JP5368006B2 - 走査型電子顕微鏡及び試料観察方法 - Google Patents
走査型電子顕微鏡及び試料観察方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5368006B2 JP5368006B2 JP2008120370A JP2008120370A JP5368006B2 JP 5368006 B2 JP5368006 B2 JP 5368006B2 JP 2008120370 A JP2008120370 A JP 2008120370A JP 2008120370 A JP2008120370 A JP 2008120370A JP 5368006 B2 JP5368006 B2 JP 5368006B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- potential
- guard electrode
- electron beam
- electron microscope
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
図1は、本実施形態に係る走査型電子顕微鏡の構成図である。
試料7の上方に試料7の全体を覆うガード電極11を設けることにより、試料7の表面の電位を一定にする原理について以下に示す。
式(1)より、試料7の表面の電位Vsの初期値をVs0とすれば、ガード電極11にVg=Vs0×(C0+Cg)/Cg−Q/Cgの電圧を印加することにより、試料7の表面の電位Vsの変動をなくすことができる。特に、試料7の表面の電位Vsの初期値が0(ゼロ)であれば、Vg=−Q/Cgの電圧をガード電極11に印加することによって、試料7の表面の電位をゼロで一定にすることが可能となる。
次に、本実施形態の走査型電子顕微鏡100において、試料7上に形成されたパターンの測長をする試料観察方法について図8のフローチャートを用いて説明する。図8は、試料の表面電位を一定にして試料上に形成されたパターンの測長を行う処理フローの一例を示している。なお、本処理では、試料7が移動ステージ5に搭載されたものとして説明する。
Claims (7)
- 試料の表面に照射される電子ビームを放出する電子銃と、
前記試料と対物レンズの間に配置され、前記電子ビームの光軸を中心とした所定の範囲の開口を有し、前記試料の表面上の全体を覆うガード電極と、
前記ガード電極と前記電子ビームの光軸との間に設けられ前記ガード電極を前記光軸方向に貫く静電シールドと、
前記ガード電極に電圧を供給するガード電極電源と、
前記試料の表面の電位を測定する表面電位計と、
前記試料の表面の電位と予め決定された基準電位との差分が所定の範囲を超えたときに前記差分を前記所定の範囲内にする電圧を前記ガード電極に印加して前記試料の表面の電位調整をする制御部と、を有することを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 前記ガード電極の前記開口は、前記電子ビーム及び前記電子ビームの照射により前記試料から発生する二次電子が通過するために十分な面積を確保していることを特徴とする請求項1に記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記制御部は、表面が導体層で覆われている前記試料に対して前記電位調整を行うことを特徴とする請求項2に記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記制御部は、予め設定された測定点数毎に、前記電位調整を行うことを特徴とする請求項2に記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記制御部は、前記電位調整を行った後、前記試料上に形成されたパターンの測長を行うことを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の走査型電子顕微鏡。
- 試料の表面に照射される電子ビームを放出する電子銃と、前記試料と対物レンズの間に配置され、前記電子ビームの光軸を中心とした所定の範囲の開口を有し、前記試料の表面上の全体を覆うガード電極と、前記ガード電極と前記電子ビームの光軸との間に設けられ前記ガード電極を前記光軸方向に貫く静電シールドと、前記ガード電極に電圧を供給するガード電極電源と、前記試料の表面の電位を測定する表面電位計と、を有する走査型電子顕微鏡において行う試料観察方法であって、
試料の表面の電位を測定するステップと、
前記表面の電位と予め設定された基準電位との差分を算出するステップと、
前記差分が予め設定された許容値の範囲内にないとき、前記ガード電極に印加する電圧を調整して前記差分を前記許容値の範囲内にするように前記表面電位を調整するステップと、
前記試料の表面電位が調整された後、前記試料に形成されたパターンの測長を行うステップと、
を有することを特徴とする試料観察方法。 - 前記試料の表面を測定するステップから前記表面電位を調整するステップは、予め設定された測定点数毎に行うことを特徴とする請求項6に記載の試料観察方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008120370A JP5368006B2 (ja) | 2008-05-02 | 2008-05-02 | 走査型電子顕微鏡及び試料観察方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008120370A JP5368006B2 (ja) | 2008-05-02 | 2008-05-02 | 走査型電子顕微鏡及び試料観察方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009272095A JP2009272095A (ja) | 2009-11-19 |
JP5368006B2 true JP5368006B2 (ja) | 2013-12-18 |
Family
ID=41438485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008120370A Active JP5368006B2 (ja) | 2008-05-02 | 2008-05-02 | 走査型電子顕微鏡及び試料観察方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5368006B2 (ja) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3514783B2 (ja) * | 1992-12-01 | 2004-03-31 | 株式会社ルネサステクノロジ | イオン検出器及びそれを用いたsim像検出方法 |
JP4006946B2 (ja) * | 2000-01-25 | 2007-11-14 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡 |
JP2002313862A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-10-25 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の検査方法および検査装置 |
JP3713457B2 (ja) * | 2001-10-30 | 2005-11-09 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 基板検査方法及び基板検査装置 |
JP2005183881A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビームを用いた半導体ウェハ試料の検査方法および装置 |
JP4519567B2 (ja) * | 2004-08-11 | 2010-08-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査型電子顕微鏡およびこれを用いた試料観察方法 |
JP4500646B2 (ja) * | 2004-10-18 | 2010-07-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料観察方法及び電子顕微鏡 |
JP4906409B2 (ja) * | 2006-06-22 | 2012-03-28 | 株式会社アドバンテスト | 電子ビーム寸法測定装置及び電子ビーム寸法測定方法 |
-
2008
- 2008-05-02 JP JP2008120370A patent/JP5368006B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009272095A (ja) | 2009-11-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5695917B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
US8153966B2 (en) | Electrode unit and charged particle beam device | |
US8481935B2 (en) | Scanning electron microscope | |
JP4914180B2 (ja) | 時定数測定機能を搭載した走査型電子顕微鏡 | |
WO2006016613A1 (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
JP4994749B2 (ja) | 電子ビーム寸法測定装置及び電子ビーム寸法測定方法 | |
JP2001052642A (ja) | 走査型電子顕微鏡及び微細パターン測定方法 | |
US8907267B2 (en) | Charged particle beam device | |
US8507857B2 (en) | Charged particle beam inspection apparatus and inspection method using charged particle beam | |
JP5368006B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡及び試料観察方法 | |
JP4438439B2 (ja) | 表面電荷分布測定方法及び装置並びに、感光体静電潜像分布測定方法及びその装置 | |
JP4906409B2 (ja) | 電子ビーム寸法測定装置及び電子ビーム寸法測定方法 | |
US9077264B2 (en) | Charged particle beam apparatus and electrostatic chuck apparatus | |
US9502212B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
US8692197B2 (en) | Scanning electron microscope optical condition setting method and scanning electron microscope | |
JP2007078537A (ja) | 電子ビーム寸法測定装置及び電子ビーム寸法測定方法 | |
US20230411108A1 (en) | Charged particle beam device | |
JP2006292671A (ja) | 表面電位分布測定方法及び表面電位分布測定装置 | |
TW202042272A (zh) | 帶電粒子束系統、及帶電粒子線裝置中的決定觀察條件之方法 | |
JP2005129828A (ja) | 荷電粒子ビーム露光におけるウエハおよびマスク電位調整方法、ウエハ、ならびに荷電粒子ビーム露光装置。 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110218 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120815 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120821 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121012 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130305 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130507 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130903 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130912 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5368006 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |