JP5247640B2 - スペーサ配置修正方法 - Google Patents

Description

本発明は、基板上のスペーサを配置すべき許容範囲以外の領域に配置されたスペーサにレーザー光を照射させて除去し、配置されなかった許容範囲にスペーサを含む分散液を再吐出してスペーサを配置する技術に関する。

液晶パネルに要求される応答特性、コントラスト、視野角は、液晶層の厚みに依存するところが大きい。このため、液晶が封入される一対の基板間の間隙にスペーサを介在させて液晶層の厚みを一定に保つよう制御している。
従来のスペーサ形成方法として、球状のスペーサを基板上に散布する方法がある。この方法は、スプレー噴霧する湿式散布法と、圧搾ドライ窒素などの気流で粉体状スペーサを基板上に直接散布する乾式散布法とがあるが、何れも画素領域にもスペーサが散布され、輝度の低下や輝度のむらが発生したり、基板上におけるスペーサ分布が不均一になったり、基板間ギャップが不均一になったりする場合がある。

そこで、カラーフィルタの非画素領域上に局所的にスペーサを形成する方法が提案されている。例えば、特許文献１には、開口部を有するマスクをスペーサを配置させたい位置と合致させた後に、マスクを通してスペーサを散布する方法が開示されている。また、特許文献２には、感光体に静電的にスペーサを吸着させた後、透明基板にスペーサを転写する方法が開示されている。さらに、特許文献３には、基板上の画素電極に電圧を印加し、帯電させたスペーサを散布することで、静電斥力によって特定の位置にスペーサを配置させる液晶表示装置の製造方法が開示されている。
さらに、特許文献４には、インクジェット装置を用いて、溶媒に球状のスペーサを分散させたスペーサ含有インクを、ノズルから非画素領域上に滴下して、溶媒を蒸発させることにより、非画素領域上にスペーサを残存させる方法が開示されている。

上記スペーサ形成方法において、非画素領域上にスペーサが配置されず、画素領域にスペーサが配置される場合がある。
たとえば、インクジェット法によるスペーサ形成方法において、インクジェット装置から吐出される液滴中に、複数のスペーサが含有されるものとされ、スペーサ部を形成する各領域に一滴ずつスペーサ部形成用塗工液が塗布されてスペーサ部が形成される。しかし、通常スペーサの粒子径は1〜10数μｍと大きいため、スペーサが分散したインクを吐出させると、吐出曲がりが発生し、画素領域にスペーサが配置されることがある。
また、スペーサを配置した後、熱処理などによりスペーサを基板に固着させる処理を行うが、固着処理後の基板洗浄、基板貼り合わせなどの工程において、スペーサが剥離または移動することがある。

特開平４−１９８９１９号公報 特開平６−２５８６４７号公報 特開平１０−３３９８７８号公報 特開昭５７−５８１２４号公報

本発明は上記従来技術の不都合を解決するために創作されたものであり、その目的は、液晶パネル上のスペーサを配置すべき許容範囲以外の領域に配置されたスペーサにレーザー光を照射させて除去し、スペーサが配置されなかったスペーサを配置すべき許容範囲にスペーサを含む分散液を再吐出して配置する方法を提供することである。

