーフィルタ基板が用いられる。このカラーフィルタ基板を備えた液晶表示素子は、カラーフィルタ基板と対向基板との間にセルギャップムラ（セル厚変動）の発生が抑えられ、色ムラ等の表示ムラの発生を効果的に防止することができる。これにより、作製された液晶表示素子は鮮やかな画像を表示できる。

また、液晶表示素子の別の態様として、少なくとも一方が光透過性の一対の支持体（そのうちの少なくとも一方は、本発明により製造されたパターン付き基板である。）間に、液晶層と液晶駆動手段とを少なくとも備え、前記液晶駆動手段がアクティブ素子（例えばＴＦＴ）を有し、かつ一対の基板間が高さ均一で変形回復性に優れたスペーサーにより所定幅に規制して構成されたものである。

本発明において使用可能な液晶としては、ネマチック液晶、コレステリック液晶、スメクチック液晶、強誘電液晶が挙げられる。
また、前記カラーフィルタ基板の前記画素群は、互いに異なる色を呈する２色の画素からなるものでも、３色の画素、４色以上の画素からなるものであってもよい。例えば３色の場合、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の３つの色相で構成される。ＲＧＢ３色の画素群を配置する場合には、モザイク型、トライアングル型等の配置が好ましく、４色以上の画素群を配置する場合にはどのような配置であってもよい。カラーフィルタ基板の作製は、例えば２色以上の画素群を形成した後既述のようにブラックマトリックスを形成してもよいし、逆にブラックマトリックスを形成した後に画素群を形成するようにしてもよい。ＲＧＢ画素の形成については、特開２００４−３４７８３１号公報等を参考にすることができる。

液晶表示装置における液晶表示モードとしては、ＳＴＮ型、ＴＮ型、ＧＨ型、ＥＣＢ型、強誘電性液晶、反強誘電性液晶、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＯＣＢ型、ＡＳＭ型、その他種々のものが好適に挙げられる。中でも、本発明の液晶表示装置においては、最も効果的に本発明の効果を奏する観点から、液晶セルのセル厚の変動により表示ムラを起こし易い表示モードが望ましく、セル厚が２〜４μｍであるＶＡ型表示モード、ＩＰＳ型表示モード、ＯＣＢ型表示モードに構成されるのが好ましい。

本発明の液晶表示装置の基本的な構成態様としては、（ａ）薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の駆動素子と画素電極（導電層）とが配列形成された駆動側基板と、対向電極（導電層）を備えた対向基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成したもの、（ｂ）駆動基板と、対向電極（導電層）を備えた対向基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成したもの、等が挙げられ、本発明の液晶表示装置は、各種液晶表示機器に好適に適用することができる。

液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、側工業調査会、１９９４年発行）」に記載がある。本発明の液晶表示装置には、本発明の液晶表示装置用基板又は前記液晶表示素子を備える以外に特に制限はなく、例えば前記「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載された種々の方式の液晶表示装置に構成することができる。中でも特に、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置を構成するのに有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）、１９９６年発行）」に記載がある。

本発明の液晶表示装置は、既述の本発明により製造されたパターン付き基板を備える以外は、電極基板、偏光フイルム、位相差フイルム、バックライト、スペーサー．視野角補償フイルム、反射防止フイルム、光拡散フイルム、防眩フイルムなどの様々な部材を用いて一般的に構成できる。これら部材については、例えば「’９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島健太郎、（株）シーエムシー、１９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表良吉、（株）富士キメラ総研、２００３等発行）」に記載されている。

以上、本発明のパターン付き基板の製造方法について、主に、基板がカラーフィルタ基板の場合について説明したが、本発明のパターン付き基板の製造は、カラーフィルタ基板以外の基板にも適用できる。例えば、タッチパネルを作製する工程で使用される基板、ＥＬ素子を作製する工程で使用される基板などが挙げられる。

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」及び「部」は質量基準である。

（実施例１）
〈スペーサー用感光性樹脂転写材料の作製〉
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（ＰＥＴ仮支持体）上に、下記処方Ａを有する熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し、１００℃で２分間乾燥した後、更に１２０℃で１分間乾燥して、乾燥後の層厚が１８μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。ここで、乾燥条件における温度「１００℃」及び「１２０℃」は、いずれも乾燥風の温度である。以下の乾燥条件における温度も同様である。

〔処方Ａ〕（熱可塑性樹脂層用塗布液）
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（＝５５／１１．７／４．５／２８．８［モル比］、重量平均分子量９０，０００） … ５８．４部
・スチレン／アクリル酸共重合体（＝６３／３７［モル比］、重量平均分子量８，０００） … １３６部
・２，２−ビス〔４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル〕プロパン
… ９０．７部
・界面活性剤溶液１（下記） … ５．４部
・メタノール … １１１部
・１−メトキシ−２−プロパノール … ６３．４部
・メチルエチルケトン … ５３４部

＊界面活性剤溶液１
・下記構造物１ … ３０％
・メチルエチルケトン … ７０％

次に、上記熱可塑性樹脂層上に、下記処方Ｂからなる中間層用塗布液を塗布し、８０℃で１分間乾燥した後、更に１２０℃で１分間乾燥して、乾燥後の層厚が１．６μｍの中間層を積層した。

〔処方Ｂ〕＜中間層用塗布液＞
・ポリビニルアルコール＜ＰＶＡ−２０５、鹸化率８８％、（株）クラレ製＞
… ３．２２部
・ポリビニルピロリドン＜ＰＶＰ Ｋ−３０、アイエスピー・ジャパン株式会社製＞
… １．４９部
・メタノール … ４２．９部
・蒸留水 … ５２．４部

次に、上記中間層上に、下記処方Ｃからなる感光性樹脂層用塗布液を塗布した後、１００℃で２分間乾燥し、更に１２０℃で１分間乾燥して、乾燥後の層厚が３．０μｍの感光性樹脂層を積層した。

〔処方Ｃ〕＜感光性樹脂層用塗布液＞
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート … ４４４．９部
・メチルエチルケトン … ２３０．９部
・ソルスパース２００００（アシビア製） … ３．１８０部
・樹脂溶液＜下記Ｐ−２５の構造単位（ｘ：ｌ：ｙ：ｚの比は、モル基準。）を含むポリマー（重量平均分子量＝３．５万）４５部、１−メトキシ−２−プロピルアセテート１５部、及び１−メトキシ−２−プロパノール４０部＞ … １９０．１部
・重合性化合物の混合物溶液Ｂ１−１＜ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：３８％、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート：３８％、及び１−メトキシ−２−プロピルアセテート：２４％＞ … ２７．０２部
・下記重合性化合物の混合物Ｂ２−１＜ｎ＝１：トリペンタエリスリトールオクタアクリレート含有率８５％、不純物としてｎ＝２及びｎ＝３の合計が１５％＞
… ３４．０１部
・ウレタン系モノマー＜ＮＫオリゴＵＡ−３２Ｐ 新中村化学（株）製：不揮発分７５％、１−メトキシ−２−プロピルアセテート：２５％＞ … １２．８３部
・光重合開始剤＜イルガキュア３７９ＥＧ（ＢＡＳＦ社製）＞ … ３．１５７部
・ビクトリアピュアブルーＮＡＰＳ（保土ヶ谷化学工業株式会社製）の５％溶液
（固形分５％、メタノール２６％、メチルエチルケトン６９％） … ５３．０４部
・メガファックＦ−７８４Ｆ（大日本インキ化学工業株式会社製） … ０．８５６６部

（上記構造式において、Ｘ：アクリロイル基、ｎ＝１〜３の混合物）

以上のようにして、ＰＥＴ仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂層の積層構造に構成した後、感光性樹脂層の表面に更に、カバーフイルムとして厚み１２μｍのポリプロピレン製フイルムを加熱・加圧して貼り付け、フォトスペーサー用感光性転写材料（１）を得た。このフォトスペーサー用感光性転写材料（１）を、ＡＢＳ樹脂からなる直径３インチの円筒状巻き芯に巻きつけ、黒色のポリエチレンフィルム及び透明のポリエチレンフィルムで包装し、保管した。

〈カラーフィルタ基板の作製〉
１．感光性濃色組成物の調製
−カーボンブラック分散液（Ｋ−１）の調製−
下記処方でカーボンブラック分散液（Ｋ−１）を調製した。
・カーボンブラック（デグッサ社製 カラーブラックＦＷ２） … ２６．７部
・分散剤（楠本化成社製ディスパロンＤＡ７５００ 酸価２６ アミン価４０）
… ３．３部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８［ｍｏｌ比］）共重合体（分子量３０，０００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの５０質量％溶液） … １０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート … ６０部

上記各成分を３０００ｒｐｍの条件でホモジナイザーを用いて１時間撹拌した。得られた混合溶液を、０．３ｍｍジルコニアビーズを用いたビーズ分散機（商品名：ディスパーマット、ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）にて８時間微分散処理を施し、カーボンブラック分散液（Ｋ−１）を得た。

得られたカーボンブラック分散液（Ｋ−１）を用いて、下記表１の処方で感光性濃色組成物塗布液ＣＫ−１を調製した。表１中の数値は質量比を示す。

表１中の各成分の詳細は下記のとおりである。
・樹脂溶液Ｃ−２：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝８５／１５ｍｏｌ比）共重合体（Ｍｗ１００００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの５０ｗｔ％溶液）
・ＵＶ硬化性樹脂Ｃ−３：商品名サイクロマーＰ ＡＣＡ−２５０ ダイセル化学工業（株）製〔側鎖に脂環、ＣＯＯＨ基、及びアクリロイル基を有するアクリル系共重合体、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％）〕
・重合性化合物Ｃ−５：商品名 ＴＯ−１３８２ 東亞合成（株）製
（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの末端ＯＨ基の一部をＣＯＯＨ基に置換した５官能のアクリロイル基を有するモノマーが主成分。）
・開始剤Ｃ−７：商品名「ＯＸＥ−０２」 チバ・スペシャルテイ・ケミカルズ社製
・界面活性剤Ｃ−８：商品名「メガファックＲ３０」 大日本インキ化学工業（株）製
・溶剤：ＰＧＭＥＡ＝プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＥＥＰ＝３−エトキシエチルプロピオネート

２．ブラックマトリクスの形成
−感光性濃色組成物層形成工程−
得られた感光性濃色組成物ＣＫ−１を、洗浄したガラス基板（コーニング社製ミレニアム ０．７ｍｍ厚）にスリットコーター（型番ＨＣ８０００、平田機工株式会社製）を用いて、ポストベーク後の膜厚が１．２μｍとなるようにスリットとガラス基板間の間隔、吐出量を調節して、塗布速度１２０ｍｍ／秒で塗布した。

−プリベーク工程、露光工程−
次いで、ホットプレートを用いて、９０℃で１２０秒間加熱（プリベーク処理）を行なった後、ミラープロジェクション方式露光機（型番ＭＰＡ−８８００、キヤノン株式会社社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ^２で露光した。

−現像工程−
その後、傾斜搬送型の現像装置（型番ＳＫ−２２００Ｇ、大日本スクリーン製造株式会社製、傾斜角５°）で現像した。すなわち、水酸化カリウム系現像液ＣＤＫ−１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）の１．０％現像液（ＣＤＫ−１を１質量部、純水を９９質量部の希釈した液、２５℃）でシャワー圧を０．２０ＭＰａに設定して、６０秒現像し、純水で洗浄し、現像後のブラックマトリクスを得た。

−ベーク工程−
次いで２２０℃のクリーンオーブンで４０分間ポストベーク処理し、着色画素形成領域の開口が９０μｍ×２００μｍで、厚みが１．２μｍで、線幅が約２５μｍの格子状パターンであるブラックマトリクスを備えたブラックマトリクス基板を形成した。
Ｘ−Ｒｉｔｅ ３６１Ｔ（Ｖ）（サカタインクスエンジニアリング（株）製）を用いて、出来上がったブラックマトリクスの光学濃度（ＯＤ）を測定したところ、４．２であった。

３．感光性着色組成物の調製
３−１．赤色（Ｒ）用感光性着色組成物塗布液ＣＲ−１の調製
下記処方で赤色（Ｒ）用分散液（Ｒ−１）を調製した。
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４（ＳＥＭ観察での平均粒子径４３ｎｍ）… １１部
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １７７（ＳＥＭ観察での平均粒子径５８ｎｍ）… ４部
・下記分散樹脂Ａ−３の溶液 … ５部
・分散剤（商品名：Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ビックケミー社製）
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの３０％溶液） … ３部
・アルカリ可溶性樹脂：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（＝７５／２５［ｍｏｌ比］共重合体、分子量３０，０００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％）） … ９部
・溶剤Ｂ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート … ６８部

上記各成分を、３０００ｒｐｍの条件でホモジナイザーを用いて１時間撹拌した。得られた混合溶液を、０．３ｍｍジルコニアビーズを用いてビーズ分散機（商品名：ディスパーマット、ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）にて４時間微分散処理を施し赤色（Ｒ）用分散液（Ｒ−１）を得た。得られた赤色（Ｒ）用分散液（Ｒ−１）中の分散粒子をＳＥＭで観察したところ平均粒子径は３６ｎｍであった。

