JP5949900B2 - 偏光度低減装置、光源装置、光増幅装置およびラマン増幅用励起光源装置 - Google Patents
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Description
図1は、実施の形態1にかかる偏光度低減装置の構成例1を示す図である。図1に示すように、実施の形態1にかかる偏光度低減装置110は、レンズ111と、偏波分離器201と、レンズ113と、シリコン基板114と、レンズ116と、ミラー117と、損失媒体118と、ミラー119と、偏波合成器202と、レンズ121と、を備えている。なお、レンズ111やレンズ121は偏光度低減装置110の外部にあってもよい。
図19は、実施の形態2にかかる光源装置の構成例1を示す図である。図19において、図7に示した部分と同様の部分については同一の符号を付して説明を省略する。図19に示す光源装置は、可動板1901と、LD101と、偏光度低減装置110と、を備えている。図19に示す構成においては、シリコン基板114に損失用導波路603を設けなくてもよい構成方法であり、さらに好ましい。また、損失用導波路603を設ける場合においても、たとえば図7に示した構成に比べて光損失の小さい損失用導波路603を設ければよい。
図24は、迂曲導波路の断面の一例を示す図である。図24に示すように、迂曲導波路115は、たとえばシリコン基板114に形成された凸部によって実現されたリッジ導波路である。同様に、たとえば図6−1に示した偏波分離導波部601、直線導波路602、損失用導波路603および偏波合成導波部604も、シリコン基板114に形成された凸部によって実現されたリッジ導波路である。シリコン基板114に形成された凸部の断面形状には、設計に応じて各種形状を採用することができる。
シリコン基板に迂曲して形成され、前記分離部によって分離された各光の一方を通過させるシリコンの迂曲導波路と、
前記迂曲導波路より光路長が短く、前記各光の他方を通過させる光経路と、
前記迂曲導波路を通過した光と、前記光経路を通過した光と、を合成する合成部と、
前記合成部によって合成された光を出射する出射部と、
を備えることを特徴とする偏光度低減装置。
前記迂曲導波路は、前記第1方向の偏光成分の光を通過させ、
前記光経路は、前記第2方向の偏光成分の光を通過させることを特徴とする付記1に記載の偏光度低減装置。
前記並行導波路の各導波路の間の温度差を調整する温度調整部と、
を備えることを特徴とする付記7に記載の偏光度低減装置。
前記偏波分離器へ入力される前記入力光の偏光方向を、前記第1方向との間の角度のうちの小さい方の角度が45度より小さい偏光方向に調整する調整部を備えることを特徴とする付記6に記載の偏光度低減装置。
前記測定器によって測定された偏光度に基づいて前記調整部による前記入力光の偏光方向の調整を制御する制御回路と、
を備えることを特徴とする付記10に記載の偏光度低減装置。
前記光源から出射された光を、互いに偏光方向が直交する各光に分離する分離部と、
シリコン基板に迂曲して形成され、前記分離部によって分岐された各光の一方を通過させるシリコンの迂曲導波路と、
前記迂曲導波路より光路長が短く、前記各光の他方を通過させる光経路と、
前記迂曲導波路を通過した光と、前記光経路を通過した光と、を合成する合成部と、
前記合成部によって合成された光を出射する出射部と、
を備えることを特徴とする光源装置。
一定波長の光を出射する光源と、
前記光源から出射された光を、互いに偏光方向が直交する各光に分離する分離部と、
シリコン基板に迂曲して形成され、前記分離部によって分離された各光の一方を通過させるシリコンの迂曲導波路と、
前記迂曲導波路より光路長が短く、前記各光の他方を通過させる光経路と、
前記迂曲導波路を通過した光と、前記光経路を通過した光と、を合成する合成部と、
前記合成部によって合成された光を、前記光信号が伝搬する前記光ファイバへ入射する入射部と、
を備えることを特徴とする光増幅装置。
前記光源から出射された励起光を通過させる導波路であって、前記導波路から出射され励起光の波長を一定にする回折格子が設けられた導波路と、
前記導波路から出射された励起光を、互いに偏光方向が直交する各励起光に分離する分離部と、
シリコン基板に迂曲して形成され、前記分離部によって分岐された各励起光の一方を通過させるシリコンの迂曲導波路と、
前記迂曲導波路より光路長が短く、前記各励起光の他方を通過させる光経路と、
前記迂曲導波路を通過した励起光と、前記光経路を通過した励起光と、を合成する合成部と、
前記合成部によって合成された励起光を出射する出射部と、
を備えることを特徴とするラマン増幅用励起光源装置。
102,1421〜1424,1521,1522,1530,1621,1622,1641,1642 PMF
103,1221〜1224,1241,1242,1260,1280,1830 SMF
110 偏光度低減装置
111,113,116,121,1104,1105,1331〜1334,1351〜1354,1721〜1724,1750,1770,1821,1822 レンズ
112,1011 分岐部
114 シリコン基板
115 迂曲導波路
117,119 ミラー
118 損失媒体
120 合成部
122,801,1321〜1324 1/2波長板
201 偏波分離器
202 偏波合成器
211〜213,802 偏光状態
410,1330,1350 レンズアレイ
411,412 並行導波部
413 接続導波部
501,502 偏波分離プリズム
601 偏波分離導波部
602 直線導波路
603 損失用導波路
604 偏波合成導波部
621,631,632 入射部
622,623,633 出射部
900,1100 光源装置
901,1101 筐体
1001 供給回路