上記課題を解決するために、本発明は、処理対象物上に、スペーサが配置されるべき領域である許容範囲と、前記スペーサが配置されない領域である禁止範囲と、が設定され、前記許容範囲内に向けて第一の吐出ヘッドから前記スペーサが分散された分散液の液滴を吐出する主吐出工程と、前記禁止範囲内に配置された前記スペーサを検出する修正用検査工程と、前記禁止範囲内で検出された前記スペーサにレーザー光を照射して前記処理対象物上から前記スペーサを除去するレーザー光照射工程とを有するスペーサ配置修正方法である。
本発明は、前記修正用検査工程は、前記禁止範囲内に配置された前記スペーサの位置を記憶し、前記レーザー光照射工程は、記憶された位置にレーザー光を照射するスペーサ配置修正方法である。
本発明は、複数の前記許容範囲を、前記処理対象物上に配置されたブラックマトリクス上に離間して設定し、前記禁止範囲を、前記ブラックマトリクスで囲まれた画素毎に設定するスペーサ配置修正方法である。
本発明は、前記修正用検査工程は、前記スペーサが配置されていない前記許容範囲を検出する補助検査工程を有し、前記補助検査工程で検出された前記許容範囲内に第二の吐出ヘッドから前記分散液の液滴を吐出する修正吐出工程が設けられたスペーサ配置修正方法である。
本発明は、前記修正用吐出工程は、前記スペーサが配置されていない前記許容範囲の位置を記憶し、記憶された位置の前記許容範囲に前記分散液の液滴を吐出させるスペーサ配置修正方法である。
本発明は、前記処理対象物上の前記スペーサの配置状態から前記処理対象物を良品か、不良品か、修正可能な品かを判別する基準を予め定めておき、前記主吐出工程で、前記第一の吐出ヘッドから前記分散液の液滴が吐出された前記処理対象物表面の前記配置状態を検査する予備検査工程を有し、前記予備検査工程で良品とされた前記処理対象物は、前記修正用検査工程とレーザー光照射工程とを行わず、前記スペーサを前記処理対象物の表面に固着させる本加熱処理を行い、前記予備検査工程で不良品とされた前記処理対象物は、前記処理対象物表面上の全てのスペーサを除去し、再度、前記主吐出工程を行い、前記予備検査工程で修正可能な品とされた前記処理対象物は、前記修正用検査工程を行うスペーサ配置修正方法である。

本発明により、液晶パネル上のスペーサが配置されることが好ましくない領域（禁止範囲）に配置されたスペーサを除去し、スペーサを配置すべき領域（許容範囲）の内、スペーサが配置されなかった領域にスペーサを配置することができる。

本発明の方法で使用されるスペーサ配置装置の構成図 スペーサが吐出される液晶表示装置用の液晶パネルの平面図 本発明の方法により配置されるスペーサの断面図 本発明の方法で使用されるスペーサ配置修正装置の構成図 本発明の方法の動作を表すフローチャート

＜スペーサ配置装置＞
図１の符号３０は、スペーサ配置装置であり、インクジェット吐出装置５８と、第一の検査装置５９と、パネルステージ５１とを有している。
パネルステージ５１には、処理対象物（ここではスペーサが吐出される図２で示される液晶表示装置用の液晶パネル１０）を始点から終点まで移動させることができる不図示のパネル移動機構が設けられている。パネル移動機構は、パネルステージ５１上の始点に液晶パネル１０を載せると液晶パネル１０をパネルステージ５１上の液晶パネル１０の配置位置である始点から基板を取り上げる位置である終点まで水平面内で直線的に移動させることができる。

インクジェット吐出装置５８は、吐出ヘッド５３と液体タンク４９を有している。
第一の吐出ヘッド５３は、液晶パネル１０の移動の始点から終点の間のパネルステージ５１の上方に位置し、不図示のヘッド移動機構により液晶パネル１０の移動する水平面内で液晶パネル１０の移動方向と垂直な方向へ往復移動できる。液晶パネル１０が、始点から終点まで移動する間に、液晶パネル１０は、第一の吐出ヘッド５３の移動範囲の下を通過する。
第一の吐出ヘッド５３は、液体タンク４９に接続されている。液体タンク４９には、スペーサ４０が溶剤中に分散された分散液が蓄積されており、第一の吐出ヘッド５３に分散液を供給する。図３に示すようにスペーサは、芯３８を中心として、芯３８と芯３８の表面に形成された樹脂膜３９から成る。

第一の吐出ヘッド５３は、分散液の液滴を液晶パネル１０の表面に吐出することができる。液晶パネル１０の表面には、予め、分散液を配置させる位置が定められており、本発明では、その配置させる位置を吐出目標の吐出位置としている。第一の吐出ヘッド５３は、吐出位置に向けて分散液の液滴を吐出可能である。
第一の吐出ヘッド５３は複数の吐出孔を有している。ここでは吐出孔は第一の吐出ヘッド５３の移動方向と垂直な方向に並んで設けられているので、一回の移動で液晶パネル１０上の一つの帯状の範囲に含まれる吐出位置に吐出可能である。全ての吐出位置を含む液晶パネル１０表面を液晶パネル１０の移動方向と垂直な方向に延びた帯状の範囲に隙間無く区切るとすると、帯状の幅の分だけの液晶パネル１０を移動して、帯状の範囲内の吐出を繰り返すと液晶パネル１０表面上の全ての吐出位置に向けて分散液の液滴を吐出することができる。なお、吐出口を第一の吐出ヘッド５３の移動方向と平行に設け、液晶パネルを往復運動させながら第一の吐出ヘッド５３を帯状の幅の分だけ移動させてもよい。