得られた赤色（Ｒ）用分散液（Ｒ−１）を用いて、下記処方で赤色（Ｒ）用感光性着色組成物塗布液ＣＲ−１を調製した。
・赤色（Ｒ）用分散液（Ｒ−１） … １００部
・エポキシ樹脂：（商品名ＥＨＰＥ３１５０ ダイセル化学工業社製 … ２部
・重合性化合物：ジペンタエリスリトールペンタ・ヘキサアクリレート … ８部
・重合開始剤：４−（ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノ−フェニル）−２，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン … １部
・重合開始剤：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１ … １部
・重合開始剤：ジエチルチオキサントン … ０．５部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール …０．００１部
・フッ素系界面活性剤（商品名：Ｍｅｇａｆａｃ Ｒ３０ 大日本インキ化学工業社製）
… ０．０１部
・ノニオン系界面活性剤（商品名：テトロニックＲ１５０ ＡＤＥＫＡ社製）
… ０．２部
・溶剤：プロピレングリコールｎ−ブチルエーテルアセテート … ３０部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート … １００部
上記成分を混合撹拌し、赤色（Ｒ）用感光性着色組成物塗布液ＣＲ−１を得た。

３−２．緑色（Ｇ）用感光性着色組成物塗布液ＣＧ−１の調製
下記処方で緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）を調製した。
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ３６（ＳＥＭ観察での平均粒子径４７ｎｍ） １１部
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１５０（ＳＥＭ観察での平均粒子径３９ｎｍ） ７部
・下記分散樹脂Ａ−３の溶液 ５部
・分散剤（商品名：Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ビックケミー社製 ３０％溶液）
３部
・アルカリ可溶性樹脂：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（＝８５／１５［ｍｏｌ比］共重合体、分子量３０，０００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％）） １１部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７０部

上記各成分を３０００ｒｐｍの条件でホモジナイザーを用いて１時間撹拌した。得られた混合溶液を、０．３ｍｍジルコニアビーズを用いたビーズ分散機（商品名：ディスパーマット、ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）にて８時間微分散処理を施し、緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）を得た。得られた緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）中の分散粒子をＳＥＭで観察したところ平均粒子径は３２ｎｍであった。

得られた緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）を用いて、下記処方で緑色（Ｇ）用感光性着色組成物塗布液ＣＧ−１を調製した。
・緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１） … １００部
・エポキシ樹脂：（商品名ＥＨＰＥ３１５０ ダイセル化学工業社製） … ２部
・重合性化合物：ジペンタエリスリトールペンタ・ヘキサアクリレート … ８部
・重合性化合物：ペンタエリスリトールのテトラ（エトキシアクリレート）… ２部
・重合開始剤：１，３−ビストリハロメチル−５−ベンゾオキソラントリアジン…２部
・重合開始剤：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１ … １部
・重合開始剤：ジエチルチオキサントン … ０．５部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール … ０．００１部
・フッ素系界面活性剤（商品名：Ｍｅｇａｆａｃ Ｒ０８ 大日本インキ化学工業社製）
… ０．０２部
・ノニオン系界面活性剤（商品名：エマルゲンＡ−６０ 花王社製） … ０．５部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート … １２０部
・溶剤：プロピレングリコールｎ−プロピルエーテルアセテート … ３０部
上記組成を混合撹拌し、緑色（Ｇ）用感光性着色組成物塗布液ＣＧ−１を得た。

３−３．青色（Ｂ）用感光性着色組成物塗布液ＣＢ−１の調製
下記処方で青色（Ｂ）用分散液（Ｂ−１）を調製した。
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６（ＳＥＭ観察での平均粒子径５５ｎｍ）…１４部
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３（ＳＥＭ観察での平均粒子径６１ｎｍ）… １部
・下記分散樹脂Ａ−３の溶液 … ５部
・分散剤（商品名：Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ビックケミー社製 ３０％溶液）
… ３部
・アルカリ可溶性樹脂：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（＝８０／２０［ｍｏｌ比］共重合体、分子量３０，０００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％）） … ４部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート … ７３部

上記各成分を、３０００ｒｐｍの条件でホモジナイザーを用いて１時間撹拌した。得られた混合溶液を、０．３ｍｍジルコニアビーズを用いてビーズ分散機（商品名：ディスパーマット、ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）にて４時間微分散処理を施し、青色（Ｂ）用分散液（Ｂ−１）を得た。得られた青色（Ｂ）用分散液（Ｂ−１）中の分散粒子をＳＥＭで観察したところ平均粒子径は３９ｎｍであった。

得られた青色（Ｂ）用分散液（Ｂ−１）を用いて、下記処方で青色（Ｂ）用感光性着色組成物塗布液ＣＢ−１を調製した。
・青色（Ｂ）用分散液（Ｂ−１） … １００部
・アルカリ可溶性樹脂：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（＝８０／２０［ｍｏｌ比］共重合体、分子量３０，０００）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％）） … ７部
・エポキシ樹脂：（商品名セロキサイド２０８０ ダイセル化学工業社製）… ２部
・ＵＶ硬化性樹脂：（商品名サイクロマーＰ ＡＣＡ−２５０ ダイセル化学工業社製）
（側鎖に脂環、ＣＯＯＨ基、及びアクリロイル基のあるアクリル系共重合体、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％） … ４部
・重合性化合物：ジペンタエリスリトールペンタ・ヘキサアクリレート … １２部
・重合開始剤：１−（９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾル−３−イル）−１−（ｏ−アセチルオキシム）エタノン … ３部
・重合禁止剤： ｐ−メトキシフェノール … ０．００１部
・フッ素系界面活性剤（商品名：Ｍｅｇａｆａｃ Ｒ０８ 大日本インキ化学工業社製）
… ０．０２部
・ノニオン系界面活性剤（商品名：エマルゲンＡ−６０ 花王社製） … １．０部
・溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル … ２０部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート … １５０部
上記成分を混合撹拌し、青色（Ｂ）用感光性着色組成物塗布液ＣＢ−１を得た。

４．分散樹脂Ａ−３の合成
４−１．連鎖移動剤Ａ３の合成
ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）〔ＤＰＭＰ；堺化学工業（株）製〕（下記化合物（３３））７．８３部、及び吸着部位を有し、かつ炭素−炭素二重結合を有する下記化合物（ｍ−６）４．５５部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル２８．９０部に溶解させ、窒素気流下、７０℃に加熱した。これに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）〔Ｖ−６５、和光純薬工業（株）製〕０．０４部を加えて３時間加熱した。更に、Ｖ−６５を０．０４部加え、窒素気流下、７０℃で３時間反応させた。室温まで冷却することで、以下に示すメルカプタン化合物（連鎖移動剤Ａ３）の３０％溶液を得た。

４−２．分散樹脂Ａ―３の合成
前記のようにして得られた連鎖移動剤Ａ３の３０％溶液４．９９部、メタクリル酸メチル１９．０部、及びメタクリル酸１．０部、プロピレングリコールモノメチルエーテル４．６６部の混合溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。この混合溶液を攪拌しながら、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル〔Ｖ−６０１、和光純薬工業（株）製〕０．１３９部、プロピレングリコールモノメチルエーテル５．３６部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９．４０部の混合溶液を２．５時間かけて滴下した。滴下終了してから、９０℃で２．５時間反応させた後、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル０．０４６部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４．００部の混合溶液を投入し、更に２時間反応させた。反応液にプロピレングリコールモノメチルエーテル１．５２部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２１．７部を加え、室温まで冷却することで分散樹脂Ａ−３（ポリスチレン換算の重量平均分子量２４０００）の溶液（分散樹脂３０質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテル２１質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４９質量％）を得た。
この分散樹脂Ａ−３の酸価は４８ｍｇ／ｇであった。分散樹脂Ａ−３の構造を以下に示す。

〈カラーフィルタのＲＧＢ画素の作製〉
−感光性着色組成物層形成工程−
得られた赤色（Ｒ）用感光性着色組成物塗布液ＣＲ−１を、前記ブラックマトリクス基板のブラックマトリクス形成面側に、塗布した。具体的には、感光性濃色組成物層形成の場合と同様に、ポストベーク後の感光性着色組成物層の層厚が約２．１μｍとなるようにスリットとブラックマトリクス基板間の間隔、吐出量を調節して、塗布速度１２０ｍｍ／秒で塗布した。

−着色層プリベーク工程、着色層露光工程−
次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で１２０秒間加熱（プリベーク処理）を行なった後、ミラープロジェクション方式露光機（型番ＭＰＡ−８８００、キヤノン株式会社製）を用いて、９０ｍＪ／ｃｍ^２で露光した。
また、露光パターンと、ブラックマトリクスとの重なり（露光重なり量）が９．０μｍとなるようにマスクパターンと露光機を設定した。

−着色層現像工程、着色層ポストベーク工程−
その後、傾斜搬送型の現像装置（型番ＳＫ−２２００Ｇ、大日本スクリーン製造株式会
社製、傾斜角５°）で現像した。すなわち、水酸化カリウム系現像液ＣＤＫ−１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）の１．０％現像液（ＣＤＫ−１を１質量部、純水を９９質量部の希釈した液、２５℃）でシャワー圧を０．２ＭＰａに設定して、４５秒現像し、純水で洗浄した。
次いで２２０℃のクリーンオーブンで３０分間ポストベーク処理し、熱処理済みの赤色画素を形成した。

