JP5995416B2 - 撮像素子及び撮像装置 - Google Patents
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Description
特許文献1,2のように分割画素を構成する際、各分割画素の間には、様々な画素構成要素が配置される可能性がある。例えば、感度向上のためにフォトダイオードの面積を大きくしたい場合、各分割画素毎にフローティングディフュージョン(以下、FD)や出力信号線を配置するのではなく、複数の分割画素で共有するFDなどを使用する構成が好ましい。この際、共有するFDは、各分割画素の中心に配置することが望ましい。このように、各分割画素間に、FDなどの画素構成要素を配置するために、各分割画素のフォトダイオード間には、感度を持たない分離領域が存在することになる。
Claims (6)
- マイクロレンズを共有し、且つ分離層にて複数の領域に分割された光電変換部と、前記マイクロレンズにて集光された光束を前記光電変換部に導くとともに前記分離層には導かない光導波路と、電極が配置され前記分離層を覆う絶縁層と、を有する撮像素子であって、
前記分離層は前記光電変換部で発生した電荷を転送するための転送電極を備え、
前記絶縁層は前記光導波路内の光を反射するための境界面を有し、
前記光導波路は、前記複数の領域に分割された光電変換部の各々の上面に積層され、
前記光導波路上に前記絶縁層が積層され、
前記絶縁層上に前記マイクロレンズが積層され、
光入射方向において、前記光導波路の各々の前記光電変換部側の面は、前記分離層に備わる前記転送電極を覆わずに前記光電変換部の光入射面を覆い、
光入射方向において、前記光導波路の各々の前記絶縁層と接する側の面は、平面であり、前記分離層と前記光電変換部の光入射面を覆っていることを特徴とする撮像素子。 - 前記光導波路は、前記マイクロレンズの結像位置の近傍に配置されることを特徴とする請求項1に記載の撮像素子。
- 前記光導波路は、前記マイクロレンズの結像位置より後方に配置されることを特徴とする請求項1又は2に記載の撮像素子。
- 前記光導波路の各々の前記絶縁層側の面は、その周縁部が前記マイクロレンズの光軸上で接しており、
前記マイクロレンズに入射した光束は、前記光導波路の各々の前記絶縁層側の面に集光し、
前記光導波路の各々に入射した光束は、前記複数の領域に分割された光電変換部の各々に到達することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の撮像素子。 - 前記電極は、前記光電変換部から転送された電荷を選択的に出力する第1の電極、第2の電極及び第3の電極を含み、
前記絶縁層は、前記第1の電極と前記第2の電極の間、及び、前記第2の電極と前記第3の電極の間に配置されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の撮像素子。 - 撮影レンズと、
前記撮影レンズを介した光束を受光する請求項1乃至5のいずれか1項に記載の撮像素子と、を備えることを特徴とする撮像装置。
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