第一の検査装置５９は、第一の撮像装置５２と第一の画像処理装置４８を有している。第一の撮像装置５２は、パネルステージ５１の上方で第一の吐出ヘッド５３より液晶パネル１０の移動方向の下流側の液晶パネル１０の全表面を観察することができる位置に固定されている。第一の撮像装置５２は、通信ケーブルにより第一の画像処理装置４８と接続されている。
第一の撮像装置５２が、液晶パネル１０の全ての表面を撮像し、撮像した映像を第一の画像処理装置４８へ送ることができる。

スペーサ４０が配置されることが許容される範囲が許容範囲である。液晶パネル１０表面上の吐出位置を中心として、吐出位置から所定距離離れた閉曲線より内側を配置範囲とする。許容範囲と配置範囲は同一でもよく、配置範囲は許容範囲より狭くても良い。全ての吐出位置に対して配置範囲が定められている。第一の画像処理装置４８は、第一の撮像装置５２により撮像された映像を解析すると各許容範囲内に分散液が配置されているか、配置されていないかの判別をすることが可能である。さらに、第一の画像処理装置４８は、各許容範囲のスペーサの数を検出することもできる。
また、画素部などスペーサ４０が配置されることが許容されない範囲として、禁止範囲が設定される。第一の画像処理装置４８は、禁止範囲に配置された分散液の位置、および禁止範囲に配置されたスペーサの個数を検出してもよい。

第一の画像処理装置４８は、情報を記憶できる第一の記憶装置（不図示）が内蔵されており、第一の画像処理装置４８が検出した許容範囲の位置とその位置のスペーサの個数が記憶される。また、禁止範囲に配置されたスペーサの位置とその位置のスペーサの個数を記憶してもよい。
また、第一の画像処理装置４８は、第一の記憶装置に記憶された情報と予め決められた基準値（上下限の値を含む）と比較し、不良箇所が上限の基準値より多ければ不良品、上下限の基準値内なら修正可能な品、下限の基準値より少なければ良品と判別する。

基準値として、例えば、各許容範囲内のスペーサの個数（上下限値）、所定の領域内の複数の許容範囲のスペーサの合計数（＝スペーサの分布）、スペーサが塗布されていない許容範囲の箇所数とその分布、禁止範囲内のスペーサの個数、禁止範囲内のスペーサの位置、複数の禁止範囲のスペーサの分布、の閾値などが使用され、単独もしくは組み合わされて判断される。また、修正可能かの判断は、不良の種類により判断される場合がある。例えば、禁止範囲内のスペーサの個数が多い場合には不良品、禁止範囲内のスペーサの個数は少なくスペーサの個数が不足する許容範囲の箇所数が基準範囲以上の場合には修正可能な品、禁止範囲のスペーサが分散し修正に時間が掛かる不良箇所が多い場合は不良品などと判断してもよい。

第一の撮像装置５２は、基本的に吐出位置の全域を撮影するため、後述する第二の検査装置６１より比較的広い範囲を撮影し、第一の画像処理装置４８の画像処理は後述する第二の検査装置６１より比較的広い範囲を分析することで、より処理速度が速くなり好ましい。

＜乾燥室＞
乾燥室（不図示）は、乾燥装置を有している。
乾燥装置は、乾燥室内に搬送された表面にスペーサ４０が吐出された液晶パネル１０を加熱するように構成されている。
乾燥装置が液晶パネル１０を加熱する温度は、スペーサ４０が含有する樹脂膜３９が溶融しない温度であり、乾燥装置は、吐出された分散液の溶剤を蒸発させることができる。