次いで、上記感光性着色組成物層形成工程、着色層プリベーク工程、着色層露光工程、着色層現像工程、及び着色層ポストベーク工程において、赤色（Ｒ）用感光性着色組成物塗布液ＣＲ−１を、緑色（Ｇ）用感光性着色組成物塗布液ＣＧ−１に代えた他は同様にして、緑色画素を形成した。さらにその後、赤色（Ｒ）用感光性着色組成物塗布液ＣＲ−１を、青色（Ｂ）用感光性着色組成物塗布液ＣＢ−１に代えた他は同様にして、青色画素を形成してカラーフィルタを得た。

−樹脂層（ＯＣ層）形成工程−
上記より得たカラーフィルタのＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素、及びブラックマトリクスを含む着色層上に、更に下記組成のオーバーコート塗布液を次のようにして設けて、カラーフィルタ基板を得た。
・Ｎ−メチルマレイミドとグリシジルメタクリレートとの共重合体（前者：後者の質量比＝６：４、ポリスチレン換算の重量平均分子量５００００） … ２５部
・（γ−グリシドキシプロピル）−メチルトリメトキシシラン … ３部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテト … ７２部
上記成分を混合撹拌し、オーバーコート塗布液を調製した。
この塗布液を前記カラーフィルタの着色層上に塗布し、真空下で２５℃で２分間乾燥して硬化した。樹脂層の厚さは、１μｍであった。

−スペーサー形成工程−
上記で作成したカラーフィルタ基板の樹脂層の表面を、波長１７２ｎｍのＵＶ光で、照射強度３５ｍＷ／ｃｍ^２で９秒間照射した。次いで、ＫＢＭ−６０３（信越化学工業製 シランカップリング剤 Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン）の０．３％水溶液で、樹脂層の表面を２０℃で３０秒間処理し、２０℃の水で１分間水洗し、１１０℃で５分間乾燥した。このようにして処理されたカラーフィルタ基板の樹脂層の表面の水（純水）との接触角と、ジヨードメタンとの接触角を測定し、後述の表２に示した。
接触角の測定は、次のようにして行った。
水との接触角の測定は、協和界面科学株式会社製、表面接触角測定装置 ＦＡＣＥ ＣＯＮＴＡＣＴ-ＡＮＧＬＥ ＭＥＴＥＲ ＣＡ−Ａ を使用して行った。表面接触角を測定する面を上にして水平に保った基板上に、水を１．７μＬ静置し、静置してから２０秒後の接触角を測定した。
ジヨードメタンとの接触角の測定も、水の接触角と同様にして測定した。
他方、前述のフォトスペーサー用感光性転写材料（１）を黒色のポリエチレンフィルム及び透明のポリエチレンフィルムを剥がして、取り出し、カバーフイルム上からロータリーカッターを用いて、該カバーフイルム表面から仮支持体の一部に至るまでの深さの切り口をつけた。次に、テープを用いてカバーフイルムと感光性樹脂層との界面で剥離し、カバーフイルムを除去して、感光性樹脂層の表面を露出させた。

カラーフィルタ基板の上記ＵＶ光の照射とシランカップリング剤処理を行った樹脂層の表面に、フォトスペーサー用感光性転写材料（１）の上記露出させた感光性樹脂層の表面が接するように重ね合わせ、ラミネーターＬａｍｉｃＩＩ型〔（株）日立インダストリイズ製〕を用いて、線圧１００Ｎ／ｃｍ、上ロール９０℃、下ロール１３０℃の加圧・加熱条件下で搬送速度２ｍ／分にて貼り合わせた。

その後、ＰＥＴ仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離除去し、フォトスペーサー用感光性転写材料（１）の熱可塑性樹脂層及び中間層を共に前記樹脂層の表面に転写した。

次に、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、マスク（画像パターンを有する石英露光マスク）と、該マスクと熱可塑性樹脂層とが向き合うように配置したカラーフィルタ基板とを略平行に垂直に立てた状態で、マスク面と感光性樹脂層の中間層に接する側の表面との間の距離を１００μｍとし、マスクを介して熱可塑性樹脂層側から露光量ｉ線５０ｍＪ／ｃｍ^２にてプロキシミティー露光した。