1002 ヒータ
1010 分岐干渉部
1012,1013 並行導波路
1014 干渉部
1103 PD
1106 フェルール
1107 固定台
1108 TEC
1109,1110 ネジ
1111 プリント基板
1112 放熱シート
1113 ケース
1114 ヒートシンク
1200 光増幅装置
1201,1202 光ファイバ
1211〜1214,1300 励起光源装置
1231,1232,1250 WDMカプラ
1270 アイソレータ
1290 励起光挿入部
1310 LDアレイ
1320 波長板アレイ
1340 デポラライザアレイ
1341〜1344,1431〜1434,1540,1631,1632,1760 デポラライザ
1511,1512,1650 PBC
1610 PBS
1730 回折格子
1740 ハーフミラー
1780 サーキュレータ
1812 カップリング部
1840 GEQ
1850,1861,1863 EDFA
1862 DCRFA
1901 可動板
2201 偏光度測定器
2301 樹脂
Claims (11)
- 入力光を、互いに偏光方向が直交する各光に分離する分離部と、
シリコン基板に迂曲して形成され、前記分離部によって分離された各光の一方を通過させるシリコンの迂曲導波路と、
前記迂曲導波路より光路長が短く、前記各光の他方を通過させる光経路と、
前記迂曲導波路を通過した光と、前記光経路を通過した光と、を合成する合成部と、
前記合成部によって合成された光を出射する出射部と、
前記迂曲導波路を通過した光と、前記光経路を通過した光と、の前記合成部における各強度が等しくなる光損失を、前記光経路を通過する光に与える損失媒体と、
を備えることを特徴とする偏光度低減装置。 - 前記迂曲導波路と前記光経路との光路長の差が前記入力光のコヒーレンス長以上であることを特徴とする請求項1に記載の偏光度低減装置。
- 前記分離部は、前記入力光を、前記入力光に含まれる第1方向の偏光成分の光と、前記入力光に含まれる前記第1方向と直交する第2方向の偏光成分の光と、に偏波分離する偏波分離器であり、
前記迂曲導波路は、前記第1方向の偏光成分の光を通過させ、
前記光経路は、前記第2方向の偏光成分の光を通過させることを特徴とする請求項1に記載の偏光度低減装置。 - 前記分離部、前記光経路および前記合成部は、前記シリコン基板に形成されたシリコンの導波路であることを特徴とする請求項1に記載の偏光度低減装置。
- 前記光経路に近接して前記シリコン基板に形成され、前記光経路を通過する光に光損失を与える導波路を備えることを特徴とする請求項4に記載の偏光度低減装置。
- 前記光経路を通過する光を分岐し、分岐した各光を通過させる並行導波路を有し、前記並行導波路を通過した各光を干渉させて前記合成部へ出射する分岐干渉部と、
前記並行導波路の各導波路の間の温度差を調整する温度調整部と、
を備えることを特徴とする請求項4に記載の偏光度低減装置。 - 前記迂曲導波路の光損失は、前記光経路の光損失より大きく、
前記偏波分離器へ入力される前記入力光の偏光方向を、前記第1方向との間の角度のうちの小さい方の角度が45度より小さい偏光方向に調整する調整部を備えることを特徴とする請求項3に記載の偏光度低減装置。 - 前記迂曲導波路は、シリコン細線リッジ導波路であることを特徴とする請求項1に記載の偏光度低減装置。
- 光を出射する光源と、
前記光源から出射された光を、互いに偏光方向が直交する各光に分離する分離部と、
シリコン基板に迂曲して形成され、前記分離部によって分岐された各光の一方を通過させるシリコンの迂曲導波路と、
前記迂曲導波路より光路長が短く、前記各光の他方を通過させる光経路と、
前記迂曲導波路を通過した光と、前記光経路を通過した光と、を合成する合成部と、
前記合成部によって合成された光を出射する出射部と、
前記迂曲導波路を通過した光と、前記光経路を通過した光と、の前記合成部における各強度が等しくなる光損失を、前記光経路を通過する光に与える損失媒体と、
を備えることを特徴とする光源装置。 - 光ファイバを通過する光信号を増幅する増幅装置において、
一定波長の光を出射する光源と、
前記光源から出射された光を、互いに偏光方向が直交する各光に分離する分離部と、
シリコン基板に迂曲して形成され、前記分離部によって分離された各光の一方を通過させるシリコンの迂曲導波路と、
前記迂曲導波路より光路長が短く、前記各光の他方を通過させる光経路と、
前記迂曲導波路を通過した光と、前記光経路を通過した光と、を合成する合成部と、
前記合成部によって合成された光を、前記光信号が伝搬する前記光ファイバへ入射する入射部と、
前記迂曲導波路を通過した光と、前記光経路を通過した光と、の前記合成部における各強度が等しくなる光損失を、前記光経路を通過する光に与える損失媒体と、
を備えることを特徴とする光増幅装置。 - 励起光を出射する光源と、
前記光源から出射された励起光を通過させる導波路であって、前記導波路から出射され励起光の波長を一定にする回折格子が設けられた導波路と、
前記導波路から出射された励起光を、互いに偏光方向が直交する各励起光に分離する分離部と、
シリコン基板に迂曲して形成され、前記分離部によって分岐された各励起光の一方を通過させるシリコンの迂曲導波路と、
前記迂曲導波路より光路長が短く、前記各励起光の他方を通過させる光経路と、
前記迂曲導波路を通過した励起光と、前記光経路を通過した励起光と、を合成する合成部と、
前記合成部によって合成された励起光を出射する出射部と、
前記迂曲導波路を通過した光と、前記光経路を通過した光と、の前記合成部における各強度が等しくなる光損失を、前記光経路を通過する光に与える損失媒体と、
を備えることを特徴とするラマン増幅用励起光源装置。
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