＜スペーサ配置修正装置＞
図４の符号５０は、スペーサ配置修正装置であり、第二の検査装置６１と、レーザー光照射装置５５と、ＸＹステージ６５と台座６６とを有している。
ＸＹステージ６５は、液晶パネル１０を載せて液晶パネル１０と一緒にＸ、Ｙ方向のいずれか一方向、又は両方向へ移動できる。
レーザー光照射装置５５は、レーザー光とポイントマーカー光を射出できるように構成されている。
ＸＹステージ６５は、固定された台座６６の上に載せられている。

レーザー光照射装置５５は、ＸＹステージ６５の上方に配置され、レーザー照射装置５５の照射口が下方に向けられており、ＸＹステージ６５上に液晶パネル１０を配置すると、液晶パネル１０上に向けてレーザー光とポイントマーカー光を射出することができる。レーザー光照射装置５５とＸＹステージ６５の間のレーザー光とポイントマーカー光の進行方向を遮る位置に、片面が鏡で、その反対側の面がガラスであるハーフミラー６４が配置されている。

ハーフミラー６４は、ガラスの面をレーザー光照射装置５５に向けられ、鏡の面を液晶パネル１０表面に向けられており、ポイントマーカー光の進行方向に対して斜めに配置されている。レーザー光照射装置５５がポイントマーカー光を射出して、ポイントマーカー光がハーフミラー６４のガラスの面側に照射されると、ハーフミラー６４を透過する。透過したポイントマーカー光は、液晶パネル１０表面に照射され、液晶パネル１０表面で反射する。反射したポイントマーカー光は、ハーフミラー６４の鏡の面に反射され向きを変え、第二の撮像装置５４に入射する。
ポイントマーカー光は、例えば赤色に着色されており、照射された場所に赤色に着色された着色点が形成される。

第二の検査装置６１は、第二の撮像装置５４と第二の画像処理装置６３とモニター（不図示）を有している。
第二の撮像装置５４は、ハーフミラー６４に写った液晶パネル１０の上の着色点と着色点を中心に所定の半径の円内である視野範囲内を撮像できる位置に配置されている。
液晶パネル１０が配置されたＸＹステージ６５を移動させると、全ての液晶パネル１０の表面を第二の撮像装置５４の視野範囲内で静止させることができる。
第二の撮像装置５４は、撮像した画像を示すデータを第二の画像処理装置６３に送ると、第二の画像処理装置６３のモニターには、第二の撮像装置５４により撮像された範囲内の液晶パネル１０の表面が表示される。第二の画像処理装置６３には、ＸＹステージ６５のＸ方向の移動量とＹ方向の移動量が別々に計測できるＸカウンターとＹカウンターがそれぞれ内蔵されている。

ＸＹステージ６５上の基準点を原点（０，０）とし、かつ、ポイントマーカー光が示す着色点と基準点が一致するようにポイントマーカー光を基準点上に乗せてから、着色点と基準点が一致する位置でＸカウンターとＹカウンターを０にしてＸＹステージ６５を動作させるとＸ、Ｙ方向へのＸＹステージ６５が移動する距離であるＸ、Ｙ座標がモニターに表示される。第二の画像処理装置６３には、数値の情報を記憶できる第二の記憶装置（不図示）が内蔵されている。例えば、第二の画像処理装置６３には、座標用のスイッチが設けられており、座標用のスイッチを操作することにより、ポイントマーカー光の着色点が照射されたＸＹステージ上のＸ、Ｙ座標が第二の記憶装置に記憶されるように構成されている。

レーザー光照射装置５５には、レーザー光照射用のスイッチが設けられており、レーザー光照射用のスイッチを操作することにより、レーザー光をハーフミラー６４に向けて射出すると、レーザー光は、ハーフミラー６４を透過して、液晶パネル１０上のポイントマーカー光の着色点が照射された位置にレーザー光が照射されるように構成されている。

後述するように、レーザー光照射装置５５がレーザー光を射出してスペーサ４０にレーザー光を照射すると、スペーサ４０は液晶パネル１０表面から剥離する。スペーサ配置修正装置５０は、空気を吸引する第一の吸引装置５７を有しており、第一の吸引装置５７に設けられたノズル孔の先端は、レーザの照射位置を向いている。レーザー光が照射され、剥離されたスペーサ４０は、ノズル孔から空気と共に吸い込まれて液晶パネル１０表面から除去することができる。