次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍（Ｔ−ＰＤ２を１部と純水９部の割合で混合）に希釈した液）を用いて、３０℃で６０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した。
引き続き、このガラス基板の上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基板上の液だまりを減らした。
引き続き、炭酸Ｎａ系現像液（０．３８モル／リットルの炭酸水素ナトリウム、０．４７モル／リットルの炭酸ナトリウム、５％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、及び安定剤含有；商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて２８℃で５０秒間、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し、スペーサーのパターン像を得た。
引き続き、洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有；商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製））を純水で１０倍に希釈した液を用いて３３℃で１．５ｍ／分の相対速度で移動させながらブラシ現像を行い、所望のスペーサーパターンを得た。

最後に、スペーサーパターンが設けられたカラーフィルタ基板を、２３０℃下で６０分間加熱処理を行ない（熱処理工程）、スペーサー付きカラーフィルタ基板を得た。
得られたスペーサーは、各々、底面が円形のドーム状であった。
得られたスペーサー２００個のそれぞれについて、三次元表面構造解析顕微鏡（メーカー：ＺＹＧＯ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ、型式：Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ ５０２２）を用い、樹脂層の表面からスペーサーの最も高い位置までの高さ（以下、「高さ」と略記する。）、前記高さの９７％高さにおける断面の直径（以下、「上底」ともいう。）、及び樹脂層の表面における断面の直径（以下、「下底」ともいう。）を測定した。そのうちの最小スペーサーの「高さ」、「上底」及び「下底」と、そのスペーサーが形成されたマスク径（直径）を後述の表２に示した。なお、形成されたスペーサーの一部又は全てが現像時に脱落又は除去されてしまったときは、「残らず」と表示した。

（実施例２及び３、比較例１〜１３）
実施例１と同様にして、但し、カラーフィルタ基板の樹脂層の乾燥条件、樹脂層のＵＶ光の照射及び／又はシランカップリング剤処理を、表１に記載のように変更して、スペーサー付きカラーフィルタ基板を得た。
各実施例及び比較例において、カラーフィルタ基板の樹脂層の表面をＵＶ光の照射及び／又はシランカップリング剤で処理した後における樹脂層の表面の水（純水）との接触角と、及びジヨードメタンとの接触角を、実施例１と同様にして測定し、後述の表２に示した。更に、実施例１と同様にして、最小スペーサーの高さ、上底、及び下底と、その最小スペーサーが形成されたマスク径（直径）を後述の表２に示した。
なお、表２には、カラーフィルタ基板の樹脂層の表面に、フォトスペーサー用感光性転写材料（１）の熱可塑性樹脂層及び中間層の転写が可能であったか否かの「転写性」を併せて記載した。良好に転写された場合を「ＯＫ」、転写できなかった場合を「ＮＧ」と表示した。

表２の結果から、以下のことが分かる。
比較例２及び４のように、樹脂層の表面に、ＵＶ光照射及びシランカップリング剤による表面処理の両者を行わなかった場合には、樹脂層の表面の水接触角が６５度より大きく、フォトスペーサー用感光性転写材料の感光性樹脂層を樹脂層の表面を転写することができない。
比較例１及び３のように、樹脂層の表面をシランカップリング剤で表面処理剤しただけでは、水接触角を６５度以下にまで小さくすることができず、フォトスペーサー用感光性転写材料の感光性樹脂層を樹脂層の表面を転写することができない。
比較例５〜１１のように、樹脂層の表面をＵＶ光照射しただけでは、フォトスペーサー用感光性転写材料の感光性樹脂層を樹脂層の表面を転写することができないか（比較例５）、又は転写できたとしても、現像によりパターン露光時の露光部分と未露光部分の両者、即ち、感光性樹脂層全体が除かれてしまい、樹脂層の表面にスペーサーを形成することができない。
比較例１２及び１３のように、樹脂層の表面に、ＵＶ光照射及びシランカップリング剤による表面処理の両者を行った場合においても、樹脂層の表面の水接触角が４２度以下の場合、及び６５度以上の場合は、フォトスペーサー用感光性転写材料の感光性樹脂層を樹脂層の表面を転写することができるが、現像により感光性樹脂層全体が除かれてしまい、樹脂層の表面にスペーサーを形成することができない。
これに対して、本発明に係る実施例１〜３においては、樹脂層の表面にスペーサーを形成することが可能である。

（実施例４）
実施例１と同様にして、洗浄したガラス基板上に、ブラックマトリックス、赤色画素、緑色画素、及び青色画素を形成してカラーフィルタを得た。このカラーフィルタのＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素、及びブラックマトリクスを含む着色層の表面を、波長１７２ｎｍのＵＶ光で、照射強度３５ｍＷ／ｃｍ^２で１２秒間照射した。次いで、ＫＢＭ−６０３（信越化学工業製 シランカップリング剤 Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン）の０．３％水溶液で、樹脂層の表面を２０℃で３０秒間処理し、２０℃の水で１分間水洗し、１１０℃で５分間乾燥した。このようにして処理されたカラーフィルタ基板の樹脂層の表面の水（純水）との接触角と、ジヨードメタンとの接触角を実施例１と同様にして測定し、後述の表３に示した。
上記のように処理したカラーフィルタ基板の表面に、実施例１と同様にしてスペーサーを形成した。
得られたスペーサーのうちの最小スペーサーの「高さ」、「上底」及び「下底」と、その最小スペーサーが形成されたマスク径（直径）を後述の表３に示した。
表３に示されるように、樹脂層を設けなかったカラーフィルタ基板においても、本発明による効果がえられることが確認された。

（実施例５）（液晶表示装置）
実施例１で作製されたスペーサー付きカラーフィルタ基板を用いて、以下のようにして液晶表示装置を作製した。対向基板としてガラス基板を用意し、実施例１で得られたカラーフィルタ基板の透明電極上及び対向基板上にそれぞれＰＶＡモード用にパターニングを施し、その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。

その後、カラーフィルタの画素群を取り囲むように周囲に設けられたブラックマトリックス外枠に相当する位置に紫外線硬化樹脂のシール剤をディスペンサ方式により塗布し、ＰＶＡモード用液晶を滴下し、対向基板と貼り合わせた。貼り合わされた基板をＵＶ照射した後、熱処理してシール剤を硬化させた。このようにして得た液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。

次いで、赤色（Ｒ）ＬＥＤとしてＦＲ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製のチップ型ＬＥＤ）、緑色（Ｇ）ＬＥＤとしてＤＧ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製のチップ型ＬＥＤ）、青色（Ｂ）ＬＥＤとしてＤＢ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製のチップ型ＬＥＤ）を用いてサイドライト方式のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、液晶表示装置とした。

作製された液晶表示装置について、ＥＭＩＣ製、振動試験機Ｆ−１６０００ＢＤＨ／ＬＡ１６ＡＷを用いて、パネルのＸＹＺ方向に、１０Ｈｚ〜１００Ｈｚの振動を連続的に１５分間与え、３サイクル繰り返した。グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視及びルーペにて観察し、下記評価基準で評価した結果は、Ａであった。

〈評価基準〉
Ａ：正面から観察し、表示パネル全面にわたり表示ムラは全く認められなかった。
Ｂ：斜め４５度から観察した場合のみ、表示パネル中央部に表示ムラが僅かに認められた。
Ｃ：正面から観察し、表示パネル中央部に表示ムラが僅かに認められた。
Ｄ：正面から観察し、表示パネル全面にわたり表示ムラが認められた。
Ｅ：正面から観察し、表示パネル全面にわたり表示ムラが顕著に認められた。

Claims (8)

1. 塩基性基を有する表面処理剤で基板の表面を処理することを含み、表面の水接触角が４２度以上６５度以下である基板を調製する基板表面処理工程と、
   前記基板の表面に、転写法により感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、
   前記感光性樹脂層をパターン露光及び現像してパターンを形成するパターン形成工程と、
   をこの順で含むパターン付き基板の製造方法。
2. 前記基板表面処理工程は、前記表面処理剤で処理する前に、前記基板の表面を紫外線照射することを含む請求項１に記載のパターン付き基板の製造方法。
3. 前記感光性樹脂層形成工程が、仮支持体上に感光性樹脂層を有する感光性樹脂転写材料を用いて、前記基板の表面処理剤で処理した表面に前記感光性樹脂転写材料の感光性樹脂層が接するようにして、前記感光性樹脂転写材料を重ねること、及び前記仮支持体を剥離して、前記基板の表面に前記感光性樹脂層を転写することを含む請求項１又は請求項２に記載のパターン付き基板の製造方法。
4. 前記感光性樹脂層形成工程における感光性樹脂層が、側鎖に酸性基を有する樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、及び光重合開始剤（Ｃ）を含む請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載のパターン付き基板の製造方法。
5. 前記パターン形成工程における現像を、アルカリ現像液を用いて行う請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載のパターン付き基板の製造方法。
6. 前記基板は、支持体と樹脂層とを有し、前記表面は、前記樹脂層の表面である請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載のパターン付き基板の製造方法。
7. 前記基板が、支持体上に、複数の着色画素及びブラックマトリックスを含む着色層を有するカラーフィルタ基板である請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載のパターン付き基板の製造方法。
8. 前記パターンが、スペーサーである請求項７に記載のパターン付き基板の製造方法。