スペーサ配置修正装置５０は、分散液の液滴を液晶パネル１０の表面に吐出することができる第二の吐出ヘッド７３を有しており、後述するように、配置されるべき許容範囲に分散液が配置されていない場合は、第二の吐出ヘッド７３をＸＹステージ６５の上方に配置し、許容範囲内に分散液の液滴を吐出するこができるように構成されている。

＜焼成室＞
焼成室（不図示）は、加熱装置を有している。焼成室の加熱装置は、良品とされた液晶パネル１０を加熱し、スペーサ４０を液晶パネル１０の表面に固着させることができる。

＜バキュームクリーナ＞
バキュームクリーナ（不図示）は、第二の吸引装置を有している。第二の吸引装置は、大面積対応の吸引手段であり、液晶パネル１０上の全ての領域のスペーサ４０を吸引して除去することができる。

＜動作＞
図５のフローチャートを用いて本発明のスペーサ配置修正方法の動作を説明する。
予め、スペーサ４０が配置されるべき領域（ここではブラックマトリクス１５上）である許容範囲と、スペーサ４０を配置しない領域（ここでは画素１６上）である禁止範囲とが、液晶パネル１０の種類に応じて液晶パネル１０上に決められており、第一、第二の記憶装置には、液晶パネル１０上の許容範囲と禁止範囲のそれぞれ位置と大きさが記憶されている。

また、後述する予備検査工程を行うために第一の記憶装置に第一の予備用の基準値と第一の予備用の基準値より範囲の大きい第二の予備用の基準値が記憶される。後述する修正用検査工程を行うために第二の記憶装置に修正用の基準値が記憶される。なお、第一の予備用の基準値、第二の予備用の基準値、修正用の基準値は、評価する情報の種類により決められる。

先ず、パネルステージ５１の始点に液晶パネル１０を載せて処理を開始する（ステップＳ１）。
液晶パネル１０を移動させて主吐出工程を開始する。第一の吐出ヘッド５３の一つのノズル孔の真下位置に来た許容範囲の吐出位置に向けて分散液の液滴を吐出する。
液晶パネル１０と第一の吐出ヘッド５３を移動させ、複数のノズル孔によって各吐出位置に対して吐出を繰り返して液晶パネル１０内の全ての吐出位置に液滴を吐出する（ステップＳ２）。

液晶パネル１０上の全ての吐出位置に向けて分散液の液滴が吐出された後、液晶パネル１０を第一の吐出ヘッド５３より下流側に移動させて、第一の撮像装置５２が、分散液の液滴が吐出された液晶パネル１０の上方に位置したところで液晶パネル１０を静止させて、分散液の液滴が吐出された液晶パネル１０表面の配置状態を検査する予備検査工程を開始する。ここでは、予備検査工程を全ての吐出が完了した後行ったが、第一の吐出ヘッド５３と第一の撮像装置５２を連動し、吐出しながら順次吐出が完了した箇所を撮像してもよい。

第一の撮像装置５２が、液滴が吐出された液晶パネル１０を撮像し、第一の撮像装置５２から第一の画像処理装置４８に映像を送る。第一の画像処理装置４８が送られた映像を、第一の記憶装置に位置と大きさが記憶された各許容範囲毎に解析して、全ての許容範囲内に分散液が適正に配置されているかいないかの判別を行う。例えば許容範囲毎に画像を分離し、分離された画像を一枚ずつ解析して液晶パネル１０の表面の全ての許容範囲内に配置された分散液の配置の有無とスペーサの個数を判別する。もしくは、複数の許容範囲を含む領域を一度に解析してもよい。

予備検査工程では、第一の画像処理装置４８が許容範囲に適正に配置されていない分散液の位置情報とその位置のスペーサの個数情報が第一の記憶装置に記憶される。さらに、禁止範囲に配置されたスペーサの有無を検出し、その禁止範囲内のスペーサの位置情報が第一の記憶装置に記憶される。（ステップ３）
予備検査が行われた液晶パネル１０は、乾燥室に搬送されて、加熱前処理が行なわれる。乾燥室は、液晶パネル１０を加熱し、分散液中に含まれる溶剤を蒸発させる（ステップＳ４）。この加熱前処理では、溶剤は蒸発するが、スペーサ４０の周囲の樹脂膜３９は溶解せず、スペーサ４０は液晶パネル１０に樹脂膜３９が固着していない状態で固定される。
ここでは加熱前処理は、予備検査工程の後で行ったが、第一の吐出ヘッド５３からの吐出後であって第一の検査装置５９による検査の前に行っても良い。

スペーサが配置された液晶パネル１０を、第二の記憶装置に記憶された不適正な許容範囲の箇所数で評価する場合、液晶パネル１０が、不適正な許容範囲の箇所数が第二の予備用の基準値より多いと不良品と判断し、第一の予備用の基準値以上第二の予備用の基準値以下なら修正可能と判断し、第一の予備用の基準値未満なら良品と判断する（ステップＳ５）。その他、許容範囲毎のスペーサの数で評価する場合、例えば、第一の予備用の基準範囲と、第一の予備用の基準範囲を含みそれより広い第二の予備用の基準範囲とを設定する。許容範囲毎のスペーサの個数が第一の予備用の基準範囲内であれば適正、第一の予備用の基準範囲外で第二の予備用の基準範囲内であれば修正可能、第二の予備用の基準範囲外であれば不適正と判断してもよい。修正可能と不適正の許容範囲の数を閾値により評価し、不良品の液晶パネル１０と修正可能な液晶パネル１０とを評価してもよい。その他、同様に、禁止領域のスペーサの数や分布により評価することもできる。

予備許容範囲数の値に応じて液晶パネル１０を移動させる。
予備検査工程で不良品とされた液晶パネル１０は、バキュームクリーナに搬送される。バキュームクリーナの第二の吸引装置は、空気の流れと共に液晶パネル１０全体のスペーサ４０を吸引する（ステップＳ６）。

表面からスペーサ４０が除去された液晶パネル１０は、スペーサ配置装置３０に搬送され、パネルステージ５１の始点に載せられ主吐出工程から再び処理が開始される。
予備検査工程で良品とされた液晶パネル１０は、後述する第二の検査装置６１による検出やレーザー光照射装置５５によるレーザー光の照射を行わずに、スペーサ４０が含有する樹脂膜３９が溶融する温度で加熱することができる焼成室内へ搬送される。
予備検査工程で修正可能な品とされた液晶パネル１０は、乾燥室からスペーサ配置修正装置５０のＸＹステージ６５上へ搬送される。
液晶パネル１０をＸＹステージ６５上に載せて修正用検査工程を開始し、禁止範囲内に配置されたスペーサを検出する。

ここでは、位置と大きさが記憶された禁止範囲内を第二の撮像装置５４により撮像し、視野範囲内に一つの禁止範囲内に配置されたスペーサ４０が入ったら、禁止範囲内に配置されたスペーサ４０がポイントマーカー光の照射範囲に来るようにＸＹステージ６５を移動させる。スペーサ４０とポイントマーカー光の着色点を一致させて座標用のスイッチを導通し、第二の記憶装置に禁止範囲に配置されたスペーサ４０の液晶パネル１０上の詳細位置（ＸＹ位置情報）を第二の記憶装置に記憶させる。なお、画像の解析により禁止範囲にあるスペーサ４０のＸＹ座標を求めても良い。また、禁止範囲のスペーサ４０の位置が第一の記憶装置に記憶されている場合、この情報を使用して第二の撮像装置５４の撮影範囲を決定してもよい。

禁止範囲に配置されたスペーサ４０の液晶パネル１０上の位置を記憶することを繰り返して、禁止範囲に対して配置されたスペーサ４０の詳細位置を記憶すると共に、計数した禁止範囲に配置されたスペーサ４０の個数を積算して合計値を禁止範囲配置数として求める。

修正用検査工程は、スペーサが配置されていない許容範囲を検出する補助検査工程を有しており、補助検査工程として、ここでは、全ての許容範囲に対して、必要数のスペーサ４０が配置されていない許容範囲の液晶パネル１０上の位置と、この位置毎の不足するスペーサ数とを第二の記憶装置に記憶して補助検査工程を終了する（ステップＳ７）。

液晶パネル１０は、第二の記憶装置に記憶された禁止範囲配置数が、修正用の基準値以上なら不良品とし、修正用の基準値未満なら修正可能とする（ステップＳ８）。

不良品とされた液晶パネル１０は、予備検査工程で不良品とされた液晶パネル１０と同様に、バキュームクリーナに搬送され、第二の吸引装置により液晶パネル１０上の全てのスペーサ４０が除去される。
修正可能とされた液晶パネル１０は、修正検査工程で検出されたスペーサ４０にレーザー光を照射して液晶パネル１０上からスペーサ４０を除去するレーザー光照射工程を開始させる。除去されたスペーサ４０は第一の吸引装置５７で吸引される。
ここでは、第二の記憶装置に記憶された禁止範囲内に配置された複数のスペーサ４０の中から一つのスペーサ４０を選択し、第二の記憶装置に記憶された詳細位置の情報を使用して選択されたスペーサ４０にポイントマーカーの着色点に一致させるようにＸＹステージ６５を移動させる。

レーザー光照射装置５５は、ポイントマーカー光の着色点が照射された位置にレーザー光を照射するように構成されているのでスペーサ４０とポイントマーカーの着色点が一致した状態でレーザー光照射装置５５のポイントマーカー光からレーザー光に切り替えてレーザー光照射用のスイッチを導通して禁止範囲内に配置されたスペーサ４０にレーザー光を照射する。
なお、単に修正用検査工程で第二の記憶装置に記憶された禁止範囲のスペーサ４０のＸＹ座標に、自動的にレーザー光を照射するように制御してもよい。

スペーサ４０の表面には樹脂膜３９が形成されており、レーザー光を照射することにより、樹脂膜３９が瞬間的に蒸発し、生じた気体によってレーザー光が照射されたスペーサ４０と液晶パネル１０の間に圧力が発生し液晶パネル１０からスペーサ４０が分離する。分離されたスペーサ４０は、第一の吸引装置５７により生じさせた空気の流れと共に吸引装置のノズル孔から吸い込んで液晶パネル１０表面から除去される。第二の記憶装置に記憶された禁止範囲内に配置されたスペーサ４０に対してレーザー光の照射とスペーサ４０の吸引を繰り返して禁止範囲内に配置されたスペーサ４０を取り除く（ステップＳ９）。

第二の記憶装置に記憶された必要数のスペーサ４０が配置されていない許容範囲の位置情報と、この位置情報毎の不足するスペーサ数の情報を再吐出用の基準値と比較して、再吐出用の許容値外なら修正可能な品の液晶パネル１０とし、再吐出用の許容値内なら良品の液晶パネル１０とする（ステップＳ１０）。即ち、比較した液晶パネル１０が、再吐出して良品になるのであれば修正用吐出工程（ステップＳ１１）で再吐出し、再吐出しなくても良品であると判断すれば焼成室へ搬送して加熱本処理する（ステップＳ１２）。

良品とされた液晶パネル１０と、修正された液晶パネル１０は、予備検査工程後に良品とされた液晶パネル１０と同様に焼成室へ搬送される。
なお、主許容範囲個数を再吐出用の基準値と比較して修正可能な品とされた液晶パネル１２は、修正用吐出工程（ステップＳ１１）を開始すると、第二の記憶装置に位置の記憶されたスペーサ４０が配置されていない吐出位置の真上位置に第二の吐出ヘッドが来るようにＸＹステージを移動させて、第二の吐出ヘッド７３から液晶パネル１０の吐出位置に向けて分散液の液滴を吐出する。必要数のスペーサが配置されていない場合は、不足するスペーサの個数を吐出するように吐出量もしくは吐出回数を、制御してもよい。
修正用吐出工程では、第二の記憶装置に位置が記憶されたスペーサ４０が配置されていない各許容範囲に対して分散液の液滴の吐出を行うと液晶パネル１０内の吐出すべき許容範囲内に液滴が吐出される（ステップＳ１１）。

修正用吐出工程を行った液晶パネル１０は、分散液の溶剤を乾燥させ、蒸発させた後に、焼成室へ移動させる。
焼成室内には、修正用吐出工程を行った液晶パネル１０と、予備加熱工程後に良品とされた液晶パネル１０と、レーザー照射工程後に良品とされ修正吐出工程を行わなかった液晶パネル１０のいずれかの液晶パネルが順次、搬送される。焼成室内で加熱本処理が開始され、液晶パネル１０は、加熱され、焼成室の加熱装置がスペーサ４０が有する樹脂膜３９を溶融してスペーサ４０を液晶パネル１０表面に固着させる（ステップＳ１２）。

ここでは修正用吐出工程を行った液晶パネル１０に対して、溶剤を蒸発させた後に加熱本処理を行ったが、溶剤を蒸発させた後であって加熱本処理の前で、再び、修正用検査工程を行っても良い。
表面にスペーサ４０が固着された液晶パネル１０は、最終検査が行われる（ステップＳ１３）。
最終検査を行った後、処理を終了する（ステップＳ１４）。

上記では、レーザー光照射工程では、全ての禁止範囲に配置されたスペーサ４０の位置を記憶して、記憶した位置にレーザー光を照射したが、位置を記憶しないで撮像装置のモニターを見ながらレーザー光を照射してもよい。また修正吐出工程では、スペーサ４０が配置されていない許容範囲を記憶して分散液の液滴の再吐出を行ったが許容範囲の位置を記憶しないで撮像装置のモニターを見ながら再吐出してもよい。
上述したレーザー光照射工程では、自動でレーザー光の照射を行ったがレーザー光照射装置５５を手動でレーザー光の照射を行ってもよい。

１０……液晶パネル
４０……スペーサ
４８……第一の画像処理装置
４９……液体タンク
５２……第一の撮像装置
５３……第一の吐出ヘッド
５４……第二の撮像装置
５５……レーザー光照射装置
５７……吸引装置
５８……インクジェット吐出装置
５９……第一の検査装置
６１……第二の検査装置
６３……第二の画像処理装置
７３……第二の吐出ヘッド

Claims (6)

1. 処理対象物上に、スペーサが配置されるべき領域である許容範囲と、前記スペーサが配置されない領域である禁止範囲と、が設定され、前記許容範囲内に向けて第一の吐出ヘッドから前記スペーサが分散された分散液の液滴を吐出する主吐出工程と、
   前記禁止範囲内に配置された前記スペーサを検出する修正用検査工程と、
   前記禁止範囲内で検出された前記スペーサにレーザー光を照射して前記処理対象物上から前記スペーサを除去するレーザー光照射工程とを有するスペーサ配置修正方法。
2. 前記修正用検査工程は、前記禁止範囲内に配置された前記スペーサの位置を記憶し、前記レーザー光照射工程は、記憶された位置にレーザー光を照射する請求項１記載のスペーサ配置修正方法。
3. 複数の前記許容範囲を、前記処理対象物上に配置されたブラックマトリクス上に離間して設定し、前記禁止範囲を、前記ブラックマトリクスで囲まれた画素毎に設定する請求項１記載のスペーサ配置修正方法。
4. 前記修正用検査工程は、前記スペーサが配置されていない前記許容範囲を検出する補助検査工程を有し、
   前記補助検査工程で検出された前記許容範囲内に第二の吐出ヘッドから前記分散液の液滴を吐出する修正吐出工程が設けられた請求項１記載のスペーサ配置修正方法。
5. 前記修正用吐出工程は、前記スペーサが配置されていない前記許容範囲の位置を記憶し、記憶された位置の前記許容範囲に前記分散液の液滴を吐出させる請求項４記載のスペーサ配置修正方法。
6. 前記処理対象物上の前記スペーサの配置状態から前記処理対象物を良品か、不良品か、修正可能な品かを判別する基準を予め定めておき、前記主吐出工程で、前記第一の吐出ヘッドから前記分散液の液滴が吐出された前記処理対象物表面の前記配置状態を検査する予備検査工程を有し、
   前記予備検査工程で良品とされた前記処理対象物は、前記修正用検査工程とレーザー光照射工程とを行わず、前記スペーサを前記処理対象物の表面に固着させる本加熱処理を行い、
   前記予備検査工程で不良品とされた前記処理対象物は、前記処理対象物表面上の全てのスペーサを除去し、再度、前記主吐出工程を行い、
   前記予備検査工程で修正可能な品とされた前記処理対象物は、前記修正用検査工程を行う請求項１乃至５のいずれか１項記載のスペーサ配置修正方法。

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